JPS6032175B2 - 版木及びレリ−フ版木を製造するために改良された光重合可能な物質 - Google Patents
版木及びレリ−フ版木を製造するために改良された光重合可能な物質Info
- Publication number
- JPS6032175B2 JPS6032175B2 JP53057226A JP5722678A JPS6032175B2 JP S6032175 B2 JPS6032175 B2 JP S6032175B2 JP 53057226 A JP53057226 A JP 53057226A JP 5722678 A JP5722678 A JP 5722678A JP S6032175 B2 JPS6032175 B2 JP S6032175B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- woodblocks
- relief
- weight
- substances
- max
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は主として少くとも1つのオレフィン系不飽和の
光重合可能な二重結合を有する少くとも1つの低分子化
合物とこれと融和性の有機ポリマー結合剤との混合物よ
り成り、有利な露光間隙に於て改良された像再生のため
に、特にレリーフ版木製造の際の中間深部の改良された
構成のために、一定の有機化合物の添加物を少量にて含
有する版木及びし−リーフ版木を製造するための改良さ
れた光重合可能な物質に係る。
光重合可能な二重結合を有する少くとも1つの低分子化
合物とこれと融和性の有機ポリマー結合剤との混合物よ
り成り、有利な露光間隙に於て改良された像再生のため
に、特にレリーフ版木製造の際の中間深部の改良された
構成のために、一定の有機化合物の添加物を少量にて含
有する版木及びし−リーフ版木を製造するための改良さ
れた光重合可能な物質に係る。
版木及びレリーフ版木を製造するための光重合可能な物
質は屡々記載されており、この場合液状物質のみならず
、固状物質も使用されることができる。
質は屡々記載されており、この場合液状物質のみならず
、固状物質も使用されることができる。
即ち例えば仏国特許明細書第1520856号は、光重
合開始剤及び熱重合に対する抑制剤を含有し、且つ樹脂
物質の層の臭像的露光及びこれに続く露光されない層部
分の現像剤溶剤に依る洗除に依りレリーフ版木を製造す
るために役立つポリアミドと融和性オレフィン系不飽和
モノマーとの混合物をベースとする固状樹脂物質を記載
している。例えば斯かる公知の樹脂物質にて、印刷工業
に於て普通の約0.5乃至1柳のレリーフ厚さにてレリ
ーフ版木を製造する時は、これ等レリーフ版木は貝像的
露光に際してのUV光線の比較的高い分散のために、大
抵所望のシャープなしリーフ精密構造を示すことなく、
且つ屡々小さすぎるレリーフ側面角を示す。光重合体板
を像担持ネガに依り露光する場合或る人工タッチを使用
し、多層光重合体層にて操作し、又は本釆の光重合体層
の下にレリーフ版木の構成に影響を及ぼす他の層を配置
するか、又は吸収性染料を光重合体層中に添加する時は
、改良されたレリーフ版木が得られ得ることが公知であ
る。
合開始剤及び熱重合に対する抑制剤を含有し、且つ樹脂
物質の層の臭像的露光及びこれに続く露光されない層部
分の現像剤溶剤に依る洗除に依りレリーフ版木を製造す
るために役立つポリアミドと融和性オレフィン系不飽和
モノマーとの混合物をベースとする固状樹脂物質を記載
している。例えば斯かる公知の樹脂物質にて、印刷工業
に於て普通の約0.5乃至1柳のレリーフ厚さにてレリ
ーフ版木を製造する時は、これ等レリーフ版木は貝像的
露光に際してのUV光線の比較的高い分散のために、大
抵所望のシャープなしリーフ精密構造を示すことなく、
且つ屡々小さすぎるレリーフ側面角を示す。光重合体板
を像担持ネガに依り露光する場合或る人工タッチを使用
し、多層光重合体層にて操作し、又は本釆の光重合体層
の下にレリーフ版木の構成に影響を及ぼす他の層を配置
するか、又は吸収性染料を光重合体層中に添加する時は
、改良されたレリーフ版木が得られ得ることが公知であ
る。
然し乍らこれ等方法は煩雑であるか、又は光重合体層の
感光度を全く不利に害する。本発明の目的とする所は、
光重合可能な物質に対する少量の化学的添加物に依り、
これよりの公知のレリーフ版木の製造に際し、精密不透
明の像要素の中心影像に於ける望ましからぬ重合を減少
することに依り、同時に与えられた有利な露光間隔に於
て、且つ相当する物質の感光度を殆んど害することない
こ、レリーフ構造の改良を達成しようとするに在る。
感光度を全く不利に害する。本発明の目的とする所は、
光重合可能な物質に対する少量の化学的添加物に依り、
これよりの公知のレリーフ版木の製造に際し、精密不透
明の像要素の中心影像に於ける望ましからぬ重合を減少
することに依り、同時に与えられた有利な露光間隔に於
て、且つ相当する物質の感光度を殆んど害することない
こ、レリーフ構造の改良を達成しようとするに在る。
然るに驚くべきことには、光重合可能な物質が均質な分
布に於て全物質に関し約0.001乃至0.1殊に0.
01乃0.05重量%の量にて式、 (式中Rは炭素原子1乃至12個を有するアルキル残基
、場合に依りエーテル化又はェステル化されたヒドロキ
シ基又はアルコキシカルポニル基を置換基として有する
C,−C8−ァルキル残基又は場合に依り置換された殊
にアルキル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル又はアル
コキシアルキル基を有するフェニル残基を示す)のエー
テル化されたチオアントラキノンを含有する時は、光重
合開始剤を含有する少なくとも1つのオレフィン系不飽
和の光重合可能な二重結合を有する少くとも1つの低分
子化合物と少くとも1つのこれと融和性の有機ポリマー
結合剤との混合物をベースとする版木及びしIJーフ版
木を製造するための光重合可能な物質が明らかに改良さ
れたレリーフ構造を生ずることが知られた。
布に於て全物質に関し約0.001乃至0.1殊に0.
