JPS6042287A - Porous ceramic partial minuting process - Google Patents
Porous ceramic partial minuting processInfo
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- JPS6042287A JPS6042287A JP15054883A JP15054883A JPS6042287A JP S6042287 A JPS6042287 A JP S6042287A JP 15054883 A JP15054883 A JP 15054883A JP 15054883 A JP15054883 A JP 15054883A JP S6042287 A JPS6042287 A JP S6042287A
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- porous ceramic
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は多孔質セラミックスの部分緻密化法に係シ、特
に、多孔質セラミックスを部分的に有効に緻密化するに
好適な多孔質セラミックスの部分緻密化法に関する。[Detailed Description of the Invention] [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a method for partially densifying porous ceramics, and in particular, to a method for partially densifying porous ceramics. Concerning densification methods.
〔従来技術〕
近年高温高強度構造材料として窒化珪素、炭化珪素、サ
イアロン等の非酸化物セラミックス、あるいけ酸化アル
ミニウム、酸化ジルコニウム等、いわゆるニューセラミ
ックスが急速にクローズアップされ、多くの研究や開発
がなされている。これらのセラミックスの用途は、ガス
タービンのブレードや燃焼器、ディーゼルエンジンのシ
リンダやピストンその他高温用機械部品とし、て数多く
ある。[Prior art] In recent years, so-called new ceramics such as non-oxide ceramics such as silicon nitride, silicon carbide, and sialon, aluminum oxide, and zirconium oxide have been rapidly focused on as high-temperature, high-strength structural materials, and much research and development has been conducted. being done. These ceramics have many uses, including gas turbine blades and combustors, diesel engine cylinders and pistons, and other high-temperature mechanical parts.
しかしてセラミックスの中でも多孔質のセラミック部材
は断熱性、吸音性、軽量性等の点において優れた特性を
有するところから広い範囲の応用が期待されている。と
ころで通常多孔質セラミック部材は、七ラミック粉末の
加圧成形密度を低くして焼成を行なうか、又は成形時に
揮発性あるいは可燃性物質を添加して焼成を行なう、あ
るいはシラスのように焼成過程で発泡するような材料を
用いる、などの方法によって製造されている。しかしガ
から、周知の如くセラミックは脆性材料であり、上記の
ニューセラミックスといえども金属材料に比べれば亀裂
の伝播が速く破断しやすいので、そのままの状態で高強
度及び高靭性を要求される材料としては用いることがで
きないという基本的な欠点を有している。Among ceramics, porous ceramic members are expected to be used in a wide range of applications because they have excellent properties such as heat insulation, sound absorption, and light weight. By the way, porous ceramic members are usually made by firing hepteramic powder with a low pressure-molding density, or by adding volatile or flammable substances during molding, or by adding volatile or flammable substances during the firing process, such as with Shirasu. It is manufactured using methods such as using foamable materials. However, as is well known, ceramics are brittle materials, and even with the new ceramics mentioned above, cracks propagate faster and are more likely to break than metal materials, so materials that require high strength and toughness in their original state are required. It has the fundamental drawback that it cannot be used as a
ところで、これらの方法によって製造された従来の多孔
質セラミックスにおいては、その表面も多孔質である。By the way, the surface of conventional porous ceramics manufactured by these methods is also porous.
そのために特に耐摩耗性が低い、あるいけ強度が低いな
どの問題がある。従って、セラミックスを多孔化して用
いる場合には、特に、このような問題点を改善すること
が必要とされていた。Therefore, there are problems such as particularly low abrasion resistance and low bending strength. Therefore, when ceramics are used in a porous manner, it has been particularly necessary to improve such problems.
