JPS6042704A - カラ−フイルタ− - Google Patents
カラ−フイルタ−Info
- Publication number
- JPS6042704A JPS6042704A JP58149762A JP14976283A JPS6042704A JP S6042704 A JPS6042704 A JP S6042704A JP 58149762 A JP58149762 A JP 58149762A JP 14976283 A JP14976283 A JP 14976283A JP S6042704 A JPS6042704 A JP S6042704A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dye
- rubber
- deposited
- protective layer
- color filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/233—Manufacture of photoelectric screens or charge-storage screens
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、各組方２−撮像素子及びカラーディスプレー
用カラーフィルターに関するものであり、特に気相堆積
によシ形成した色素膜に保―層を形成したカラーフィル
ターに関する。
用カラーフィルターに関するものであり、特に気相堆積
によシ形成した色素膜に保―層を形成したカラーフィル
ターに関する。
従来、カラーフィルター等の微少着色パターンの製法に
おいて色素層を真空蒸着によって色素の蒸着薄膜で形成
する方法が提案されている号 （例えば特開昭５５−１４６４０６公報）。
おいて色素層を真空蒸着によって色素の蒸着薄膜で形成
する方法が提案されている号 （例えば特開昭５５−１４６４０６公報）。
Δ
この方法によれば色素そのもので着色層が形成でき染色
法における媒染層が不用なので極めて薄膜化され、かつ
非水工程によって色素層が形成できる。
法における媒染層が不用なので極めて薄膜化され、かつ
非水工程によって色素層が形成できる。
−また、こうした色素層をパターンニングする方法とし
て色素膜上にレジストパターンをっくシ、これをマスク
としてプラズマあるいはイオンエツチング等のドライエ
ツチングで色素パターンを形成する技術がある（特開昭
５８−５４９６１など）。
て色素膜上にレジストパターンをっくシ、これをマスク
としてプラズマあるいはイオンエツチング等のドライエ
ツチングで色素パターンを形成する技術がある（特開昭
５８−５４９６１など）。
しかしながら、この方法ではパターン状にされた色素層
上にレジストマスクが残存してしまう。しかもこのマス
クを色素層に何ら損傷を与えずに除去することは工程上
極めて困難なため結局レジストマスクが色素層の上に積
層された２層構成になる。
上にレジストマスクが残存してしまう。しかもこのマス
クを色素層に何ら損傷を与えずに除去することは工程上
極めて困難なため結局レジストマスクが色素層の上に積
層された２層構成になる。
そしてこのレジストマスクの残存は、レジストと色素層
の界面での光量損失などで光学性能の低下をまねくばか
シでなく耐熱性をはじめとして各種の信頼性低下につな
がシやずいという欠点を有している。
の界面での光量損失などで光学性能の低下をまねくばか
シでなく耐熱性をはじめとして各種の信頼性低下につな
がシやずいという欠点を有している。
一方これに対して除去すべき部分の色素層の下部にレジ
ストマスク（以下アンダーマスクと呼ぶ）を設け、下部
のアンダーマスクを基板から除くことによってその上の
色素層をも同時に物理的に除去するいわゆるリバースエ
ツチング法（又はリフトオフ方法）によるパターンユン
グ法がある。この方法は後で溶解可能な物質を用いてア
ンダーマスクを形成後、その上に蒸着色素層を設け、し
かる後にアンダーマスクを溶解スることによって所望の
パターン形成を行なうものである。リバースエツチング
法によればアンダーマスク自身が除去されることによっ
てパターンが形成されるので、マスクの残らない色素層
