JPS604190A - セフアロスポリン誘導体の製法 - Google Patents
セフアロスポリン誘導体の製法Info
- Publication number
- JPS604190A JPS604190A JP58111537A JP11153783A JPS604190A JP S604190 A JPS604190 A JP S604190A JP 58111537 A JP58111537 A JP 58111537A JP 11153783 A JP11153783 A JP 11153783A JP S604190 A JPS604190 A JP S604190A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- group
- lower alkyl
- benzylideneimino
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
（式中 １１は水素原子または低級アルキル基を示し
１２は低級アルキル基または低級アルコキシ基を示す。
１２は低級アルキル基または低級アルコキシ基を示す。
）
を有するセファロスポリン誘導体及びその酸付加塩の新
規な製法に関するもので、更に詳しく一般式 （式中、Ａはアミノ基または置換基を有するか有しない
ベンジリデンイミノ基を示す。）を有する化合物に塩基
の存在下、 一般式 （式中 Ｒ１およびＲ２は前述したものと同意義を示し
、Ｘは）・ログン原子を示す。）を有する化合物を反応
せしめ、Ａがベンジリデンイミノ基である場合には、ベ
ンジリデン基を脱離することを特徴とする前記一般式（
１）を有する化合物及びその酸付加塩の製法に関するも
のである。
規な製法に関するもので、更に詳しく一般式 （式中、Ａはアミノ基または置換基を有するか有しない
ベンジリデンイミノ基を示す。）を有する化合物に塩基
の存在下、 一般式 （式中 Ｒ１およびＲ２は前述したものと同意義を示し
、Ｘは）・ログン原子を示す。）を有する化合物を反応
せしめ、Ａがベンジリデンイミノ基である場合には、ベ
ンジリデン基を脱離することを特徴とする前記一般式（
１）を有する化合物及びその酸付加塩の製法に関するも
のである。
上記式中 Ｒ１は好適には水素原子またはメチル基を示
し Ｒ２はメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソジチル、臓−ブチル、ｔｅｒｔ−
ブチルのような炭素数１乃至４を有する直鎖状若しくは
分枝鎖状のアルキル基またはメトキシ、エトキシ、ｎ−
グロポキシ、インシトキシ、ｎ−ブトキシ、インシトキ
シ、（８）−ブトキシ、ｔａｒｔ−シトキシのような炭
素数１乃至４個を有する直鎖状若しくは分枝鎖状のアル
コキシ基を示し、Ａはアミン基またはベンジリデンイミ
ノ若しくはサリチリデンイミノのような非置換若しくは
置換ベンジリデンイミノ基を示し、Ｘは臭素または沃素
のようなハロダン原子を示す。
し Ｒ２はメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソジチル、臓−ブチル、ｔｅｒｔ−
ブチルのような炭素数１乃至４を有する直鎖状若しくは
分枝鎖状のアルキル基またはメトキシ、エトキシ、ｎ−
グロポキシ、インシトキシ、ｎ−ブトキシ、インシトキ
シ、（８）−ブトキシ、ｔａｒｔ−シトキシのような炭
素数１乃至４個を有する直鎖状若しくは分枝鎖状のアル
コキシ基を示し、Ａはアミン基またはベンジリデンイミ
ノ若しくはサリチリデンイミノのような非置換若しくは
置換ベンジリデンイミノ基を示し、Ｘは臭素または沃素
のようなハロダン原子を示す。
一般にこのような本発明の化合物の従来法による製法と
しては、セファロスポリン骨格の７位をアシル化し、つ
いで４位カルビン酸のエステル化、ついで五塩化燐等に
よるイミノエーテル法によってアシル基を切断して実施
されていた。本発明の方法によれば、このような五塩化
燐によるアシル基切断等煩雑な操作を必要とせず容易に
目的物を得る事ができる。
しては、セファロスポリン骨格の７位をアシル化し、つ
いで４位カルビン酸のエステル化、ついで五塩化燐等に
よるイミノエーテル法によってアシル基を切断して実施
されていた。本発明の方法によれば、このような五塩化
燐によるアシル基切断等煩雑な操作を必要とせず容易に