このため、従来、多孔化されたセラミックスは、使用目
的及び使用部位に応じて、特に荷重等が加えられる箇所
又は表面部等は緻密化して用いるのが最も合理的とされ
ており、この緻密化法としては、ＣＶＤ、ＰＶＤ、七ラ
ミック粉末を塗布して焼き付ける方法、溶射などが提案
されている。しかるにＣＶＤあるいはＰＶＤ法は、それ
によって形成されるコーテイング膜が薄いものであり、
しかも、設備及び操作に多大の費用と時間がかかるとい
う問題があり多孔質セラミック部材の緻密化に適用する
には不向きである。また溶射は部材の表面に溶融状態の
粉末物質を吹き付けるようにしたものであるが、多孔質
セラミック部材の表面及びその近傍に分布する孔（ボア
）の内部までは十分には埋めきれない。またＣＶＤＸＰ
ＶＤ、焼き付けあるいけ溶射などのいずれの方法によっ
ても付着物やコーテイング膜がはがれ易く緻密化部分が
損傷し易いという問題がある。For this reason, it has traditionally been thought that it is most rational to use porous ceramics with densification, especially in areas or surface areas where loads are applied, depending on the purpose and location of use. As methods, CVD, PVD, a method of coating and baking hepteramic powder, thermal spraying, etc. have been proposed. However, the coating film formed by CVD or PVD is thin,
Furthermore, there is a problem in that the equipment and operation require a great deal of cost and time, making it unsuitable for application to densification of porous ceramic members. Furthermore, although thermal spraying is a method of spraying a molten powder substance onto the surface of a member, it is not possible to sufficiently fill the inside of the pores distributed on and near the surface of a porous ceramic member. Also CVDXP
No matter which method is used, such as VD, baking, or thermal spraying, there is a problem that the deposits and coating film are likely to peel off and the densified portions are likely to be damaged.
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解消し、緻密
化された部分が極めて安定でありしかも非常に緻密な層
が得られる、多孔質セラミックスの部分緻密化法を提供
することにある。An object of the present invention is to provide a method for partial densification of porous ceramics, which solves the problems of the prior art described above and allows the densified portion to be extremely stable and to obtain a very dense layer. .
この目的を達成するために、本発明の緻密化方法は、電
気泳動法を利用して多孔質セラミックスの気孔中に電気
泳動沈積物を析出させ、これにより部分的に緻密化する
ようにしたものであって、多孔質セラミックスの緻密化
予定部分を導電化処理する工程と、該導電化処理された
多孔質セラミックスをセラミックス粉末の懸濁液に浸漬
し、電気泳動法によシセラミックス粉末を前記緻密化予
定部分に電着する工程と、該電着処理された多孔質セラ
ミックスを焼成し、電着されたセラミック粉末を焼結さ
せる焼成工程と、を有する多孔質セる加圧工程を設けた
多孔質セラミックスの部分緻密化法を要旨とするもので
ある。In order to achieve this objective, the densification method of the present invention utilizes electrophoresis to deposit electrophoretic deposits in the pores of porous ceramics, thereby partially densifying the material. The method includes a step of making a portion of the porous ceramic to be densified electrically conductive, and immersing the electrically conductive porous ceramic in a suspension of ceramic powder, and applying the ceramic powder to the ceramic powder by electrophoresis. A porous cell pressurizing step was provided, which included a step of electrodepositing on the portion to be densified, and a firing step of firing the electrodeposited porous ceramic and sintering the electrodeposited ceramic powder. The gist of this paper is a partial densification method for porous ceramics.
以下に本発明を図面を参照して詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below with reference to the drawings.
第１図ないし第３図は本発明の一実施例に係る多孔質部
材の断面の概略図である。1 to 3 are schematic cross-sectional views of a porous member according to an embodiment of the present invention.
本発明においては、まず、緻密化する多孔質セラミック
スの緻密化予定部分に導電化処理を施す。In the present invention, first, a portion of the porous ceramic to be densified is subjected to conductive treatment.
