JPS6071535A - Production of parent material for optical fiber - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To produce a parent material for optical fiber having superior strength by forming a layer of porous glass by depositing the porous glass to the external periphery of a glass rod comprising core glass and clad glass, and converting the layer to transparent body by heating without performing dehydration. CONSTITUTION:SiCl4 as raw material gas, H2 as combustion gas, O2 as combustion suporting gas, and inert gas as buffer gas are fed from a burner 14 moving reciprocally in the longitudinal direction of a glass bar 1 while rotating the glass bar comprising core glass 2 and clad glass 3 by supporting both ends of the glass bar 1 with a chuck 15 is a vessel 11. Fine glass particles formed by the flame hydrolysis of the gases are deposited on the external periphery of the glass bar 1 to form a porous glass layer 4. Clean air contg. <=1,000 dust particles having >=0.3mum particle size per 1l air or inert gas, etc. is introduced as the atmosphere in the vessel 11. the porous glass layer 4 is heated at 1,300-1,600 deg.C to convert it to a transparent glass layer 5, thus, a parent material for producing optical fiber having superior strength is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は通信、イメージガイド、ライトガイドなどに用
いられる光ファイバの母材を製造する方法に関し、さら
に詳しくは海底ケーブル用のごとく高強度が要求される
光ファイバの母材を製造する方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing optical fiber base materials used in communications, image guides, light guides, etc., and more specifically to a method for manufacturing optical fiber base materials that require high strength such as those used in submarine cables. The present invention relates to a method of manufacturing a material.

一般に、光ファイバは強度が大であること、しかも長期
にわたる信頼性の高いことなどが要求されている。Generally, optical fibers are required to have high strength and long-term reliability.

光ファイバの強度を保証するテストとしてはスクリーニ
ング法が実施されており、引張力を基準とするこのスク
リーニング法において例えば０５％伸びを保証するもの
であるとき、光フアイバ全長にわたって０．５％の伸び
を与えても光ファイバが破断しないことを示している。A screening method is used as a test to guarantee the strength of optical fibers, and in this screening method based on tensile force, for example, if 0.5% elongation is guaranteed, 0.5% elongation over the entire length of the optical fiber is performed. This shows that the optical fiber does not break even if

従来、光ファイバの強度、長期にわたる信頼性を満足さ
せるべき種々の工夫がこれの製造段階においてすでにな
されており、例えば紡糸前の光フアイバ母材を火炎研磨
、弗酸洗浄してその母材の表面傷を消去するとか、ある
いは強化ガラスとなるＴ　ｉ　０２　Ｓ　ｉ　Ｏｔ系の
ガラス層によりその母材外周を被覆するといった手段が
講じられている。Conventionally, various measures have been taken to satisfy the strength and long-term reliability of optical fibers at the manufacturing stage. Measures have been taken to erase surface scratches or to cover the outer periphery of the base material with a T i 02 S i Ot glass layer that becomes tempered glass.

これらの手段において、表面傷を消去することはたしか
に有効であるが、当該手段は光ファイバの強度低下を阻
止するにとどまり、本質的に光ファイバの強度を向上さ
せたことにはならない。Although these means are certainly effective in eliminating surface scratches, they only prevent a decrease in the strength of the optical fiber and do not essentially improve the strength of the optical fiber.

一方、ＴｉＯ２−８ｉ０２系のガラスによる被覆では、
表面の耐食性が低下すること、コスト増を来すことなど
に問題があり、しかも昭和５８年度電子通信学会総合全
国大会Ｎ［Ｌｌ　１１８では、Ｔ　ｉ　Ｏ２ドープト石
英を表面に有する光ファイバの破断応力は小さいと報告
されている。On the other hand, when coating with TiO2-8i02 glass,
There are problems such as a decrease in surface corrosion resistance and an increase in cost.In addition, the 1985 National Conference of the Institute of Electronics and Communication Engineers N [Ll 118] is reported to be small.