01乃0.05重量%の量にて式、 (式中Rは炭素原子1乃至12個を有するアルキル残基
、場合に依りエーテル化又はェステル化されたヒドロキ
シ基又はアルコキシカルポニル基を置換基として有する
C,−C8−ァルキル残基又は場合に依り置換された殊
にアルキル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル又はアル
コキシアルキル基を有するフェニル残基を示す)のエー
テル化されたチオアントラキノンを含有する時は、光重
合開始剤を含有する少なくとも1つのオレフィン系不飽
和の光重合可能な二重結合を有する少くとも1つの低分
子化合物と少くとも1つのこれと融和性の有機ポリマー
結合剤との混合物をベースとする版木及びしIJーフ版
木を製造するための光重合可能な物質が明らかに改良さ
れたレリーフ構造を生ずることが知られた。
適当なエーテル化されたチオアントラキノンは特に2−
チオアントラキノンのエーテルである。
チオアントラキノンのエーテルである。
C,一C4ーヒドロキシアルキルエーテル並びにその殊
に硫黄原子に結合された炭素原子に於て存在していては
ならないヒドロキシ基が炭素原子1乃至8個を有するア
ルコールにてエーテル化された(従ってヒドロキシ基は
例えばC,一C8ーアルコキシ又はアルコキシアルキル
基に依り置換された)又はヒドロキシ基が炭素原子1乃
至8個を有するカルボン酸殊にモノカルボン酸にてェス
テル化された誘導体が極めて適する。アルキル残基中に
炭素原子1乃至8個を有する少くとも1つのアルコキシ
カルボニル置換基例えばェトキシカルボニル又はメトキ
シカルボニル残基を有するチオアントラキノンのC,一
C8ーアルキルェーテルも極めて適する。更にチオアン
トラキノンのフェニルェーテル並びにフェニル残基中に
C,一C4ーアルキル、C,一C4ーアルコキシ、C,
一C4ーヒドロキシアルキル又はC2−C6−アルコキ
シアルキル置換基を有するフェニルェーテルも極めて適
する。本発明に依る適当な添加物の例としては、Rが下
記のものを示す式1の2ーチオアントラキノンのエーテ
ルが挙げられる:肌{日2」日2− CH30CH2−CH2 肘℃日2」日2「〔[CH2CH2 CH30CH2−CH2 〔 CH2−CH2−−アル
キルチオーアントラキノンとしてはアルキル残基中に炭
素原子1乃至8個殊に3乃至8個を有するものが特に適
する。
に硫黄原子に結合された炭素原子に於て存在していては
ならないヒドロキシ基が炭素原子1乃至8個を有するア
ルコールにてエーテル化された(従ってヒドロキシ基は
例えばC,一C8ーアルコキシ又はアルコキシアルキル
基に依り置換された)又はヒドロキシ基が炭素原子1乃
至8個を有するカルボン酸殊にモノカルボン酸にてェス
テル化された誘導体が極めて適する。アルキル残基中に
炭素原子1乃至8個を有する少くとも1つのアルコキシ
カルボニル置換基例えばェトキシカルボニル又はメトキ
シカルボニル残基を有するチオアントラキノンのC,一
C8ーアルキルェーテルも極めて適する。更にチオアン
トラキノンのフェニルェーテル並びにフェニル残基中に
C,一C4ーアルキル、C,一C4ーアルコキシ、C,
一C4ーヒドロキシアルキル又はC2−C6−アルコキ
シアルキル置換基を有するフェニルェーテルも極めて適
する。本発明に依る適当な添加物の例としては、Rが下
記のものを示す式1の2ーチオアントラキノンのエーテ
ルが挙げられる:肌{日2」日2− CH30CH2−CH2 肘℃日2」日2「〔[CH2CH2 CH30CH2−CH2 〔 CH2−CH2−−アル
キルチオーアントラキノンとしてはアルキル残基中に炭
素原子1乃至8個殊に3乃至8個を有するものが特に適
する。
式(1)のエーテル化されたチオーアントラキノンの中
プロピル、nープチル及びィソブチルーチオーアントラ
キノンが有利であって、殊に式(〇)の2ーブチルチオ
ー2ーアントラキノンが有利である。
プロピル、nープチル及びィソブチルーチオーアントラ
キノンが有利であって、殊に式(〇)の2ーブチルチオ
ー2ーアントラキノンが有利である。
多くの場合には前記のエーテル化されたチオーアントラ
キノンを単独にてのみならず、相乗作用物質例えば米国
特許明細書第3759807号中に記載されている有機
アミン又はQーケトカルボン酸又はそのェステルと共に
全物質に関し0.01乃至1重量%の量に於て使用する
のが有利であることが判明した。第3級アミンが極めて
適し、その中モルフオリンが挙げられ、且つ殊にヒドロ
キシル基を含有する脂肪族第3級アミン例えばジメチル
ェタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、特にメチルジェタノールアミンが適する。Q
ーケトカルボン酸及びそのェステルの中芳香族Qーケト
カルボン酸並びにそのアルキル残基中に炭素原子1乃至
18個を有するアルェステルが極めて適し、大抵前記ア
ミンよりもなお有効である。フェニルグリオキシル酸及
びそのアルキルェステルが有利であって、その中メチル
ェステルが特に挙げられる。これ等は物質に任意の量に
於て添加されることができ、この際多量の場合には軟化
剤としての或る作用が起る。一般に添加物は全物質に関
し0.05乃至1重量%である。物質に追加的に公3的
の重合抑制剤例えばニトロサミン、Nーニトロソヒドロ
キシルアミン誘導体、フェノール又はフェノールエーテ
ルを添加することが、そのために極少露光時間が殆んど
延長されない限り、又はこの延長を我慢できる限り、有
利であることが判明した。特に積極的な作用は有機Nー
ニトロソヒドロキシルアミンの塩例えば英国特許明細書
第1209232号中に記載されている式(m)[式中
Rは有機残基殊に炭素原子1乃至1針固を有する炭化水
素残基例えばアルキル残基又はシクロアルキル残基(例
えばメチル、ィソプロピル、フチル又はシクロオクチル
、メチロールシクロヘキシル)、ベンジル残基、フェニ
ル残基又はナフチル残基殊にシクロヘキシルを示し、X
は場合に依り置換されたアンモニウム又は殊に金属例え
ばナトリウム、マグネシウム、セリウム、アルミニウム
及び殊にカリウムを示し、nはXの原子価に相当する数
である]のNーニトロソヒドロキシルアミンー塩の共用
に依り示された。
キノンを単独にてのみならず、相乗作用物質例えば米国
特許明細書第3759807号中に記載されている有機
アミン又はQーケトカルボン酸又はそのェステルと共に
全物質に関し0.01乃至1重量%の量に於て使用する
のが有利であることが判明した。第3級アミンが極めて
適し、その中モルフオリンが挙げられ、且つ殊にヒドロ
キシル基を含有する脂肪族第3級アミン例えばジメチル
ェタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、特にメチルジェタノールアミンが適する。Q
ーケトカルボン酸及びそのェステルの中芳香族Qーケト
カルボン酸並びにそのアルキル残基中に炭素原子1乃至
18個を有するアルェステルが極めて適し、大抵前記ア
ミンよりもなお有効である。フェニルグリオキシル酸及
びそのアルキルェステルが有利であって、その中メチル
ェステルが特に挙げられる。これ等は物質に任意の量に
於て添加されることができ、この際多量の場合には軟化
剤としての或る作用が起る。一般に添加物は全物質に関
し0.05乃至1重量%である。物質に追加的に公3的
の重合抑制剤例えばニトロサミン、Nーニトロソヒドロ
キシルアミン誘導体、フェノール又はフェノールエーテ
ルを添加することが、そのために極少露光時間が殆んど
延長されない限り、又はこの延長を我慢できる限り、有
利であることが判明した。特に積極的な作用は有機Nー
ニトロソヒドロキシルアミンの塩例えば英国特許明細書
第1209232号中に記載されている式(m)[式中
Rは有機残基殊に炭素原子1乃至1針固を有する炭化水
素残基例えばアルキル残基又はシクロアルキル残基(例
えばメチル、ィソプロピル、フチル又はシクロオクチル
、メチロールシクロヘキシル)、ベンジル残基、フェニ
ル残基又はナフチル残基殊にシクロヘキシルを示し、X
は場合に依り置換されたアンモニウム又は殊に金属例え
ばナトリウム、マグネシウム、セリウム、アルミニウム
及び殊にカリウムを示し、nはXの原子価に相当する数
である]のNーニトロソヒドロキシルアミンー塩の共用
に依り示された。
式(m)の化合物の中、特にNーニトロソシクロヘキシ
ルーヒドロキシルアミンのナトリウム、アルミニウム及
び殊にカリウム塩が挙げられる。
ルーヒドロキシルアミンのナトリウム、アルミニウム及
び殊にカリウム塩が挙げられる。
式(m)の化合物は物質に関し0.02乃至2殊に0.