目的物を得る事ができる。
本発明の方法を実施するにあたって、前記一般式（ＩＩ
）を有する化合物を一般式（至）を有する化合物と塩基
の存在下で反応させるエステル化反応は、溶剤の存在下
で行なうことができる。使用される溶剤としては反応に
関与しないものであれば特に限定はないが、例えばジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのような脂肪
酸ジアルキルアミド類またはこれらとソクロルメタン、
メタノールのような有機溶剤との混合溶剤が好適である
。反応に使用される塩基としてはトリエチルアミン、ツ
インプロピルアミン、ｔａｒｔ−オクチルアミン、ジメ
チル−ベンジルアミン、ジシクロヘキシルアミンのよう
な有機塩基が好適である。反応温度は通常、−１０℃乃
至室温付近であシ、反応時間は反応温度、反応試剤（曲
の種類などによって異なるが、通常、３０分乃至２時間
である。
）を有する化合物を一般式（至）を有する化合物と塩基
の存在下で反応させるエステル化反応は、溶剤の存在下
で行なうことができる。使用される溶剤としては反応に
関与しないものであれば特に限定はないが、例えばジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのような脂肪
酸ジアルキルアミド類またはこれらとソクロルメタン、
メタノールのような有機溶剤との混合溶剤が好適である
。反応に使用される塩基としてはトリエチルアミン、ツ
インプロピルアミン、ｔａｒｔ−オクチルアミン、ジメ
チル−ベンジルアミン、ジシクロヘキシルアミンのよう
な有機塩基が好適である。反応温度は通常、−１０℃乃
至室温付近であシ、反応時間は反応温度、反応試剤（曲
の種類などによって異なるが、通常、３０分乃至２時間
である。
本エステル化反応によって得られる化合物において、置
換基Ａがベンジリデンアミノ基を表わす場合には、常法
に従ってベンジリデン基を脱離することができる。その
目的のための脱離試薬としてシッフ塩基化合物よジアミ
ノ基を再生するものであれば特に限定はないが、好適に
はジラードＴ試薬、フェニルヒドラジンまたはその塩酸
塩、アセテルヒドラソン、ベンゾイルヒドラジン、アニ
リン、トルイジンのような有機塩基又はそれらの酢酸ま
たはシュウ酸等の酸付加塩をあげることができる。
換基Ａがベンジリデンアミノ基を表わす場合には、常法
に従ってベンジリデン基を脱離することができる。その
目的のための脱離試薬としてシッフ塩基化合物よジアミ
ノ基を再生するものであれば特に限定はないが、好適に
はジラードＴ試薬、フェニルヒドラジンまたはその塩酸
塩、アセテルヒドラソン、ベンゾイルヒドラジン、アニ
リン、トルイジンのような有機塩基又はそれらの酢酸ま
たはシュウ酸等の酸付加塩をあげることができる。
反応終了後、本反応の目的化合物（１）は常法に従って
反応混合物から採取することができる。
反応混合物から採取することができる。
例えば、反応混合物を酢酸エチルのような有機溶剤で抽
出し、有機溶剤層を水洗し乾燥することによって得るこ
とができる。このようにして得られた目的化合物は必要
ならば常法に従って、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、ベ
ンゼンスルホンＴＩＮ塩、ｐ −）ルエンスルホン酸塩
、α−若Ｌ＜ｉｉβ−ナフタレンスルホン酸塩のような
酸付加塩として精製することができる。
出し、有機溶剤層を水洗し乾燥することによって得るこ
とができる。このようにして得られた目的化合物は必要
ならば常法に従って、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、ベ
ンゼンスルホンＴＩＮ塩、ｐ −）ルエンスルホン酸塩
、α−若Ｌ＜ｉｉβ−ナフタレンスルホン酸塩のような
酸付加塩として精製することができる。
本発明の目的化合物（１）は、抗菌作用を有する医薬の
原料として有用である。例えば本化合物（１）を中間体
として特開昭５７−５９８９４号明細書に記載されてい
るような経口用セファロスポリン化合物を製造すること
ができる。
原料として有用である。例えば本化合物（１）を中間体
として特開昭５７−５９８９４号明細書に記載されてい
るような経口用セファロスポリン化合物を製造すること
ができる。
次に実施例をあげて本発明の製法を更に具体的に説明す
