JPS6049060A - ポリアミドエラストマ組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、耐熱性および耐候性ンこ優れた性能を有する
ポリエーテルエステルアミド樹脂組成物に関する。 ポリマー主鎖中ｔこポリアミド繰返し単位、ポリエーテ
ル繰返し単位名よびエステル結合を有するポリエーテル
エステルアミドは公知であり、ポリエーテルエステルあ
るいはポリエステルアミド同様、すぐれた耐衝撃性やゴ
ム弾性を有するためニジストマー分野における新しい素
材として近年注目されている。 とりわけ、ポリエーテルエステルアミドは軽量性、透明
性、低温耐衝撃性にすぐれ、また成形時ニパリ、ヒケ等
が生じにくいため各種成型用途に有望である。しかしポ
リエーテルエステルアミドはきわめて酸化劣化を受けや
すく、重合度の低下ｅこ伴って機械的性質の低下、表面
の亀裂発生、着色などの好ましくない現象を起こす。特
にこの酸化劣化は熱や光などによって促進され、屋外曝
露や高温雰囲気下ではその使用は制限を受けている。従
ってこれらの劣化現象を防止する目的でポリエーテルエ
ステルアミドに種々の安定剤を添加することが検ｌされ
ている。しかるｔこポリエーテルエステルアミドの安定
化に関しては知見も少なく、効果的に満足できるものは
なかった。本発明者らはこれらの点に−鑑み、鋭意検討
を重ねた結果、ポリエーテルエステルアミドに対し安定
剤として特定の化合物群を添加することｔこよって、従
来得ることのできなかった耐熱性および耐候性とも１こ
極めて優れたポリエーテルエステルアミド樹脂組成物が
得られることを見出し本発明に到達した。 すなわち本発明は、ポリエーテルエステルアミド責Ａ）
１００重量部に対し下記一般式（Ｅ）で示されるヒング
ードフェノール系うジカル捕民剤を００５〜５重量部、
下記一般式（Ｃ）、（Ｄ＋あるいは（Ｅ）で示されるホ
スファイト系化合物を０．０５〜５重量部、８よび下記
一般式（Ｆ）で示されるヒンダードアミン系光安定剤を
０．０５〜５重量部の各割合添加してなるポリアミドエ
ラストマ組成物に関するものである。 拘 Ｒ，／ （ただしＲ１は炭素数１〜１８のアルキル基であり　Ｈ
１／はＲ１と同様のアルキル基であってＲ，と同一であ
ってもよい。Ｒ２は単結合、炭素数１〜１８の炭化水素
基あるいは分子鎖中に−ＣＯＯ−１−ＣＯＮ　Ｈ−５ −ｏ−ｐ−ｏ−結合のいずれかを有する炭素数１１ ＯＲ。 〜１８の炭化水素基であり、ＸはＣ，Ｓ、炭素数１〜１
８の炭化水素基あるいは １ る。） （ただしＲ３、Ｒ１’　、　Ｂ３ｔｔは炭素数１〜１８
の炭化水素基、あるいは分子鎖中に−ＣＯＯ−１−ＣＯ
ＮＨ−結合を有する炭素数１〜２３の炭化水素基を示し
、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。ｍは１
〜４の整数である。〕（ただしＲ４は水素原子あるいは
炭素数１〜１２のアルキル基、１１５は炭素数１〜６の
直鎖もしくは枝分れアルキル基であり、Ｒｂ２はＲ５と
同様のアルキル基であってそれぞれ同一であっても異な
っていてもよい。Ｙは一〇−あるいは−Ｎ−であり、Ｒ
６は水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜２３の炭
化水素基、あるいは−５−１１８の灰化水素基を示す、
、ｎは１〜４の整数である。〕 θＵ記ポリエーテルエステルアミド組成物に、さら１こ
下記一般式ｆＧ）あるいは（Ｈ）で示される紫外線吸収
剤をＤｉＪ記同様の割合をもって添加したものは、なお
一層べＬ抜した耐熱性と耐候性をイｊした組成物となる
。 ＨＯＲ。 （ただしＲ７は炭素数１〜１８のアルキル基を示し、Ｒ
８は水素原子あるいはＲ７と同様のアルキル基であり、
Ｒ７と同一であってもよい。 ２はハロゲン原子であり、ｐは０あるいは１である。） 以下、具体的に本発明の組成物ｅこつ゛いて述べる。 本発明におけるポリエーテルエステルアミド（Ａｌとは