1乃至0.母重量%の量に於て有利に添加される。エー
テル化されたチオーアントラキノンとフエニルグリオキ
シル酸又はそのアルキルェステルとの組合せ使用及び式
(m)の化合物殊にN−ニトロソシクロヘキシルーヒド
ロキシルアミンの金属塩との組合せ使用は特に実証され
た。チオ化合物と式(m)のニトロソ化合物との組合せ
に際しては、光化学反応に依り光重合可能な物質の具像
的に露光された層の個所別ちUV照射が最も強く、従て
最も明るい個所に於て重合抑制剤が生成されることが判
明した。斯くして物質層の大なる露光間隙に於て極めて
良好な中間深部を有する特に有利なしリーフを達成する
ことができる。光重合可能な物質は公知のように前記混
合物に関し0.01乃至1の※こ0.01乃至3重量%
の量に於て光重合開始剤を含有し、且つ光重合開始剤と
しては、化学線を作用せしめる場合に重合を喚起する基
を形成し得る実際上総ての化合物が適する。
1乃至0.母重量%の量に於て有利に添加される。エー
テル化されたチオーアントラキノンとフエニルグリオキ
シル酸又はそのアルキルェステルとの組合せ使用及び式
(m)の化合物殊にN−ニトロソシクロヘキシルーヒド
ロキシルアミンの金属塩との組合せ使用は特に実証され
た。チオ化合物と式(m)のニトロソ化合物との組合せ
に際しては、光化学反応に依り光重合可能な物質の具像
的に露光された層の個所別ちUV照射が最も強く、従て
最も明るい個所に於て重合抑制剤が生成されることが判
明した。斯くして物質層の大なる露光間隙に於て極めて
良好な中間深部を有する特に有利なしリーフを達成する
ことができる。光重合可能な物質は公知のように前記混
合物に関し0.01乃至1の※こ0.01乃至3重量%
の量に於て光重合開始剤を含有し、且つ光重合開始剤と
しては、化学線を作用せしめる場合に重合を喚起する基
を形成し得る実際上総ての化合物が適する。
光重合開始剤としては例えばアシロィン及びアシロイン
ェーテル、芳香族ジケトン及びその誘導体、多環状キノ
ン、アシジン誘導体、フェナジン誘導体が挙げられる。
ペンゾィン及びQ−ヒドロキシメチルベンゾィン並びに
その炭素原子1乃至8個を有するアルキルェーテル例え
ばペンゾィンーィソプロピルエ−テル、Q−ヒドロキシ
メチル−ペンゾインメチルエーテル、ベンゾインテトラ
ヒド0ピラニルェーテル又はペンゾインメチルェーブル
、ベンジルモノケタール例えばペンジルーモノージメチ
ルケタール、ベンジルーモノーメチルーエチルーケター
ル、ベンジルーモノーメチルーペンジルケタール又はペ
ンジルーモノ−ネオベンチルケタールが極めて適する。
版木及びレリーフ版木を製造するための光重合可能な物
質用の有機ポリマー結合剤としては、このために使用さ
れる公知のポリマーが挙げられ、この場合これ等ポリマ
ーは共用されるモノマーと一般に融和性であり、且つ当
業者にとって自明なことであるが「光重合可能な物質の
層Lの露光されない又は絹状化されない部分をその臭像
的露光後洗除することを可能ならしめるために、現像剤
溶剤中に可溶性であるか又は分散可能でなければならな
い。
ェーテル、芳香族ジケトン及びその誘導体、多環状キノ
ン、アシジン誘導体、フェナジン誘導体が挙げられる。
ペンゾィン及びQ−ヒドロキシメチルベンゾィン並びに
その炭素原子1乃至8個を有するアルキルェーテル例え
ばペンゾィンーィソプロピルエ−テル、Q−ヒドロキシ
メチル−ペンゾインメチルエーテル、ベンゾインテトラ
ヒド0ピラニルェーテル又はペンゾインメチルェーブル
、ベンジルモノケタール例えばペンジルーモノージメチ
ルケタール、ベンジルーモノーメチルーエチルーケター
ル、ベンジルーモノーメチルーペンジルケタール又はペ
ンジルーモノ−ネオベンチルケタールが極めて適する。
版木及びレリーフ版木を製造するための光重合可能な物
質用の有機ポリマー結合剤としては、このために使用さ
れる公知のポリマーが挙げられ、この場合これ等ポリマ
ーは共用されるモノマーと一般に融和性であり、且つ当
業者にとって自明なことであるが「光重合可能な物質の
層Lの露光されない又は絹状化されない部分をその臭像
的露光後洗除することを可能ならしめるために、現像剤
溶剤中に可溶性であるか又は分散可能でなければならな
い。
適当なオレフィン系飽和又は不飽和のポリマー結合剤と
しては、仏国特許明細書第1520856号中に記載さ
れているような線状ポリアミド殊にアルコール溶性コポ
リアミド、繊維素誘導体殊に水−アルコールにて洗除可
能な繊維素誘導体、ビニルアルコールーポリマー及び炭
素原子1乃至4個を有する脂肪族モノカルボン酸のビニ
ルェステル例えばビニルアセタートの異なる鹸化度を有
するポリマー及びコポリマー、ピニルピロリドンーホモ
及びコポリマー、ポリウレタン、ボリェーテルウレタン
及びポリエステルウレタン、並びに前記独乙連邦共和国
特許公開公報第204039び旨中に記載されているよ
うなポリエステル樹脂殊に酸性ポリエステル樹脂及びェ
ラストマージェンーポリマー及びコポリマー、例えばブ
タジェン及び/又はィソプレンーホモポリマーフロツク
よりのブロックコポリマー及びスチロール又はQ−メチ
ルスチロールよりのポリマーフロツクが挙げられる。
しては、仏国特許明細書第1520856号中に記載さ
れているような線状ポリアミド殊にアルコール溶性コポ
リアミド、繊維素誘導体殊に水−アルコールにて洗除可
能な繊維素誘導体、ビニルアルコールーポリマー及び炭
素原子1乃至4個を有する脂肪族モノカルボン酸のビニ
ルェステル例えばビニルアセタートの異なる鹸化度を有
するポリマー及びコポリマー、ピニルピロリドンーホモ
及びコポリマー、ポリウレタン、ボリェーテルウレタン
及びポリエステルウレタン、並びに前記独乙連邦共和国
特許公開公報第204039び旨中に記載されているよ
うなポリエステル樹脂殊に酸性ポリエステル樹脂及びェ
ラストマージェンーポリマー及びコポリマー、例えばブ
タジェン及び/又はィソプレンーホモポリマーフロツク
よりのブロックコポリマー及びスチロール又はQ−メチ