る。
る。
実施例 １
７β−アミノ−３−メトキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸５．０１をＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド
５０−に懸濁し、氷水浴中５℃以下に冷却し、攪拌しな
がら、ジインプロピルアミン３．４−を加え、ついでベ
ンツアルデヒド２．５ｍ１ｌを加え３０分間攪拌を続け
る、透明な溶液となる。
−カルボン酸５．０１をＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド
５０−に懸濁し、氷水浴中５℃以下に冷却し、攪拌しな
がら、ジインプロピルアミン３．４−を加え、ついでベ
ンツアルデヒド２．５ｍ１ｌを加え３０分間攪拌を続け
る、透明な溶液となる。
これに１−ヨードエチルイソプロビルカーポネー）７．
５Ｆ！−を加え、１時間半攪拌し、ノラードＴ試薬７．
０１をメタノール１００ｒｎｌにとかした溶液を加え、
更に４０分攪拌する。ついで減圧濃縮し、メタノールを
留去する。残留物に酢酸エチル１００ゴを加え１８％食
塩水６０ ｍｌ及び２０−で二回洗浄し、水層を更に酢
酸エチルが得られる。これを酢酸エチル５０ｒｎｌに溶
解し、水５０−を加え、攪拌しながら６ＮＨＣｔを加え
−を１．８に調整し、食塩を加えると結晶が析出する。
５Ｆ！−を加え、１時間半攪拌し、ノラードＴ試薬７．
０１をメタノール１００ｒｎｌにとかした溶液を加え、
更に４０分攪拌する。ついで減圧濃縮し、メタノールを
留去する。残留物に酢酸エチル１００ゴを加え１８％食
塩水６０ ｍｌ及び２０−で二回洗浄し、水層を更に酢
酸エチルが得られる。これを酢酸エチル５０ｒｎｌに溶
解し、水５０−を加え、攪拌しながら６ＮＨＣｔを加え
−を１．８に調整し、食塩を加えると結晶が析出する。
沢果し、酢酸エチルで洗浄し、乾燥すると、２．５９−
の標記化合物のエビャーの一方が塩酸塩として得られた
。
の標記化合物のエビャーの一方が塩酸塩として得られた
。
融点１８６〜１８８℃（分解）
ｎｍｒスペクトル（ＣＤ、ＯＤ）δ：
１．３０ 二重線（６Ｉ（、Ｊ ＝６Ｈｚ ）１．５７
二重線（３Ｈ、Ｊ ＝６ Ｈｚ ）３．３７−重線（
３Ｈ） ３．７〇 −重線（２Ｈ） ４．４０−重線（２Ｈ） ５．１３ 、５．３０ 四重量（２Ｈ、ｄ、ｄ 、 Ｊ
＝５Ｈｚ ）６．９３ 四重線（！ Ｈ、Ｊ＝６Ｈｚ
）この塩酸塩を炉去した炉液を分液し、酢酸エチル層を
とり、５％炭酸水素ナトリウム水、ついで水で洗浄し、
ｐ−）ルエンスルホン酸２．５Ｉを加えてとかし、一度
減圧濃縮乾固し、酢酸エチルを加えて放置すると結晶が
析出する。これを炉集、酢酸エチルで洗浄後乾燥すると
、３．７１の標記化合物の他方のエピマーのｐ−）ルエ
ンスルホン酸塩が得られた。
二重線（３Ｈ、Ｊ ＝６ Ｈｚ ）３．３７−重線（
３Ｈ） ３．７〇 −重線（２Ｈ） ４．４０−重線（２Ｈ） ５．１３ 、５．３０ 四重量（２Ｈ、ｄ、ｄ 、 Ｊ
＝５Ｈｚ ）６．９３ 四重線（！ Ｈ、Ｊ＝６Ｈｚ
）この塩酸塩を炉去した炉液を分液し、酢酸エチル層を
とり、５％炭酸水素ナトリウム水、ついで水で洗浄し、
ｐ−）ルエンスルホン酸２．５Ｉを加えてとかし、一度
減圧濃縮乾固し、酢酸エチルを加えて放置すると結晶が
析出する。これを炉集、酢酸エチルで洗浄後乾燥すると
、３．７１の標記化合物の他方のエピマーのｐ−）ルエ
ンスルホン酸塩が得られた。
融点１８２〜１８３．５℃（分解）
ｎｍｒスペクトル（ＣＤ、ＯＤ）δ：
１．２７ 二重線（６Ｈ、Ｊ ＝６Ｈｚ ）１．５３
二重Ｍ（３Ｈ、Ｊ ＝６ Ｈｚ ）２．３７−重線（３
Ｈ） ３．３７−重線（３Ｈ） ３．６７−重線（２Ｈ） ４．３３−重線（２Ｈ） ５．１３ 、５．２７ 四重線（２Ｈ、ｄ、ｄ 、 Ｊ
＝５Ｈｚ ）６．８７ 四１線（ＩＩ（、Ｊ ＝６Ｈｚ
）７．２３ 、７．７３ 四重線（４ＨＩＡ２Ｂ２．
Ｊ＝９Ｈｚ）実施例 ２ ７β−アミノ−３−メトキシフチルー３−セフェム−４
−カルボン酸５．Ｑｙ−をＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド５ｏ−に懸濁し、氷水浴中５℃以下に冷却し、攪拌し
なからｔｅｒｔ−オクチルアミン４．３−を加えて溶解
せしめ、１−ヨードエチルイソプロビルヵーポネー）７
