JPS6041526Y2 - 導波路インターフエイス - Google Patents
導波路インターフエイスInfo
- Publication number
- JPS6041526Y2 JPS6041526Y2 JP1981076473U JP7647381U JPS6041526Y2 JP S6041526 Y2 JPS6041526 Y2 JP S6041526Y2 JP 1981076473 U JP1981076473 U JP 1981076473U JP 7647381 U JP7647381 U JP 7647381U JP S6041526 Y2 JPS6041526 Y2 JP S6041526Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waveguide
- optical fiber
- optical
- common substrate
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は光伝送要素に関し、特に外部光回路との接続用
の複数本の光ファイバ(光フアイバアレイ)と、導波路
基体の表面に作られた複数本の3次元導波路(導波路ア
レイ)とを結合する導波路インターフェイスに係わるも
のである。
の複数本の光ファイバ(光フアイバアレイ)と、導波路
基体の表面に作られた複数本の3次元導波路(導波路ア
レイ)とを結合する導波路インターフェイスに係わるも
のである。
近年、光伝送要素として上記のような導波路インターフ
ェイスが注目されている。
ェイスが注目されている。
このような導波路インターフェイスにおいては、光フア
イバアレイと導波路アレイとの結合がその命運を左右す
る決定的な問題である。
イバアレイと導波路アレイとの結合がその命運を左右す
る決定的な問題である。
しかるに光ファイバ及び導波路の断面形状はμmオーダ
の微細な寸法であり、光フアイバアレイと導波路アレイ
との結合は困難を極める。
の微細な寸法であり、光フアイバアレイと導波路アレイ
との結合は困難を極める。
従来行われている結合方法は一般に光フアイバアレイを
基板上に精密に配列した後、光フアイバアレイと導波路
アレイとを端面どうし突き合わせ、接着によって結合保
持するものである。
基板上に精密に配列した後、光フアイバアレイと導波路
アレイとを端面どうし突き合わせ、接着によって結合保
持するものである。
しかしこの方法では、光フアイバアレイの精密配列、光
フアイバアレイと導波路アレイとの位置合せが非常に難
しく、高い光結合効率の実現が困難であるばかりか多大
な製作時間(組立時間)要するので生産性及びコストの
点で問題があった。
フアイバアレイと導波路アレイとの位置合せが非常に難
しく、高い光結合効率の実現が困難であるばかりか多大
な製作時間(組立時間)要するので生産性及びコストの
点で問題があった。
従って本考案の目的は上記のような問題を解決すること
、すなわち光フアイバアレイと導波路アレイとの正確な
結合を容易に可能となし、これによって高光結合効率な
らびに高生産性、低コストを実現し得るような構造の導
波路インターフェイスを提供することにある。
、すなわち光フアイバアレイと導波路アレイとの正確な
結合を容易に可能となし、これによって高光結合効率な
らびに高生産性、低コストを実現し得るような構造の導
波路インターフェイスを提供することにある。
本考案による導波路インターフェイスは、概略的には、
光ファイバは共通基板の表面に導波路と対応して形成さ
れた溝に嵌合して配列され、また前記導波路基体表面及
び前記共通基板表面には相互に嵌合可能な位置合せ用の
突起及び溝がそれぞれ形成され、導波路基体が共通基板
上に各々の表面が互に向き合い且つ前記位置決め用の突
起及び溝が嵌した状態で設置されるように構成されたも
のである。
光ファイバは共通基板の表面に導波路と対応して形成さ
れた溝に嵌合して配列され、また前記導波路基体表面及
び前記共通基板表面には相互に嵌合可能な位置合せ用の
突起及び溝がそれぞれ形成され、導波路基体が共通基板
上に各々の表面が互に向き合い且つ前記位置決め用の突
起及び溝が嵌した状態で設置されるように構成されたも
のである。
以下、本考案について実施例に基づき図面を参照して詳
細に説明する。
細に説明する。
第1図は本号による導波路インターフェイスの一実施例
を分解状態で示す斜視図である。
を分解状態で示す斜視図である。
この導波路インターフェイスは基本的には、外部光回路
(図示せず)との接続のための複数本の光ファイバ1(
図には1a、1bの2本のみ示す)と、導波路基体2と
、共通基板3とから構成されている。
(図示せず)との接続のための複数本の光ファイバ1(
図には1a、1bの2本のみ示す)と、導波路基体2と
、共通基板3とから構成されている。
尚、第1図において光ファイバ1は明示のため他の要素
より拡大して示してあり、また導波路基体2は同じく明
示のため導波路が作られた表面(下面)側からの斜視図
で示しである。
より拡大して示してあり、また導波路基体2は同じく明
示のため導波路が作られた表面(下面)側からの斜視図
で示しである。
導波路基体2は例えばニオブ酸リチウム(LiNbO3
)、ガリウム砒素(GaAs)等の結晶体から戒り、そ
の表面(図では下面)には複数本の導波路4(図には2
本の導波路4a、4bを点線で示しである)が作られて
いる。
)、ガリウム砒素(GaAs)等の結晶体から戒り、そ
