JPS6049841B2 - 光学式非接触型検出装置 - Google Patents
光学式非接触型検出装置Info
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- JPS6049841B2 JPS6049841B2 JP55097375A JP9737580A JPS6049841B2 JP S6049841 B2 JPS6049841 B2 JP S6049841B2 JP 55097375 A JP55097375 A JP 55097375A JP 9737580 A JP9737580 A JP 9737580A JP S6049841 B2 JPS6049841 B2 JP S6049841B2
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- light
- lens barrel
- light receiving
- lens
- shielding tube
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/026—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by measuring distance between sensor and object
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
- G01B11/303—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces using photoelectric detection means
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、物体表面の変位、物体表面の法線方位あるい
は物体表面の形状異方性（例えは物体表面の稜線や溝）
等を、光を媒体として、非接触て検出てきるようにした
光学式非接触型検出装置に３関し、特に曲面自動整形研
削システムにおいて砥石摩耗等による砥石作業面の変位
検出等に用いて好適の光学式非接触型検出装置に関する
。
は物体表面の形状異方性（例えは物体表面の稜線や溝）
等を、光を媒体として、非接触て検出てきるようにした
光学式非接触型検出装置に３関し、特に曲面自動整形研
削システムにおいて砥石摩耗等による砥石作業面の変位
検出等に用いて好適の光学式非接触型検出装置に関する
。
従来より、この種の光学式非接触型検出手段として、次
のような各種の手段が提案されている。
のような各種の手段が提案されている。
４、（１）スポット実像の光軸方向又はそれに垂直な方
向の動きをスリット又は遮蔽板を通過せしめて光素子に
導く伝統的な手段。
向の動きをスリット又は遮蔽板を通過せしめて光素子に
導く伝統的な手段。
（２）スポット実像位置に振動ピンホールを配し、その
振動とピンホール通過光量振動との位相差によつて、ピ
ンホール振動方向の像ズレを検出する手段（ピンホール
振動方式）。
振動とピンホール通過光量振動との位相差によつて、ピ
ンホール振動方向の像ズレを検出する手段（ピンホール
振動方式）。
（３）投光軸に対して斜観測を行い被検出面上の光５
スポットの投光軸方向変位を、像の横動きとしてとらえ
、映像面に直接２枚の光素子を配して差動出力を得る手
段。
スポットの投光軸方向変位を、像の横動きとしてとらえ
、映像面に直接２枚の光素子を配して差動出力を得る手
段。
（４） 検出器内に基本となる長さ（参照長さ）を有し
、その寸法を基本にしてΞ角測量的に被検出０ 面の変
位を直接測定する手段（この手段として反射波位相差検
出手段や回転ミラー方式等か提案されている。
、その寸法を基本にしてΞ角測量的に被検出０ 面の変
位を直接測定する手段（この手段として反射波位相差検
出手段や回転ミラー方式等か提案されている。
）。しかしながら、これらの従来の検出手段では微弱信
号入力時のＳ／Ｎ比が悪かつたり、光学系が丁複雑にな
つたり、更には装置の大型化や重量増加を招いたりする
という問題点があり、特に（４）の手段では、物体表面
の法線方位によつて入力信号の光量が強い影響を受ける
ため、光量変化を検出物理量とすることが出来ないとい
う問題点がある。
号入力時のＳ／Ｎ比が悪かつたり、光学系が丁複雑にな
つたり、更には装置の大型化や重量増加を招いたりする
という問題点があり、特に（４）の手段では、物体表面
の法線方位によつて入力信号の光量が強い影響を受ける
ため、光量変化を検出物理量とすることが出来ないとい
う問題点がある。
・又物体表面の法線方位を同時に又は独立に検出する機
能を附与しがたいという問題点もある。本発明は、これ
らの諸問題を一挙に解決しようとするものて、Ｓ／Ｎ比
が良く、簡素な光学系で、しかも小型・軽量・堅牢で広
い用途に使用できる光学式非接触型検出装置を提供する
ことを目的とする。このため、本発明の光学式非接触型
検出装置は、鏡筒前方に位置する物体の被検出面へ同鏡
筒内から投光しうる投光系と、上記の物体の被検出面か
らの光を上記鏡筒内を通じて受光しうる受光系とをそな
えるとともに、上記投光系の光と上記受光系の光とを仕
切るべく上記鏡筒の中心軸線に沿い配設されて先端を上
記被検出面に対向せしめられるべき遮蔽管と、上記鏡筒
の前端部に配設された集光手段と、上記遮蔽管の外周に
おいて鏡筒中心軸に対し軸対称に配設された反射手段と
をそなえ、上記鏡筒の内部で上記反射手段に対向する部
分と、上記遮蔽管の基端に対向する部分とのいずれか一
方に、上記投光系の光源が設けられるとともに、他方に
、上記受光系の受光手段が設けられたことを特徴として
いる。
能を附与しがたいという問題点もある。本発明は、これ
らの諸問題を一挙に解決しようとするものて、Ｓ／Ｎ比
が良く、簡素な光学系で、しかも小型・軽量・堅牢で広
い用途に使用できる光学式非接触型検出装置を提供する
ことを目的とする。このため、本発明の光学式非接触型
検出装置は、鏡筒前方に位置する物体の被検出面へ同鏡
筒内から投光しうる投光系と、上記の物体の被検出面か
らの光を上記鏡筒内を通じて受光しうる受光系とをそな
えるとともに、上記投光系の光と上記受光系の光とを仕
切るべく上記鏡筒の中心軸線に沿い配設されて先端を上
記被検出面に対向せしめられるべき遮蔽管と、上記鏡筒
の前端部に配設された集光手段と、上記遮蔽管の外周に
おいて鏡筒中心軸に対し軸対称に配設された反射手段と
をそなえ、上記鏡筒の内部で上記反射手段に対向する部
分と、上記遮蔽管の基端に対向する部分とのいずれか一
方に、上記投光系の光源が設けられるとともに、他方に
、上記受光系の受光手段が設けられたことを特徴として
いる。
また、本発明の光学式非接触型検出装置は、鎮痛後部に
設けられた光源と、同光源からの光を上氾鏡筒前方に位
置する物体の被検出面へ向けて伝ズにより集光された光
を反射すべく上記遮蔽管の外周面に設けられた反射部と
、上記集光レンズがらの光を検出すべく検出系に接続さ
れる受光手段とをそなえ、上記遮蔽管がその先端部を上
記集光レンズの中心部を貫通すべく設けられ、且つ、十
記受光手段が、上記反射部の前方において上記遮蔽管と
同軸的に配設され中央部に上記集光レンズからの光を通
して上記反射部へ導きうる環状孔をそなえた第１の受光
素子を有するとともに、上記反射部の後方において上記
遮蔽管と同軸的に配設された第２の受光素子を有して、
上記第１および第２の受光素子からの出力の差を発信し
うる差動増幅器に結線されていることを特徴とする、光
学式非接触型検出装置。
設けられた光源と、同光源からの光を上氾鏡筒前方に位
置する物体の被検出面へ向けて伝ズにより集光された光
を反射すべく上記遮蔽管の外周面に設けられた反射部と
、上記集光レンズがらの光を検出すべく検出系に接続さ
れる受光手段とをそなえ、上記遮蔽管がその先端部を上
記集光レンズの中心部を貫通すべく設けられ、且つ、十
記受光手段が、上記反射部の前方において上記遮蔽管と
同軸的に配設され中央部に上記集光レンズからの光を通
して上記反射部へ導きうる環状孔をそなえた第１の受光
素子を有するとともに、上記反射部の後方において上記
遮蔽管と同軸的に配設された第２の受光素子を有して、
上記第１および第２の受光素子からの出力の差を発信し
うる差動増幅器に結線されていることを特徴とする、光
学式非接触型検出装置。
１２上記遮蔽管の外周壁が上記反射部として形成された
特許請求の範囲第１１項に記載の光学式非接触型検出装
置。
特許請求の範囲第１１項に記載の光学式非接触型検出装
置。
１３鏡筒後部に設けられた光源と、同光源からの光を上
記鏡筒前方に位置する物体の被検出面へ向けて伝播すべ
く上記鏡筒の中心軸線に沿い配設されかつ両端にセルフ
オクレンズをそなえた中心フォトファイバと、上記鏡筒
の前端部に上記中心フォトファイバと同軸的に配設され
た集光レンズと、同集光レンズにより集光された光を反
射すべく上記中心フォトファイバの外周面に設けられた
−反射部とをそなえ、同反射部からの光を受光端を有し