即ち、通常、セラミックスは非導電性であるので、緻密
化予定部分が後続の電気泳動における電極となシ得るよ
うに導電化処理を施すものである。導電化処理は、第１
図に示す如く、導電性ペーストｌ中へ多孔質セラミック
ス２の緻密化予定部分のみを浸漬し、導電性膜３を付与
する方法の他、銀、黒鉛等の導電性物質の塗布、蒸着、
めっき等、通常の導電化処理方法が採用可能である。That is, since ceramics are normally non-conductive, a conductive treatment is performed so that the portion to be densified can serve as an electrode in subsequent electrophoresis. The conductivity treatment is the first
As shown in the figure, in addition to the method of immersing only the portion of the porous ceramic 2 to be densified into a conductive paste l and applying a conductive film 3, there is also a method of applying a conductive substance such as silver or graphite, vapor deposition, etc.
Usual conductive treatment methods such as plating can be used.
導電化処理を施した多孔質セラミックスは第２図の如く
、セラミックス粉末の懸濁液４に浸漬し、対極５を設け
て電源６につなぎ、電圧を印加し、電気泳動処理を行な
う。この際セラミックス粉末が沈澱しないように、適当
な撹拌手段７を設けて撹拌を行なうのが好ましい。As shown in FIG. 2, the conductive porous ceramic is immersed in a suspension 4 of ceramic powder, provided with a counter electrode 5, connected to a power source 6, and subjected to electrophoresis by applying a voltage. At this time, it is preferable to provide a suitable stirring means 7 for stirring so that the ceramic powder does not precipitate.
電圧の印加により多孔質セラミックスの緻密化予定部分
（導電性膜３部分）には、セラミックス粉末を含む電気
泳動沈積物８が電着する。この沈積物８が所望の量とな
り、必要な緻密化度となった時点で電着を終了し、多孔
質セラミックス２を懸濁液４からとシ出し、この電着処
理された多孔質セラミックスを通常の方法で焼成し、電
着されたセラミックス粉末を焼結させる。By applying a voltage, an electrophoretic deposit 8 containing ceramic powder is electrodeposited on a portion of the porous ceramic to be densified (a portion of the conductive film 3). When the deposit 8 reaches the desired amount and the required degree of densification, the electrodeposition is finished, the porous ceramics 2 are taken out from the suspension 4, and the electrodeposited porous ceramics are removed. The electrodeposited ceramic powder is sintered by firing in a conventional manner.
本発明においては、沈積物８をより強固で緻密な層とす
るために、電着後懸濁液４がらとシ出した多孔質セラミ
ックス２を加圧し、焼成する方法も有効である。加圧は
焼成前に行なうようＫしてもよい。また焼成と同時に行
々う（即ち、加圧状態で焼成する）ようにしてもよい。In the present invention, in order to make the deposit 8 a stronger and denser layer, it is also effective to pressurize and fire the porous ceramics 2 expelled from the suspension 4 after electrodeposition. Pressure may be applied before firing. Alternatively, the firing may be performed at the same time as the firing (that is, the firing may be performed under pressure).
加圧方法としてけ静水圧加圧あるいは一方向からのガス
圧加圧等、通常の加圧方法が採用し得る。As the pressurization method, a normal pressurization method such as hydrostatic pressure pressurization or gas pressure pressurization from one direction can be adopted.
このようにして、電着後、焼成又は加圧・焼成された多
孔質セラミックスは表面の清浄化処理等を行なった後使
用に供される（第３図）。The porous ceramics thus electrodeposited and fired or pressurized and fired are subjected to surface cleaning treatment and the like before being used (FIG. 3).
本発明において、多孔質セラミックスとしては、通常の
非導電性の多孔質セラミックスであればよい。またその
材質にも特に制限はなく気孔径分布もセラミック粒子が
通過する程度であれば任意のものでよい。材質の例とし
てはジルコニア、アルミナ、サイアロン、シリカ、ジル
コン等各種の酸化物、窒化物などが挙げられる。In the present invention, the porous ceramic may be any ordinary non-conductive porous ceramic. Further, there is no particular restriction on the material, and the pore size distribution may be any material as long as the ceramic particles can pass through it. Examples of the material include various oxides and nitrides such as zirconia, alumina, sialon, silica, and zircon.