の表面(図では下面)には複数本の導波路4(図には2
本の導波路4a、4bを点線で示しである)が作られて
いる。
導波路4は導波路基体2に例えばクローム(Cr)をド
ーピングすることによって作られ、光ファイバと同様に
光を閉じ込めて伝送する機能を有する。
ーピングすることによって作られ、光ファイバと同様に
光を閉じ込めて伝送する機能を有する。
共通基板3は後述するように光ファイバ1及び導波路基
体2とを結合保持するための部材であり、例えばシリコ
ン、石英、ガラスなどから作られる。
体2とを結合保持するための部材であり、例えばシリコ
ン、石英、ガラスなどから作られる。
共通基板3の表面(図で上面)には2本の溝5 (a、
b)を導波路4と対応させて形威しである。
b)を導波路4と対応させて形威しである。
これらの溝5は後述するように光ファイバ1を嵌合させ
て位置合せするためのものであり、以下ではこれを1光
フアイバ溝ヨと称する。
て位置合せするためのものであり、以下ではこれを1光
フアイバ溝ヨと称する。
共通基板3の表面にはまた、光フアイバ溝5をはさんで
両側に2本のfR6(at b)が形威されている。
両側に2本のfR6(at b)が形威されている。
一方、導波路基体2の表面には溝6と対応する2条の突
起? (at b)が形威されている。
起? (at b)が形威されている。
こ、れらの溝6及び突起7は、後述するように相互に嵌
合して導波路基体2を共通基板3に対し位置合せするた
めのものである。
合して導波路基体2を共通基板3に対し位置合せするた
めのものである。
以上の光フアイバ溝5ならびに位置合せ用の溝6及び突
起7はフォトリソグラフィ技術などを利用して精密且つ
容易に形成可能であり、これにより後述するように光フ
ァイバ1及び導波路基体2の正確な位置決めが可能とな
る。
起7はフォトリソグラフィ技術などを利用して精密且つ
容易に形成可能であり、これにより後述するように光フ
ァイバ1及び導波路基体2の正確な位置決めが可能とな
る。
尚、第1図では溝5,6及び突起7が四角断面形状であ
るが、■字型等の適当な任意形状となし得る。
るが、■字型等の適当な任意形状となし得る。
更に、光ファイバ1の結合側端面は光軸に対し適当な角
度(図示例では約45°)で斜めに研磨してあり、これ
に合わせて導波路4の端面も斜めに研磨しである。
度(図示例では約45°)で斜めに研磨してあり、これ
に合わせて導波路4の端面も斜めに研磨しである。
さて、第2図は第1図に示した導波路インターフェイス
の組立状態での要部断面図である。
の組立状態での要部断面図である。
この図から明らかなように、光ファイバ1 (第2図
では光ファイバ1aのみ示す)は共通基板3の光フアイ
バ溝5に嵌合するように配列される。
では光ファイバ1aのみ示す)は共通基板3の光フアイ
バ溝5に嵌合するように配列される。
これにより光ファイバ1は共通基板3上に正確に位置決
めされることになる。
めされることになる。
尚、光ファイバ1は傾斜端面が下方に向くように配置さ
れ、例えば光ファイバ1aの外部光回路との接続端(図
では左側)より入射した光8はその傾斜端面で反射して
上方へ出射する。
れ、例えば光ファイバ1aの外部光回路との接続端(図
では左側)より入射した光8はその傾斜端面で反射して
上方へ出射する。
一方、導波路基体2は共通基板3上に、それらの表面が
互に向き合い且つ位置決め用の溝6と突起7とが嵌合し
た状態で設置される。
互に向き合い且つ位置決め用の溝6と突起7とが嵌合し
た状態で設置される。
これにより導波路基体2は共通基板3に対し高精度で位
置決めされ、結果的に導波路4は光ファイバ1に正確に
結合させられることになる。
置決めされ、結果的に導波路4は光ファイバ1に正確に
結合させられることになる。
光ファイバ1と導波路4とは図示の如く端部が上下に重
なり合った状態で結合され、光ファイバ1aからの出射
光は導波路4の傾斜端面に反射されて他端へ伝送される
。
なり合った状態で結合され、光ファイバ1aからの出射
光は導波路4の傾斜端面に反射されて他端へ伝送される
。
そして導波路4の他端及びこれを結合する光ファイバ1
bの傾斜端面でそれぞれ反射し、光ファイバの他端から
出射される。
bの傾斜端面でそれぞれ反射し、光ファイバの他端から
出射される。
以上のように、光ファイバ1が光フアイバ溝5によって
共通基板3に正確に位置決めされ、且つ導波路4が位置
決め用の溝6及び突起7によって共通基板3に正確に位
置決めされるので、結果的に光ファイバ1と導波路4と
の正確な結合が非常に容易に得られ、従って高光結合効
率が実現されると共に、大量生産による高生産性及び低
コストが図れる。
共通基板3に正確に位置決めされ、且つ導波路4が位置
決め用の溝6及び突起7によって共通基板3に正確に位
置決めされるので、結果的に光ファイバ1と導波路4と
の正確な結合が非常に容易に得られ、従って高光結合効
率が実現されると共に、大量生産による高生産性及び低
コストが図れる。
尚、第1図及び第2図に示した実施例では、前述したよ
うに光ファイバ1及び導波路4の結合側端面を光軸に対
し斜めに研磨し、両者の端部を上下に重ねた状態で結合
するようにしであるが、これ以外の結合方式も可能であ
る。
うに光ファイバ1及び導波路4の結合側端面を光軸に対
し斜めに研磨し、両者の端部を上下に重ねた状態で結合
するようにしであるが、これ以外の結合方式も可能であ
る。
その一例を第3図に第2図と対応させて示しである。
