JPS6052889A - ホログラムの製法 - Google Patents
ホログラムの製法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/18—Particular processing of hologram record carriers, e.g. for obtaining blazed holograms
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明はホログラムの製法に関する。
背景技術
ホログラムハ、レーザービームｌをハーフミラ−２によ
って分割した２本のビームを、反射集光することにより
作成する。例えば１本のビームを感光板３に垂直、他方
のビームを感光板３の法線から３６″の入射角で露光す
れば（第１図）、感光板３は１８°の倒れ角を有する干
渉縞４を形成する（第２図）。この方法によって、感材
を露光した後、膨潤液で処理してパターンを形成し、次
に収縮遵で処理してパターンを固定化する。得られた記
録媒体は膨潤、収縮処理後の膜厚３′が露光前の膜厚３
に比べて厚すぎると、入射光を記録媒体に照射した際得
られる回折光め角度αが設計角１８゜よシずれる（第３
図）。従ってできるだけ露光時の膜厚に近づくように収
縮する必要がある。
って分割した２本のビームを、反射集光することにより
作成する。例えば１本のビームを感光板３に垂直、他方
のビームを感光板３の法線から３６″の入射角で露光す
れば（第１図）、感光板３は１８°の倒れ角を有する干
渉縞４を形成する（第２図）。この方法によって、感材
を露光した後、膨潤液で処理してパターンを形成し、次
に収縮遵で処理してパターンを固定化する。得られた記
録媒体は膨潤、収縮処理後の膜厚３′が露光前の膜厚３
に比べて厚すぎると、入射光を記録媒体に照射した際得
られる回折光め角度αが設計角１８゜よシずれる（第３
図）。従ってできるだけ露光時の膜厚に近づくように収
縮する必要がある。
従来技術と問題点
ホログラムの感材に、ｊ１＠処理および収縮処理を加え
るには、膨潤液としてベンゼン、トルエン、キシレン、
クレゾール等、収縮液としては、膨潤液と相溶性があシ
、かつ感材の組成物に対して膨潤ないし溶解性を有しな
い溶媒を使用する。特開昭５３−１５１５３、特開昭５
４−１０２１４０゜特公昭５６−１ （ｉ ２１、特公
昭５５−３１４５３は収縮液として、ｎ−ペンタン、ｎ
−へキサン、シクロヘキサン寺のアルカン、シクロアル
カル類ト、メチルアルコール、エチルアルコ−、ｋ、ｎ
−プロピルアルコール等のアルコール類と、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類と、酢酸エチル、酢酸
メチル、プロピオン酸メチル等のエステル類とを開示し
ている。上記公報には、記録媒体の膜厚は露光ｉσに比
べて、膨潤処理で１２０％以上となるが、収縮処理では
１１０チ以下となることを開示する。本うｔ明者の追試
によれば、露光後に、膨潤液をトルエンとし、収縮液を
ｎ−ペンタンとして処理したが、記録媒体Ω膜厚は露光
前の膜厚の１７０〜２５０饅に達した。
るには、膨潤液としてベンゼン、トルエン、キシレン、
クレゾール等、収縮液としては、膨潤液と相溶性があシ
、かつ感材の組成物に対して膨潤ないし溶解性を有しな
い溶媒を使用する。特開昭５３−１５１５３、特開昭５
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昭５５−３１４５３は収縮液として、ｎ−ペンタン、ｎ
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−プロピルアルコール等のアルコール類と、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類と、酢酸エチル、酢酸
メチル、プロピオン酸メチル等のエステル類とを開示し
ている。上記公報には、記録媒体の膜厚は露光ｉσに比
べて、膨潤処理で１２０％以上となるが、収縮処理では
１１０チ以下となることを開示する。本うｔ明者の追試
によれば、露光後に、膨潤液をトルエンとし、収縮液を
ｎ−ペンタンとして処理したが、記録媒体Ω膜厚は露光
前の膜厚の１７０〜２５０饅に達した。
発明の目的
本発明の目的は膜厚が露光前の１１０％以下になるホロ
グラムの製法を提供することである。
グラムの製法を提供することである。
発明の構成
本発明の上記目的は、ラジカルによって置換可能な反応
位１ｄを有する芳香族環葦たは被索環を単位構造に含む
重合体と、輻射線によってラジカルに解離可能なハロゲ
ン含有化合物とからなる感材を、（ａ）輻射線の干渉パ
ターンに露光する工程と、Φ）露光後の感材を膨潤液に
浸漬してパターンを形成し、未反応のハロゲン含有化合