てその光を検出系へ導きうる多数のフォトファイバが、
上記中心フォトファイバと平行に且つ同中心フォトファ
イバの周囲に密集して配設されたことを特徴とする、光
学式非接触型検出装置。
記鏡筒前方に位置する物体の被検出面へ向けて伝播すべ
く上記鏡筒の中心軸線に沿い配設されかつ両端にセルフ
オクレンズをそなえた中心フォトファイバと、上記鏡筒
の前端部に上記中心フォトファイバと同軸的に配設され
た集光レンズと、同集光レンズにより集光された光を反
射すべく上記中心フォトファイバの外周面に設けられた
−反射部とをそなえ、同反射部からの光を受光端を有し
てその光を検出系へ導きうる多数のフォトファイバが、
上記中心フォトファイバと平行に且つ同中心フォトファ
イバの周囲に密集して配設されたことを特徴とする、光
学式非接触型検出装置。
３発明の詳細な説明
本発明は、物体表面の変位、物体表面の法線方位あるい
は物体表面の形状異方性（例えは物体表面の稜線や溝）
等を、光を媒体として、非接触て検出てきるようにした
光学式非接触型検出装置に３関し、特に曲面自動整形研
削システムにおいて砥石摩耗等による砥石作業面の変位
検出等に用いて好適の光学式非接触型検出装置に関する
。
は物体表面の形状異方性（例えは物体表面の稜線や溝）
等を、光を媒体として、非接触て検出てきるようにした
光学式非接触型検出装置に３関し、特に曲面自動整形研
削システムにおいて砥石摩耗等による砥石作業面の変位
検出等に用いて好適の光学式非接触型検出装置に関する
。
従来より、この種の光学式非接触型検出手段として、次
のような各種の手段が提案されている。
のような各種の手段が提案されている。
４．（１）スポット実像の光軸方向又はそれに垂直な方
向の動きをスリット又は遮蔽板を通過せしめて光素子に
導く伝統的な手段。
向の動きをスリット又は遮蔽板を通過せしめて光素子に
導く伝統的な手段。
（２）スポット実像位置に振動ピンホールを配し、その
振動とピンホール通過光量振動との位相差によつて、ピ
ンホール振動方向の像ズレを検出する手段（ピンホール
振動方式）。
振動とピンホール通過光量振動との位相差によつて、ピ
ンホール振動方向の像ズレを検出する手段（ピンホール
振動方式）。
（３）投光軸に対して斜観測を行い被検出面上の光５
スポットの投光軸方向変位を、像の横動きとしてとらえ
、映像面に直接２枚の光素子を配して差動出力を得る手
段。
スポットの投光軸方向変位を、像の横動きとしてとらえ
、映像面に直接２枚の光素子を配して差動出力を得る手
段。
（４）検出器内に基本となる長さ（参照長さ）を有し、
その寸法を基本にして三角測量的に被検出Ｏ 面の変位
を直接測定する手段（この手段として反射波位相差検出
手段や回転ミラー方式等か提案されている。
その寸法を基本にして三角測量的に被検出Ｏ 面の変位
を直接測定する手段（この手段として反射波位相差検出
手段や回転ミラー方式等か提案されている。
）。しかしながら、これらの従来の検出手段では微弱信
号入力時のＳ／Ｎ比が悪かつたり、光学系が７複雑にな
つたり、更には装置の大型化や重量増加を招いたりする
という問題点があり、特に（４）の手段では、物体表面
の法線方位によつて入力信号の光量が強い影響を受ける
ため、光量変化を検出物理量とすることが出来ないとい
う問題点がある。
号入力時のＳ／Ｎ比が悪かつたり、光学系が７複雑にな
つたり、更には装置の大型化や重量増加を招いたりする
という問題点があり、特に（４）の手段では、物体表面
の法線方位によつて入力信号の光量が強い影響を受ける
ため、光量変化を検出物理量とすることが出来ないとい
う問題点がある。
又物体表面の法線方位を同時に又は独立に検出する機能
を附与しがたいという問題点もある。本発明は、これら
の諸問題を一挙に解決しようとするものて、Ｓ／Ｎ比が
良く、簡素な光学系で、しかも小型・軽量・堅牢で広い
用途に使用できる光学式非接触型検出装置を提供するこ
とを目的とする。このため、本発明の光学式非接触型検
出装置は、鏡筒前方に位置する物体の被検出面へ同鏡筒
内から投光しうる投光系と、上記の物体の被検出面から
の光を上記鏡筒内を通じて受光しうる受光系とをそなえ
るとともに、上記投光系の光と上記受光系の光とを仕切
るべく上記鏡筒の中心軸線に沿い配設されて先端を上記
被検出面に対向せしめられるべき遮蔽管と、上記鏡筒の
前端部に配設された集光手段と、上記遮蔽管の外周にお
いて鏡筒中心軸に対し軸対称に配設された反射手段とを
そなえ、上記鏡筒の内部で上記反射手段に対向する部分
と、上記遮蔽管の基端に対向する部分とのいずれか一方
に、上記投光系の光源が設けられるとともに、他方に、
上記受光系の受光手段が設けられたことを特徴としてい
る。
を附与しがたいという問題点もある。本発明は、これら
の諸問題を一挙に解決しようとするものて、Ｓ／Ｎ比が
良く、簡素な光学系で、しかも小型・軽量・堅牢で広い
用途に使用できる光学式非接触型検出装置を提供するこ
とを目的とする。このため、本発明の光学式非接触型検
出装置は、鏡筒前方に位置する物体の被検出面へ同鏡筒
内から投光しうる投光系と、上記の物体の被検出面から
の光を上記鏡筒内を通じて受光しうる受光系とをそなえ
るとともに、上記投光系の光と上記受光系の光とを仕切
るべく上記鏡筒の中心軸線に沿い配設されて先端を上記
被検出面に対向せしめられるべき遮蔽管と、上記鏡筒の
前端部に配設された集光手段と、上記遮蔽管の外周にお
いて鏡筒中心軸に対し軸対称に配設された反射手段とを
そなえ、上記鏡筒の内部で上記反射手段に対向する部分
と、上記遮蔽管の基端に対向する部分とのいずれか一方
に、上記投光系の光源が設けられるとともに、他方に、
上記受光系の受光手段が設けられたことを特徴としてい
る。
また、本発明の光学式非接触型検出装置は、鏡笥後部に
設けられた光源と、同光源からの光を上七鏡筒前方に位
置する物体の被検出面へ向けて伝播すべく上記鏡筒の中
心軸線に沿い配設された遮蔽管と、上記鏡筒の前端部に
上記遮蔽管と同軸的に配設された集光レンズと、同集光
レンズにより集光された光を反射すべく上記遮蔽管の外
周面に設けられた反射部と、上記集光レンズからの光を
検出すべく検出系に接続される受光手段とをそなえ、上
記遮蔽管がその先端部を上記集光レンズの中心部を貫通
すべく設けられ、且つ、上記受光手段が、上記反射部の
前方において上記遮蔽管と同軸的に配設され中央部に上
記集光レンズからの光を通して上記反射部へ導きうる環
状孔をそなえた第１の受光素子を有するとともに、上記
反射部の後方において上記遮蔽管と同軸的に配設された
第２の受光素子を有して、上記第１および第２の受光素
子からの出力の差を発信しうる差動増幅器に結線されて
いることを特徴としている。
設けられた光源と、同光源からの光を上七鏡筒前方に位
置する物体の被検出面へ向けて伝播すべく上記鏡筒の中
心軸線に沿い配設された遮蔽管と、上記鏡筒の前端部に
上記遮蔽管と同軸的に配設された集光レンズと、同集光
レンズにより集光された光を反射すべく上記遮蔽管の外
周面に設けられた反射部と、上記集光レンズからの光を
検出すべく検出系に接続される受光手段とをそなえ、上
記遮蔽管がその先端部を上記集光レンズの中心部を貫通
すべく設けられ、且つ、上記受光手段が、上記反射部の
前方において上記遮蔽管と同軸的に配設され中央部に上
記集光レンズからの光を通して上記反射部へ導きうる環
状孔をそなえた第１の受光素子を有するとともに、上記
反射部の後方において上記遮蔽管と同軸的に配設された
第２の受光素子を有して、上記第１および第２の受光素
子からの出力の差を発信しうる差動増幅器に結線されて
いることを特徴としている。
さらに、本発明の光学式非接触型検出装置は、上記反射
部からの光を受ける受光端を有してその光を検出系へ導
きうる多数のフォトファイバが、中心フォトファイバと
平行に且つ同中心フォトファイバの周囲に密集して配設
されたことを特徴としている。
部からの光を受ける受光端を有してその光を検出系へ導
きうる多数のフォトファイバが、中心フォトファイバと
平行に且つ同中心フォトファイバの周囲に密集して配設
されたことを特徴としている。
ここで、本装置の実施例について説明する前に、本装置
による検出手段についての一般論を第１〜３図を用いて
説明する。
による検出手段についての一般論を第１〜３図を用いて
説明する。
今、比較的曲率の小さな物体１の表面上の点０に（実際
は０点近傍の微少領域であり、そのように扱うことは困
難ではないが、このような理想化は説明を簡潔にするの
で点として扱う。
は０点近傍の微少領域であり、そのように扱うことは困
難ではないが、このような理想化は説明を簡潔にするの
で点として扱う。
）細い平行光線ビーム３を照射した場合について考える
と、通常は、第１図に示すごとく、不完全な乱反射散光
を伴う正反射光の分布Ｓ（０，ψ）が、面の幾何学的性
質および物理的性質に応じて得られる。なお、Ｓ（θ，
φ）は光に関する任意の物理的性質に対する測値〔例え
ば強さ、光量、波長、位相等（パルス光ならそれに含ま
れるもの）〕を大きさとし、θ，φを方向とするベクト
ルである。