のみの簡単な構成となシトライエツチング法にみられる
欠点は全て改善される。
ストマスク（以下アンダーマスクと呼ぶ）を設け、下部
のアンダーマスクを基板から除くことによってその上の
色素層をも同時に物理的に除去するいわゆるリバースエ
ツチング法（又はリフトオフ方法）によるパターンユン
グ法がある。この方法は後で溶解可能な物質を用いてア
ンダーマスクを形成後、その上に蒸着色素層を設け、し
かる後にアンダーマスクを溶解スることによって所望の
パターン形成を行なうものである。リバースエツチング
法によればアンダーマスク自身が除去されることによっ
てパターンが形成されるので、マスクの残らない色素層
のみの簡単な構成となシトライエツチング法にみられる
欠点は全て改善される。
以上の様なパターンニング工程によって複数色のカラー
フィルター着色層が形成された後、ゴミ、キズといった
欠陥を防ぎ、また各種環境条件から保護するため着色層
上に保鰻膜を設けることが望ましい。
フィルター着色層が形成された後、ゴミ、キズといった
欠陥を防ぎ、また各種環境条件から保護するため着色層
上に保鰻膜を設けることが望ましい。
保睦膜としては通常知られている各種方法が使用できる
。有機樹脂、例えばポリウレタン樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、シリコーン樹脂、カンスレジン、エポキシ樹脂
、ポリパラキシレン樹脂や５ｉ５Ｎ４．５ｉ０２． Ｓ
ｉｎ、 ＡＡ！２０！、 Ｔｌ１Ｌ２０５． ＴｉＯ２
等の無機膜をスピンコード、ディッピング、ロールコー
タ−等の塗布法あるいは蒸着等で形成することができる
。
。有機樹脂、例えばポリウレタン樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、シリコーン樹脂、カンスレジン、エポキシ樹脂
、ポリパラキシレン樹脂や５ｉ５Ｎ４．５ｉ０２． Ｓ
ｉｎ、 ＡＡ！２０！、 Ｔｌ１Ｌ２０５． ＴｉＯ２
等の無機膜をスピンコード、ディッピング、ロールコー
タ−等の塗布法あるいは蒸着等で形成することができる
。
しかしながら有機蒸着色素層フィルターは有機染色フィ
ルターに比べて耐熱性、耐光性に優れるが一般の蒸着膜
に見られるように湿度等に弱く、外観的にはクラックの
発生、特性的には分光透過率の者しい変化となってあら
れれる。
ルターに比べて耐熱性、耐光性に優れるが一般の蒸着膜
に見られるように湿度等に弱く、外観的にはクラックの
発生、特性的には分光透過率の者しい変化となってあら
れれる。
それ故に有機蒸着色素層フィルターの保＾膜としては疎
水性であ）且つ色素膜とのマツチングの良い樹脂が望ま
れる。
水性であ）且つ色素膜とのマツチングの良い樹脂が望ま
れる。
而して、本発明は有機蒸着色素層フィルターの耐湿性を
向上させるものであシ、疎水性の樹脂であシ且つ色素層
とのマツチングに優れる樹脂保護層とすることによって
耐湿性に優れるカラーフィルターを提供することを主た
る目的とする。
向上させるものであシ、疎水性の樹脂であシ且つ色素層
とのマツチングに優れる樹脂保護層とすることによって
耐湿性に優れるカラーフィルターを提供することを主た
る目的とする。
本発明による力２−フィルターは気相堆ｆｆ１Ｋよ多形
成した色素層上に直接ゴム系樹脂からなる保護層を有す
ることを特徴とするものである。
成した色素層上に直接ゴム系樹脂からなる保護層を有す
ることを特徴とするものである。
すなわち本発明に用いるゴム系樹脂としては、ネオプレ
ンゴム、イソプレンゴム、環化ゴム、天然ゴムであシ、
またこれらのレジストが％に好適である。
ンゴム、イソプレンゴム、環化ゴム、天然ゴムであシ、
またこれらのレジストが％に好適である。
また、保諜層を塗布形成の場合、使用する有機溶剤が色
素Ｊ−を侵して特性を損なわないことが必要である。
素Ｊ−を侵して特性を損なわないことが必要である。
蒸着に用いられる色素は耐溶剤性にすぐれるものが多い
ので各種溶剤例えば脂肪族炭化水素、芳香族、セロソル
ブ、エステル、ケトン、アルコールおよびこれらの混合
溶媒が使用可能であるが、よシ好ましくは脂肪族炭化水
素、アルコール等があげられる。
ので各種溶剤例えば脂肪族炭化水素、芳香族、セロソル