物を浸出する工程と、（Ｃ）膨潤後の感材を収縮液に浸
漬しでパターンを固定する工程とを有するホログラムの
製法において、工程（Ｃ）によってパターンを固定した
感材を、さらにアセトニトリルまたはメチルインプロピ
ルケトンに浸漬する第２収縮工程を加えることを特徴と
するホログラムの製法によって達成することができる。
位１ｄを有する芳香族環葦たは被索環を単位構造に含む
重合体と、輻射線によってラジカルに解離可能なハロゲ
ン含有化合物とからなる感材を、（ａ）輻射線の干渉パ
ターンに露光する工程と、Φ）露光後の感材を膨潤液に
浸漬してパターンを形成し、未反応のハロゲン含有化合
物を浸出する工程と、（Ｃ）膨潤後の感材を収縮液に浸
漬しでパターンを固定する工程とを有するホログラムの
製法において、工程（Ｃ）によってパターンを固定した
感材を、さらにアセトニトリルまたはメチルインプロピ
ルケトンに浸漬する第２収縮工程を加えることを特徴と
するホログラムの製法によって達成することができる。
実施例１
ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール２ｔ、四ヨウ化炭素ｏ、
ｔｒをモノクロロベンゼン２５９に溶解シた感光組成液
を、暗所において、厚み１．０關のガラス板にスピンコ
ードし、風乾して感材とした。
ｔｒをモノクロロベンゼン２５９に溶解シた感光組成液
を、暗所において、厚み１．０關のガラス板にスピンコ
ードし、風乾して感材とした。
この感材の膜厚を膜厚計、ＴＥＮＣＤＲ社の登録商標ア
ルファスデノプで測定したところ、２．０／ｊｍであっ
た。これにアルゴンレーザーの４８８ ｍｍの輝線を光
強度比１：１のビームに分割して３６°の入射角差で露
光した。こうしてパターンを焼きつけた感材は、３０℃
のキシレン：トルエンの１：ｌ混合溶剤に１．５分間浸
漬し、次いで２５°Ｃのｎ−ヘキサンに２分間浸漬し、
風乾して、上記膜厚計で測定し眉ところ、５．４μｍと
、パターン焼込、み前の２．７倍であった。さらに２０
’Ｃのアセ）ニトリルに浸漬し風乾した後の膜厚は２．
１μｍであって、パターン焼込み前の膜厚の１０５％に
まで収縮していた。
ルファスデノプで測定したところ、２．０／ｊｍであっ
た。これにアルゴンレーザーの４８８ ｍｍの輝線を光
強度比１：１のビームに分割して３６°の入射角差で露
光した。こうしてパターンを焼きつけた感材は、３０℃
のキシレン：トルエンの１：ｌ混合溶剤に１．５分間浸
漬し、次いで２５°Ｃのｎ−ヘキサンに２分間浸漬し、
風乾して、上記膜厚計で測定し眉ところ、５．４μｍと
、パターン焼込、み前の２．７倍であった。さらに２０
’Ｃのアセ）ニトリルに浸漬し風乾した後の膜厚は２．
１μｍであって、パターン焼込み前の膜厚の１０５％に
まで収縮していた。
実施例２
３−ブロム−Ｎ−ビニルカルバゾール重合体２．５ｔ１
四ヨウ化炭素０．１ ｆをテトラビトロ７２ン２５ｆに
溶鶴した感光組成液を使用して、膜厚３．０μｍの感材
とし、湿潤工程は、３ｏ０ｃのキシレン：トルエンの３
：１混合溶剤に２分間浸漬し、収縮工程は２５℃のｎ−
ヘキサンに３分間浸漬した他は、実施例１と同様に処理
し、風乾後の膜厚は７．５μｍと、パターン焼込み前の
２．５倍であった。この感材を２５℃のメチルインプロ
ピルケトンに３．５分間浸漬し、風乾した後の膜厚は３
．１μｍであって、パターン焼込み前の１０３％にまで
収縮していた。
四ヨウ化炭素０．１ ｆをテトラビトロ７２ン２５ｆに
溶鶴した感光組成液を使用して、膜厚３．０μｍの感材
とし、湿潤工程は、３ｏ０ｃのキシレン：トルエンの３
：１混合溶剤に２分間浸漬し、収縮工程は２５℃のｎ−
ヘキサンに３分間浸漬した他は、実施例１と同様に処理
し、風乾後の膜厚は７．５μｍと、パターン焼込み前の
２．５倍であった。この感材を２５℃のメチルインプロ
ピルケトンに３．５分間浸漬し、風乾した後の膜厚は３
．１μｍであって、パターン焼込み前の１０３％にまで
収縮していた。
比較例
実施例１と同様な処理を行ない、ただ第２の収縮工程と
して、２５℃のエチルアルコールに浸漬し、風乾した後
の膜厚は５．４μｍであって、パターン焼込み前の２７
０％にも達した。
して、２５℃のエチルアルコールに浸漬し、風乾した後
の膜厚は５．４μｍであって、パターン焼込み前の２７
０％にも達した。
発明の効果
本発明のホログラムの製法は、収縮効果の大きい処理液
を特定して、第２の収縮工程を行なうことによって、干
渉縞の倒れ角が設計角とずれることの少ないホログラム
を製造することができる。
を特定して、第２の収縮工程を行なうことによって、干
渉縞の倒れ角が設計角とずれることの少ないホログラム
を製造することができる。
第１図はレーザービームの分割・入射を示す説引回であ
プ、 第２図は露光による干渉縞を示す説明図であシ、第３図