と、通常は、第１図に示すごとく、不完全な乱反射散光
を伴う正反射光の分布Ｓ（０，ψ）が、面の幾何学的性
質および物理的性質に応じて得られる。なお、Ｓ（θ，
φ）は光に関する任意の物理的性質に対する測値〔例え
ば強さ、光量、波長、位相等（パルス光ならそれに含ま
れるもの）〕を大きさとし、θ，φを方向とするベクト
ルである。
そして、この反射光の分布は、当然ながら照射点０の位
置、面の方位や面の粗さなどに伴う不均質性、面の形状
その他の異方性等の情報を含んでいる。従つて、これ等
のうち、検出の目的に応じてあるものを選択的に観測で
きて〔それをＳ″（θ，ψ）とする（第２図参照）〕、
適当な処理を行なつて、目標とする検出量を評価できれ
ばよい。
置、面の方位や面の粗さなどに伴う不均質性、面の形状
その他の異方性等の情報を含んでいる。従つて、これ等
のうち、検出の目的に応じてあるものを選択的に観測で
きて〔それをＳ″（θ，ψ）とする（第２図参照）〕、
適当な処理を行なつて、目標とする検出量を評価できれ
ばよい。
次に、その検出手段を第２，第３図により具体的に順を
追つて説明する。（１）鏡筒８の前方に位置する物体１
の被検出面Ｐ６へこの鏡筒８内から投光しうる投光系の
軸と、物体１の被検出面Ｐｄからの光を鏡筒８を通じて
受光しうる受光系の軸とを共通の軸として、これをＡｘ
軸（又はｚ軸）とする。
追つて説明する。（１）鏡筒８の前方に位置する物体１
の被検出面Ｐ６へこの鏡筒８内から投光しうる投光系の
軸と、物体１の被検出面Ｐｄからの光を鏡筒８を通じて
受光しうる受光系の軸とを共通の軸として、これをＡｘ
軸（又はｚ軸）とする。
そして、上記投光系の光と上記受光系の光とを仕切るた
めの遮蔽管（フォトファイバ又は細管）４を、Ａｘ軸と
一致する鏡筒８の中心軸線に沿つて配設する。このとき
遮蔽管４の先端は集光系（凸集光レンズ５）を貫通して
物体１の被検出面Ｐｄに対向させる。（２）遮蔽管４を
通じ被検出面Ｐｄに投光されたスポットの反射分布Ｓ（
θ，ψ，ｚ）〔ここでｚはスポット像のｚ方向位置を示
す。
めの遮蔽管（フォトファイバ又は細管）４を、Ａｘ軸と
一致する鏡筒８の中心軸線に沿つて配設する。このとき
遮蔽管４の先端は集光系（凸集光レンズ５）を貫通して
物体１の被検出面Ｐｄに対向させる。（２）遮蔽管４を
通じ被検出面Ｐｄに投光されたスポットの反射分布Ｓ（
θ，ψ，ｚ）〔ここでｚはスポット像のｚ方向位置を示
す。
〕を集光手段を用いてできるだけ大きな受光立体角〔θ
（Ｓｔｅ．ｒａｄ．）：θＭａｘ＝２π〕で集光する。
（Ｓｔｅ．ｒａｄ．）：θＭａｘ＝２π〕で集光する。
集光手段としては、例えばＦ値の小さな凸型集光レンズ
５を用いればよい。従つて、Ｓ（θ，φ，ｚ）の集光変
換像 Ｓ″（θ，ψ，ｚ）を集光レンズ５後方のＡｘ軸上の参
照面Ｐｒあるいは参照点Ｐ、近傍に得る。
５を用いればよい。従つて、Ｓ（θ，φ，ｚ）の集光変
換像 Ｓ″（θ，ψ，ｚ）を集光レンズ５後方のＡｘ軸上の参
照面Ｐｒあるいは参照点Ｐ、近傍に得る。
（３）軸Ａｘに軸対称の反射手段としての曲面ミラー６
（円筒外周面，円垂面，凸状回転曲面，凸状回転曲面等
）あるいは軸対称配置の平面ミラー群やその他ミラー（
多角柱面，多角垂面，多角曲面等）を配置して、スポッ
ト集光像Ｓ″（θ，φ，ｚ）を参照面Ｐ，上のθ−ｒ光
量分布Ｓ″（θ，ｒ）、又は参照点Ｐｒ近傍の曲面Ｐｒ
５上のθ一φ光量分布Ｓ″（θ，φ）に変換する。
（円筒外周面，円垂面，凸状回転曲面，凸状回転曲面等
）あるいは軸対称配置の平面ミラー群やその他ミラー（
多角柱面，多角垂面，多角曲面等）を配置して、スポッ
ト集光像Ｓ″（θ，φ，ｚ）を参照面Ｐ，上のθ−ｒ光
量分布Ｓ″（θ，ｒ）、又は参照点Ｐｒ近傍の曲面Ｐｒ
５上のθ一φ光量分布Ｓ″（θ，φ）に変換する。
ここでｒは半径方向の座標を示している。（４）変換さ
れた、あるいは参照面Ｐ，又は参照点Ｐ、近傍の曲面ｐ
、５に写像されたＳ″″（θ，ｒ）又はＳ″（θ，φ）
を、Ｐｒ面あるいはＰｒ点近傍の空間内の曲面Ｐ．ｓに
θ−ｒ配置、あるいはθ−ψ配置された検出系に接続さ
れる受光系の受光手段として受光素子群７（各受光素子
は符号Ｐｃ（θ．．，Ｒ．．）又はＰｃ（θＮ，ψ．．
）で示される）によつて検出する（場合によつてはＳ″
（θ，φ，ｚ）の一部を参照受光することも可能である
）。
れた、あるいは参照面Ｐ，又は参照点Ｐ、近傍の曲面ｐ
、５に写像されたＳ″″（θ，ｒ）又はＳ″（θ，φ）
を、Ｐｒ面あるいはＰｒ点近傍の空間内の曲面Ｐ．ｓに
θ−ｒ配置、あるいはθ−ψ配置された検出系に接続さ
れる受光系の受光手段として受光素子群７（各受光素子
は符号Ｐｃ（θ．．，Ｒ．．）又はＰｃ（θＮ，ψ．．
）で示される）によつて検出する（場合によつてはＳ″
（θ，φ，ｚ）の一部を参照受光することも可能である
）。
（５）これらの受光素子群７より得られる各受光素子か
らの出力０Ｌ１ｔ（θＮ，ｒＯ）又は０１ｔ（０ｎ，ψ
噸を逆変換的信号処理をほどこし、Ｓ″（（θ，ψ，ｚ
）さらにＳ（０，ψ，ｚ）の合目的評価を行ない、Ｓ（
（０，φ，ｚ）を生する原因となる被検出面Ｐｄの状態
あるいは変化を検出する。
らの出力０Ｌ１ｔ（θＮ，ｒＯ）又は０１ｔ（０ｎ，ψ
噸を逆変換的信号処理をほどこし、Ｓ″（（θ，ψ，ｚ
）さらにＳ（０，ψ，ｚ）の合目的評価を行ない、Ｓ（
（０，φ，ｚ）を生する原因となる被検出面Ｐｄの状態
あるいは変化を検出する。
なお、第２図中、符号２は投光系の光源としてのレーザ
ガン、３はレーザ平行ビーム、ＰＬは集光レンズ５の等
価単レンズ位置を示す面を示している。また、この場合
第３図に一例を示すように、参照曲面Ｐ，５に０−φ配
列された受光素子群７は合計３２個の受光素子Ｐｃ（θ
Ｎ，ψ噸（ｎ＝１，２，３，４；ｍ＝１，２，３，４，
５，６，７，８（なお、Ｎ，ｍは検出の必要に応じて任
意である。
ガン、３はレーザ平行ビーム、ＰＬは集光レンズ５の等
価単レンズ位置を示す面を示している。また、この場合
第３図に一例を示すように、参照曲面Ｐ，５に０−φ配
列された受光素子群７は合計３２個の受光素子Ｐｃ（θ
Ｎ，ψ噸（ｎ＝１，２，３，４；ｍ＝１，２，３，４，
５，６，７，８（なお、Ｎ，ｍは検出の必要に応じて任
意である。
））で構成されている。さらに、上述のように、レーザ
ガン２が遮蔽管４の基端に対向する部分に設けられると
ともに、受光素子群７を構成する多数の受光素子Ｐｃ（
０ｎ，ｒ．ｎ）又はＰｃ（θＮ，ψ．．）が、鏡筒８の
内部で曲面ミラー６に対向する部分に、同曲面ミラー６
に対し種々の所定角度を有して設けられるように代わり
に、光の可逆進性を利用すれば、投光系の光源を鏡筒８
の内部て曲面ミラー６に対向する部分に設けるとともに
、受光系の受光手段を遮蔽管５４の基端に対向する部分
に設けることが可能で、この場合上記投光系の光源とし
て、曲面ミラー６に対し種々の角度および位置を有する
多数の可識別の光源群が用いられる。
ガン２が遮蔽管４の基端に対向する部分に設けられると
ともに、受光素子群７を構成する多数の受光素子Ｐｃ（
０ｎ，ｒ．ｎ）又はＰｃ（θＮ，ψ．．）が、鏡筒８の
内部で曲面ミラー６に対向する部分に、同曲面ミラー６
に対し種々の所定角度を有して設けられるように代わり
に、光の可逆進性を利用すれば、投光系の光源を鏡筒８
の内部て曲面ミラー６に対向する部分に設けるとともに
、受光系の受光手段を遮蔽管５４の基端に対向する部分
に設けることが可能で、この場合上記投光系の光源とし
て、曲面ミラー６に対し種々の角度および位置を有する
多数の可識別の光源群が用いられる。
すなわち、Ｐ，面上にθ一φ配列，θ−ｒ配列！又はθ
−ｚ配列された可識別光源群（パルス周期，パルス形状
比，位相，パルス形状，光波長，発光時期等により、θ
一φ，θ−ｒ又はθ−ｚの各位置を識別できる光源群）
を用いれば、中心光軸に反射入光する光の性質を識別す
ることによ３り、被検出面Ｐｄの状態や変位を検出する
ことができるわけである。
−ｚ配列された可識別光源群（パルス周期，パルス形状
比，位相，パルス形状，光波長，発光時期等により、θ
一φ，θ−ｒ又はθ−ｚの各位置を識別できる光源群）
を用いれば、中心光軸に反射入光する光の性質を識別す
ることによ３り、被検出面Ｐｄの状態や変位を検出する
ことができるわけである。
次に、図面により本発明の実施例として、物体表面の変
位軸検出のために具体化された例について説明する。
位軸検出のために具体化された例について説明する。
４，第４図はその
縦断面図、第５図はその構成部品の配置関係を示す模式
図、第６図はその信号処理回路を示す電気回路図、第７
図はその全体を系統的に示すブロック図、第８図ａ−ｃ
はいずれもその参照図を通過する光の強さ分布図、第９
〜１１図はいずれもその無負荷起電力特性図、第１２図
は検出器追従制御の例として試作された検出器をパルス
モーターネジ駆動系によつて砥石面（Ａ２４ＱＢ）を追
従制御させた場合に得られたステップ応答特性図である
。
縦断面図、第５図はその構成部品の配置関係を示す模式
図、第６図はその信号処理回路を示す電気回路図、第７
図はその全体を系統的に示すブロック図、第８図ａ−ｃ