なお多孔質セラミックスは仮焼前の所謂グリーンな状態
のもの、あるいは仮焼後のもの等、要するに本焼成もし
くは仮焼前の状態のものも採用可能である。このような
本焼成又は仮焼前の状態の多孔質セラミックスを用い九
′場合には、電着処理後の焼成により、多孔質セラミッ
クスの焼結と電着されたセラミックス粉末の焼結とを同
時に行なうこととなる。Note that the porous ceramic may be in a so-called green state before calcination, or after calcination, in short, in a state before main calcination or calcination. When using porous ceramics in a state before main firing or calcination, firing after electrodeposition can simultaneously sinter the porous ceramics and sinter the electrodeposited ceramic powder. It will be done.
多孔質セラミックスは前述の如く、緻密化予定部分に導
電化処理を施すが、その際、例えば第１図の如く導電ペ
ースト中に浸漬して導電化処理を行なう場合には、浸漬
深さの調整又は浸漬角度の変化により任意の箇所を導電
化処理することができる。さらに導電化処理によシ付与
された金属膜の表面部を酸洗等で除去する等の方法によ
り、多孔質セラミックスの内部のみを導電化することも
可能である。As mentioned above, porous ceramics is subjected to conductive treatment in the area to be densified. At that time, for example, when performing conductive treatment by immersing it in a conductive paste as shown in Figure 1, it is necessary to adjust the immersion depth. Alternatively, any location can be made conductive by changing the immersion angle. Furthermore, it is also possible to make only the inside of the porous ceramic conductive by a method such as removing the surface portion of the metal film provided by the conductivity treatment by pickling or the like.
電着に用いる懸濁液は適当な有機誘電体溶液等の懸濁媒
質にセラミックス粉末をボールミル粉砕等により混合し
て調整する。懸濁媒質として使用する有機溶媒にはいろ
いろあるが、ピリジン、ニトロメタン、イソプロピルア
ルコールあるいは石油エーテル等が挙げられる。セラミ
ックス粉末としては、必要に応じて各種のセラミックス
の粉末が用いられる。なおその粒度は特に限定されるも
のではないが３２５メツシュ以下程度とするのが好まし
い。The suspension used for electrodeposition is prepared by mixing ceramic powder with a suspension medium such as a suitable organic dielectric solution by ball milling or the like. There are various organic solvents that can be used as the suspending medium, including pyridine, nitromethane, isopropyl alcohol, and petroleum ether. As the ceramic powder, various ceramic powders can be used as required. Although the particle size is not particularly limited, it is preferably about 325 mesh or less.
電気泳動に際し、印加する電圧は溶媒、粒度分布、粒度
の種類等により実験的にめられるが、通常５０〜５ｏｏ
ｖ程度の直流電圧とされる。During electrophoresis, the voltage to be applied is determined experimentally depending on the solvent, particle size distribution, type of particle size, etc., but it is usually 50 to 50 Ω.
It is assumed that the DC voltage is about V.
電気泳動の際懸濁している粒子群は粒子、溶媒および使
用する添加剤によって正または負のどちらかに荷電され
ることから、多孔質セラミックスと対極との間の電流の
方向け、一義的なものではない。Because the suspended particles during electrophoresis are either positively or negatively charged depending on the particles, solvent, and additives used, the direction of the current between the porous ceramic and the counter electrode is unique. It's not a thing.
本発明においてはセラミックス粉末及び懸濁媒質等には
特に制限はなく種々のものが採用し得ることから、これ
らのものを適宜選択することにより、同一物質によシ多
孔質セラミックスの気孔部を緻密化する場合に限られず
、多孔質セラミックスの用途に応じてサーメット等の各
種の緻密化層を得ることができる、
また、緻密化の程度は電圧又は電着時間を調節すること
により適宜調整することができる。In the present invention, there are no particular restrictions on the ceramic powder and suspension medium, and various materials can be used. By appropriately selecting these materials, the pores of porous ceramics can be densely densified using the same material. Various densified layers such as cermet can be obtained depending on the use of porous ceramics, and the degree of densification can be adjusted as appropriate by adjusting the voltage or electrodeposition time. I can do it.