、ポリアミド単位とポリエーテルエステル単位とから構
成され、分子鎖中にアミド結合、エーテル結合、８よび
エステル結合を有する重合体である。 ポリアミド単位′はアミ７カルボン酸、ラクタム、ジカ
ルボン酸とジアミンとの塩、あるいはジカルボン酸とジ
インシアネートの組合わせなどから誘導される。 ポリエーテルエステル単位は数平均分子量６００〜６０
００のポリ（アルキレンオキシド〕グリコールおよび炭
素数４〜２０のジカルボン酸から導かれる。ポリアミド
単位とポリエーテルエステル単位の共重合比率は重量比
で大よそ５対９０から９５対１０である。 ポリエーテルエステルアミド（Ａｌの重合方法は特に限
定されず公知の方法を利用することができる。たとえば
、アミノカルボン酸、ラクタムまたはジカルボン酸−ジ
アミンの塩（ａｌとジカルボンａ　（Ｃ）を約等モル比
で反応させて両末端がカルボン酸基のポリアミドプレポ
リマーをつくり、これにポリ（アルキレンオキシド）グ
リコール（ｂ）を真空下１こ反応させる方法、あるいは
上記（ａｌ、ｆｂ＋、（０１の化合物を反応槽に仕込み
、水の存在下または非仔在下に高温で加圧反応させるこ
とにヨリカルボン酸末端のポリアミドプレポリマーを生
成させ、その後、常圧または減圧下で重合を進める方法
が知られている。また、上記（ａｌ、（ｂｌ、（Ｑ）の
化合物を同時に反応槽に仕込み溶融混合したのち高真空
下で一挙に重合をすすめる方法もあり、むしろこの方法
がポリマーの８ご色も少な（好ましい。 マタポリ（アルキレンオキシド〕グリコールに約２倍モ
ルのジカルボン酸を反応させて両末端がカルボン酸基の
プレポリマーをつ（す、これとジカルボン酸およびジイ
ンシアネートを不活性溶媒中で反応させる溶液重合法ｔ
こよってもよい。 本発明の組成物を構成する他の一成分であるヒフタート
フェう−ル系ラジカル捕Ｌ　剤（ＢＩ　Ｉ：）　例とし
ては、２．６−ジ第５ブチル−ｐ−クレゾ−／ｌ／　、
　２　、５−シ第３　フチルー４−エチルフェノール、
２．２’−メチレン−ビス−４−メチル−６−第３ブチ
ルフエノール、２．２′−メチレン−ビス（４−エチル
−６−第５ブチルフエノール）、４．４１−メチレン−
ビス（２，６−ジ第３ブチルフェノール）、４．４’−
ブチリデン−ビス（３−メチル−６−第３ブチルフエノ
ール）　、　４．４／−チオビス〔６−第３ブチル−３
−メチルフェノール〕、ビス（３−メチル−４−ヒ）”
　Ｉ”ｌ　キシ−５−ｆｆｒ、　３ブチルベンジルノス
ルフイド、４．４−チオビス（６−第５ブチル−０−ク
レゾール）、２．２’−チオビス（４−メチル−６−第
３ブチルフエノール〕、３，５−ジー第’３ブチルー４
−ヒドロキシベンジルホスホン酸のジエチルエステル、
ｎ−オクタデシル−３（３’、５’−ジ第３ブチル−４
′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ヘキサメチ
レンクリコール−ビス〔β−（３、５−シ第３１チルー
４−ヒドロキシフェノール）プロピオネート）、Ｎ、Ｎ
’−へキサメチレン−ビス（３，５−ジ第３ブチル−４
−ヒドロキシヒドロ桂皮酸アミド］、２．２′−チオ〔
ジエチル−ビス−３（３，５−ジ第３ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネ−））　、３．５−ジ第３
ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のジオクタ
デシルエステル、テトラキネ〔メチレン−３（３，５−
ジ第３ブチル−４−ヒドロキシフェール〕プロピオネー
ト〕メタン、１，３．５−トリメチル−２，４，６−）
リス（３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル
〕ベンゼン、トリス（３，５−ジ第３ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルコインシアヌレート、トリス〔β−（３