はいずれもその参照図を通過する光の強さ分布図、第９
〜１１図はいずれもその無負荷起電力特性図、第１２図
は検出器追従制御の例として試作された検出器をパルス
モーターネジ駆動系によつて砥石面（Ａ２４ＱＢ）を追
従制御させた場合に得られたステップ応答特性図である
。
この第１実施例は、本装置を、物体としての砥石（Ａ２
４ＱＢ）１のｚ方向（又はＡｘ方向）における表面変位
の検出用装置に適用した場合を示すも９ので、第４図に
示すごとく、検出器ＤＥの本体としての鏡筒８の後部に
は、投光系の光源としてのレーザガン２が装着されてい
る。
４ＱＢ）１のｚ方向（又はＡｘ方向）における表面変位
の検出用装置に適用した場合を示すも９ので、第４図に
示すごとく、検出器ＤＥの本体としての鏡筒８の後部に
は、投光系の光源としてのレーザガン２が装着されてい
る。
そして、この鏡筒８の中心軸線（この軸線は投光系の軸
および受光系の軸Ｍと一致している。
および受光系の軸Ｍと一致している。
）７に沿い遮蔽管４が配設されており、この遮蔽管４は
その基端がレーザガン２に対向して設けられるとともに
、その中間部が鏡筒８内を通過し、その先端が鏡筒８の
前方に位置する砥石１の表面における被検出面Ｐｄに対
向して設けられている。したがつて、レーザガン２から
の平行ビームをこの遮蔽管４内を通して被検出面Ｐｄへ
向けて伝播せしめて、これを被検出面Ｐｄへ照射するこ
とができ、これにより被検出面Ｐｄ上に円形の光スポッ
トを得ることができる。さらに、鏡筒８の前端部には遮
蔽管４と同軸的に、複数のレンズからなる集光レンズ５
が装着されており、この集光レンズ５の中心部には、遮
蔽管４の先端部が貫通している。
その基端がレーザガン２に対向して設けられるとともに
、その中間部が鏡筒８内を通過し、その先端が鏡筒８の
前方に位置する砥石１の表面における被検出面Ｐｄに対
向して設けられている。したがつて、レーザガン２から
の平行ビームをこの遮蔽管４内を通して被検出面Ｐｄへ
向けて伝播せしめて、これを被検出面Ｐｄへ照射するこ
とができ、これにより被検出面Ｐｄ上に円形の光スポッ
トを得ることができる。さらに、鏡筒８の前端部には遮
蔽管４と同軸的に、複数のレンズからなる集光レンズ５
が装着されており、この集光レンズ５の中心部には、遮
蔽管４の先端部が貫通している。
ところで、集光レンズ５からの光を検出するために、そ
れぞれシリコンフォトセルから成る第１の受光素子とし
て円形のＦ素子９および第２の受光素子としての円形の
Ｂ素子１０て構成された受光手段が設けられている。
れぞれシリコンフォトセルから成る第１の受光素子とし
て円形のＦ素子９および第２の受光素子としての円形の
Ｂ素子１０て構成された受光手段が設けられている。
そしてこのＦ素子９は、反射部としで機能する遮蔽管４
の外周壁６″の前方において、遮蔽管４と同軸的に配設
されており、Ｆ素子９の中央部には、集光レンズ５から
の光を通して反射部６″へ導きうる円環状孔９ａが形成
されている。
の外周壁６″の前方において、遮蔽管４と同軸的に配設
されており、Ｆ素子９の中央部には、集光レンズ５から
の光を通して反射部６″へ導きうる円環状孔９ａが形成
されている。
また、Ｂ素子１０は、反射部６″の後方において、遮蔽
管４と同軸的に配設されている。
管４と同軸的に配設されている。
さらに各素子９，１０は、第６図に示すごとく、検出系
を構成する信号処理回路１１における差動増幅器１２に
結線されている。したがつて、集光レンズ５のＦ値によ
り定まるある受光立体角内に入つてくる被検出面Ｐｄか
らの反射光は、第５図に示すごとく、位置ＰＬに配設さ
れた集光レンズ５によつて集光され、直接Ｆ素子９て受
光されるほか、Ｆ素子９の環状孔９ａを通過して反射部
６″で反射されたのち、Ｂ素子１０で受光され、各素子
９，１０からの出力の差が差動増幅器１２から発信され
るようになつている。
を構成する信号処理回路１１における差動増幅器１２に
結線されている。したがつて、集光レンズ５のＦ値によ
り定まるある受光立体角内に入つてくる被検出面Ｐｄか
らの反射光は、第５図に示すごとく、位置ＰＬに配設さ
れた集光レンズ５によつて集光され、直接Ｆ素子９て受
光されるほか、Ｆ素子９の環状孔９ａを通過して反射部
６″で反射されたのち、Ｂ素子１０で受光され、各素子
９，１０からの出力の差が差動増幅器１２から発信され
るようになつている。
ところで、Ｆ素子９およびＢ素子１０で受光されたとき
の各素子９，１０の出力（無負荷起電−力）は、Ｐｒ面
からの距離１Ｆ，１Ｂや受光素子の内外半径等により変
化するが、上記各値を適宜調整すれば、第９図に示すご
とく、対称にすることができ、この場合素子９，１０の
差出力ＥＦ−８（＝ＥＦ上Ｂ）も、同図に破線で示すよ
うに対称になる。
の各素子９，１０の出力（無負荷起電−力）は、Ｐｒ面
からの距離１Ｆ，１Ｂや受光素子の内外半径等により変
化するが、上記各値を適宜調整すれば、第９図に示すご
とく、対称にすることができ、この場合素子９，１０の
差出力ＥＦ−８（＝ＥＦ上Ｂ）も、同図に破線で示すよ
うに対称になる。
なお、実用的には、接近側差出力の零点０ｃ近傍を検出
に用いることが行なわれる。
に用いることが行なわれる。
また、Ｐ，面からの距離１Ｆ，ＩＢを適宜変化させて、
接近側に有利なように非対称な出力特性とすることも可
能である（第１０図参照）。
接近側に有利なように非対称な出力特性とすることも可
能である（第１０図参照）。
この第１０図に示すものは、静止中の砥石１の円周面を
被検出面Ｐｄとして、そのときＦ素子９およびＢ素子１
０を、ＰＬ−Ｐ，間距離を２ｆ（ｆは集光レンズ５の焦
点距離）とした場合に、ｐ、の前方即ちレンズ側に寄せ
て３．２Ｔｍ！Ｎ，ｌ．５？（ト）２＝ー３．２ｗｔ，
ｈ＝ー１．５朋に該当）に配した場合の無負荷電圧Ｅ（
ＭＶ）の特性を示すものである。
被検出面Ｐｄとして、そのときＦ素子９およびＢ素子１
０を、ＰＬ−Ｐ，間距離を２ｆ（ｆは集光レンズ５の焦
点距離）とした場合に、ｐ、の前方即ちレンズ側に寄せ
て３．２Ｔｍ！Ｎ，ｌ．５？（ト）２＝ー３．２ｗｔ，
ｈ＝ー１．５朋に該当）に配した場合の無負荷電圧Ｅ（
ＭＶ）の特性を示すものである。
なお、第１０図において、Ｄ″が正の領域て接近側、Ｄ
″が負の領域て退去側をそれぞれ意味している。そして
、この場合、集光レンズ５は、そのＦ，Ｆ値がそれぞれ
１６ＴｆＵｎ，１：１．６のものを使用した。
″が負の領域て退去側をそれぞれ意味している。そして
、この場合、集光レンズ５は、そのＦ，Ｆ値がそれぞれ
１６ＴｆＵｎ，１：１．６のものを使用した。
また、第１１図に、条件を第１０図と同じにして、任意
の点にスポットを当てた場合の無負荷電圧（出力）特性
図を示す。
の点にスポットを当てた場合の無負荷電圧（出力）特性
図を示す。
この特性図から、各点ごとの乱反射の状態の違にいよつ
て、各点ごとの出力が異なることと更に差出力が零にな
る点０Ｃ（Ｄ″＝４．１瓢）が極めて安定てあることが
わかる。
て、各点ごとの出力が異なることと更に差出力が零にな
る点０Ｃ（Ｄ″＝４．１瓢）が極めて安定てあることが
わかる。
このように零点αが安定であるということは、本検出器
ＤＥを後述するごとく、被検出面Ｐ，に対し一定のギャ
ップを保つように追従制御する場合に好適てある。
ＤＥを後述するごとく、被検出面Ｐ，に対し一定のギャ
ップを保つように追従制御する場合に好適てある。
すなわち砥石１の被検出面Ｐ６を連続測定することがで
きるのである。ところで、この検出器ＤＥにおけるＦ素
子９およびＢ素子１０からの出力は、第６，７図に示す
ごとく、信号処理回路１１における差動増幅器１２へ入
力されて、この差動増幅器１２からの差出力は、絶対値
回路１３を介して、Ｖ−Ｆコンバータ１４で電圧一周波
数変換処理を施され、その後パルスモーター駆動回路１
５へ供給されることにより、パルスモータ（ステップモ
ータ）１６を駆動する。
きるのである。ところで、この検出器ＤＥにおけるＦ素
子９およびＢ素子１０からの出力は、第６，７図に示す
ごとく、信号処理回路１１における差動増幅器１２へ入
力されて、この差動増幅器１２からの差出力は、絶対値
回路１３を介して、Ｖ−Ｆコンバータ１４で電圧一周波
数変換処理を施され、その後パルスモーター駆動回路１
５へ供給されることにより、パルスモータ（ステップモ
ータ）１６を駆動する。
なお、■−Ｆコンバータ１４による電圧一周波数変換は
、パルスモータ１６が自起動できる周波数範囲となるよ
うに行なわれる。
、パルスモータ１６が自起動できる周波数範囲となるよ
うに行なわれる。
このパルスモータ１６の駆動により検出器ＤＥは案内お
よびネジ等から成る砥石面追従機構１７によつて追従駆
動され、このようなフィードバック系によつて、検出器
ＤＥは被検出面Ｐｄに対し一定のギャップを保持しなが
ら迫従制御されるようになつている。
よびネジ等から成る砥石面追従機構１７によつて追従駆
動され、このようなフィードバック系によつて、検出器
ＤＥは被検出面Ｐｄに対し一定のギャップを保持しなが
ら迫従制御されるようになつている。