．４Ｆを加え２時間攪拌を続ける。ついで酢酸エテル１
００−を加え、実施例１の如く処理すると、例１の標記
化合物６．０１が得られ、例１の如く同様に操作すると
、塩酸塩２．１？及びｐ−トルエンスルホン酸塩３．０
ｇ−が得られた。
二重Ｍ（３Ｈ、Ｊ ＝６ Ｈｚ ）２．３７−重線（３
Ｈ） ３．３７−重線（３Ｈ） ３．６７−重線（２Ｈ） ４．３３−重線（２Ｈ） ５．１３ 、５．２７ 四重線（２Ｈ、ｄ、ｄ 、 Ｊ
＝５Ｈｚ ）６．８７ 四１線（ＩＩ（、Ｊ ＝６Ｈｚ
）７．２３ 、７．７３ 四重線（４ＨＩＡ２Ｂ２．
Ｊ＝９Ｈｚ）実施例 ２ ７β−アミノ−３−メトキシフチルー３−セフェム−４
−カルボン酸５．Ｑｙ−をＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド５ｏ−に懸濁し、氷水浴中５℃以下に冷却し、攪拌し
なからｔｅｒｔ−オクチルアミン４．３−を加えて溶解
せしめ、１−ヨードエチルイソプロビルヵーポネー）７
．４Ｆを加え２時間攪拌を続ける。ついで酢酸エテル１
００−を加え、実施例１の如く処理すると、例１の標記
化合物６．０１が得られ、例１の如く同様に操作すると
、塩酸塩２．１？及びｐ−トルエンスルホン酸塩３．０
ｇ−が得られた。
実施例 ３
７β−アミノ−３−メトキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸２．４４ｆをツメチルアセトアミド２５ゴ
に水冷下懸濁し、ジイソプロピルアミン１．ＩＰを加え
てとかし、ベンツアルデヒド１．２ ｔｄを加え３０分
攪拌後ヒバロイルオキシメチルアイオダイド３．１５
Ｐを加え、３℃で１時間３０分攪拌する。ついでジラー
ドＴ試薬３．４Ｆをメタノール５０ｆＩｔｔにとかした
溶液を加え、１時間攪拌する。メタノールを減圧留去し
残留物に酢酸エチル６０−を加え、・１８％食塩水３０
７！で二回洗浄後減圧濃縮し、残留物をベンゼン：酢酸
エチル（１：１）） ｎｍｒスペクトル（ＣＤＣＡ３）δ： １．２３−重線（９Ｈ） ３．３０−重線（３■） ３．４８−重線（２■） ４．２３−ｇ＠（２Ｈ） ４．６３ 、４．８７ 四重線（２Ｈ、ｄ、ｄ 、 Ｊ
＝５Ｈｚ ）５．８０−重線（２Ｈ） 実施例 ４ 実施例３のピパロイルオキシメチルアイオダイド３．１
５ｆの代シにヨードメチルイングロビルカーがネー）３
．２ｉを用い、同様に反応せしマド溶媒、ベンゼン：酢
酸エチル １：１）ｎｍｒスペクトル（ＣＤＣＡ、）δ
： １．３０ 二重線（２Ｈ、Ｊ＝６ Ｈｚ ）３．３１−
重線（３Ｈ） ３．５１−重線（２Ｈ） ４．７１，４．９８ ＶｆＡＸ線（２Ｈ、ｄ、ｄ 、
Ｊ＝５Ｈｚ ）５．８３−重線（２Ｋ） 実施例 ５ 実施例３のピパロイルオキシメチルアイオダイドの代フ
にヨードメチルエチルカーがネートｎｍｒスペクト＃
（ＣＤＣＡ３）δ：１．３２三重線（３Ｈ、Ｊ＝７Ｈｚ
）３．２６−重線（３Ｈ） ３．５０−重線（３■） ４．１６ 四重線（２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）４．６７ 、４
．８５ 四重線（２Ｈ、ｄ、ｄ 、 Ｊ＝５Ｈｚ ）５
．８０−重線（２Ｈ） 特許出願人 三共株式会社 代理人 弁理士 樫出庄治
−カルボン酸２．４４ｆをツメチルアセトアミド２５ゴ
に水冷下懸濁し、ジイソプロピルアミン１．ＩＰを加え
てとかし、ベンツアルデヒド１．２ ｔｄを加え３０分
攪拌後ヒバロイルオキシメチルアイオダイド３．１５
Ｐを加え、３℃で１時間３０分攪拌する。ついでジラー
ドＴ試薬３．４Ｆをメタノール５０ｆＩｔｔにとかした
溶液を加え、１時間攪拌する。メタノールを減圧留去し
残留物に酢酸エチル６０−を加え、・１８％食塩水３０
７！で二回洗浄後減圧濃縮し、残留物をベンゼン：酢酸
エチル（１：１）） ｎｍｒスペクトル（ＣＤＣＡ３）δ： １．２３−重線（９Ｈ） ３．３０−重線（３■） ３．４８−重線（２■） ４．２３−ｇ＠（２Ｈ） ４．６３ 、４．８７ 四重線（２Ｈ、ｄ、ｄ 、 Ｊ
＝５Ｈｚ ）５．８０−重線（２Ｈ） 実施例 ４ 実施例３のピパロイルオキシメチルアイオダイド３．１
５ｆの代シにヨードメチルイングロビルカーがネー）３
．２ｉを用い、同様に反応せしマド溶媒、ベンゼン：酢
酸エチル １：１）ｎｍｒスペクトル（ＣＤＣＡ、）δ
： １．３０ 二重線（２Ｈ、Ｊ＝６ Ｈｚ ）３．３１−