以下に本発明を実施例により更に具体的に説明するが本
発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定さ
れるものではない。EXAMPLES The present invention will be explained in more detail with reference to examples below, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof.
実施例 ｌ
連続気孔の多孔質体として仮焼アルミナ系（ＡＬ”ｓ
９６ ％を含む）セラミックスブロック（寸法：４０×
４０×８０ｍｍ、気孔率ニア２％）を試料として用いて
、その端面部を緻密化した。Example 1 Calcined alumina-based (AL”s) is used as a porous body with continuous pores.
(containing 96%) ceramics block (dimensions: 40×
A specimen (40×80 mm, porosity near 2%) was used as a sample, and its end surface portion was densified.
先ず、試料の緻密化予定端面部を、銀ペースト浴に緻密
化予定厚さく３間）だけ浸漬した後、引きあげ乾燥する
ことにより、導電化処理した。First, the end face of the sample to be densified was immersed in a silver paste bath by the thickness to be densified (3 mm), and then pulled up and dried to conductivity treatment.
この導電化処理部にリード線を付着させた後、試料をメ
チルエチルケトンｌｌ中にニトロセルロース、２−クロ
ル酢酸をわずかに添加した溶媒中に市販の微粒（平均粒
径：０．８μｍ）アルミナ粉末４ Ｑ Ｏｇ、ｒを懸濁
させた溶液中に浸漬した。After attaching a lead wire to this electrically conductive part, the sample was placed in a solvent containing a small amount of nitrocellulose and 2-chloroacetic acid in 1 l of methyl ethyl ketone. Q Og, r was immersed in a suspended solution.
導電化処理部からのリード線を直流電源へ接続し、対極
として設けたステンレス鋼板と対瑣させ、両極間に２４
０ｖの直流電圧を２時間かけて電着処理を行なった。こ
の際、懸濁液を常時撹拌した。Connect the lead wire from the conductive treatment section to a DC power source, and connect it to a stainless steel plate provided as a counter electrode, with a 24-meter line between the two electrodes.
Electrodeposition treatment was performed using a DC voltage of 0 V for 2 hours. At this time, the suspension was constantly stirred.
なおこのときの液温は４０℃であった。Note that the liquid temperature at this time was 40°C.
電着処理後、本試料を液から取シ出したところ緻密化予
定端面部は完全に緻密化していることが認められた。こ
の状態で本試料の一部を切りとったところ緻密部は表面
層はぼ３ Ｉｌｌで、導電化処理厚さとほぼ一致してい
ることが確認された。After the electrodeposition treatment, when this sample was removed from the solution, it was found that the end face portion scheduled for densification had been completely densified. When a part of this sample was cut out in this state, it was confirmed that the surface layer of the dense part was approximately 3 Ill, which was approximately equal to the thickness of the conductive treatment.
又、本試料に所定の焼結処理を施して本焼成を行なった
ところ、この緻密化処理部は完全に緻密に焼結しており
、顕微鏡による観察の結果、通常の緻密質セラミックス
の組織と全く同一であることが確認された。In addition, when this sample was subjected to the specified sintering treatment and main firing, the densified part was completely sintered densely, and as a result of microscopic observation, it was found that the structure was similar to that of normal dense ceramics. It was confirmed that they were exactly the same.
以上の通り本発明は、多孔質セラミツ尭気孔内に電気泳
動法によシミ気泳動沈積物を析出さ七るようにしたもの
でアシ、得られる電気泳動沈積物の層は極めて強固で緻
密なものであることから、極めて安定しだ緻密化部分を
得ることができる。As described above, the present invention is a method in which aerophoretic deposits are deposited within the pores of porous ceramics using an electrophoretic method, and the resulting layer of electrophoretic deposits is extremely strong and dense. Since it is a highly stable densified part, it is possible to obtain an extremely stable densified part.