さらに、かなりの実用化が進んでいる陸上ケーブル用光
ファイバでは、これに要求されるスクリーニング強度の
伸びが０５％程度であるのに対し、これから実用化され
ようとしている海底ケーブル用光ファイバの場合は、上
記伸びとして２〜３％のように桁違いに大きな値が要求
されており、したがって伸び０５％を口論んでいる既存
の各手段では、伸び２〜３％を満足させる光ファイバを
工業的レベルで製造すること本発明の目的は上記の問題
に対処すべく、高強度の光ファイバが得られる母材の製
造方法を提供することにある。Furthermore, for optical fibers for land cables, which have already been put into practical use, the required increase in screening strength is about 0.5%, whereas for optical fibers for submarine cables, which are about to be put into practical use. An extremely large elongation of 2 to 3% is required for the elongation mentioned above, and therefore, existing methods that argue for an elongation of 0.5% do not allow for industrial production of optical fibers that satisfy the elongation of 2 to 3%. An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems by providing a method for manufacturing a preform that allows a high-strength optical fiber to be obtained.

本発明の特徴とするところは、少なくともコア用ガラス
とクラッド用ガラスとを備えたガラス棒の外周に、多孔
質ガラス層を堆積形成し、該多孔質ガラス層を脱水処理
することなく加熱により透明ガラス化することにある。A feature of the present invention is that a porous glass layer is deposited on the outer periphery of a glass rod having at least core glass and cladding glass, and the porous glass layer is made transparent by heating without dehydration treatment. It consists in vitrification.

以下、本発明の具体的実施例につき、図面を参照して説
明する。Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第１図イ、口、ハは本発明方法により製造される母材の
断面形状をその工程ｊ＠に示したものである。Figures 1A, 1C, and 1C show the cross-sectional shape of the base material manufactured by the method of the present invention in the step j@.

第１図イのガラス棒１は石英系であり、コア用ガラス２
とクラッド用ガラス３とを備えている。The glass rod 1 in Fig. 1A is made of quartz, and the core glass 2
and cladding glass 3.

このガラス棒１は既知のＭＣＶＤ法、ＰＣＶＤ法、ＯＶ
Ｄ法、ＶＡＤ法など、適宜の手段を介してつくられ、ク
ラッド用ガラス３の外周に石英系のサポートノ―、ジャ
ケット層などを備えていることもある。This glass rod 1 is manufactured using known MCVD method, PCVD method, OV method.
It is produced by an appropriate method such as the D method or the VAD method, and may include a quartz-based support layer, a jacket layer, etc. on the outer periphery of the cladding glass 3.

また、ガラス棒１のコア用ガラス２、あるいはコア用ガ
ラス２とクラッド用ガラス３など、該ガラス棒１の要部
は上記各法により作製された合成ガラス製であるが、例
えばＭＣＶＤ法により石英管の外周にクラッド用ガラス
３、コア用ガラス２を堆積形成するとき、その石英管を
天然のものとすることがある。Further, the main parts of the glass rod 1, such as the core glass 2, or the core glass 2 and the cladding glass 3, are made of synthetic glass manufactured by the above-mentioned methods. When the cladding glass 3 and the core glass 2 are deposited on the outer periphery of the tube, the quartz tube may be made of natural quartz tube.

さらに上記ガラス棒１はつぎの堆積工程へうつる前、表
面傷などを消去すべき処理を受けるのがよく、この前処
理としてはガラス棒１を弗酸洗浄し、水洗した後、その
外周面を石英製バーナにて火炎研磨するといった手段が
採用される。Furthermore, before the glass rod 1 is transferred to the next deposition step, it is preferable to undergo a treatment to remove surface scratches, etc. As for this pretreatment, the glass rod 1 is washed with hydrofluoric acid, washed with water, and then its outer peripheral surface is coated with quartz. A method such as flame polishing with a manufactured burner is adopted.

この際の洗浄用水、火炎研磨雰囲気は不純物、ダスト（
夾雑物）などがきわめて少ない清浄な状態に保持される
。The cleaning water and flame polishing atmosphere at this time contain impurities, dust (
It is maintained in a clean state with very little foreign matter.

第１図口は上記ガラス棒１の外周に多孔質ガラス層４が
堆積形成された状態を示している。The opening in FIG. 1 shows a state in which a porous glass layer 4 is deposited on the outer periphery of the glass rod 1.