重線（３Ｈ） ３．５１−重線（２Ｈ） ４．７１，４．９８ ＶｆＡＸ線（２Ｈ、ｄ、ｄ 、
Ｊ＝５Ｈｚ ）５．８３−重線（２Ｋ） 実施例 ５ 実施例３のピパロイルオキシメチルアイオダイドの代フ
にヨードメチルエチルカーがネートｎｍｒスペクト＃
（ＣＤＣＡ３）δ：１．３２三重線（３Ｈ、Ｊ＝７Ｈｚ
）３．２６−重線（３Ｈ） ３．５０−重線（３■） ４．１６ 四重線（２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）４．６７ 、４
．８５ 四重線（２Ｈ、ｄ、ｄ 、 Ｊ＝５Ｈｚ ）５
．８０−重線（２Ｈ） 特許出願人 三共株式会社 代理人 弁理士 樫出庄治
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 （式中、Ａはアミン基または置換基を有するか有しない
ベンジリデンイミノ基を示す。）を有する化合物に塩基
の存在下、 一般式 （式中、Ｒ１は水素原子または低級アルキル基を示し
Ｂ２は低級アルキル基または低級アルコキシ基を示し、
Ｘはハロダン原子を示す＠）を有する化合物を反応せし
め、Ａがベンジリデンイミノ基の場合には、ベンジリデ
ン基を脱離することを特徴とする 一般式 （式中 Ｒ１およびＲ２は前述したものと同意義を示す
。） を有するセファロスポリン誘導体及びその酸付加塩の製
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58111537A JPS604190A (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | セフアロスポリン誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58111537A JPS604190A (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | セフアロスポリン誘導体の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS604190A true JPS604190A (ja) | 1985-01-10 |
Family
ID=14563866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58111537A Pending JPS604190A (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | セフアロスポリン誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS604190A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5410042A (en) * | 1992-05-21 | 1995-04-25 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process for the cleavage of cephalosporin prodrug esters to 7-amino-3-methoxymethylceph-3-em-4-carboxylic acid |
| US5461043A (en) * | 1991-09-07 | 1995-10-24 | Hoechst Aktiengesellschaft | Diastereomers of 1-(isopropoxycarbonyloxy)ethyl 3-cephem-4-carboxylate |
| LT3870B (en) | 1993-11-30 | 1996-04-25 | Hoechst Ag | Diastereomers of 3-cefem-4-carboxylic acid 1-(isopropoxy-carbonyloxy)ethyl ester, process for preparingthereof, antibacteric preparations based on same and process for preparation thereof |