また懸濁液は多孔質セラミックスの気孔内を経由して沈
積物を析出させるため、極めて効率がよく、均一な沈積
物の層が得られる。しかも、本発明方法においては多孔
質セラミックス、セラミックス粉末及び懸濁媒質を選択
することにより、用途に応じて各種の特性の素材を提供
することができるという利点がある。また導電化処理を
適宜選択した箇所に施すことにより任意の箇所を緻密化
できるうえ、印加する電圧及び電着時間を調節すること
により、緻密化の程度も任意に調整できる。Furthermore, since the suspension causes deposits to be deposited through the pores of the porous ceramic, it is extremely efficient and a uniform layer of deposits can be obtained. Moreover, the method of the present invention has the advantage that by selecting porous ceramics, ceramic powder, and suspending medium, materials with various characteristics can be provided depending on the application. Further, by applying conductivity treatment to appropriately selected locations, any location can be densified, and by adjusting the applied voltage and electrodeposition time, the degree of densification can also be adjusted arbitrarily.
しかも多孔質セラミックスとして本焼成前の多孔質セラ
ミックスを用いた場合には、電着したセラミックス粒子
の焼結と多孔質セラミックスの焼結を同時に行なうこと
となり、より強固で信頼性の高い緻密化部分を得ること
ができ、しかも、多孔質セラミックスの製造工程の本焼
成を緻密化工程に組入れることができ、熱コスト的に極
めて有利な緻密化を行なうことができる。Moreover, when porous ceramics that have not yet been fired are used as porous ceramics, sintering of the electrodeposited ceramic particles and porous ceramics are performed at the same time, resulting in stronger and more reliable densified parts. Moreover, the main firing of the porous ceramic manufacturing process can be incorporated into the densification process, and densification can be performed which is extremely advantageous in terms of thermal cost.
従って、本発明方法によれば、各種の構造体として多孔
質セラミックスを用いる場合に有用な優れた部分緻密化
多孔質セラミックスを提供することができ、工業的に極
めて有利である。Therefore, according to the method of the present invention, it is possible to provide an excellent partially densified porous ceramic that is useful when porous ceramics are used as various structures, and is extremely advantageous industrially.
第１図ないし第３図は本発明の実施例を示す概略図であ
り、第１図は多孔質セラミックスの導電化処理を説明す
る断面図、第２図Ｖｉ電気泳動にょシ多孔質セラミック
スの部分緻密化を行なっている状態を示す断面図、第３
図は電気泳動による緻３・・・Ｓ電性膜、 ４・・・懸
濁液、５・・・対極、 ６・・・電源、
７・・・撹拌手段、 ８・−・沈積物。
代理人 弁理士 重 野 剛
第１図1 to 3 are schematic diagrams showing embodiments of the present invention, FIG. 1 is a cross-sectional view explaining the conductivity treatment of porous ceramics, and FIG. 2 is a section of the porous ceramics subjected to electrophoresis. Cross-sectional view showing the state in which densification is being performed, 3rd
The figure shows a dense electrophoretic membrane 3... S-electrode membrane, 4... Suspension, 5... Counter electrode, 6... Power source, 7... Stirring means, 8... Sediment. Agent Patent Attorney Tsuyoshi Shigeno Figure 1
Claims (1)
処理する工程と、該４電化処理された多孔質セラミック
スをセラミックス粉末の懸濁液に浸漬し、電気泳動法に
より懸濁液中のセラミックス粉末を前記緻密化予定部分
に電着する工程と、該電着処理された多孔質セラミック
スを焼成し、電着されたセラミックス粉末を焼結させる
焼成工程と、を有する多孔質セラミックスの部分緻密化
法。 （２） 多孔質セラミックスは仮焼前の成形体であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の部分緻密
化法。 （３） 多孔質セラミックスは仮焼されたものであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の部分緻密
化法。 ＋４＋ Ｉ！Ａ成工程において、多孔質セラミックスの
焼結及び電着されたセラミックス粉末の焼結を行なうこ
とを特徴とする特許請求の範囲第２項又は第３項に記載
の部分緻密化法。 （５）焼成工程において、セラミックス粉末を加圧状態
で焼結させることを特徴とする特許請求の範囲第１項な
いし第４項のいずれか１項に記載の部分緻密化法。 （６） 多孔質セラミックスの緻密化予定部分を導電化
処理する工程と、該導電化処理された多孔質セラミック
スをセラミックス粉末の懸濁液に浸漬し、電気泳動法に
よ！ＩＩＩＭ！濁液中のセラミックス粉末を前記緻密化
予定部分に電着する工程と、電着されたセラミックス粉
末を加圧する加圧工程と、該電着処理された多孔質セラ
ミックスを焼成し、＊着されたセラミックス粉末を焼結
させる焼成工程と、を有する多孔質セラミックスの部分
緻密化法。 （７） 多孔質セラミックスは仮焼前の成形体であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第６項に記載の部分緻密
化法。 （８） 多孔質セラミックスは仮焼されたものであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第６項に記載の部分緻密
化法。 （９〉 焼成工程において、多孔質セラミックスの焼結
及び電着されたセラミックス粉末の焼結を行なうことを
特徴とする特許請求の範囲第７項又は菌８項に記載の部
分緻密化法。 顛 焼成工程において、セラミックス粉末を加圧状態で
焼結させることを特徴とする特許請求の範囲第６項ない