は膨潤・収縮処理による膜厚の変化による干渉縞の倒れ
角の変化を示す説明図である。 １・・・レーザービーム、２・・・７ハーフミラー、３
・・・感光板、３′・・・Ｉｉｅ＠・収縮処理後の感光
板、４・・・パターン露光時の倒れ角、４′・・・膨潤
・収縮処理後の倒れ角。 特許出願人 富士通株式会社 ％奸出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士 酋舘和之 弁理士 内田幸男 弁理士 山 口 昭 之 第２図 第３図
プ、 第２図は露光による干渉縞を示す説明図であシ、第３図
は膨潤・収縮処理による膜厚の変化による干渉縞の倒れ
角の変化を示す説明図である。 １・・・レーザービーム、２・・・７ハーフミラー、３
・・・感光板、３′・・・Ｉｉｅ＠・収縮処理後の感光
板、４・・・パターン露光時の倒れ角、４′・・・膨潤
・収縮処理後の倒れ角。 特許出願人 富士通株式会社 ％奸出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士 酋舘和之 弁理士 内田幸男 弁理士 山 口 昭 之 第２図 第３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ラジカルによって置換可能な反応位置を有する芳香
族環または複素環を単位構造に含む重合体と、輻射線に
よってラジカルに解離可能なハロゲン含有化合物とから
なる感材を、（ａ）輻射線の干渉パターンに露光する工
程と、（ｂ）露光後の感材を膨潤液に浸漬してパターン
を形成し、未反応のハロゲン含有化合物を浸出する工程
と、（Ｃ）膨潤後の感材を収縮液に浸漬してパターンを
固定する工程とを有するホログラムの製法において、工
程（ｃ）によってパターンを固定した感材をさらにアセ
トニトリルまたはメチルイソプロピルケトンに浸漬スる
第２収縮工程を加えることを特徴とするホログラムの製
法。 ２、感材をポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールと、四ヨウ化
炭素とから形成する、特許請求の範囲第１項記載の製法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16041383A JPS6052889A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | ホログラムの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16041383A JPS6052889A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | ホログラムの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6052889A true JPS6052889A (ja) | 1985-03-26 |
Family
ID=15714392
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16041383A Pending JPS6052889A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | ホログラムの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6052889A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1988004796A1 (en) * | 1986-12-19 | 1988-06-30 | Polaroid Corporation | Holograms |
| US5672448A (en) * | 1992-12-29 | 1997-09-30 | Nippondenso Co., Ltd. | Multi-exposure system for hologram |
-
1983
- 1983-09-02 JP JP16041383A patent/JPS6052889A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1988004796A1 (en) * | 1986-12-19 | 1988-06-30 | Polaroid Corporation | Holograms |
| US5672448A (en) * | 1992-12-29 | 1997-09-30 | Nippondenso Co., Ltd. | Multi-exposure system for hologram |
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