多孔質ガラス層４は火炎加水分解法等により生成された
ガラス微粒子（高純度Ｓｉｏ２の粉末）が所定の形状に
堆積形成されたものであり、当該多孔質ガラス層４は、
第２図のＯＶＤ法とが、第３図のＶＡＤ法などを介して
形成される。The porous glass layer 4 is formed by depositing glass particles (high-purity Sio2 powder) in a predetermined shape using a flame hydrolysis method or the like.
The OVD method shown in FIG. 2 is formed via the VAD method shown in FIG. 3, etc.

第２図において、１１は排気管１２とガス導入管１３と
を備えた容器、１４は多重管構造のバーナ、１６は図示
しないガラス旋盤の回転自在なチャック、１６は上記バ
ーナ１４に接続されたガスシステムである。In FIG. 2, 11 is a container equipped with an exhaust pipe 12 and a gas introduction pipe 13, 14 is a burner with a multi-tube structure, 16 is a rotatable chuck of a glass lathe (not shown), and 16 is connected to the burner 14. It is a gas system.

第２図のＯＶＤ法によりガラス棒１の外周に多孔質ガラ
ス層４を堆積形成するときは、ガラス棒１をチャック１
５により保持して回転させ、該ガラス棒１の長手方向に
沿って往復動するバーナ１４には、ガスシステム１６か
ら原料ガス（Ｓ　ｉ　ＣＡｌ）、燃熱カス（Ｈ２）、支
燃ガス（ｏＪ　緩衝力ｙ。When depositing the porous glass layer 4 on the outer periphery of the glass rod 1 by the OVD method shown in FIG.
The burner 14, which is held and rotated by the glass rod 5 and reciprocated along the longitudinal direction of the glass rod 1, is supplied with raw material gas (S i CAl), combustion heat residue (H2), and combustion supporting gas (oJ) from the gas system 16. Buffer force y.

（不活性ガス）などを供給し、これら各ガスによる火炎
加水分解反応により生成したガラス微粒子をガラス棒１
の外周に堆積させ、多孔質ガラス層４を形成する。(inert gas), etc., and the glass particles generated by the flame hydrolysis reaction by each of these gases are transferred to the glass rod 1.
to form a porous glass layer 4.

この際、容器１１内は排気管１２を介して排気されると
ともにガス導入管１３からの雰囲気ガスが供給される。At this time, the inside of the container 11 is exhausted through the exhaust pipe 12 and atmospheric gas is supplied from the gas introduction pipe 13.

雰囲気ガスとしてはフィルタにより濾過された清浄空気
、Ａｒ％Ｈｅ　ｓ　Ｎ＊などの不活性ガスなどが用いら
れる。As the atmospheric gas, clean air filtered by a filter, an inert gas such as Ar%He s N*, etc. are used.

上記のようにしてガラス棒１の外周に多孔質ガラス層４
を形成するとき、その堆積雰囲気中のダスト濃度をつぎ
のように設定するのがよい。As described above, a porous glass layer 4 is formed on the outer periphery of the glass rod 1.
When forming a film, it is preferable to set the dust concentration in the deposition atmosphere as follows.

すなわち粒径０．３μｍ以上のダスト（不純物、夾雑物
などをいう）が１ｔあたり１０００個以下、より好まし
くは１ｔあたり２０〜１００個程度となるような清浄雰
囲気に保持するのがよく、こうすること幌より後述の高
強度ガラス層がより得やすくなる。In other words, it is best to maintain a clean atmosphere in which the number of dust particles (impurities, contaminants, etc.) with a particle size of 0.3 μm or more is 1000 or less per 1 ton, more preferably about 20 to 100 per 1 ton. It is easier to obtain the high-strength glass layer described below than with the hood.

これの具体的手段としては、例えばガス導入管１３を介
して容器１１内へ外気（粒径０．３μｍ以上のダス）１
６０００個／ｌ’）を導入するとき、前記のごとくその
外気をフィルタ（濾過孔径０．３μｍ以下）に通せばよ
い。As a specific means for this, for example, outside air (dust with a particle size of 0.3 μm or more) 1 is introduced into the container 11 through the gas introduction pipe 13.
6,000 pieces/l'), the outside air may be passed through a filter (filtering pore diameter of 0.3 μm or less) as described above.