ブ、エステル、ケトン、アルコールおよびこれらの混合
溶媒が使用可能であるが、よシ好ましくは脂肪族炭化水
素、アルコール等があげられる。
また、本発明に用いるゴム系樹脂としては市販レジスト
が使用できる。例えば東京応化製の商品名： ＯＭＲ−
８１、８３，８５，８７，８１８，８５ＳＲ，８３ＵＲ
および０ＤＵＲ１１０ＷＲ（遠紫外光用レジスト）。
が使用できる。例えば東京応化製の商品名： ＯＭＲ−
８１、８３，８５，８７，８１８，８５ＳＲ，８３ＵＲ
および０ＤＵＲ１１０ＷＲ（遠紫外光用レジスト）。
Ｈｕｎｔ Ｎの商品名： ＷａｙＯｏａｔ−工０． Ｔ
ｙｐｅ ５工ａ、 ｓｃ。
ｙｐｅ ５工ａ、 ｓｃ。
ＨＲおよびＨＮＲ９９９゜Ｋｏｄａｋ １１の商品名：
Ｍｉｃｒｏｒａｓｌｓｔ （７４７，７５２）。Ｉ！ｉ
０Ｍ、 Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製の商品名： ５ｅｌｅｃ
ｔｉｌｕｘ −Ｎ２０． Ｎ３５． Ｎ４５． Ｎ６０
およびＮ１００゜Ｍｉｃｒｏ、工ｗａｇｅ、 Ｔｅｃｈ
ｎｏｌｏｇｙ、ｉの商品名：工８０ｐＯ１ｙ−ＭＲおよ
びＨＤ 、日本合成ゴム製の商品名： Ｊ８ＲＯ工Ｒ７
０１゜尋が挙げられこれらのレジストの塗布溶剤は前述
した溶剤であることが望ましい。
Ｍｉｃｒｏｒａｓｌｓｔ （７４７，７５２）。Ｉ！ｉ
０Ｍ、 Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製の商品名： ５ｅｌｅｃ
ｔｉｌｕｘ −Ｎ２０． Ｎ３５． Ｎ４５． Ｎ６０
およびＮ１００゜Ｍｉｃｒｏ、工ｗａｇｅ、 Ｔｅｃｈ
ｎｏｌｏｇｙ、ｉの商品名：工８０ｐＯ１ｙ−ＭＲおよ
びＨＤ 、日本合成ゴム製の商品名： Ｊ８ＲＯ工Ｒ７
０１゜尋が挙げられこれらのレジストの塗布溶剤は前述
した溶剤であることが望ましい。
色素層は昇華あるいは蒸着可能な染料あるいは顔料が用
いられ、例えばフタロシアニン系顔料、イソインドリノ
ン系顔料、ポリサイクリック系顔料、ナフトール系顔料
、インダスレン系染料、油溶性染料、分散系染料などが
用いられる。
いられ、例えばフタロシアニン系顔料、イソインドリノ
ン系顔料、ポリサイクリック系顔料、ナフトール系顔料
、インダスレン系染料、油溶性染料、分散系染料などが
用いられる。
着色層を設けるための基板は、ガラス板、光学用樹脂板
（例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、
シクロヘギシルメタクリレートナト）、ゼラチン、ポリ
ビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、メチ
ルメタクリレート、ポリエステルブチラール及びポリア
ミドなどの樹脂フィルムなどの透明部材である。
（例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、
シクロヘギシルメタクリレートナト）、ゼラチン、ポリ
ビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、メチ
ルメタクリレート、ポリエステルブチラール及びポリア
ミドなどの樹脂フィルムなどの透明部材である。
また、カラーフィルターをカラーフィルターが適用され
る物と一体的に形成する場合、例えばブラウン管表示用
カラー表示用カッ−７エイスプレートの場合には支持体
はブラウンｆｕ表示面であυ、また重管式カラーテレビ
カメ２の場合には、支持体は撮像管の受光面であシ、液
晶を利用したカラーディスプレイの場合には支持体はマ
トリックス化された液晶層でおる。
る物と一体的に形成する場合、例えばブラウン管表示用
カラー表示用カッ−７エイスプレートの場合には支持体
はブラウンｆｕ表示面であυ、また重管式カラーテレビ
カメ２の場合には、支持体は撮像管の受光面であシ、液
晶を利用したカラーディスプレイの場合には支持体はマ
トリックス化された液晶層でおる。
また、カラー抜写用電子写真感光体の場合には支持体は
電子写真感光体であシ、ＣＯＤやＢＢＤのような固体撮
像装置の場合には支持体は固体撮像素子の基板そのもの
となる。
電子写真感光体であシ、ＣＯＤやＢＢＤのような固体撮
