JPS6052889A - ホログラムの製法 - Google Patents
ホログラムの製法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/18—Particular processing of hologram record carriers, e.g. for obtaining blazed holograms
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明はホログラムの製法に関する。
背景技術
ホログラムハ、レーザービームlをハーフミラ−2によ
って分割した2本のビームを、反射集光することにより
作成する。例えば1本のビームを感光板3に垂直、他方
のビームを感光板3の法線から36″の入射角で露光す
れば(第1図)、感光板3は18°の倒れ角を有する干
渉縞4を形成する(第2図)。この方法によって、感材
を露光した後、膨潤液で処理してパターンを形成し、次
に収縮遵で処理してパターンを固定化する。得られた記
録媒体は膨潤、収縮処理後の膜厚3′が露光前の膜厚3
に比べて厚すぎると、入射光を記録媒体に照射した際得
られる回折光め角度αが設計角18゜よシずれる(第3
図)。従ってできるだけ露光時の膜厚に近づくように収
縮する必要がある。
って分割した2本のビームを、反射集光することにより
作成する。例えば1本のビームを感光板3に垂直、他方
のビームを感光板3の法線から36″の入射角で露光す
れば(第1図)、感光板3は18°の倒れ角を有する干
渉縞4を形成する(第2図)。この方法によって、感材
を露光した後、膨潤液で処理してパターンを形成し、次
に収縮遵で処理してパターンを固定化する。得られた記
録媒体は膨潤、収縮処理後の膜厚3′が露光前の膜厚3
に比べて厚すぎると、入射光を記録媒体に照射した際得
られる回折光め角度αが設計角18゜よシずれる(第3
図)。従ってできるだけ露光時の膜厚に近づくように収
縮する必要がある。
従来技術と問題点
ホログラムの感材に、j1@処理および収縮処理を加え
るには、膨潤液としてベンゼン、トルエン、キシレン、
クレゾール等、収縮液としては、膨潤液と相溶性があシ
、かつ感材の組成物に対して膨潤ないし溶解性を有しな
い溶媒を使用する。特開昭53−15153、特開昭5
4−102140゜特公昭56−1 (i 21、特公
昭55−31453は収縮液として、n−ペンタン、n
−へキサン、シクロヘキサン寺のアルカン、シクロアル
カル類ト、メチルアルコール、エチルアルコ−、k、n
−プロピルアルコール等のアルコール類と、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類と、酢酸エチル、酢酸
メチル、プロピオン酸メチル等のエステル類とを開示し
ている。上記公報には、記録媒体の膜厚は露光iσに比
べて、膨潤処理で120%以上となるが、収縮処理では
110チ以下となることを開示する。本うt明者の追試
によれば、露光後に、膨潤液をトルエンとし、収縮液を
n−ペンタンとして処理したが、記録媒体Ω膜厚は露光
前の膜厚の170〜250饅に達した。
るには、膨潤液としてベンゼン、トルエン、キシレン、
クレゾール等、収縮液としては、膨潤液と相溶性があシ
、かつ感材の組成物に対して膨潤ないし溶解性を有しな
い溶媒を使用する。特開昭53−15153、特開昭5
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−プロピルアルコール等のアルコール類と、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類と、酢酸エチル、酢酸