一方、第３図のＶＡＤ法によりガラス棒１の外周に多孔
質ガラス層４を形成するときはつぎの要領で行なうこと
となる。On the other hand, when forming the porous glass layer 4 on the outer periphery of the glass rod 1 by the VAD method shown in FIG. 3, the process is as follows.

まず、各部の構成から略述すると、第３図において、２
１は排気管２２とガス導入口２３とを有するペルジャー
、２４は噴射口がペルジャー２１内に挿入された多重管
構造のバーナ（前記バーナ１４と同じ）、２６は下端が
ペルジャー２１内に挿入された引上棒である。First, to briefly explain the configuration of each part, in Fig. 3, 2
1 is a Pel jar having an exhaust pipe 22 and a gas inlet 23; 24 is a multi-tube structure burner with an injection port inserted into the Pel jar 21 (same as the burner 14); 26 is a burner with a lower end inserted into the Pel jar 21; It is a pulling rod.

上記ペルジャー２１内にはガス導入口２３から雰囲気ガ
スが導入されるようになっており、その排気管２２には
調節弁２６、吸気ポンプ２７を備えた排気系２８が接続
され、この排気系２８を介してペルジャー２１内が排気
されるようになっている。Atmospheric gas is introduced into the Pelger 21 from a gas inlet 23, and an exhaust system 28 including a control valve 26 and an intake pump 27 is connected to the exhaust pipe 22. The inside of the Pel jar 21 is exhausted through the .

バーナ２４には前記と同じ（各種ガスを供給するための
ガスシステム２９が接続され、引上。The same gas system 29 as above (for supplying various gases) is connected to the burner 24, and the gas system 29 is connected to the burner 24.

棒２６はその上端に備えられた回転機３０　ｓ引上機構
３１により回転ならびに引上げられるようになっている
。The rod 26 is rotated and pulled up by a rotating machine 30s and a lifting mechanism 31 provided at its upper end.

第３図のＶＡＤ法によりガラス棒１の外周に多孔質ガラ
ス層４を形成するときは、ガラス棒１を石英製引上棒２
６により保持してこれをペルジャー２１内に内挿し、回
転機３０にて引上棒２６を回転させることによりガラス
棒１を回転状態とする。When forming the porous glass layer 4 on the outer periphery of the glass rod 1 by the VAD method shown in FIG.
6, the glass rod 1 is inserted into the Pel jar 21, and the rotating machine 30 rotates the pulling rod 26 to rotate the glass rod 1.

一方、バーナ２４には前記と同じくガスシステム２９か
ら原料ガス、燃焼ガス、支燃ガス、緩衝ガスなどを供給
し、これら各ガスによる火炎加水分解反応により生成し
たガラス微粒子をガラス棒１の外周に堆積形成するが、
この際の堆積時、ガラス微粒子はガラス棒外周の上端か
ら下端に向は連続的に堆積されることとなり、そのため
ガラス棒１は引上棒２５の引上機構３１を介して所定速
度で引き上げられ、かくてガラス棒１の外周長手方向に
は前記と同じく多孔質ガラス層４が形成される。On the other hand, the burner 24 is supplied with raw material gas, combustion gas, combustion supporting gas, buffer gas, etc. from the gas system 29 as described above, and the glass particles generated by the flame hydrolysis reaction by these gases are distributed around the outer periphery of the glass rod 1. Although deposits form,
During this deposition, the glass particles are continuously deposited from the upper end to the lower end of the outer circumference of the glass rod, so that the glass rod 1 is pulled up at a predetermined speed via the pulling mechanism 31 of the pulling rod 25. Thus, the porous glass layer 4 is formed on the outer circumference of the glass rod 1 in the longitudinal direction as described above.

第３図のＶＡＤ法でも、ペルジャー２１内は排気管２２
を介して排気され、ガス導入口２３より雰囲気ガスが供
給される。Even in the VAD method shown in Fig. 3, the inside of the Pelger 21 is the exhaust pipe 22.
, and atmospheric gas is supplied from the gas inlet 23 .