し第９項のいずれか１項に記載の部分緻密化法。[Scope of Claims] (1) A step of making the portion of the porous ceramic to be densified electrically conductive, and immersing the porous ceramic subjected to the electrical conduction treatment in a suspension of ceramic powder, and suspending it by electrophoresis. A porous material comprising the steps of electrodepositing ceramic powder in a suspension onto the portion to be densified, and firing the electrodeposited porous ceramic to sinter the electrodeposited ceramic powder. Partial densification method for ceramics. (2) The partial densification method according to claim 1, wherein the porous ceramic is a molded body before being calcined. (3) The partial densification method according to claim 1, wherein the porous ceramic is calcined. +4+ I! 4. The partial densification method according to claim 2 or 3, wherein in step A, sintering of the porous ceramic and sintering of the electrodeposited ceramic powder are performed. (5) The partial densification method according to any one of claims 1 to 4, characterized in that in the firing step, the ceramic powder is sintered under pressure. (6) A step of making the portion of the porous ceramic to be densified electrically conductive, and immersing the electrically conductive porous ceramic in a suspension of ceramic powder, and performing electrophoresis! IIIM! A step of electrodepositing the ceramic powder in the suspension onto the portion to be densified, a pressurizing step of pressurizing the electrodeposited ceramic powder, and firing the electrodeposited porous ceramic, A method for partially densifying porous ceramics, comprising: a firing step of sintering ceramic powder. (7) The partial densification method according to claim 6, wherein the porous ceramic is a molded body before being calcined. (8) The partial densification method according to claim 6, wherein the porous ceramic is calcined. (9) The partial densification method according to claim 7 or claim 8, characterized in that in the firing step, sintering of porous ceramics and sintering of electrodeposited ceramic powder is performed. 10. The partial densification method according to claim 6, wherein the ceramic powder is sintered under pressure in the firing step.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15054883A JPS6042287A (en) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | Porous ceramic partial minuting process |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15054883A JPS6042287A (en) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | Porous ceramic partial minuting process |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6042287A true JPS6042287A (en) | 1985-03-06 |
Family
ID=15499279
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15054883A Pending JPS6042287A (en) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | Porous ceramic partial minuting process |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6042287A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0741927A (en) * | 1993-07-28 | 1995-02-10 | Nippon Alum Co Ltd | Pore sealing treatment of thermally sprayed coating film |
| DE19524750A1 (en) * | 1995-07-07 | 1997-01-09 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Process for the electrophoretic coating of a carrier substrate |
-
1983
- 1983-08-18 JP JP15054883A patent/JPS6042287A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0741927A (en) * | 1993-07-28 | 1995-02-10 | Nippon Alum Co Ltd | Pore sealing treatment of thermally sprayed coating film |
| DE19524750A1 (en) * | 1995-07-07 | 1997-01-09 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Process for the electrophoretic coating of a carrier substrate |
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