ここで、２？のステップ変位に対するステップ応答の例
を示すと、第１２図のようになり、これから目標値（２
ｗｎ）の６３．２％到達時間が約０．３秒であることが
わかる。
を示すと、第１２図のようになり、これから目標値（２
ｗｎ）の６３．２％到達時間が約０．３秒であることが
わかる。
また、パルスモータ系へのパルス信号の零位復帰に要す
る総パルス数は、被検出面Ｐｄの変位に比例するので、
信号処理回路１１からのパルス信号は、パルスモータ１
６にミスモーションがない限り、曲面又は輪部制御研削
機構１８へ、直接、ノ砥石摩耗補償信号Ｓｃとして供給
することができる（第７図参照）。
る総パルス数は、被検出面Ｐｄの変位に比例するので、
信号処理回路１１からのパルス信号は、パルスモータ１
６にミスモーションがない限り、曲面又は輪部制御研削
機構１８へ、直接、ノ砥石摩耗補償信号Ｓｃとして供給
することができる（第７図参照）。
なお、第６図中、符号１９はコンパレータを示しており
、第７図中、符号２０は倣い方式あるいはＮＣ（数値制
御）用の輪部追従制御系、２１は５研削機のホィールロ
ケーション駆動機構を示している。
、第７図中、符号２０は倣い方式あるいはＮＣ（数値制
御）用の輪部追従制御系、２１は５研削機のホィールロ
ケーション駆動機構を示している。
本発明の光学式非接触型検出装置は、上述のことく構成
されているので、砥石１の被検出面Ｐｄの変位を検出す
るには、砥石面追従機構１７付きＯ本検出器ＤＥを砥石
１の被検出面Ｐｄに対向させるようにして配設する。
されているので、砥石１の被検出面Ｐｄの変位を検出す
るには、砥石面追従機構１７付きＯ本検出器ＤＥを砥石
１の被検出面Ｐｄに対向させるようにして配設する。
ついで、レーザガン２より、平行ビーム３を遮蔽管４を
通じてその先端から被検出面Ｐｄに照射する。
通じてその先端から被検出面Ｐｄに照射する。
このようにして照射された平行ビーム３は被検出面Ｐ，
で反射されたのち、集光レンズ５で集光されたのち、Ｆ
素子９およびＢ素子１０で受光される。そして、Ｆ素子
９およびＢ素子１０からの各出力は、信号処理回路１１
で、差出力を電圧一周波数変換されてから、パルスモー
ター駆動回路１５へ供給されて、パルスモータ１６を駆
動する。
で反射されたのち、集光レンズ５で集光されたのち、Ｆ
素子９およびＢ素子１０で受光される。そして、Ｆ素子
９およびＢ素子１０からの各出力は、信号処理回路１１
で、差出力を電圧一周波数変換されてから、パルスモー
ター駆動回路１５へ供給されて、パルスモータ１６を駆
動する。
これにより砥石面追従機構１７が駆動されるのて、検出
器ＤＥが被検出面Ｐｄに対し一定のギャップを保つよう
に迫従制御される。このとき、信号処理回路１１から、
砥石摩耗補償信号Ｓｃが輪部追従制御系２０の出力側に
供給されており、研削機のホィールロケーション駆動機
構２１を駆動して砥石１の位置をも制御てきるようにな
つている。
器ＤＥが被検出面Ｐｄに対し一定のギャップを保つよう
に迫従制御される。このとき、信号処理回路１１から、
砥石摩耗補償信号Ｓｃが輪部追従制御系２０の出力側に
供給されており、研削機のホィールロケーション駆動機
構２１を駆動して砥石１の位置をも制御てきるようにな
つている。
なお、この第１実施例では、ｚ方向の変位を専用検出す
るものとして適用している。
るものとして適用している。
従つてこのｚ変位以外の情報は全て外乱とみなしている
。ここに述べたｚ変位専用検出器が既述の一般構造（第
２図参照）のものから、ｚ変位のみの検出の為に、どの
ように特殊化されて派生するかについて簡単に述べる。
第２図に示すＰ、参照点にある反射手段として円筒ミラ
ーが採用され、受光手段である観測面ｐ、３は円形平面
てあり単一のＢ素子全面がこれにあたる。
。ここに述べたｚ変位専用検出器が既述の一般構造（第
２図参照）のものから、ｚ変位のみの検出の為に、どの
ように特殊化されて派生するかについて簡単に述べる。
第２図に示すＰ、参照点にある反射手段として円筒ミラ
ーが採用され、受光手段である観測面ｐ、３は円形平面
てあり単一のＢ素子全面がこれにあたる。
Ｆ素子は前述のごとく、Ｓ″（θ，ψ，ｚ）の一部を参
照受光している。
照受光している。
Ｆ素子もＢ素子も参照空間に置かれた座標（θ，ｒ）又
は（θ，φ）又は（θ，ｚ）に関し４ての素子分割数（
あるいは素子数）Ｎ，ｍはｎ＝ｍ＝１の場合であり、ｎ
＝ｍ＝１のＳ″参照受光と、ｎ＝ｍ＝１のＳ″″受光と
の比較によつてＳ（θ，ψ，ｚ）に含まれるｚに関する
情報のみを抽出するよう単純専用化されたものとみなし
う３る。
は（θ，φ）又は（θ，ｚ）に関し４ての素子分割数（
あるいは素子数）Ｎ，ｍはｎ＝ｍ＝１の場合であり、ｎ
＝ｍ＝１のＳ″参照受光と、ｎ＝ｍ＝１のＳ″″受光と
の比較によつてＳ（θ，ψ，ｚ）に含まれるｚに関する
情報のみを抽出するよう単純専用化されたものとみなし
う３る。
Ｆ素子を取り払い、Ｂ素子を（θ，ｒ）分割あるいは曲
面Ｐ５のように（θ，ψ）分割して、Ｎ，ｍを適当に複
数以上にとれば一般型に戻るであろう。
面Ｐ５のように（θ，ψ）分割して、Ｎ，ｍを適当に複
数以上にとれば一般型に戻るであろう。
４θに関してｎ
＝１の場合は、ｎ＝２以上の素子の場合のｎに関する出
力総和を得ることを意味し、ｍ＝２として、素子出力Σ
Ｒ＝１Ｅ（０ｎ，ｒｍ＝，）とΣ÷＝１Ｅ（０ｎ，ｒ．
．＝２）との比較を行えば、第１実施例類似のｚ方向検
出が可能となるのは勿論である。そしてこの第１実施例
の構造のものにおいて、Ｆ素子９やＢ素子１０を適宜の
配列（θ一φ配列，θ−ｒ配列等）を有する素子群て構
成して、これらの素子群からの出力に基づいて、砥石表
面の法線方位や形状異方性等を同時に検出することもで
きる。
＝１の場合は、ｎ＝２以上の素子の場合のｎに関する出
力総和を得ることを意味し、ｍ＝２として、素子出力Σ
Ｒ＝１Ｅ（０ｎ，ｒｍ＝，）とΣ÷＝１Ｅ（０ｎ，ｒ．
．＝２）との比較を行えば、第１実施例類似のｚ方向検
出が可能となるのは勿論である。そしてこの第１実施例
の構造のものにおいて、Ｆ素子９やＢ素子１０を適宜の
配列（θ一φ配列，θ−ｒ配列等）を有する素子群て構
成して、これらの素子群からの出力に基づいて、砥石表
面の法線方位や形状異方性等を同時に検出することもで
きる。
また、第５図に示す参照図ｐ、を通過する光のつ強さ分
布を、面、を通過する光の強さ分布を、面ｐ、においた
ｒ−θ座標て模式的に示すと、第８図ａ−ｃに示すよう
になるが、これらの図かられかるように、光の強さ分布
は、Ｐｄ−ＰＬ間距離１６の変化によつて変化する。
布を、面、を通過する光の強さ分布を、面ｐ、においた
ｒ−θ座標て模式的に示すと、第８図ａ−ｃに示すよう
になるが、これらの図かられかるように、光の強さ分布
は、Ｐｄ−ＰＬ間距離１６の変化によつて変化する。
ただしＰ．〜ＰＬ間距７離Ｌは、およそ７に固定されて
いる。さらに、第８図ａ−ｃでは、反射光の分布が軸Ａ
ｘ（又はｚ軸）に軸対称として、θ方向には一様として
示してある。
いる。さらに、第８図ａ−ｃでは、反射光の分布が軸Ａ
ｘ（又はｚ軸）に軸対称として、θ方向には一様として
示してある。
そして、このような光の強さ分布やΔ１ｄに対・する変
化の大きさは、反射ミラーの半径Ｒｍ，焦光レンズ５の
Ｆ値，Ｐ，〜ｐし間距離しによつて変化するため、ｐ、
面に２重円盤状の受光素子や受光素子群を置いても、前
述の第１実施例の場合のごとく、差出力を得ることがで
きる。
化の大きさは、反射ミラーの半径Ｒｍ，焦光レンズ５の
Ｆ値，Ｐ，〜ｐし間距離しによつて変化するため、ｐ、
面に２重円盤状の受光素子や受光素子群を置いても、前
述の第１実施例の場合のごとく、差出力を得ることがで
きる。
このように、第１実施例の装置では、遮蔽管４により、
投光系の軸と受光系の軸とが共通化され、更に投光系の
光と受光系の光とを仕切つて相互に干渉し合わないよう
に構成されているので、Ｓ／Ｎ比を向上させながら小型
軽量化を達成てきる。
投光系の軸と受光系の軸とが共通化され、更に投光系の
光と受光系の光とを仕切つて相互に干渉し合わないよう
に構成されているので、Ｓ／Ｎ比を向上させながら小型
軽量化を達成てきる。
また、受光手段を、予じめ決められた配列（例えばθ−
ｒ配列又はθ−ψ配列）を有して設けられた受光素子群
として構成すれば、砥石１の表面法線方位や表面形状異
方性等をも同時検出てき、その用途が広い。
ｒ配列又はθ−ψ配列）を有して設けられた受光素子群
として構成すれば、砥石１の表面法線方位や表面形状異
方性等をも同時検出てき、その用途が広い。
第１３，１４図は本発明の第２実施例としての光学式非
接触型検出装置を示すもので、第１３図はその縦断面図
、第１４図は第１３図Ｘ■−Ｘ■矢視線から見た横断面
図であつて、第１３，１４図中、第１〜１２図と同じ符
号はほぼ同様の部分を示している。
接触型検出装置を示すもので、第１３図はその縦断面図
、第１４図は第１３図Ｘ■−Ｘ■矢視線から見た横断面
図であつて、第１３，１４図中、第１〜１２図と同じ符
号はほぼ同様の部分を示している。
この第２実施例では、反射部６″からの光を受けるべく