メチル、プロピオン酸メチル等のエステル類とを開示し
ている。上記公報には、記録媒体の膜厚は露光iσに比
べて、膨潤処理で120%以上となるが、収縮処理では
110チ以下となることを開示する。本うt明者の追試
によれば、露光後に、膨潤液をトルエンとし、収縮液を
n−ペンタンとして処理したが、記録媒体Ω膜厚は露光
前の膜厚の170〜250饅に達した。
発明の目的
本発明の目的は膜厚が露光前の110%以下になるホロ
グラムの製法を提供することである。
グラムの製法を提供することである。
発明の構成
本発明の上記目的は、ラジカルによって置換可能な反応
位1dを有する芳香族環葦たは被索環を単位構造に含む
重合体と、輻射線によってラジカルに解離可能なハロゲ
ン含有化合物とからなる感材を、(a)輻射線の干渉パ
ターンに露光する工程と、Φ)露光後の感材を膨潤液に
浸漬してパターンを形成し、未反応のハロゲン含有化合
物を浸出する工程と、(C)膨潤後の感材を収縮液に浸
漬しでパターンを固定する工程とを有するホログラムの
製法において、工程(C)によってパターンを固定した
感材を、さらにアセトニトリルまたはメチルインプロピ
ルケトンに浸漬する第2収縮工程を加えることを特徴と
するホログラムの製法によって達成することができる。
位1dを有する芳香族環葦たは被索環を単位構造に含む
重合体と、輻射線によってラジカルに解離可能なハロゲ
ン含有化合物とからなる感材を、(a)輻射線の干渉パ
ターンに露光する工程と、Φ)露光後の感材を膨潤液に
浸漬してパターンを形成し、未反応のハロゲン含有化合
物を浸出する工程と、(C)膨潤後の感材を収縮液に浸
漬しでパターンを固定する工程とを有するホログラムの
製法において、工程(C)によってパターンを固定した
感材を、さらにアセトニトリルまたはメチルインプロピ
ルケトンに浸漬する第2収縮工程を加えることを特徴と
するホログラムの製法によって達成することができる。
実施例1
ポリ−N−ビニルカルバゾール2t、四ヨウ化炭素o、
trをモノクロロベンゼン259に溶解シた感光組成液
を、暗所において、厚み1.0關のガラス板にスピンコ
ードし、風乾して感材とした。
trをモノクロロベンゼン259に溶解シた感光組成液
を、暗所において、厚み1.0關のガラス板にスピンコ
ードし、風乾して感材とした。
この感材の膜厚を膜厚計、TENCDR社の登録商標ア
ルファスデノプで測定したところ、2.0/jmであっ
た。これにアルゴンレーザーの488 mmの輝線を光
強度比1:1のビームに分割して36°の入射角差で露
光した。こうしてパターンを焼きつけた感材は、30℃
のキシレン:トルエンの1:l混合溶剤に1.5分間浸
漬し、次いで25°Cのn−ヘキサンに2分間浸漬し、
風乾して、上記膜厚計で測定し眉ところ、5.4μmと
、パターン焼込、み前の2.7倍であった。さらに20
’Cのアセ)ニトリルに浸漬し風乾した後の膜厚は2.
1μmであって、パターン焼込み前の膜厚の105%に
まで収縮していた。
ルファスデノプで測定したところ、2.0/jmであっ
た。これにアルゴンレーザーの488 mmの輝線を光
強度比1:1のビームに分割して36°の入射角差で露
光した。こうしてパターンを焼きつけた感材は、30℃
のキシレン:トルエンの1:l混合溶剤に1.5分間浸
漬し、次いで25°Cのn−ヘキサンに2分間浸漬し、
風乾して、上記膜厚計で測定し眉ところ、5.4μmと
、パターン焼込、み前の2.7倍であった。さらに20
’Cのアセ)ニトリルに浸漬し風乾した後の膜厚は2.