ルスチロールよりのポリマーフロツクが挙げられる。
物質に対しては多数の極性基を有するポリマー結合剤例
えばポリアミド、ポリウレタン、ポリビニルアルコール
又はビニルピロリドン−(コ)ポリマーが有利である。
えばポリアミド、ポリウレタン、ポリビニルアルコール
又はビニルピロリドン−(コ)ポリマーが有利である。
混合物のポリマー結合剤含有率は、一般にポリマー及び
光重合可能なモノマーの量に関し約45乃至9の殊に5
0乃至75重量%である。少くとも1つのオレフィン系
不飽和の光重合可能な二重結合を有する低分子化合物と
しては、光重合体版木に対して使用されるモノマーが、
その都度選択されるポリマー結合剤の融和性の混合物を
形成し且つ大気圧に於て100qo以上の沸点を有する
限り、これ等モノマーが適する。
光重合可能なモノマーの量に関し約45乃至9の殊に5
0乃至75重量%である。少くとも1つのオレフィン系
不飽和の光重合可能な二重結合を有する低分子化合物と
しては、光重合体版木に対して使用されるモノマーが、
その都度選択されるポリマー結合剤の融和性の混合物を
形成し且つ大気圧に於て100qo以上の沸点を有する
限り、これ等モノマーが適する。
2つ又は夫以のオレフィン系不飽和の光重合可能な二重
結合を有するモ/マー単独が、又はそのオレフィン系不
飽和の光重合可能な二重結合1つだけを有するモノマー
との混合物が有利である。
結合を有するモ/マー単独が、又はそのオレフィン系不
飽和の光重合可能な二重結合1つだけを有するモノマー
との混合物が有利である。
使用モノマーの種類は可成りの程度共用されるポリマー
結合剤の種類に適合せしめられる。即ち不飽和ポリエス
テル樹脂との混合物に於ては特に2つ又は夫以上の二重
結合を含有するアリル化合物例えばマレィン酸ジアルキ
ルェステル、フリルアクリラート、ジアリルフタラート
、トリメリット酸ジ及びトリアリルェステル又はエチレ
ングリコールピスアリルカルボナート、並びにジオール
又はポリオールをアクリル酸又はメタクリル酸にてェス
テル化することに依り製造されることができるようなジ
ー及びポリアクリラート及びメタクリラート、例えばエ
チレングリコール、ジヱチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、約500までの分子量を有するポリエチ
レングリコール、1・2−プロパンジオール、1・3ー
プロパンジオール、ネオベンチルグリコ」ル(2・2ー
ジメチルプロパンジオール)、1・4ーブタンジオール
、1・1・1ートリメチロールプロパン、グリセリン又
はペンタェリトリットのジ及びトリ(メト)−アクリラ
ートが適する;更に斯かるジオール及びポリオールのモ
ノアクリラート及びモノメタクリラート例えばエチレン
グリコールー又はジ、トリ又はテトラエチレングリコ一
ルーモノアクリラート、ウレタン基及び/又はアミ/基
を含有する2つ又は夫以上のオレフィン系不飽和結合を
有するモノマー例えば前記の種類の脂肪族ジオール、有
機ジィソシアナート及びヒドロキシアルキル(メト)ア
クリラートより製造された低分子化合物が適する。アク
リル酸、メタクリル酸並びにその誘導体例えば(メト)
アクリルアミド、Nーヒドロキシメチル(メト)アクリ
ルアミド又は炭素原子1乃至6個を有するモノアルコー
ルの(メト)アタリラートも挙げられる。アリルモノマ
ーとジ又はポリアクリラートとの混合物は極めて適する
。ポリマー結合剤としてのポリァミドとの混合物を選択
する時は、前記モノマー類の中ジ及びポリアクリラート
の外に、二重結合に対し追加的になおアミド及び/又は
ウレタン基を含有するもの例えばアクリルアミドの誘導
体例えばNーヒドロキシメチル(メト)ーアクリルアミ
ド2モルと脂肪族ジオール1モルとの反応生成物例えば
エチレングリコ−ル、キシレンビスアクリルアミド又は
アルキレン残基中に炭素原子1乃至8個を有するアルキ
レンビスアクリルアミドが特に適する。ポリマー結合剤
としてポリビニルアルコールを使用して水ーアルカリ性
にて現像可能な版木を製造するためには、特に水溶‘性
のモノマー例えば約200乃至500の分子量を有する
ポリエチレングリコールのヒドロキシェチル(メト)ア
クリラート又はモノ及びジー(メト)アクリラートが適
する。モノマ−の量は一般にポリマー及び光重合可能な
モノマーの量に関し約10乃至59*こ35乃至55重
量%であって、殊にそのポリマーとの融和性及び得られ
る版木の所望の硬度に依って決定される。
結合剤の種類に適合せしめられる。即ち不飽和ポリエス
テル樹脂との混合物に於ては特に2つ又は夫以上の二重
結合を含有するアリル化合物例えばマレィン酸ジアルキ
ルェステル、フリルアクリラート、ジアリルフタラート
、トリメリット酸ジ及びトリアリルェステル又はエチレ
ングリコールピスアリルカルボナート、並びにジオール
又はポリオールをアクリル酸又はメタクリル酸にてェス
テル化することに依り製造されることができるようなジ
ー及びポリアクリラート及びメタクリラート、例えばエ
チレングリコール、ジヱチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、約500までの分子量を有するポリエチ
レングリコール、1・2−プロパンジオール、1・3ー
プロパンジオール、ネオベンチルグリコ」ル(2・2ー
ジメチルプロパンジオール)、1・4ーブタンジオール
、1・1・1ートリメチロールプロパン、グリセリン又
はペンタェリトリットのジ及びトリ(メト)−アクリラ
ートが適する;更に斯かるジオール及びポリオールのモ
ノアクリラート及びモノメタクリラート例えばエチレン
グリコールー又はジ、トリ又はテトラエチレングリコ一
ルーモノアクリラート、ウレタン基及び/又はアミ/基
を含有する2つ又は夫以上のオレフィン系不飽和結合を
有するモノマー例えば前記の種類の脂肪族ジオール、有
機ジィソシアナート及びヒドロキシアルキル(メト)ア
クリラートより製造された低分子化合物が適する。アク