参照図Ｐ，に開口する受光端をそれぞれ有して、それぞ
れの光を、検出系を構成する受光素子や信号処理回路等
へ導きうる多数のフォトファイバから成るフォトファイ
バ群２２が設けられており、フォトファイバ群２２を構
成する多数のフォトファイバが、遮蔽の役割をもつ中心
フォトファイバ４″を中心にしてこれと平行に且つこの
中心フォトファイバＣの周囲に密集して配設されている
。
参照図Ｐ，に開口する受光端をそれぞれ有して、それぞ
れの光を、検出系を構成する受光素子や信号処理回路等
へ導きうる多数のフォトファイバから成るフォトファイ
バ群２２が設けられており、フォトファイバ群２２を構
成する多数のフォトファイバが、遮蔽の役割をもつ中心
フォトファイバ４″を中心にしてこれと平行に且つこの
中心フォトファイバＣの周囲に密集して配設されている
。
そして、このフォトファイバ群２２は、内外２重でしか
も周方向に３等分された合計６つのフォトファイバ群部
分２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄ，２２ｅ，２２ｆに
分割することができ、各フォトファイバ群部分ごとで、
ｒ配列およびＯ配列が異なる。
も周方向に３等分された合計６つのフォトファイバ群部
分２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄ，２２ｅ，２２ｆに
分割することができ、各フォトファイバ群部分ごとで、
ｒ配列およびＯ配列が異なる。
このように、中心フォトファイバ４″を含めて３重構造
を有するフォトファイバ群を鏡筒７内に嵌挿することが
行なわれるので、光源や受光素子を検出部から離れた安
静な外乱を受けにくい場所に設置することができ、検出
部を小型軽量化できることはもちろんのこと、堅牢化を
はかることもでき、検出の信頼性を向上させることがで
きる。
を有するフォトファイバ群を鏡筒７内に嵌挿することが
行なわれるので、光源や受光素子を検出部から離れた安
静な外乱を受けにくい場所に設置することができ、検出
部を小型軽量化できることはもちろんのこと、堅牢化を
はかることもでき、検出の信頼性を向上させることがで
きる。
なお、第１３図中、符号２３は、中心フォトファイバ４
″の先端に装着されたセルフオクレンズ（又は集束性ロ
ッドレンズ）を示している。この第２実施例の場合も、
前述の第１実施例の場合と同様に、砥石１の表面変位を
検出して摩耗補償すべく追従制御することはもちろん可
能て、更にある程度の表面法線方位や表面形状異方性等
の検出も可能である。ところで、前述の各実施例のごと
く、中心フォトファイバ４″を通じて光源からの光を物
体１の表面へ照射して、その後反射光を集光レンズ５お
よび反射部６″を介して受光する代わりに、光の可逆進
性を利用して、光源からの可識別光を反射部６″および
集光レンズ５を介して物体１の表面へ照射して、その後
反射光を中心フォトファイバ４″を通じて受光すること
もてきる。
″の先端に装着されたセルフオクレンズ（又は集束性ロ
ッドレンズ）を示している。この第２実施例の場合も、
前述の第１実施例の場合と同様に、砥石１の表面変位を
検出して摩耗補償すべく追従制御することはもちろん可
能て、更にある程度の表面法線方位や表面形状異方性等
の検出も可能である。ところで、前述の各実施例のごと
く、中心フォトファイバ４″を通じて光源からの光を物
体１の表面へ照射して、その後反射光を集光レンズ５お
よび反射部６″を介して受光する代わりに、光の可逆進
性を利用して、光源からの可識別光を反射部６″および
集光レンズ５を介して物体１の表面へ照射して、その後
反射光を中心フォトファイバ４″を通じて受光すること
もてきる。
この場合も、前述の各実施例とほぼ同様の効果ないし利
点が得られる。
点が得られる。
第１５，１６図は本発明の装置を変形することによつて
得られる光学式非接触型検出装置を示すものて、第１５
図はその縦断面図、第１６図はその受光素子の配列状態
を模式的に示す斜視図であり、第１５，１６図中、第１
〜１４図と同じ符号はほぼ同様の部分を示している。
得られる光学式非接触型検出装置を示すものて、第１５
図はその縦断面図、第１６図はその受光素子の配列状態
を模式的に示す斜視図であり、第１５，１６図中、第１
〜１４図と同じ符号はほぼ同様の部分を示している。
この例は、受光立体角θ９，を増大できるようにしたも
ので、面法線方位検出や表面形状異方性検出に応用でき
るものである。
ので、面法線方位検出や表面形状異方性検出に応用でき
るものである。
すなわち、被検出面からの乱反射におけるθ，φ分布を
検出するためには、可能な限り、受光立体角０ｓｔが大
きい（最大θＳ，＝２Ｔ）ことが必要で、又この場合ス
ポット径も小さいことが望ましい。
検出するためには、可能な限り、受光立体角０ｓｔが大
きい（最大θＳ，＝２Ｔ）ことが必要で、又この場合ス
ポット径も小さいことが望ましい。
この例では、受光立体角を増大させるために、鏡筒８の
前端部に物体１の被検出面に向けて開口する受光立体角
増大部材としての回転楕円面ミラー２４が設けられてい
る。
前端部に物体１の被検出面に向けて開口する受光立体角
増大部材としての回転楕円面ミラー２４が設けられてい
る。
また、フォトファイバ４″の先端部が回転楕円面ミラー
２４の凹状曲面としての回転楕円面内の空間に突設され
ており、このフォトファイバ先端部の外周面に第２の反
射部２５が設けられていて、これにより回転楕円面ミラ
ー２４で受光された光を集光レンズ５へ効率よく反射さ
せることができる。
２４の凹状曲面としての回転楕円面内の空間に突設され
ており、このフォトファイバ先端部の外周面に第２の反
射部２５が設けられていて、これにより回転楕円面ミラ
ー２４で受光された光を集光レンズ５へ効率よく反射さ
せることができる。
すなわち、レーザガンから、直接、又はセルフオク型フ
ォトファイバ等により、光がセルフオクレンズ２６，フ
ォトファイバ４″およびセルフオクレンズ２７を通過し
て物体１の被検出面上の観測点０に投光されて、ここに
光スポット（測定の目的と範囲に適する大きさと強さと
を有する。
ォトファイバ等により、光がセルフオクレンズ２６，フ
ォトファイバ４″およびセルフオクレンズ２７を通過し
て物体１の被検出面上の観測点０に投光されて、ここに
光スポット（測定の目的と範囲に適する大きさと強さと
を有する。
又法線方位検出の為には面粗度の許すかぎり小径が理論
上好しいが、表面形状異方性検出の為には、適当な大き
さが定まると考えられる。）が生じて、その後この光が
反射して、回転楕円面ミラーＢ２４で受光されたのち、
フォトファイバ先端部付きの第２の反射部２５で反射し
てから集光レンズ５で集光される。このようにして集光
レンズ５で集光された光は、鏡筒８内におけるフォトフ
ァイバ４″の外周）面に設けられた第１の反射部として
の非球面ミラー２９によつて反射されてから、鏡筒８の
内壁部に第６図に示すごとく、矢印ａ方向にはｚ又はψ
配列されるとともに矢印ｂ方向にはθ配列された受光手
段としての受光素子群２９によつて受光さフれて、その
後光電変換等が施されて適宜の検出系にて検出されるよ
うになつている。
上好しいが、表面形状異方性検出の為には、適当な大き
さが定まると考えられる。）が生じて、その後この光が
反射して、回転楕円面ミラーＢ２４で受光されたのち、
フォトファイバ先端部付きの第２の反射部２５で反射し
てから集光レンズ５で集光される。このようにして集光
レンズ５で集光された光は、鏡筒８内におけるフォトフ
ァイバ４″の外周）面に設けられた第１の反射部として
の非球面ミラー２９によつて反射されてから、鏡筒８の
内壁部に第６図に示すごとく、矢印ａ方向にはｚ又はψ
配列されるとともに矢印ｂ方向にはθ配列された受光手
段としての受光素子群２９によつて受光さフれて、その
後光電変換等が施されて適宜の検出系にて検出されるよ
うになつている。
ところで、０点のまわりのθ−φ光強度分布Ｓと受光素
子群２９の得る出力のθ−φ又はＯ−ｚ分布との間に線
形的関係は得られないが、出力を０，φに関して比較処
理することにより、ある範囲のｎの方向の検出の手掛り
は得られる。
子群２９の得る出力のθ−φ又はＯ−ｚ分布との間に線
形的関係は得られないが、出力を０，φに関して比較処
理することにより、ある範囲のｎの方向の検出の手掛り
は得られる。
また、０点から定距離を保つたように距離保持制御を同
時に行いながら〔異なるｚ（又はφ）配列群出力の比較
によつて可能〕、θ配列の各素子がバランスするように
、検出器の軸Ａｘを０点を中心としてφ方向回転姿勢制
御するならば、そのときのＡｘ軸はｎに一致した方向を
とるから、このような制御をした場合には、より少ない
数の素子配列により、法線方位測定が可能になる。
時に行いながら〔異なるｚ（又はφ）配列群出力の比較
によつて可能〕、θ配列の各素子がバランスするように
、検出器の軸Ａｘを０点を中心としてφ方向回転姿勢制
御するならば、そのときのＡｘ軸はｎに一致した方向を
とるから、このような制御をした場合には、より少ない
数の素子配列により、法線方位測定が可能になる。