この際、堆積雰囲気中のダスト濃度は前述したと同様の
手段により前述と同程度に保持される。At this time, the dust concentration in the deposition atmosphere is maintained at the same level as described above by the same means as described above.

なお、第２図、第３図の手段によりガラス棒１の外周に
多孔質ガラス層４を形成するとき、バーナ１４．２４へ
供給する各ガスは、酸素に代え空気（例えば清浄空気）
としたり、水素′に代え炭化水素としたり、５ｉＣ２４
に代えＳ　ｉ　（ＯＣ２Ｈ６）４のごとき有機化合物と
することがある。Note that when forming the porous glass layer 4 on the outer periphery of the glass rod 1 by the means shown in FIGS. 2 and 3, each gas supplied to the burner 14.24 may be air (for example, clean air) instead of oxygen.
or by replacing hydrogen with hydrocarbon, 5iC24
Instead, it may be an organic compound such as S i (OC2H6)4.

また、多孔質ガラス層４はこれを透明ガラス化したとき
の層さが１〜３ｍｍ程度となるように堆積させれば充分
である。Further, it is sufficient that the porous glass layer 4 is deposited so that the thickness of the porous glass layer 4 becomes about 1 to 3 mm when it is made into transparent glass.

この除、Ｏ，３〜１．０　ｆ／−程度のガラス微粒子堆
積速度で堆積させるのがよく、その速度が２ｆ／ａｍ　
以上となると、気泡が混入しやすくなるので好ましくな
い。Apart from this, it is preferable to deposit glass particles at a deposition rate of about 3 to 1.0 f/-, and the rate is 2 f/am.
If it is more than that, air bubbles are likely to be mixed in, which is not preferable.

さらに第２図のＯＶＤ法などで多孔質ガラス層４を形成
するとき、１層あたりの堆積厚さは透明ガラス化後にお
いて３０〜１００μｍ程度となるように設定するのが遥
当である。Further, when forming the porous glass layer 4 by the OVD method shown in FIG. 2, it is reasonable to set the deposition thickness per layer to be about 30 to 100 μm after transparent vitrification.

第１図ハは上記のようにしてガラス棒１の外周に形成さ
れた多孔質ガラス層４を加熱により透明ガラス化した状
態を示し、図中、６がその透明ガラス層である。FIG. 1C shows a state in which the porous glass layer 4 formed on the outer periphery of the glass rod 1 as described above has been turned into transparent glass by heating, and 6 in the figure is the transparent glass layer.

この際の透明ガラス化は１３００〜１６００℃の加熱温
度にて行なわれる。At this time, transparent vitrification is performed at a heating temperature of 1300 to 1600°C.

上記透明ガラス化のための雰囲気はＨｅにより形成する
のが最もよ＜、Ｏｔ２は混入させない方がよい。It is best to form the atmosphere for the above-mentioned transparent vitrification using He, and it is better not to mix Ot2.

通常、多孔質ガラス層を透明ガラス化するとき、ＯＨな
どの不純物を除去すべく塩素雰囲気にてその多孔質ガラ
ス層が加熱されるが、脱水処理と称する塩素雰囲気中で
の加熱では高強度の透明ガラス層が得られないのでよく
ない。Normally, when converting a porous glass layer into transparent glass, the porous glass layer is heated in a chlorine atmosphere to remove impurities such as OH, but heating in a chlorine atmosphere called dehydration treatment produces high strength This is not good because a transparent glass layer cannot be obtained.

Ｈｅにより透明ガラス化雰囲気を形成するとき、そのＨ
ｅ濃度は７０ｖｏｔ％以上が適している。When forming a transparent vitrification atmosphere with He, the H
A suitable e concentration is 70 vot% or more.

つぎに本発明の具体例、比較例について説明する。Next, specific examples of the present invention and comparative examples will be explained.