，５−ジ第３グチルー４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オニル−オキシエチルコインシアヌレートなどが挙げら
れるが、このうち分子量が５００以上のものが高温雰囲
気下で揮散しにくいためより大きな効果が得られ好まし
く１　。 これらのヒンダードフェノール系ラジカル捕。 晟剤の中でも特にＮ、Ｎ’−へキサメチレン−ビス（３
，５−シｊ３３グチル−４−ヒドロキシヒドロ桂皮酸ア
ミド〕の使用が好適である。 また、本発明の組成物を構成する他の一成分であるホス
ファイト系化合物はｎｉＪ記一般式（Ｃ１、（Ｄ）ある
いは（Ｅｌで示される。 一般式（Ｃ）で示される化合物の例としてはトリラウリ
ルホスファイト、トリイソオクチルホスファイト、トリ
オレイルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ト
リオクタデシルホスファイト、トリイソデシルホスファ
イト、トリノルマルブチルホスファイト、トリス−２−
エチルヘキシル−ホスファイト、トリステアリルホスフ
ァイト、トリス−２，４−ジ第３ブチルフェニル−ホス
ファイト、トリストリデシルホスファイト、トリス−４
−フェニルフェノール−ホスファイト、トリスノニルフ
ェニルホス７フイト、フェニルジイソデシルホスファイ
ト、フェニルジオクチルホスファイト、ジフェニルノニ
ルフェニルホスファイト、ジンエニルイソデシルホスフ
ァイト、ジフェニルイソオクチル７ｈス７フイｌ−、ジ
フェニルデシルホスファイト、ジフェニル）　ｌ）デシ
ルホスノアイトなどが２ｉ％けられるが、なかでも特に
トリス−２，４−ジ第３　ブチルフェニル−ホスファイ
トの使用が好適である。 一般式（１）ｌで示される化合物の例としてはテトラフ
ェニルジプロピレンクリコールジホスファイト ファイト、テトラトリデシルビスフェノールＡジホスフ
ァイト、テトラフェニルテトラトリデシルペンタエリス
リトールテトラホスファイトなどが挙げられる。中でも
テトララウリルビスフェノールＡジホスファイトが好ま
しい。 一般式（Ｅ）で示される化合物の例としてはシイ７　ｆ
　’／　ルペンタエリスリトールジホスファイト、ジラ
ウリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジステア
リルペンタエリスリトールジホスファイト、ジンニルフ
ェニルペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げ
られる。中でも。 ジノニルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト
が好ましい。 さらに本発明の組成物を＜ｊＪ１成する他の一成分であ
るヒンダードアミ／系元安定剤−は前記一般式（Ｆ）で
示される。 一般式ｉｐ）で示される化合物の例としては、４−ペン
ゾイルオキシ−２．２，６．６−チトラメチルピベリジ
ン、ビス（２，２，６．６−テトラメチル−４−ピペリ
ジニル〕アジペート、ビス（　２．２，６．６−チトラ
メチルー４ーピペリジニル）スベレート、ビス＜２．２
．６．６−チトラメテルー４ーピペリジニル）セパクー
１，ビス（２，２，６．６−チトラメチルー４ーピペリ
ジニル〕フタレート、ビス（２，２，６．６−テトラメ
チル−４−ピペリジニル〕インフタレー１、、ビス（２
，２，６．６−テトラメチル−４−ピペリジニル）テレ
７タレート、ビス（１．２。 ２、ｂ，ｂ−ペンタメチル−４−ピペリジニル〕セバケ
ート、Ｎ，Ｎ’−ビス（　２，２，６．６−テトラメチ
ル−４−ピペリジニル）アジパミド、ビス（　１．２，
２，６．６−ベンタメチルー４−ピペリジニル）　−ｎ
−ブチル（３，５−ジ第３ブｆルー４ーヒトロキ７ベン
ジル〕マロ、？．−）、ビス（１．２．２．６．６−ベ