1μmであって、パターン焼込み前の膜厚の105%に
まで収縮していた。
実施例2
3−ブロム−N−ビニルカルバゾール重合体2.5t1
四ヨウ化炭素0.1 fをテトラビトロ72ン25fに
溶鶴した感光組成液を使用して、膜厚3.0μmの感材
とし、湿潤工程は、3o0cのキシレン:トルエンの3
:1混合溶剤に2分間浸漬し、収縮工程は25℃のn−
ヘキサンに3分間浸漬した他は、実施例1と同様に処理
し、風乾後の膜厚は7.5μmと、パターン焼込み前の
2.5倍であった。この感材を25℃のメチルインプロ
ピルケトンに3.5分間浸漬し、風乾した後の膜厚は3
.1μmであって、パターン焼込み前の103%にまで
収縮していた。
四ヨウ化炭素0.1 fをテトラビトロ72ン25fに
溶鶴した感光組成液を使用して、膜厚3.0μmの感材
とし、湿潤工程は、3o0cのキシレン:トルエンの3
:1混合溶剤に2分間浸漬し、収縮工程は25℃のn−
ヘキサンに3分間浸漬した他は、実施例1と同様に処理
し、風乾後の膜厚は7.5μmと、パターン焼込み前の
2.5倍であった。この感材を25℃のメチルインプロ
ピルケトンに3.5分間浸漬し、風乾した後の膜厚は3
.1μmであって、パターン焼込み前の103%にまで
収縮していた。
比較例
実施例1と同様な処理を行ない、ただ第2の収縮工程と
して、25℃のエチルアルコールに浸漬し、風乾した後
の膜厚は5.4μmであって、パターン焼込み前の27
0%にも達した。
して、25℃のエチルアルコールに浸漬し、風乾した後
の膜厚は5.4μmであって、パターン焼込み前の27
0%にも達した。
発明の効果
本発明のホログラムの製法は、収縮効果の大きい処理液
を特定して、第2の収縮工程を行なうことによって、干
渉縞の倒れ角が設計角とずれることの少ないホログラム
を製造することができる。
を特定して、第2の収縮工程を行なうことによって、干
渉縞の倒れ角が設計角とずれることの少ないホログラム
を製造することができる。
第1図はレーザービームの分割・入射を示す説引回であ
プ、 第2図は露光による干渉縞を示す説明図であシ、第3図
は膨潤・収縮処理による膜厚の変化による干渉縞の倒れ
角の変化を示す説明図である。 1・・・レーザービーム、2・・・7ハーフミラー、3
・・・感光板、3′・・・Iie@・収縮処理後の感光
板、4・・・パターン露光時の倒れ角、4′・・・膨潤
・収縮処理後の倒れ角。 特許出願人 富士通株式会社 %奸出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士 酋舘和之 弁理士 内田幸男 弁理士 山 口 昭 之 第2図 第3図
プ、 第2図は露光による干渉縞を示す説明図であシ、第3図
は膨潤・収縮処理による膜厚の変化による干渉縞の倒れ
角の変化を示す説明図である。 1・・・レーザービーム、2・・・7ハーフミラー、3
・・・感光板、3′・・・Iie@・収縮処理後の感光
板、4・・・パターン露光時の倒れ角、4′・・・膨潤
・収縮処理後の倒れ角。 特許出願人 富士通株式会社 %奸出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士 酋舘和之 弁理士 内田幸男 弁理士 山 口 昭 之 第2図 第3図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ラジカルによって置換可能な反応位置を有する芳香
族環または複素環を単位構造に含む重合体と、輻射線に
よってラジカルに解離可能なハロゲン含有化合物とから
なる感材を、(a)輻射線の干渉パターンに露光する工
程と、(b)露光後の感材を膨潤液に浸漬してパターン
を形成し、未反応のハロゲン含有化合物を浸出する工程
と、(C)膨潤後の感材を収縮液に浸漬してパターンを
固定する工程とを有するホログラムの製法において、工
程(c)によってパターンを固定した感材をさらにアセ
トニトリルまたはメチルイソプロピルケトンに浸漬スる
第2収縮工程を加えることを特徴とするホログラムの製
法。 2、感材をポリ−N−ビニルカルバゾールと、四ヨウ化
炭素とから形成する、特許請求の範囲第1項記載の製法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16041383A JPS6052889A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | ホログラムの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16041383A JPS6052889A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | ホログラムの製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6052889A true JPS6052889A (ja) | 1985-03-26 |
Family
ID=15714392
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16041383A Pending JPS6052889A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | ホログラムの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6052889A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1988004796A1 (en) * | 1986-12-19 | 1988-06-30 | Polaroid Corporation | Holograms |
US5672448A (en) * | 1992-12-29 | 1997-09-30 | Nippondenso Co., Ltd. | Multi-exposure system for hologram |
-
1983
- 1983-09-02 JP JP16041383A patent/JPS6052889A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1988004796A1 (en) * | 1986-12-19 | 1988-06-30 | Polaroid Corporation | Holograms |
US5672448A (en) * | 1992-12-29 | 1997-09-30 | Nippondenso Co., Ltd. | Multi-exposure system for hologram |
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