像装置の場合には支持体は固体撮像素子の基板そのもの
となる。
本発明における保護層の形成方法は加熱硬化タイプの樹
脂の場合色素層に輩布後適宜ベークする。又、フォトレ
ジストの場合には色素層に塗布するだけでもよく、さら
に膜強度及び耐溶剤性を向上するために必要であればネ
ガレジストならば全面露光する事によって硬化すること
が可能である。
脂の場合色素層に輩布後適宜ベークする。又、フォトレ
ジストの場合には色素層に塗布するだけでもよく、さら
に膜強度及び耐溶剤性を向上するために必要であればネ
ガレジストならば全面露光する事によって硬化すること
が可能である。
これによってゴミ、９ｊｈ等を防ぐことができ、耐湿性
、耐熱性、耐光性にすぐれたフィルターが作成できる。
、耐熱性、耐光性にすぐれたフィルターが作成できる。
以下、本発明の具体的実施例について述べる。
実施例
ガラス基板上にスピンナー塗布法によシボジ型レジスト
（商品名、 ０ＤＵＲ１０１３東京応化製）を５０００
〜７０００大の膜厚に塗布した。
（商品名、 ０ＤＵＲ１０１３東京応化製）を５０００
〜７０００大の膜厚に塗布した。
１２０℃、２０分のプリベークを行なった後、遠紫外光
にてマスク露光を行ない０ＤＵＲ１０１Ｇシリーズ用専
用現像液に３分浸漬し、同じく専用リンス液に２分浸漬
して、アンダーマスクを形成した。次にアンダーマスク
の形成されたガラス基板の全面に露光を行ない、溶剤に
可溶とした。
にてマスク露光を行ない０ＤＵＲ１０１Ｇシリーズ用専
用現像液に３分浸漬し、同じく専用リンス液に２分浸漬
して、アンダーマスクを形成した。次にアンダーマスク
の形成されたガラス基板の全面に露光を行ない、溶剤に
可溶とした。
続いてガラス基板と、Ｍ、ボートに詰め九Ｍ１−フタロ
シアニンを真空容器内に設置し、真空度１ｏ−５〜１０
ｔＯｒｒにおいてＭｏボートを４５０〜５５０υに加熱
し１Ｊ４−７タロシアニンの蒸着を行なりた。膜厚は６
０００＾とした。しかる後に０ＤＵＲ□１０１０シリー
ズ専用現像液中にて浸漬撹拌を行ない、アンダーマスク
を溶解すると、同時に蒸着膜の不＊部分を除去し、パタ
ーン状の背色累層をガラス基板上に形成した。
シアニンを真空容器内に設置し、真空度１ｏ−５〜１０
ｔＯｒｒにおいてＭｏボートを４５０〜５５０υに加熱
し１Ｊ４−７タロシアニンの蒸着を行なりた。膜厚は６
０００＾とした。しかる後に０ＤＵＲ□１０１０シリー
ズ専用現像液中にて浸漬撹拌を行ない、アンダーマスク
を溶解すると、同時に蒸着膜の不＊部分を除去し、パタ
ーン状の背色累層をガラス基板上に形成した。
続いて、青色素層の形成されたガラス基板上に同様に０
ＤＵＲ１０１３をスピンナー塗布し露光、現像、リンス
エ桂を経て、膜厚１μのアンダーマスクを形成した。全
面露光後、ガラス基板を真空容器内に設置してリオノゲ
ンマゼンタＲ（東洋インキ製）を４００〜５００℃に加
熱し蒸着を行なった。膜厚は３０００Ａであった。しか
る後に現像液中にて浸漬撹拌し、赤色素層を形成した。
ＤＵＲ１０１３をスピンナー塗布し露光、現像、リンス
エ桂を経て、膜厚１μのアンダーマスクを形成した。全
面露光後、ガラス基板を真空容器内に設置してリオノゲ
ンマゼンタＲ（東洋インキ製）を４００〜５００℃に加
熱し蒸着を行なった。膜厚は３０００Ａであった。しか
る後に現像液中にて浸漬撹拌し、赤色素層を形成した。
さらに同様の工程によシリオノゲンイエローＲＸ （東
洋インキ製）を４００〜５００’Ｏに加熱してＭ后後、
手狭部分を除去し黄色素）＠を得だ。
洋インキ製）を４００〜５００’Ｏに加熱してＭ后後、
手狭部分を除去し黄色素）＠を得だ。
膜厚は４ｏｏｏＡであった。
次にネガ型レジスト（商品名、 ＯＭＲ−８５，東京応
化製）を９０００〜１００００久の膜厚、に塗布した。
化製）を９０００〜１００００久の膜厚、に塗布した。
８０°Ｃ，３０分のプリベークを行なった後、糸外光に
て全面照射を行ない、更に１５０ ℃、３０分のボスト
ベークを行ない保護層を形成した。
て全面照射を行ない、更に１５０ ℃、３０分のボスト
ベークを行ない保護層を形成した。
以上のように青、黄、赤の５色からなる色素層上にゴム
系樹脂を保護層とする力２−フィルターが形成された。
系樹脂を保護層とする力２−フィルターが形成された。