ンタメチルー４−ピペリジニルジベンジル）マロネート
、ビス（１。 ２、２，６．６−ベンタメチルー４−ピペリジニル）ジ
エチルマロネート、ビス（　２，２，６．６　−テトラ
メチル−４−ピペリジニルノンベンジルマロネート、ビ
ス（２，２，６．６−テトラメチル−４−ピペリジニル
）ベンジルエチルマロネート、ビス（２，２，６．６−
テトラメチル−４−ピペリジニル）−ｎ−グチル（３．
５−ジ第６ブチルー４ーヒドロキシベンジル〕マロネー
ト、ブタンテトラカルボン酸のテトラ（　２，２，６。 ６−テトラメチル−４−ピペリジニル〕エステルなどが
挙げられるがなかでも特にビス（２。 ２　、６　、６−テトラメチル−４−ピペリジニル）セ
パクー）Ｓよびブタンテトラカルボン酸のテトラ（２，
２，６．６−テトラメチル−４−ピペリジニル）エステ
ルを好ましい化合物として挙げ。 ることかできる。 前記ポリエーテルエステルアミド組成物に、さらに吋記
一般式（Ｇｌあるいは（川で示される紫外線吸収剤を前
記同様の割合をもって添加したものは７よぉー）１′８
１＋１１抜した耐熱ｊｉＭよび耐候性を有する組成物と
なる。 一般式（Ｇｌで示される化合物の例としては２（２′−
ヒドロキシ−ｓ／．５７−ジ第３ブチルフエニル〕ベン
ゾトリアゾール、２（２′−ヒドロキシ−３′−第３ブ
チル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンツトリ
アゾール、２（２’−ヒドロキシ−Ｘ／．Ｓ／−ジ第３
ブチルフェニル〕−５−クロロベンソトＩＪ　７ゾール
、２（２’−ヒドロキシ−ｓ／．５１−ジ第６アミルフ
エニル〕ベンゾトリアゾール　２（２７−ヒドロキシ−
、５’−Ｊｆルフェニルフベンゾトリアゾール、２（２
′−ヒドロキシ−５′ーテトラメチルプチルノベ／シト
リアゾールなどが挙げられる。これらの中でも２（２′
−ヒドロキシ−６′−第５−ｙ−チル−５′−メチルフ
ェニルベンゾトリアゾールが好ましい。 一般式（）１１で示される化合物の例としては２−ヒド
ロキシ−４−メトキンベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−ペンジルオキシベンゾフエノン、２−ヒドロキシ
−４−メトキ／−４′−クロロベンゾフェノン＋２−ヒ
ドロキシ−４−トチシルオキシ−ベンゾフェノン、２−
ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−
ヒドロキシ−４−ステアリルオキシーベンゾフエノンな
どが挙げられる。これらの中でも２−ヒドロキシ−４−
ｎ−オクトキシベンゾフェノンが好ましい。これ゛らの
紫外線吸収剤の甲でも特に２（２′−ヒドロキシ−３′
−第３ブチル−５’−メチルフェニルベンゾトリアゾー
ルの使用が好適である。 これら各安定剤は、ポリエーテルエステルアミト責Ａｌ
１００重量部１０対して、それぞれ００５〜５重及部、
好ましくは０１〜２重旦都の割合で使用される。各安定
剤の添加量がとれより少ない場合をこは効果が十分発現
されず、

【９シ加量が。 これより多い１易合には組成物の物性に、・＆モい影・
評を与え、またブルーミングなどの好ましくない現尿も
呈するようｔこなる。 なお、本発明のポリエーテルエステルアミド（Ａｌを熱
ｒ俊化劣化才６よび光酸化劣化の両方にＫいて安定な組
成物とするためには、ポリエーテルエステルアミド（Ａ
ｌに苅し１ｉｉＪ記一般式（１３）で示されるヒノダー
ドフェノール系うジカル捕訣−剤εよびｑｔＪ記一般式
ｔｅ＋、ＦＤ）あるいは（Ｅ）で示されるホスファイト
系化合物１６よび１ｊｉＪ記一般式（Ｐ゛）で示される
ヒンダードアミン系光安定剤の王者を添加する必要があ
り、これらの中のどれか一つでも欠けた場合には、本発
明の組成物と比較して耐熱性または耐候性があるいはそ
のどちらもが大きく劣った組成物しか得ることができな
い。 またこれらの各安定剤をポリエーテルエステルアミドに