具体例 工程１ａ ＶＡＤ法によりガラス棒１をつくるとき、１本のコア用
バーナと、２本のクラッド用バーナとを用い、コア用多
孔質ガラス層がＳ　ｉ　０２−　Ｇ　ｅ　０２、クラッ
ド用多孔質ガラス層がＳｉＯ２となる多孔質ガラス棒を
形成し、これをヘリウムと塩素とを含有する雰囲気中に
て加熱し、透明ガラス化した。Specific example process 1a When making the glass rod 1 by the VAD method, one core burner and two cladding burners are used, and the porous glass layer for the core is S i 02-G e 02 and the porous glass layer for the cladding is A porous glass rod having a solid glass layer of SiO2 was formed, and this was heated in an atmosphere containing helium and chlorine to make it transparent vitrified.

上記透明ガラス化により得られた棒を加熱延伸により減
径して外径１８謔φのガラス棒１とした。The diameter of the rod obtained by the transparent vitrification was reduced by heating and stretching to obtain a glass rod 1 having an outer diameter of 18 mm.

このガラス棒１はコア用ガラス２の比屈折率差（△）が
０８３％、該ガラス２の直径が約１．４閣φである。In this glass rod 1, the relative refractive index difference (Δ) of the core glass 2 is 083%, and the diameter of the glass 2 is about 1.4 mm.

工程１ｂ ＭＣＶＤ法によりガラス棒１をつくるとき、ヘラウス社
の光フアイバ用天然石英管（ＷＧ管）を用い、コア用ガ
ラスがＧｅ０ｔ−Ｓ　１Ｏｔ（八−０，３％）、クラッ
ド用ガラスがＳ　ｉ　Ｏｔ−Ｆ　−Ｂ！Ｏｓ（△＝θ％
）となる各ガラス層を石英管の内周に堆積形成し、これ
をコラプスしてガラス棒１を得た。Step 1b When making the glass rod 1 by the MCVD method, a Heraus natural quartz tube (WG tube) for optical fibers is used, the glass for the core is Ge0t-S 1Ot (8-0.3%), and the glass for the cladding is S i Ot-F-B! Os(△=θ%
) were deposited on the inner periphery of a quartz tube, and this was collapsed to obtain a glass rod 1.

このガラス棒１は外径１８關φ、コア用ガラス２の直径
約１．４４　ｍｍφ、クラッド用ガラス３の外径８６朝
φであった。This glass rod 1 had an outer diameter of 18 mm, the core glass 2 had a diameter of about 1.44 mm, and the cladding glass 3 had an outer diameter of 86 mm.

工程１１ 上記工程ｊａｓ工程１ｂで得られた各ガラス棒１を弗酸
水溶液に浸漬して洗浄し、ついで純水にて水洗した後、
石英製バーナを介した酸水素炎によりこれらガラス棒１
の表面を強加熱して火炎研藤した。Step 11 After washing each glass rod 1 obtained in the above step jas step 1b by immersing it in a hydrofluoric acid aqueous solution, and then washing it with pure water,
These glass rods 1 are heated by an oxyhydrogen flame through a quartz burner.
The surface was strongly heated and flame polished.

上記処理後、各ガラス棒１の外周には第２図のＯＶＤ法
により多孔質ガラス層４を堆積形成した。After the above treatment, a porous glass layer 4 was deposited on the outer periphery of each glass rod 1 by the OVD method shown in FIG.

この除用いたバーナ１４は外径１５．２−φの４重管構
造であり、これに供給した各ガスは、Ｈｔ＝　６　ｔ／
配、０２＝　４　Ｌ／”　％　Ａ　ｒ　＝１　ｔ／”、
Ｓ　ｉ　Ｃ４４＝５００ｍＬ／ｍｎ　（５００ｍｔ／ｍ
のＡｒを４０℃の５ｉＣｊ４に通して蒸発同伴させた量
）とした。This removed burner 14 has a quadruple tube structure with an outer diameter of 15.2-φ, and each gas supplied to it is Ht=6 t/
Distribution, 02=4 L/”% A r =1 t/”,
S i C44=500mL/mn (500mt/m
The amount of Ar was evaporated and entrained by passing it through 5iCj4 at 40°C.