なお比較例として他の有機樹脂層及び無核層を保護層と
したカラーフィルターを作成し、耐湿性を調べるために
８５°０８５％の環境下で５００時間放置後クラックの
発生及び分光透過率の変化を本発明によるカラーフィル
ターと比軟した。その結果を以下に示す。
したカラーフィルターを作成し、耐湿性を調べるために
８５°０８５％の環境下で５００時間放置後クラックの
発生及び分光透過率の変化を本発明によるカラーフィル
ターと比軟した。その結果を以下に示す。
特開昭ＧＯ−４２７０４（４）
表中 特性 ピーク透過率変化 ピーク波長変化Ｏ０〜
２５未満 ０〜２ｎｍ未満 △ ２〜５１ ２〜５Ｉ × ５％以上 ５ ｎｍ以上 以上のように本発明によるゴム系樹脂の保護層を設けた
カラーフィルターは、他の有機樹脂層又は無′４ｉ！Ａ
層を設けたカラーフィルターと比較して耐湿性に優れた
ものであった。
２５未満 ０〜２ｎｍ未満 △ ２〜５１ ２〜５Ｉ × ５％以上 ５ ｎｍ以上 以上のように本発明によるゴム系樹脂の保護層を設けた
カラーフィルターは、他の有機樹脂層又は無′４ｉ！Ａ
層を設けたカラーフィルターと比較して耐湿性に優れた
ものであった。
Claims (1)
- （１） 気相堆積によシ形成した色素層上に直接ゴム系
樹脂からなる保護層を有することを特徴とするカラーフ
ィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58149762A JPS6042704A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | カラ−フイルタ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58149762A JPS6042704A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | カラ−フイルタ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6042704A true JPS6042704A (ja) | 1985-03-07 |
Family
ID=15482183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58149762A Pending JPS6042704A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | カラ−フイルタ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6042704A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6119201U (ja) * | 1984-07-06 | 1986-02-04 | 株式会社クラレ | 色選択性フイルタ− |
| JPS6289906A (ja) * | 1985-06-10 | 1987-04-24 | Nec Corp | カラ−フイルタ− |
| JPS62280807A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-05 | Nec Corp | カラ−フイルタ− |
-
1983
- 1983-08-17 JP JP58149762A patent/JPS6042704A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6119201U (ja) * | 1984-07-06 | 1986-02-04 | 株式会社クラレ | 色選択性フイルタ− |
| JPS6289906A (ja) * | 1985-06-10 | 1987-04-24 | Nec Corp | カラ−フイルタ− |
| JPS62280807A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-05 | Nec Corp | カラ−フイルタ− |
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