リル酸、メタクリル酸並びにその誘導体例えば(メト)
アクリルアミド、Nーヒドロキシメチル(メト)アクリ
ルアミド又は炭素原子1乃至6個を有するモノアルコー
ルの(メト)アタリラートも挙げられる。アリルモノマ
ーとジ又はポリアクリラートとの混合物は極めて適する
。ポリマー結合剤としてのポリァミドとの混合物を選択
する時は、前記モノマー類の中ジ及びポリアクリラート
の外に、二重結合に対し追加的になおアミド及び/又は
ウレタン基を含有するもの例えばアクリルアミドの誘導
体例えばNーヒドロキシメチル(メト)ーアクリルアミ
ド2モルと脂肪族ジオール1モルとの反応生成物例えば
エチレングリコ−ル、キシレンビスアクリルアミド又は
アルキレン残基中に炭素原子1乃至8個を有するアルキ
レンビスアクリルアミドが特に適する。ポリマー結合剤
としてポリビニルアルコールを使用して水ーアルカリ性
にて現像可能な版木を製造するためには、特に水溶‘性
のモノマー例えば約200乃至500の分子量を有する
ポリエチレングリコールのヒドロキシェチル(メト)ア
クリラート又はモノ及びジー(メト)アクリラートが適
する。モノマ−の量は一般にポリマー及び光重合可能な
モノマーの量に関し約10乃至59*こ35乃至55重
量%であって、殊にそのポリマーとの融和性及び得られ
る版木の所望の硬度に依って決定される。
これ等物質は更に他の普通の添加物例えば軟化剤、アミ
ド基を有する飽和低分子化合物、蝋等をも含有すること
ができる。光重合可能な物質の層状に物質をレリーフ形
成層として一般に200−800仏のの層厚にて有する
光重合体版木への処理は夫自体公知の方法にて行われる
ことができ、且つ混合物の種類及び物質が液状であるか
又は固状であるかに依て左右される。
ド基を有する飽和低分子化合物、蝋等をも含有すること
ができる。光重合可能な物質の層状に物質をレリーフ形
成層として一般に200−800仏のの層厚にて有する
光重合体版木への処理は夫自体公知の方法にて行われる
ことができ、且つ混合物の種類及び物質が液状であるか
又は固状であるかに依て左右される。
この版木のレリーフ版木への処理は、公3印の方法にて
放出の極大を光重合開始剤の吸収の範囲に於て、一般に
300乃至40仇肌の範囲に於て有するか又はこの波長
範囲の光の充分な部分を有する光源例えば水銀中圧照射
器、然かも高圧及び低圧照射器又は超イb学りん光管を
使用してイb学線に依る臭像的露光に依り行われる。臭
像的露光後、露光されない層部分を公知の方法にて機械
的に除去し、又は殊に現像剤溶剤にて洗除し、得られる
版木を乾燥し、且つ多くの場合にはなお充分に後露光す
るのが適当である。エーテル化されたチオーアントラキ
ノンを含有する本発明に依る物質はしりーフ版木殊にこ
れ等物質よりの層を有する光重合体板よりのレリーフ版
木を製造する方法に対して適する。
放出の極大を光重合開始剤の吸収の範囲に於て、一般に
300乃至40仇肌の範囲に於て有するか又はこの波長
範囲の光の充分な部分を有する光源例えば水銀中圧照射
器、然かも高圧及び低圧照射器又は超イb学りん光管を
使用してイb学線に依る臭像的露光に依り行われる。臭
像的露光後、露光されない層部分を公知の方法にて機械
的に除去し、又は殊に現像剤溶剤にて洗除し、得られる
版木を乾燥し、且つ多くの場合にはなお充分に後露光す
るのが適当である。エーテル化されたチオーアントラキ
ノンを含有する本発明に依る物質はしりーフ版木殊にこ
れ等物質よりの層を有する光重合体板よりのレリーフ版
木を製造する方法に対して適する。
本発明に依れば感光度を著しく害することないこ、精密
不透明の綾要素の中心影像に於ける望ましからぬ重合を
回避することができ、斯くして改良された溶解館を有し
、レリーフ版木中に於ける改良された中間深部を有し、
従て明らかに改良された露光間隙を有し、又物質中に僅
かに散光性のポリマー結合剤及び/又はモノマーを有す
るレリーフ版木の製造を可能ならしめることができた。
本発明に依る物質は良好な中間深部を有する厚いレリー
フの製造をも許容する。レリーフ版木製造用物質の性質
を更に良好に判定するために夫々次のように規定する:
et(min):ラスター弧当り60本の線に於ける3
%ラスター調和値に於ける極小露光時間を分にて示すも
のet(max):中間部tzが正になお要求tz≧7
0ムのを満たす斑0仏のの直径を有する不透明点(フィ
ルムネガ中)に於けるに対する極大露光時間を分にて示
すもの△t:露光間隙を分にて示すもの △t=et(max)−et(min) △t(rel):相対的露光間隙を%にて示すもの△t
(ret)=et(max)−et(min).100
et(min)この場合露光するために、常に5弧の同
一間隔に於て40W管を有する同一の市販のUV偏平露
光器にて露光される。
不透明の綾要素の中心影像に於ける望ましからぬ重合を
回避することができ、斯くして改良された溶解館を有し
、レリーフ版木中に於ける改良された中間深部を有し、
従て明らかに改良された露光間隙を有し、又物質中に僅
かに散光性のポリマー結合剤及び/又はモノマーを有す
るレリーフ版木の製造を可能ならしめることができた。
本発明に依る物質は良好な中間深部を有する厚いレリー
フの製造をも許容する。レリーフ版木製造用物質の性質
を更に良好に判定するために夫々次のように規定する:
et(min):ラスター弧当り60本の線に於ける3
%ラスター調和値に於ける極小露光時間を分にて示すも
のet(max):中間部tzが正になお要求tz≧7
0ムのを満たす斑0仏のの直径を有する不透明点(フィ
ルムネガ中)に於けるに対する極大露光時間を分にて示
すもの△t:露光間隙を分にて示すもの △t=et(max)−et(min) △t(rel):相対的露光間隙を%にて示すもの△t
(ret)=et(max)−et(min).100
et(min)この場合露光するために、常に5弧の同
一間隔に於て40W管を有する同一の市販のUV偏平露
光器にて露光される。
満足な板は正露光間隙△tを有しなければならない。比