さらに上記バーナ１４を介して生成したガラス微粒子を
ガラス棒１の外周に堆積形成するとき、該ガラス棒１を
６０　ｒｐ、ｍで回転させ、バーナ１４は６０　ｔｔａ
ｎ／ｍで移動させ、その堆積移動回数を３０回とした。Furthermore, when depositing the glass fine particles generated via the burner 14 on the outer periphery of the glass rod 1, the glass rod 1 is rotated at 60 rpm and m, and the burner 14 is rotated at 60 tta.
It was moved at a speed of n/m, and the number of times the deposition was moved was 30 times.

工程１１１ａ 上記多孔質ガラス層４が形成された後の各ガラス棒１を
、２５　ｔ／ａｍのＨｅが流れる１３６０℃の清浄な炉
中に７ｍ／ｍＩの移動速度で挿入し、透明ガラス化した
。Step 111a After the porous glass layer 4 was formed, each glass rod 1 was inserted into a clean furnace at 1360° C. in which 25 t/am of He was flowing at a moving speed of 7 m/mI to make it transparent vitrified. .

工程１１１ｂ 上記多孔質ガラス層４が形成された後の各ガラス棒１を
、２５ｔ／−のＨｅ　１１　ｔ／　”　（’）　Ｏｔ、
０１ｔ／繻のＳ　ＯＣｔ！が流れる１３８０℃の炉中に
７　ｗａ／ａ’＋の移動速度で挿入し、透明ガラス化し
た。Step 111b After the porous glass layer 4 is formed, each glass rod 1 is heated with 25 t/- of He 11 t/''(') Ot,
01t/Simple SOCt! The sample was inserted into a furnace at 1380° C. flowing with water at a moving speed of 7 wa/a′+ to form transparent vitrification.

これらの工程を経て得られた光フアイバ母材の外径は２
０簡φである。The outer diameter of the optical fiber base material obtained through these steps is 2
It is 0 simple φ.

工程１ｖ 上記により得られた各光フアイバ母材を通常の紡糸手段
（加熱延伸）により線引きして外径１２５μｍφの光フ
ァイバとした。Step 1v Each of the optical fiber preforms obtained above was drawn using normal spinning means (heat drawing) to obtain an optical fiber having an outer diameter of 125 μmφ.

この隙の線引き条件は引取速度４０　ｍ７ｗｍ　、引取
張力１０ｒであり、さらに紡糸直後の光フアイバ外周に
は、その紡糸工程とタンデムに結合、された被覆工程に
より紫外線硬化性樹脂製の被覆層を外径４００μｍφと
なるよう形成した。The drawing conditions for this gap are a take-up speed of 40 m7wm and a take-up tension of 10 r. Furthermore, a coating layer made of ultraviolet curable resin is removed from the outer periphery of the optical fiber immediately after spinning by a coating process that is combined in tandem with the spinning process. It was formed to have a diameter of 400 μmφ.

比較例 前述した工程１ａｓｉｂで得られたガラス棒を光フアイ
バ母材とし、これらを前記工程１ｖと同じ手段で紡糸な
らびに被覆してそれぞれ被覆光ファイバを得た。Comparative Example The glass rods obtained in step 1asib described above were used as optical fiber base materials, and these were spun and coated in the same manner as in step 1v to obtain coated optical fibers.

上記各側により得られた被覆光ファイバに伸ヒ２，２％
に相当する荷重をかけ、スクリーニング時間Ｉ　Ｓｅ（
：としてスクリーニングテストした。The coated optical fiber obtained by each side has an elongation of 2.2%.
Apply a load equivalent to , and apply a screening time I Se (
: Screening test was performed as follows.

この際の平均生存長を次表に示す。The average survival length at this time is shown in the table below.

上記表の結果で明らかなように、本発明の各具体例では
ガラス棒１の外周に所定の層４を形成していたことによ
り光ファイバの高強度が確保できたが、こうした層のな
い比較例では光ファイバの強度が従来レベルにとどまっ
ている。As is clear from the results in the table above, in each specific example of the present invention, high strength of the optical fiber was ensured by forming a predetermined layer 4 on the outer periphery of the glass rod 1, but compared with the case without such a layer. In this example, the strength of the optical fiber remains at conventional levels.