この例は光ファイバ11及び導波路基体12の導波路1
4の結合側端面をいずれも光軸に対し直角に研磨し、両
端面を突き合わせて結合するものである。
4の結合側端面をいずれも光軸に対し直角に研磨し、両
端面を突き合わせて結合するものである。
そのために、共通基板13の光フアイバ溝15は光ファ
イバ11の直径に比べて浅く形威し、光ファイバ11の
底部のみが溝15に嵌合するようにして、光ファイバ1
1と導波路14の光軸が上下方向においてほぼ一致する
ようにしである。
イバ11の直径に比べて浅く形威し、光ファイバ11の
底部のみが溝15に嵌合するようにして、光ファイバ1
1と導波路14の光軸が上下方向においてほぼ一致する
ようにしである。
従って光18の光路はほぼ直線状となる。
尚、この例の結合方式は、光フアイバ径と導波路径がほ
ぼ等しい場合は適用が難しいが、光フアイバ径が導波路
径より大きいときは適用が容易である。
ぼ等しい場合は適用が難しいが、光フアイバ径が導波路
径より大きいときは適用が容易である。
以上の如く本考案は高光結合効□率が得られ且つ高生産
性及び低コストを図り得るすぐれた導波路インターフェ
イスを実現するものであり、光伝送技術の発展に大いに
寄与するものである。
性及び低コストを図り得るすぐれた導波路インターフェ
イスを実現するものであり、光伝送技術の発展に大いに
寄与するものである。
第1図は本考案による導波路インターフェイスの一実施
例の分解斜視図、第2図は第1図に示す実施例の組立状
態における要部断面図、第3図は本考案の他の実施例の
要部断面図である。 1(at b)t 1111a*ells光フアイバ
、2,12・・・・・・導波路基体、3,13・・・・
・・共通基板、4(at b)t 14””導波路、
5 (at b)、 15・・・・・・溝(光フアイ
バ溝)、6 (at b)・・・・・・溝、? (at
b)・・・・・・突起、8・・・・・・光。
例の分解斜視図、第2図は第1図に示す実施例の組立状
態における要部断面図、第3図は本考案の他の実施例の
要部断面図である。 1(at b)t 1111a*ells光フアイバ
、2,12・・・・・・導波路基体、3,13・・・・
・・共通基板、4(at b)t 14””導波路、
5 (at b)、 15・・・・・・溝(光フアイ
バ溝)、6 (at b)・・・・・・溝、? (at
b)・・・・・・突起、8・・・・・・光。
Claims (1)
- 外部光回路との接続用の複数本の光ファイバと、導波路
基体の表面に作られた複数本の3次元導波路とを結合す
る導波路インターフェイスにおいて、光ファイバは共通
基板の表面に導波路と対応して形成された溝に嵌合して
配列され、また前記導波路基体表面及び前記共通基板表
面には相互に嵌合可能な位置合せ用の突起及び溝がそれ
ぞれ形成され、導波路基体が共通基板上に各々の表面が
互に向き合い且つ前記位置決め用の突起及び溝が嵌合し
た状態で設置されるように構成されたことを特徴とする
導波路インターフェイス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1981076473U JPS6041526Y2 (ja) | 1981-05-28 | 1981-05-28 | 導波路インターフエイス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1981076473U JPS6041526Y2 (ja) | 1981-05-28 | 1981-05-28 | 導波路インターフエイス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57190516U JPS57190516U (ja) | 1982-12-03 |
JPS6041526Y2 true JPS6041526Y2 (ja) | 1985-12-18 |
Family
ID=29872159
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1981076473U Expired JPS6041526Y2 (ja) | 1981-05-28 | 1981-05-28 | 導波路インターフエイス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6041526Y2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59121008A (ja) * | 1982-12-27 | 1984-07-12 | Tokyo Inst Of Technol | 三次元光集積回路 |
JPH059685Y2 (ja) * | 1985-08-20 | 1993-03-10 | ||
US7656922B2 (en) * | 2004-04-15 | 2010-02-02 | Binoptics Corporation | Multi-level integrated photonic devices |
-
1981
- 1981-05-28 JP JP1981076473U patent/JPS6041526Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57190516U (ja) | 1982-12-03 |
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