較試験1に於て示されているように、レリーフの中間深
部は小さすぎ(30ム机)且つ印刷に際しては相対的に
速かに染料にて満たされ、次に共に印刷されるから、例
えばエーテル化されたチオーアントラキノンの添加物を
有しない物質を有する版木は、3.5分の露光時間に於
て勿論3%ラスター調和値を印刷に際し良好に再現する
が、レリーフ版木にては不良な性質の印刷が得られる。
較試験1に於て示されているように、レリーフの中間深
部は小さすぎ(30ム机)且つ印刷に際しては相対的に
速かに染料にて満たされ、次に共に印刷されるから、例
えばエーテル化されたチオーアントラキノンの添加物を
有しない物質を有する版木は、3.5分の露光時間に於
て勿論3%ラスター調和値を印刷に際し良好に再現する
が、レリーフ版木にては不良な性質の印刷が得られる。
これに反し2分の露光時間に於て充分に大きい中間深部
が得られるが、3%ラスター調和値は充分でない光硬化
のために保持されることができなく、このために美しく
ない調和値輪郭(例えば縄光中にて)を有する印刷が得
られる。完全なステロ版は負露光間隙△tを有する光ポ
リマー版木にては、追加的手段に依てのみ、例えば複写
の段階に於ける時間のかかるマスキング操作に依てのみ
達成し得るに過ぎない。諸例は如何にして100%以上
の相対的正露光間隙に於てもなお満足すべき版木が製造
されるかを示すものである。次の諸例及び比較試験中に
挙げられた部及び%は他の記載がない限り重量部及び重
量%に係る。
が得られるが、3%ラスター調和値は充分でない光硬化
のために保持されることができなく、このために美しく
ない調和値輪郭(例えば縄光中にて)を有する印刷が得
られる。完全なステロ版は負露光間隙△tを有する光ポ
リマー版木にては、追加的手段に依てのみ、例えば複写
の段階に於ける時間のかかるマスキング操作に依てのみ
達成し得るに過ぎない。諸例は如何にして100%以上
の相対的正露光間隙に於てもなお満足すべき版木が製造
されるかを示すものである。次の諸例及び比較試験中に
挙げられた部及び%は他の記載がない限り重量部及び重
量%に係る。
重量部対容量部の比はk9対その比である。例1アジピ
ン酸、ヘキサメチレンジアミン、4・4ージアミノジシ
クロヘキシルメタン及びどーカプロラクタムよりのコポ
リアミド60%、エチレングリコール1モル及びN−ヒ
ドロキシメチルーアクリルアミド2モルよりのジェーテ
ル25%、ベンゾールスルフオンアミド13.5%及び
ペンゾインテトラヒドロピラニルェーテル1.5%の混
合物の65%メタノール溶液に「 N−ニトロソシクロ
ヘキシルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩0.2%
、黒色染料(カラーインデックス第12195号)0.
01%及び2ーブチルチオー2−アントラキノン(式0
)0.03%を添加する。
ン酸、ヘキサメチレンジアミン、4・4ージアミノジシ
クロヘキシルメタン及びどーカプロラクタムよりのコポ
リアミド60%、エチレングリコール1モル及びN−ヒ
ドロキシメチルーアクリルアミド2モルよりのジェーテ
ル25%、ベンゾールスルフオンアミド13.5%及び
ペンゾインテトラヒドロピラニルェーテル1.5%の混
合物の65%メタノール溶液に「 N−ニトロソシクロ
ヘキシルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩0.2%
、黒色染料(カラーインデックス第12195号)0.
01%及び2ーブチルチオー2−アントラキノン(式0
)0.03%を添加する。
溶液を層状にて接着ラッカーを施した鋼板(反射度約1
5%)上に、約70qoに於て乾燥せる後粥0山肌の層
圧を有する光重合可能な物質が生成するように注ぐ。光
重合体版木を本明細書中に記載したように、臭像的に型
を通して露光し、且つアルコール−水−混合物にて露光
されない層部分を洗除する。版木は4分の極小露光時間
et(min)、5分の極大露光時間et(max)、
従て十1分の露光間隙△t或は+25%の相対的露光間
隙△t(ret)を有する。例2 ・ 例1に於けると全く同様に操作するが、溶液に追加的に
N−メチル−N−ジー2−ヒドロキシェチルーアミン0
.16%を添加する。
5%)上に、約70qoに於て乾燥せる後粥0山肌の層
圧を有する光重合可能な物質が生成するように注ぐ。光
重合体版木を本明細書中に記載したように、臭像的に型
を通して露光し、且つアルコール−水−混合物にて露光
されない層部分を洗除する。版木は4分の極小露光時間
et(min)、5分の極大露光時間et(max)、
従て十1分の露光間隙△t或は+25%の相対的露光間
隙△t(ret)を有する。例2 ・ 例1に於けると全く同様に操作するが、溶液に追加的に
N−メチル−N−ジー2−ヒドロキシェチルーアミン0
.16%を添加する。
結果は次の通りである:
et(min)4Min.;et(maX)6‐9Mi
n‐;△t十2‐8Mjn.;△t(rel)+63%
.例3例1に於けると全く同様に操作するが、溶液に追
加的にフェニルグリオキシル酸メチルェステル(C6K
一COCOOCH3)0.16%を添加する。
n‐;△t十2‐8Mjn.;△t(rel)+63%
.例3例1に於けると全く同様に操作するが、溶液に追
加的にフェニルグリオキシル酸メチルェステル(C6K
一COCOOCH3)0.16%を添加する。
結果は次の通りである:et(min)虹Min.;e
t(maX)則Min‐;△t十9Min.;△t(r
el)+125%.例4例3に於けるように操作するが
アルキルチオーアントラキノンとして8一n−ブチルチ
オーアントラキノンを使用する。
t(maX)則Min‐;△t十9Min.;△t(r
el)+125%.例4例3に於けるように操作するが
アルキルチオーアントラキノンとして8一n−ブチルチ
オーアントラキノンを使用する。
結果は次の通りである:
et(min)山Min‐;et(maX)8Min.
