JPS604266B2 - 接点材料用銅合金及びその製造法 - Google Patents

接点材料用銅合金及びその製造法

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JPS604266B2
JPS604266B2 JP5951480A JP5951480A JPS604266B2 JP S604266 B2 JPS604266 B2 JP S604266B2 JP 5951480 A JP5951480 A JP 5951480A JP 5951480 A JP5951480 A JP 5951480A JP S604266 B2 JPS604266 B2 JP S604266B2
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tin
plating
copper
copper alloy
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JP5951480A
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JPS56156769A (en
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進 川内
光雄 軍司
正登 執行
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Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C10/00Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces
    • C23C10/28Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces using solids, e.g. powders, pastes

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
  • Manufacture Of Switches (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、コールドウェルディングを起こさない接点材
料用鋼合金及びその製造法に関する。
特には銅合金に錫或いは錫含有合金のめつきを施した後
に熱処理を行なうことにより、コールドウェルディング
を起こさない接点材料に関するものである。錫は耐食性
、半田付け性等に優れ、表面接点用金属いわゆる錫めつ
きとして民生用電子機器に多量に用いられているが、長
時間に及ぶ援圧のかかる条件下では、接触面が粘着しあ
る程度の力をかけないと離脱しなくなる。
この現象はコールドウェルディングと呼ばれるが、従来
、このコールドウェルディングの発生が重大な障害とな
る分野においては金、銀、Rh、Pd等の高価な金属の
めつきが施されている。
そこで錫或いは錫含有合金でめつきする場合でもコール
ドウェルディングを起こさない方法を探索した結果、本
発明に至った。即ち本発明は、銅合金に直接、或いは銅
下地めつきを行なった後、錫或いは錫含有合金のめつき
を施し、次いで加熱溶融及び/又はめつき材の融点以下
の温度で加熱することにより実質的に錫一銅化合物より
成る拡散層外層を形成せしむることにより、表面を硬化
させコールドゥェルディングを防止する接点材料を提供
するものである。
接点用鋼合金には、りん青銅、黄銅、洋白、ベリリウム
鋼、チタン鋼等多種の銅合金が用いられるが、本発明は
これらの銅合金に直接或いは銅下地めつきを行なった後
、錫或いは錫含有合金のめつきを施す。めつきに用いる
錫含有合金とは、錫に鉛、インジウム、アンチモン、ア
ルミニウム、亜鉛等はんだ材料として知られているもの
を一種以上含むものを包括する。めつき方法としては電
解めつき、無電解めつき、更に錫或いは錫含有合金にお
いては溶融めつきのいずれでも実施することができ、か
つ、めつき浴組成にも限定されない。
特に銅下地めつき及び錫めつきの厚さに制限は無いが、
銅下地めつきを行なう場合は加熱処理による生成物が銅
−錫化合物で初めはCu6,S広が主なものであるが、
最終的にはC叱Snと進行するため銅下地めつきと錫或
いは錫含有合金めつきの厚みは、この最終的な生成物で
あるCu3Snの組成を考慮し、銅と錫の比率が元素比
で(0u/Sn):(3′1)以下が好ましい。
銅下地めつきを行なわない場合でも銅合金中の銅とめつ
き層中の錫とが拡散し、C&Sn5及びCu3Snが生
成する。本発明の接点材料はめつきされた錫或いは錫合
金中の錫成分の殆んどが銅−錫化合物を生成されれば十
分であって化合物の大部分がCuぶnである必要はない
。錫或いは錫含有合金を熔融めつき或いは電解めつき後
の熱処理条件としては加熱溶融の場合は例えば上層めつ
き層が0.5仏以下であれば多くの場合更に加熱処理す
ることなく、表面は実質的に錫−銅より成る拡散層が生
成する。
しかし溶融めつき及び加熱溶融の熱的条件は、金属間化
合物を生成させることを目的として定められてはおらず