ｈ５加する方法は特に制限がなく、ポリエーテルエステ
ルアミドの重合中または重合後の任意の時期に加えるこ
とができるが、特に好ましい態様は重合後（成形前）ｔ
こ溶融混合する方法である。 なお本発明のｍ１１成物の調整に際しては目的とする耐
熱および耐候安定性を阻害しない限りにおいて、他の一
般的な添加剤、たとえば耐加水分解改良剤、着色剤（顔
料、染料〕、帯電防止剤、導電剤、結晶核剤、滑剤、充
填剤、補強材、接着助剤、０■塑剤、１ｌｉｌｌｌ型剤
、　ｙ！１１燃剤などの添加剤を任意に配合することが
できる。 以下実施例によって本発明を説明する。 なお実施例中「部」または「％」で表示したものは、す
べて重Ｉ＾比率で表わしたものである。 また本文中ｇよび例中に示す相対粘度はオルトクロロフ
ェノール中２５℃％［Ｌ５９６饋度の条件で測定した値
であり、融点も特に断わらない限りＤＳＣ（Ｐｅｒｋｉ
ｎ　Ｅｌｍｅｒ　ＤＳ＋ニーＩＥ　）で測定される融解
ピーク温度である。 参考例 ポリマー（Ａ−ＩＪの重合 アミノドデカン酸６５５部、数平均分子量が６８０のポ
リテトラメチレンオキシドグリコ−。 ル３５．６　都ｊ６よびテレフタル酸１３．２　ｇをＩ
Ｉイルガノックス”１０９８（酸化防止剤）　０．２０
部およびテトラグチルチタイ・−ト触媒０．０５部と共
にヘリカルリボン攪拌翼を婦えた反Ｊ、６谷器に仕込み
、Ｎ２パージして２４０℃で４０分間加熱攪拌してほぼ
透明な均質溶液とした後、昇温および減圧プログラムに
従って２７０℃、０５ｍ１　Ｈｇ以下の正合条件ｅこも
たらした。この条件にて３時間５０分間重合反応せしめ
た。 得られたポリエーテルエステルアミド（Ａ−１〕の融点
は１６６℃、相対粘度は１．６５であった。 ポリマー（Ａ−２）の重合 アミノド、デカンＷ　”　６部、数平均分子量が１００
０のポリテトラメチレンオキシドグリコール５３．１部
ｇよびテレフタル酸ａ８部を出発原料として実施例１と
同様の方法（・こよって４時間３０分間重合反応せしめ
てポリマー（Ａ−２）を得た。得られたポリエーテルエ
ステルアミド（Ａ−２）の融点は１４２℃、相対粘度１
．７９であった。 安定剤 実施例において使用した安定剤の榴】告とその略号は次
のとＪ６りである。 実施例 ポリエーテルエステルアミド（Ａ−ｊ’Ｊおよび（Ａ−
２）に表１に示す各安定剤を睨合したのち、Ａ−１の場
合ハ２００　’Ｃ、Ａ　−２ノ場合は１８０℃ｔこ加熱
された３０刷φの押出様で溶融混練した後ベレット化し
た。このベレットを真空乾燥した後、ポリエーテルエス
テルアミドが（Ａ−１Ｊの場合は２００℃、ポリエーテ
ルエステルアミドが（Ａ−２）の場合は１８０℃で加圧
して厚さ１１９〜１．１藺のプレスシートとし、Ｊ工ｆ
３　Ｋ−６３０１の３号ダンベル形試ｉ片に打抜いた。 耐熱性は１３０℃の熱風オープン中で試験片をエージン
グして調べ、破断伸度保持率が５０％となる時間を耐熱
寿命とした。 耐候性は試験片をサンシャインウェザオーメーター中で
光照射して調べた。サンシャインウェザオーメーターの
ブラックパネル温度は６３℃で２時間ｔこついて１８分
間、水をスプレーした。 伸度体１１率が５０％となる時間と、照射表面の亀裂発
生時間の６１す定により耐候性を評価した。 なお破断伸びの測定はＪ工５Ｋ−６３０＋１こ準じ′で
行なった。これらの結果を表１に示す。 比較例 ポリエーテルエステルアミド（Ａ−ＩＪあるいは（Ａ−
２）に、表２ｔこ示す安定剤を各０４部配合したのちｆ
ｊｉＪ記×施例と同様ｔこペレタイズして、本晃明の組
成物とは異なる組成物とした。 これらの組成物、ポリマー（Ａ−１）およびポリマー（
Ａ−２ＪをＭｉＪ記実施例と同様にして打抜き試験片と
した。 訃試験片（・こついて耐熱性と耐候性を評価した結果を
、表２に示す。 第１頁の続き

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　ポリエーテルエステルアミド（八）１００重量部