;△t+山Min.;△t(rel)十loo%.例5
‐例1に於けるように操作するが、溶液に追加的にフェ
ニルグリオキシル酸(C6馬−COCOOH)0.2%
を添加する。
;△t+山Min.;△t(rel)十loo%.例5
‐例1に於けるように操作するが、溶液に追加的にフェ
ニルグリオキシル酸(C6馬−COCOOH)0.2%
を添加する。
結果は次の通りである:
et(min)4Yin.;et(maX)7‐9Mi
n・;△t十3.7Min.;△t(rel)十87%
.例6例3に於けるように操作するが、重合抑制剤とし
てNーニトロソジフェニルアミン0.06%を使用する
。
n・;△t十3.7Min.;△t(rel)十87%
.例6例3に於けるように操作するが、重合抑制剤とし
てNーニトロソジフェニルアミン0.06%を使用する
。
結果は次の通りである:
et(min)4.9Min.;et(max)5.9
Min.;△t十IMin.;△t(rel)+22%
.比較試験1(例1一6と比較)例1に於けるように操
作するが、アルキルチオーアントラキノンの添加を省略
する。
Min.;△t十IMin.;△t(rel)+22%
.比較試験1(例1一6と比較)例1に於けるように操
作するが、アルキルチオーアントラキノンの添加を省略
する。
結果は次の通りである:
et(min)3.8Min‐;et(maX)2‐加
地n‐;△t+1.9Mjn.:△t(rel)−43
%.本明細書中に前述したように、レリーフ版木は不満
足な印刷結果を生ずる。
地n‐;△t+1.9Mjn.:△t(rel)−43
%.本明細書中に前述したように、レリーフ版木は不満
足な印刷結果を生ずる。
比較試験2(例1−6と比較)
例1に於けるように操作するが、アルキルチオーアント
ラキノン及び黒色染料の添加を省略する。
ラキノン及び黒色染料の添加を省略する。
結果は次の通りである:
et(min)2.8Mjn.:et(max)0.8
Min.:△t−2.0Min.;△t(rel)−8
0%.比較試験3(例1−6と比較)例3に於けるよう
に操作するが、アルキルチオーアントラキノン0.03
%の代りに4ーメチルチオベンゾフェノン0.03%を
添加する。
Min.:△t−2.0Min.;△t(rel)−8
0%.比較試験3(例1−6と比較)例3に於けるよう
に操作するが、アルキルチオーアントラキノン0.03
%の代りに4ーメチルチオベンゾフェノン0.03%を
添加する。
結果は次の通りである:
et(nlin)XMin.;et(max)2.9M
;n.;△t−0.9Min.:△t(rel)−17
%.比較試験4(例1−6と比較)例3に於けるように
操作するが、アルキルチオーアントラキノン0.03%
の代りに2−エチルーアントラキノン0.03%を添加
する。
;n.;△t−0.9Min.:△t(rel)−17
%.比較試験4(例1−6と比較)例3に於けるように
操作するが、アルキルチオーアントラキノン0.03%
の代りに2−エチルーアントラキノン0.03%を添加
する。
結果は次の通りである:
et(min)4Min.;et(max)aMin.
;△t−2Win.;△t(rel)−50%.例7例
1に於けるように操作するがポリアミド、モノマー、軟
化剤及び光重合開始剤の溶液に、N−ニトロソシクロヘ
キシルヒドロキシルアミンのカリウム塩0.2%、2ー
ブチルチオー2−アントラキノン(式0)0.03%及
びフェニルグリオキシル酸〆チルェステル0.18%を
添加する。
;△t−2Win.;△t(rel)−50%.例7例
1に於けるように操作するがポリアミド、モノマー、軟
化剤及び光重合開始剤の溶液に、N−ニトロソシクロヘ
キシルヒドロキシルアミンのカリウム塩0.2%、2ー
ブチルチオー2−アントラキノン(式0)0.03%及
びフェニルグリオキシル酸〆チルェステル0.18%を
添加する。
染料の添加は中止する。製造された光重合可能な物質の
層は500山mの乾燥層厚を有する。結果は次の通りで
ある: et(min)2.28Min.;et(max)>1
7Min.;△t>+lamin.:△t(rel)〉
十660%.中間深部tzは17分後75ム肌である。
層は500山mの乾燥層厚を有する。結果は次の通りで
ある: et(min)2.28Min.;et(max)>1
7Min.;△t>+lamin.:△t(rel)〉
十660%.中間深部tzは17分後75ム肌である。
雌試験6(例7と微)例7に於けるように操作するがア
ルキルチオーアントラキノン及びフェニルグリオキシル
酸メチルェステルの代りにmージニトロベンゾール0.
05%を添加する。
ルキルチオーアントラキノン及びフェニルグリオキシル
酸メチルェステルの代りにmージニトロベンゾール0.
05%を添加する。
乾燥層厚は同様に500r肌である。結果は次の通りで
ある: et(min)2.28Min.;et(max)1.
7Min.;△t−o.59Min.:△t(rel)
−24%.例8例7に於けるように操作するが、添加さ
れたNーニトロソシクロヘキシルヒドロキシルアミンの
カリウム塩の量は0.6%である。
ある: et(min)2.28Min.;et(max)1.
7Min.;△t−o.59Min.:△t(rel)
−24%.例8例7に於けるように操作するが、添加さ
れたNーニトロソシクロヘキシルヒドロキシルアミンの
カリウム塩の量は0.6%である。
結果は次の通りである:
et(min)2.29Win−;et(maX)》2
M地n‐;△t>+18Min‐:△t(rel)>+
800%.中間深部tz分間後170仏肌である。
M地n‐;△t>+18Min‐:△t(rel)>+
800%.中間深部tz分間後170仏肌である。
例9
例3に於けるように操作するが、乾燥後200〆肌の厚
さを有する層を製造する。
さを有する層を製造する。
結果は次の通りである:
et(min)2Min‐;et(maX)2mMin
‐:△t+18Min.;△t(rel)+900%.
比較試験7(例9と比較)例9に於けるように操作する
が、アルキルチオアントラキノン、フェニルグリオキシ
ル酸メチルェステル及び染料の添加は中止する。
‐:△t+18Min.;△t(rel)+900%.
比較試験7(例9と比較)例9に於けるように操作する
が、アルキルチオアントラキノン、フェニルグリオキシ
ル酸メチルェステル及び染料の添加は中止する。
層厚は乾燥後同様に200ムmである。結果は次の通り
である: et(min)1.9Min.;et(m凶×)<0.
9Min.;△t<−IMin.:△t(rel)−6
7%.例 10例3に於けるように操作するが、乾燥後
800仏のの厚さを有する層が製造される。
である: et(min)1.9Min.;et(m凶×)<0.