なお、上記工程１１での多孔質ガラス層４の堆積形成は
ダスト濃度２００〜１００個／ｌの範囲内で行なわれた
が、これをダスト濃度１６０００個／ｌ　の外気とした
とき、事後の透明ガラス化において透明ガラス層５に１
０個以上／母村長さ１５０〜２００簡の気泡が発生した
。The deposition of the porous glass layer 4 in step 11 above was carried out at a dust concentration of 200 to 100 particles/l. In vitrification, transparent glass layer 5 to 1
0 or more bubbles/bubble length of 150 to 200 bubbles were generated.

また、工程：ｔｉ　ａ　ｓ　ｆ：：　ｂにおいて炉温か
１６００℃を越えたとき、これも透明ガラス層６中に強
度低下の原因となる発泡が生じた。Further, when the furnace temperature exceeded 1600° C. in the step: tia s f:: b, foaming occurred in the transparent glass layer 6, which caused a decrease in strength.

以上説明した通り、本発明方法によるときは、高強度の
光ファイバが得られる母材を製造することができる。As explained above, when using the method of the present invention, a base material from which a high-strength optical fiber can be obtained can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第１図は本発明方法により製造される光フアイバ母材を
その工程順に示した断面図、第２図、第３図は本発明方
法の要部を例示した説明図である。 １・・・・・ガラス棒 ２・・・・・コア用ガラス ３・・・・・クラッド用ガラス ４・・・・・多孔質ガラス層 ６ｅ・・・・透明ガラス層 ２４・・・・・多孔質ガラスト形成用のバーナ図面の浄
書（内容に変更ｔｔ　Ｌ　） 第１図 ８３　図 手続補正書０，５゜ １、事件の表示　特願昭５８−１７７６６７２、発明の
名称　光フアイバ母材の製造方法３、補正をする者 ４、後代　理　人　〒１００ ６、補〒「の対象 明細書及び図面 ７、補正の内容 別紙の通りタイプ浄書した明細書全文（内容に変更なし
）およびトレースした図面（内容に変更なし）を提出し
ます。 以　上FIG. 1 is a cross-sectional view showing the optical fiber preform manufactured by the method of the present invention in the order of its steps, and FIGS. 2 and 3 are explanatory diagrams illustrating the main parts of the method of the present invention. 1...Glass rod 2...Glass for core 3...Glass for cladding 4...Porous glass layer 6e...Transparent glass layer 24... Engraving of burner drawing for forming porous glasst (change in content tt L) Fig. 1 83 Drawing procedure amendment 0.5゜1, Indication of case Patent application No. 58-1776672, Title of invention Manufacture of optical fiber base material Method 3, Person making the amendment 4, Subsequent agent 100 6, Supplementary description and drawings 7, Contents of the amendment The entire text of the typewritten specification (no change in content) and the traced drawings ( (No changes to the contents) will be submitted.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] （１）少すくともコア用ガラスとクラッド用力゛ラスと
を備えたガラス棒の外周に、多孔質ガラス層を堆積形成
し、該多孔質ガラス層を脱水処理することなく加熱によ
り透明ガラス化する光フアイバ母材の製造方法。(1) A porous glass layer is deposited on the outer periphery of a glass rod equipped with at least a core glass and a cladding glass, and the porous glass layer is turned into transparent glass by heating without dehydration treatment. A method for manufacturing an optical fiber base material. （２）　多孔質ガラス層を１３００〜１６００℃の加熱
温度にて透明ガラス化する特許請求の範囲第１項記載の
光フアイバ母材の製造方法。(2) The method for producing an optical fiber preform according to claim 1, wherein the porous glass layer is made into transparent glass at a heating temperature of 1300 to 1600°C. （３）多孔質ガラス層を堆積させる雰囲気は、０３μｍ
以上のダストが１ｔあたり１０００個以下となるダスト
濃度に保持されている特許請求の範囲第１項記載の光フ
フイ／く母材の製造方法。(3) The atmosphere in which the porous glass layer is deposited is 0.3μm.
The method for producing an optical fiber base material according to claim 1, wherein the dust concentration is maintained at a dust concentration of 1000 pieces or less per ton.