、溶融めつきにおいては所定量のめつきを付着させるこ
とを、又、加熱溶融においては光沢を出すことを目的に
熱的条件が定められているから、本発明の目的とする実
質的に錫−銅より成る拡散層を生成させるには、更に加
熱処理が必要か否かは各めつき方法、めつき条件におい
て検討し選択されねばならず、一様に上層めつき層が0
.5仏以下は更に熱処理を要しないと決めることはでき
ない。錫或いは錫含有合金の融点以下の温度の熱処理条
件としては、例えば上層めつき層厚に大きく影響される
が、温度は150℃〜融点以下が実際的である。加熱雰
囲気は非酸化性であることが好ましいが、大気下の加熱
も勿論可能である。大気下で加熱した場合は表面に酸化
物が生成するが加熱処理後5〜1びol%の硫酸水溶液
で洗浄すれば容易に酸化物の皮膜は除去することができ
、何ら支障とはならない。これらの熱処理により実質的
に錫−銅より成る拡散層を外層として生成させた材料の
表面は極めて硬くなり、ばね用りん青銅母村のピッカー
ス硬さが260以下であるのに対し熱処理後の表面は3
50〜450にもなり、耐摩耗性にも優れている。
本発明の材料は務点材料としての要求特性である薮雛抵
抗値は3〜6のQであり、錫めつきの後融抵抗値が同一
試験法で3mQであるのと比較すると若干高くはなって
いるが、実用上の問題はない。又摺動が行なわれる用途
分野においても、表面が極めて硬いことから摺動時にお
ける俵融低抗値は安定しており、従ってノイズの発生が
少ない利点を有している。以下に実施例を述べる。
実施例 1 ばね用りん青銅条をアルカリ脱脂、電解脱脂、そして酸
洗中和後、硫酸錫格で0.5ぷの錫めつきを行なった。
硫酸錫格ならびにめつき条件は下記の通りである。硫酸
錫裕 硫酸第1錫 72夕/そ 硫 酸 100夕/そ 浴 温 30o0 電流密度 3A/dの こうして錫めつきされた条をバーナ直火型加熱炉におい
て600℃に5秒間保持した後、水袷、温風乾燥した。
この条をX線回析で調べたところ、微かな8−錫と大部
分がC比Sn5から成る表面状態であることが確認され
た。この条の接融抵抗値は3肌○であった。次にこの条
から1仇吻×1仇咳の大きさの片を切り出し2枚重ねて
lk9/秘の援融圧を負荷し30日保持したがコールド
ウヱルディングは起こらなかつた。実施例 2 実施例1と同条件でめつきし(但しめつき厚は1.5〃
)加熱溶融した錫めつき条を160『0で2独特間アル
ゴン雰囲気中で加熱した。
この条はX線回折で8−錫は認められず、接触低抗は5
.5肌○であった。また、実施例1と同条件で行なった
試験ではコールドウェルディングは起こらなかった。実
施例 3亜鉛35%を含有する黄鋼条をアルカリ脱脂、
電解脱脂そして酸洗中和後、硫酸錫格で0.5仏の銅下
地めつきを行ない、実施例1と同条件で錫めつきを1.
5山施した条を15000で4潮時間アルゴン雰囲気中
で加熱した。
この条をX線回折で調べたが3−錫は認められず、接触
低抗は5.6の○であった。
また、実施例1と同条件で行なった試験ではコールドウ
ェルデイングは起こらなかった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 錫・銅化合物よりなる拡散層を外層として有するコ
    ールドウエルデイングを起こさない接点材料用銅合金。 2 銅合金に錫或いは錫含有合金をめつきを施した後、
    加熱溶融および/又はめつき材の溶融点以下の温度で加
    熱し、実質的に錫・銅化合物より成る拡散層を外層に生
    成させたコールドウエルデイングを起こさない接点材料
    用銅合金の製造法。
JP5951480A 1980-05-07 1980-05-07 接点材料用銅合金及びその製造法 Expired JPS604266B2 (ja)

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JP5951480A JPS604266B2 (ja) 1980-05-07 1980-05-07 接点材料用銅合金及びその製造法

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JPS56156769A JPS56156769A (en) 1981-12-03
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JPS595583A (ja) * 1982-06-30 1984-01-12 田中貴金属工業株式会社 整流子用接触片材料
JPS6417344A (en) * 1987-07-10 1989-01-20 Toshiba Corp Contact for vacuum valve and its manufacture
JP2647656B2 (ja) * 1987-07-24 1997-08-27 日鉱金属株式会社 接触子の製造方法
JP2647657B2 (ja) * 1987-07-24 1997-08-27 日鉱金属株式会社 接触子の製造方法

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