さらに稜線などの形状異方性に対しては、第１５，１６
図のままても検出可能てあるが、専用とするのであれば
、より単純な素子配列が可能である。この例の場合によ
れぱ、前述の各実施例とほぼ同様の効果ないし利点が得
られるほか、受光立体角を増大させることができるので
、面法線方位検出や表面形状異方性検出も正確に行なえ
る利点がある。
図のままても検出可能てあるが、専用とするのであれば
、より単純な素子配列が可能である。この例の場合によ
れぱ、前述の各実施例とほぼ同様の効果ないし利点が得
られるほか、受光立体角を増大させることができるので
、面法線方位検出や表面形状異方性検出も正確に行なえ
る利点がある。
なお、この例の場合も、光の可逆進性を利用して、光源
からの可識別光を第１の反射部２８，集光レンズ５，第
２の反射部２５および回転楕円面ミラー２４を介して物
体１の表面へ照射して、その後反射光をフォトファイバ
４″を通じて受光することも可能てある。
からの可識別光を第１の反射部２８，集光レンズ５，第
２の反射部２５および回転楕円面ミラー２４を介して物
体１の表面へ照射して、その後反射光をフォトファイバ
４″を通じて受光することも可能てある。
ところで、前述の各実施例のことく、集光手段として凸
型の集光レンズ５を用いる代わりに、昆虫のような複眼
レンズ群や細孔群等の応用も可能であり、このようにす
れば、Ｓ（θ，ψ）の検出に特徴のある機能や特性を発
揮できる。
型の集光レンズ５を用いる代わりに、昆虫のような複眼
レンズ群や細孔群等の応用も可能であり、このようにす
れば、Ｓ（θ，ψ）の検出に特徴のある機能や特性を発
揮できる。
また、光源からの光は、平行ビームに限らず、セルフオ
クレンズによつて集光あるいは散光照射する場合も可能
で、又ビームスポットの形状も円形の他、多角形状とす
ることもでき、その形状等は検出の目的に応じて適宜決
めればよい。
クレンズによつて集光あるいは散光照射する場合も可能
で、又ビームスポットの形状も円形の他、多角形状とす
ることもでき、その形状等は検出の目的に応じて適宜決
めればよい。
Ｊ以上詳述したように、本発明の光学式非接触型
検出装置によれば、次のような効果ないし利点が得られ
る。（１）投光系の軸と受光系の軸とが同軸化されてお
り、しかも投光系の光と受光系の光との干渉が４ないの
で、Ｓ／Ｎ比を向上できるほか、小型軽量化を達成でき
る。
検出装置によれば、次のような効果ないし利点が得られ
る。（１）投光系の軸と受光系の軸とが同軸化されてお
り、しかも投光系の光と受光系の光との干渉が４ないの
で、Ｓ／Ｎ比を向上できるほか、小型軽量化を達成でき
る。
（２）従来の変位検出器の多くは、Ｓ（ｚ）のみの検出
にとどまるが、本検出装置では（０，ψ，ｚ）即ち物体
表面変位，物体表面法線方位や物体表面形状異方性等を
も検出できるのて、その用途が広い。（３）本装置を静
止部品だけで構成することができるので、装置について
の堅牢性，安定性更には寿命や保守の点で有利である。
にとどまるが、本検出装置では（０，ψ，ｚ）即ち物体
表面変位，物体表面法線方位や物体表面形状異方性等を
も検出できるのて、その用途が広い。（３）本装置を静
止部品だけで構成することができるので、装置について
の堅牢性，安定性更には寿命や保守の点で有利である。
（４）遮蔽管（中心フォトファイバ）およびその周囲に
密集して多数のフォトファイバを配設すれば、小型化や
堅牢性を向上させることができ、更には光源や受光素子
を離隔させて計測技術上有利な場所へ移すことができ、
検出の信頼性が向上する。
密集して多数のフォトファイバを配設すれば、小型化や
堅牢性を向上させることができ、更には光源や受光素子
を離隔させて計測技術上有利な場所へ移すことができ、
検出の信頼性が向上する。
（５）本装置に追従制御系を適用することは容易で、こ
れにより被検出面の連続検出なども可能となる。
れにより被検出面の連続検出なども可能となる。
第１〜３図は本発明の光学式非接触型検出装置について
の検出原理を説明するためのものて、第１図は物体から
の光の反射を説明するための模式図、第２図はその基本
構造を示す縦断面図第３図は第２図の■〜■矢視図てあ
り、第４〜１２図は本発明の第１実施例としての光学式
非接触型検出装置を示すもので、第４図は、その縦断面
図、第５図はその構成部品の配置関係を示す模式図、第
６図はその信号処理回路を示す電気回路図、第７図はそ
の全体を系統的に示すブロック図、第８図ａ−ｃはいず
れもその参照図を通過する光の強さ分布図、第９〜１１
図はいずれもその無負荷起電力特性図、第１２図は検出
器追従制御の例として試作された検出器をパルスモータ
ーネジ駆動系によつて砥石面（Ａ２４ＱＢ）を追従制御
させた場合に得られたステップ応答特性図であり、第１
３，１４図は本発明の第２実施例としての光学式非接触
型検出装置を示すものて、第１３図はその縦断面図、第
１４図は第１３図のｘ■−Ｘ■矢視線から見た横断面図
てあり、第１５，１６図は本発明の装置を変形すること
によつて得られた光学式非接触型検出装置を示すもので
、第１５図はその縦断面図、第１６図はその受光素子の
配列状態を模式的に示す斜視図である。 １・・・・・・物体としての砥石、２・・・・・・光源
としてのーザガン、３・・・・・・平行ビーム、４・・
・・・・遮蔽管、４″・・・・・・中心フォトファイバ
、４″・・・・・・フォトファイバ、５・・・・・・集
光手段としての集光レンズ、６・・・・・・反射手段と
しての軸対称曲面ミラー、６″・・反射部としての遮蔽
管外周壁、７・・・・・・受光手段としての受光素子群
、８・・・・・・鏡筒、９・・・・・・第１の受光素子
としてのＦ素子、９ａ・・・・・・環状孔、１０・・・
・・第２の受光素子としてのＢ素子、１１・・・・・・
信号処理回路、１２・・・・・・差動増幅器、１３・・
・・・・絶対値回路、１４・・・・・・■−Ｆコンバー
タ、１５・・・・・・パルスモータ駆動回路、１６・・
・・パルスモータ、１７・・・砥石追従機構、１８・・
・・・・曲面又は輪部制御研削機構、１９・・・・コン
パレータ、２０・・・・・輪部追従制御系、２１・・・
・・研削機のホィールロケーション駆動機構、２２・・
・・多数のフォトファイバからなるフォトファイバ群、
２２ａ〜２２ｆ・・・・・・フォトファイバ群部分、２
３・・・・・・セルフオクレンズ、２４・・・・受光立
体角増大部材としての回転楕円面ミラー、２５・・・・
・・第２の反射部、２６，２７・・セルフオクレンズ、
２８・・・・・・第１の反射部としての非球面ミラー、
ＤＥ・・・・・・検出器、献・・・・・・投光系の軸と
受光系の軸との共通軸、Ｐｄ・・・・・・被検出面、Ｐ
Ｌ・・・・・・等価単レンズ位置を示す面、ｐ、・・・
参照面、Ｐ、・・・・・・参照点、Ｐ．ｓ・・・・・・
参照曲面。
の検出原理を説明するためのものて、第１図は物体から
の光の反射を説明するための模式図、第２図はその基本
構造を示す縦断面図第３図は第２図の■〜■矢視図てあ
り、第４〜１２図は本発明の第１実施例としての光学式
非接触型検出装置を示すもので、第４図は、その縦断面
図、第５図はその構成部品の配置関係を示す模式図、第
６図はその信号処理回路を示す電気回路図、第７図はそ
の全体を系統的に示すブロック図、第８図ａ−ｃはいず
れもその参照図を通過する光の強さ分布図、第９〜１１
図はいずれもその無負荷起電力特性図、第１２図は検出
器追従制御の例として試作された検出器をパルスモータ
ーネジ駆動系によつて砥石面（Ａ２４ＱＢ）を追従制御
させた場合に得られたステップ応答特性図であり、第１
３，１４図は本発明の第２実施例としての光学式非接触
型検出装置を示すものて、第１３図はその縦断面図、第
１４図は第１３図のｘ■−Ｘ■矢視線から見た横断面図
てあり、第１５，１６図は本発明の装置を変形すること
によつて得られた光学式非接触型検出装置を示すもので
、第１５図はその縦断面図、第１６図はその受光素子の
配列状態を模式的に示す斜視図である。 １・・・・・・物体としての砥石、２・・・・・・光源
としてのーザガン、３・・・・・・平行ビーム、４・・
・・・・遮蔽管、４″・・・・・・中心フォトファイバ
、４″・・・・・・フォトファイバ、５・・・・・・集
光手段としての集光レンズ、６・・・・・・反射手段と
しての軸対称曲面ミラー、６″・・反射部としての遮蔽
管外周壁、７・・・・・・受光手段としての受光素子群
、８・・・・・・鏡筒、９・・・・・・第１の受光素子
としてのＦ素子、９ａ・・・・・・環状孔、１０・・・
・・第２の受光素子としてのＢ素子、１１・・・・・・
信号処理回路、１２・・・・・・差動増幅器、１３・・
・・・・絶対値回路、１４・・・・・・■−Ｆコンバー
タ、１５・・・・・・パルスモータ駆動回路、１６・・
・・パルスモータ、１７・・・砥石追従機構、１８・・
・・・・曲面又は輪部制御研削機構、１９・・・・コン
パレータ、２０・・・・・輪部追従制御系、２１・・・
・・研削機のホィールロケーション駆動機構、２２・・
・・多数のフォトファイバからなるフォトファイバ群、
２２ａ〜２２ｆ・・・・・・フォトファイバ群部分、２