   に対し、下記一般式（Ｂｌで示されるヒンダードフェノ
   ール系化合物を［１０５〜５重量部、下記一般式ｆｃｌ
   　、　（Ｄｌあるいは（Ｂｉ）で示されるホスファイト
   系化合物を０．０５〜５重量部、および下記一般式（Ｆ
   ）で示されるヒンダードアミン系光安定剤を０．０５〜
   ５重量部の各割合、添加してなるポリアミドエラストマ
   組成物。 Ｒ１ Ｒ，／ （ただしＲ１は炭素数１〜１８のアルキル基であり　ｎ
   、／はＲ，と同様のアル・キル基であってＲ，と同一で
   あってもよい。Ｒ２は単。 結合、炭素数１〜１Ｂの炭化水素基ある０は分子鎖中に
   −ｃｏｏ−１−０ＯＮＨ−１１ −ｏ−ｐ−ｏ−結合のいずれかを有する炭素ＯＲ。 数１〜１８の炭化水素基であり、ＸはＣ１Ｓ、炭素数１
   〜１８の炭化水素基あるいは１ ある。〕 （ただしＲ３，Ｒ、／　、　Ｒ３／／は炭素数１〜１８
   の炭化水素基、あるいは分子鎖中ｅこ−ＣＯＯ−１−Ｏ
   ＯＩＪＨ−結合な右する炭素数１〜２３の炭化水素基を
   示し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。ｍ
   は１〜４の整数である。） （ただしＲ４は水素原子あるいは炭素数１〜１２のアル
   キル基、Ｒ５は炭素数１〜６の直鎖もしくは枝分れアル
   キル基であり。 Ｒｓ’はＲ５と同様のアルキル基であってそれぞれ同一
   であっても異なってＣＸでもよい。 Ｙは一〇−あるいは−Ｎ−であり、　Ｒ６は水。 酸基で置換されていてもよい炭素数１〜２３の炭化水素
   基、あるいは−８−２ ０、ｃ、Ｎ＼Ｃり０ １ ／Ｎ″Ｃ′ゝ＼　のいずれかを有する炭Ｉ Ｏ− 素数１〜１８の炭化水素基を示す。ｎは１〜４の整数で
   ある。） ２、ポリエーテルエステルアミド（Ａｌ　ｌ　００重量
   部ｅこ対し、下記一般式ｆＢ）で示されるヒンダードフ
   ェノール系ラジカル捕捉剤を０．０５〜５爪量部、下記
   一般式（Ｃ）、ＣＤ＋あるいは（Ｅ）テ示されるホスフ
   ァイト系化合物を０．０５〜５重量部、下記一般式（Ｆ
   ）　テ示きれろ１ヒンダ＝ドアミン系光安定剤を０，０
   ・５〜５重量部１．＋３よび下記一般式ｉＧ）あるいは
   （Ｈ）で示される紫外線吸収剤を００５〜５重量部の各
   割合、添加してなるポリアミドエンストマ組成物。 （ただしＲ，は炭素数１〜１８のアルキル基であり、Ｒ
   １’はＲ，と同様のアルキル基であってＲ，と同一であ
   ってもよい・Ｒ２は単結合、炭素数１〜１８の炭化水素
   基あるいは分子鎖中ｅこ−Ｃ００−、−ＣＯＮ　Ｈ−１
   １ −ｏ−ｐ−ｏ−結合のいずれかを有する炭素■ ＯＲ＋ 数１〜１８の炭化水素基であり、ＸはＣ１Ｓ、炭素数１
   〜１８の炭化水素基あるいはある。〕 ３　０ 〔ただしＲ３、Ｒ３’　、Ｂ３／／は炭素数１〜１８の
   炭化水素基、あるいは分子鎖中に一〇〇〇−１−Ｇ　Ｏ
   Ｉｉ　Ｈ−結合をイコする炭素数１〜２３の炭化水素基
   を示し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。 ｍは１〜４の整数である。〕 Ｒ６Ｒａ’ （ただしＲ４は水素原子あるいは炭素数１〜１２のアル
   キル基、Ｒ５は炭素数１〜６の直鎖もしくは枝分れアル
   キル１．（であり、Ｒ６’はＲ５と同様のアルキル基で
   あってそれぞれ同一であっても異なつＣいＣもよい。 Ｙは一〇−あるいは−Ｎ−であり、Ｒ６は水酸）、（で
   置換されていＣもよい炭素数１〜２３の炭化水素基、あ
   るいは−Ｓ−１ ■ １ １〜１８の炭化水素基を示す。ｎは１〜４の整数である
   。〕 ＨＯＲ。 （ただしＲ７は炭素数１〜１８のアルキル、！ｌ（を示
   し、Ｌｌは水素原子あるいは１（７と同様のアルキル基
   であり、Ｒ７と同一であってもよい、２はハロゲン原子
   であり５１１ばＯあるいは１である。）