| US5589594A (en) * | 1992-02-14 | 1996-12-31 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process for the preparation of cephem prodrug esters |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49132097A (ja) * | 1972-10-05 | 1974-12-18 | ||
| JPS57169489A (en) * | 1981-04-13 | 1982-10-19 | Sankyo Co Ltd | Cephalosporin derivative and its preparation |
-
1983
- 1983-06-21 JP JP58111537A patent/JPS604190A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49132097A (ja) * | 1972-10-05 | 1974-12-18 | ||
| JPS57169489A (en) * | 1981-04-13 | 1982-10-19 | Sankyo Co Ltd | Cephalosporin derivative and its preparation |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5461043A (en) * | 1991-09-07 | 1995-10-24 | Hoechst Aktiengesellschaft | Diastereomers of 1-(isopropoxycarbonyloxy)ethyl 3-cephem-4-carboxylate |
| US5550232A (en) * | 1991-09-07 | 1996-08-27 | Hoechst Aktiengesellschaft | Diastereomers of 1-(isopropoxycarbonyloxy) ethyl 3-cephem 4-carboxylate |
| US5614623A (en) * | 1991-09-07 | 1997-03-25 | Hoechst Aktiengesellschaft | Diastereomers of 1-(isopropoxycarbonyloxy)ethyl 3-cephem-4-carboxylate and processes for their preparation |
| US5589594A (en) * | 1992-02-14 | 1996-12-31 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process for the preparation of cephem prodrug esters |
| US5637721A (en) * | 1992-02-14 | 1997-06-10 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process for the preparation of cephem prodrug esters |
| US5410042A (en) * | 1992-05-21 | 1995-04-25 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process for the cleavage of cephalosporin prodrug esters to 7-amino-3-methoxymethylceph-3-em-4-carboxylic acid |
| LT3870B (en) | 1993-11-30 | 1996-04-25 | Hoechst Ag | Diastereomers of 3-cefem-4-carboxylic acid 1-(isopropoxy-carbonyloxy)ethyl ester, process for preparingthereof, antibacteric preparations based on same and process for preparation thereof |
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