３・・・・・・セルフオクレンズ、２４・・・・受光立
体角増大部材としての回転楕円面ミラー、２５・・・・
・・第２の反射部、２６，２７・・セルフオクレンズ、
２８・・・・・・第１の反射部としての非球面ミラー、
ＤＥ・・・・・・検出器、献・・・・・・投光系の軸と
受光系の軸との共通軸、Ｐｄ・・・・・・被検出面、Ｐ
Ｌ・・・・・・等価単レンズ位置を示す面、ｐ、・・・
参照面、Ｐ、・・・・・・参照点、Ｐ．ｓ・・・・・・
参照曲面。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 鏡筒前方に位置する物体の被検出面へ同鏡筒内から
投光しうる投光系と、上記の物体の被検出面からの光を
上記鏡筒内を通じて受光しうる受光系とをそなえるとと
もに、上記投光系の光と上記受光系の光とを仕切るべく
上記鏡筒の中心軸線に沿い配設されて先端を上記被検出
面に対向せしめられるべき遮蔽管と、上記鏡筒の前端部
に配設された集光手段と、上記遮蔽管の外周において鏡
筒中心軸に対し軸対称に配設された反射手段とをそなえ
、上記鏡筒の内部で上記反射手段に対向する部分と、上
記遮蔽管の基端に対向する部分といずれか一方に、上記
投光系の光源が設けられるとともに、他方に、上記受光
系の受光手段が設けられたことを特徴とする、光学式非
接触型検出装置。 ２ 上記遮蔽管がフォトファイバおよびセルフオクレン
ズ（集束性ロッドレンズ）の組合せからなる特許請求の
範囲第１項に記載の光学式非接触型検出装置。 ３ 上記集光手段が上記遮蔽管に対して同軸的に配設さ
れた凸レンズである特許請求の範囲第１項に記載の光学
式非接触型検出装置。 ４ 上記反射手段が軸対称曲面ミラーである特許請求の
範囲第１項に記載の光学式非接触型検出装置。 ５ 上記反射手段が軸対称多角配列されたミラー群であ
る特許請求の範囲第１項に記載の光学式非接触型検出装
置。 ６ 上記投光系の光源が上記遮蔽管の基端に対向する部
分に設けられるとともに、上記受光系の受光手段が上記
鏡筒の内部で上記反射手段に対向する部分に設けられた
特許請求の範囲第１項に記載の光学式非接触型検出装置
。 ７ 上記投光系の光源がレーザガンで、同光源から投光
される光が平行ビームである特許請求の範囲第６項に記
載の光学式非接触型検出装置。 ８ 上記受光系の受光手段が上記反射手段に対し種々の
角度および位置をもつて配列される多数の受光素子で構
成された特許請求の範囲第６項に記載の光学式非接触型
検出装置。 ９ 上記投光系の光源が上記鏡筒の内部で上記反射手段
に対向する部分に設けられるとともに、上記受光系の受
光手段が上記遮蔽管の基端に対向する部分に設けられた
特許請求の範囲第１項に記載の光学式非接触型検出装置
。 １０ 上記投光系の光源が上記反射手段に対し種々の角
度および位置をもつて配列される多数可識別の光源群で
構成された特許請求の範囲第９項に記載の光学式非接触
型検出装置。 １１ 鏡筒後部に設けられた光源と、同光源からの光を
上記鏡筒前方に位置する物体の被検出面へ向けて伝播す
べく上記鏡筒の中心軸線に沿い配設された遮蔽管と、上
記鏡筒の前端部に上記遮蔽管と同軸的に配設された集光
レンズと、同集光レンズにより集光された光を反射すべ
く上記遮蔽管の外周面に設けられた反射部と、上記集光
レンズからの光を検出すべく検出系に接続される受光手
段とをそなえ、上記遮蔽管がその先端部を上記集光レン
ズの中心部を貫通すべく設けられ、且つ、上記受光手段
が、上記反射部の前方において上記遮蔽管と同軸的に配
設され中央部に上記集光レンズからの光を通して上記反
射部へ導きうる環状孔をそなえた第１の受光素子を有す
るとともに、上記反射部の後方において上記遮蔽管と同
軸的に配設された第２の受光素子を有して、上記第１お
よび第２の受光素子からの出力の差を発信しうる差動増
幅器に結線されていることを特徴とする、光学式非接触
型検出装置。 １２ 上記遮蔽管の外周壁が上記反射部として形成され
た特許請求の範囲第１１項に記載の光学式非接触型検出
装置。 １３ 鏡筒後部に設けられた光源と、同光源からの光を
上記鏡筒前方に位置する物体の被検出面へ向けて伝播す
べく上記鏡筒の中心軸線に沿い配設されかつ両端にセル
フオクレンズをそなえた中心フォトファイバと、上記鏡
筒の前端部に上記中心フォトファイバと同軸的に配設さ
れた集光レンズと、同集光レンズにより集光された光を
反射すべく上記中心フォトファイバの外周面に設けられ
た反射部とをそなえ、同反射部からの光を受光端を有し
てその光を検出系へ導きうる多数のフォトファイバが、
上記中心フォトファイバと平行に且つ同中心フォトファ
イバの周囲に密集して配設されたことを特徴とする、光
学式非接触型検出装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55097375A JPS6049841B2 (ja) | 1980-07-16 | 1980-07-16 | 光学式非接触型検出装置 |
| US06/240,575 US4412746A (en) | 1980-07-16 | 1981-03-04 | Optical noncontacting detector |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55097375A JPS6049841B2 (ja) | 1980-07-16 | 1980-07-16 | 光学式非接触型検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5722506A JPS5722506A (en) | 1982-02-05 |
| JPS6049841B2 true JPS6049841B2 (ja) | 1985-11-05 |
Family
ID=14190758
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55097375A Expired JPS6049841B2 (ja) | 1980-07-16 | 1980-07-16 | 光学式非接触型検出装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4412746A (ja) |
| JP (1) | JPS6049841B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0227449Y2 (ja) * | 1982-06-07 | 1990-07-25 |
Families Citing this family (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0071667A1 (en) * | 1981-08-11 | 1983-02-16 | Karl-Erik Morander | Device for determining the real or the virtual distance of a source of light from a measuring plane |
| US4583861A (en) * | 1981-08-12 | 1986-04-22 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Surface condition judging apparatus |
| DE3145633A1 (de) * | 1981-11-17 | 1983-08-11 | Byk-Mallinckrodt Chemische Produkte Gmbh, 4230 Wesel | Vorrichtung zur farbmessung |
| DE3304780A1 (de) * | 1983-02-11 | 1984-08-30 | Rodenstock Optik G | Vorrichtung zur ermittlung einer oberflaechenstruktur, insbesondere der rauheit |
| US4601576A (en) * | 1983-12-09 | 1986-07-22 | Tencor Instruments | Light collector for optical contaminant and flaw detector |
| JPS60200112A (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-09 | Osaka Seimitsu Kikai Kk | 光学的形状誤差検出法 |
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| JPH0652171B2 (ja) * | 1987-02-10 | 1994-07-06 | 株式会社オカダ | 光学式非接触位置測定装置 |
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