9Min.;△t<−IMin.:△t(rel)−6
7%.例 10例3に於けるように操作するが、乾燥後
800仏のの厚さを有する層が製造される。
結果は次の通りである:
et(min)はけin.;et(m舷X)aVin.
;△t+IMin.:△t(rel)+20%.雌試験
8(例10と雌)例10に於けるように操作するが、ア
ルキルチオアントラキノン、フェニルグリオキシル酸メ
チルェステル及び染料の添加は停止する。
;△t+IMin.:△t(rel)+20%.雌試験
8(例10と雌)例10に於けるように操作するが、ア
ルキルチオアントラキノン、フェニルグリオキシル酸メ
チルェステル及び染料の添加は停止する。
層厚は乾燥後同様に800山肌である。結果は次の通り
である: et(min)4Min.;et(max)IMin.
;△t−$Min‐;△t(rel)一75%.例11
ポリビニルアルコール57部、エチレングリコール1モ
ル及びNーヒドロキシメチルーアクリルアミド2モルよ
りのジェーテル4部、2ーヒドロキシェチルメタクリラ
ート37.4部、ベンジルモノ−ジメチルケタール1.
5部及び2・6−ジー第3級ブチルーp−クレゾール0
.1部の65%水溶液に、2ーブチルチオー2ーアント
ラキノン(式ロ)0.005部及びフェニルグリオキシ
ル酸メチルヱステル0.03部を濃加する。
である: et(min)4Min.;et(max)IMin.
;△t−$Min‐;△t(rel)一75%.例11
ポリビニルアルコール57部、エチレングリコール1モ
ル及びNーヒドロキシメチルーアクリルアミド2モルよ
りのジェーテル4部、2ーヒドロキシェチルメタクリラ
ート37.4部、ベンジルモノ−ジメチルケタール1.
5部及び2・6−ジー第3級ブチルーp−クレゾール0
.1部の65%水溶液に、2ーブチルチオー2ーアント
ラキノン(式ロ)0.005部及びフェニルグリオキシ
ル酸メチルヱステル0.03部を濃加する。
接着ラッカーを施した損体箔上に、室温に於て乾燥せる
(残留湿度6一8%)500ム仇の厚さを有する物質層
が生成するように、前記溶液を層状に注ぐ。予備露光後
、例の前の記載中に述べたように、型を通して臭像的露
光を行う。レリーフ現像は40午Cに於て水に行われ、
レリーフ版木を4分間12000に於て乾燥する。結果
は次の通りである: et(min)1.9Win.;et(maX)2.9
Min.;△t+IMin.;△t(rel)+66.
6%.比較試験9(例11と比較)例11に於けるよう
に操作するが、アルキルチオアントラキノン及びフェニ
ルグリオキシル酸メチルェステルの漉加は中止する。
(残留湿度6一8%)500ム仇の厚さを有する物質層
が生成するように、前記溶液を層状に注ぐ。予備露光後
、例の前の記載中に述べたように、型を通して臭像的露
光を行う。レリーフ現像は40午Cに於て水に行われ、
レリーフ版木を4分間12000に於て乾燥する。結果
は次の通りである: et(min)1.9Win.;et(maX)2.9
Min.;△t+IMin.;△t(rel)+66.
6%.比較試験9(例11と比較)例11に於けるよう
に操作するが、アルキルチオアントラキノン及びフェニ
ルグリオキシル酸メチルェステルの漉加は中止する。
結果は次の通りである:
et(min)1.9のin.;et(maX)1‐2
Min‐;△t−0‐乳小n‐;△t(rel)−20
%.例 12及び13エラストマ−。
Min‐;△t−0‐乳小n‐;△t(rel)−20
%.例 12及び13エラストマ−。
ポリエステルポリウレタン78%、モノマーとしてのヒ
ドロキシアルキルアクリラート、ジイソシアナート及び
ポリエチレングリコールよりのウレタンアクリラート2
0%、ベンジルーモノージメチルケタール1.2%、黒
色染料(カラーインデックス第12195号)0.02
%、Nーニトロソシクロヘキシルヒドロキシルアミンの
アルミニウム塩0.1%、2ーブチルチオ−2−アント
ラキノン(式0)0.025%及びフヱニルグリオキシ
ル酸メチルェステル0.18%をテトラヒドロフラン中
に溶解せる42%溶液を、一度は接着ラッカーを施した
ポリエステル箔上に層状に(例12)、及び一度は接着
ラッカーを施した鋼板上に層状に(例13)、80℃に
於て乾燥せる後約98%の固状物質含有率に於て700
〃机の層厚が生ずるように注ぐ。具像的露光は例の前の
説明中に記載したように型を通して行われる。レリーフ
現像はメチルエチルケトン1抜き量部及び水1容量部よ
りの混合物にて洗除することに依り行われる。次にレリ
ーフ版木を3G分間50qoに於て乾燥する。結果は次
の通りである: 例 12 例13 比較試験10及び11(例12及び13と比較)例12
及び13に於けると全く同様に操作するが、アルキルチ
オーアントラキノン及びフエニルグリオキシル酸メチル
ェステルの添加は停止する。
ドロキシアルキルアクリラート、ジイソシアナート及び
ポリエチレングリコールよりのウレタンアクリラート2
0%、ベンジルーモノージメチルケタール1.2%、黒
色染料(カラーインデックス第12195号)0.02
%、Nーニトロソシクロヘキシルヒドロキシルアミンの
アルミニウム塩0.1%、2ーブチルチオ−2−アント
ラキノン(式0)0.025%及びフヱニルグリオキシ
ル酸メチルェステル0.18%をテトラヒドロフラン中
に溶解せる42%溶液を、一度は接着ラッカーを施した
ポリエステル箔上に層状に(例12)、及び一度は接着
ラッカーを施した鋼板上に層状に(例13)、80℃に
於て乾燥せる後約98%の固状物質含有率に於て700
〃机の層厚が生ずるように注ぐ。具像的露光は例の前の
説明中に記載したように型を通して行われる。レリーフ
現像はメチルエチルケトン1抜き量部及び水1容量部よ
りの混合物にて洗除することに依り行われる。次にレリ
ーフ版木を3G分間50qoに於て乾燥する。結果は次
の通りである: 例 12 例13 比較試験10及び11(例12及び13と比較)例12
及び13に於けると全く同様に操作するが、アルキルチ
オーアントラキノン及びフエニルグリオキシル酸メチル
ェステルの添加は停止する。
結果は次の通りである:比較試験 比較試験
例 】4
例1に於けるように操作するがポリアミド、軟化剤及び
光重合開始剤の溶液にNーニトロソシクロヘキシルヒド
ロキシルアミンのカリウム塩0.3%及びフェルチオー
2ーアントラキノン0.3%を添加する。
光重合開始剤の溶液にNーニトロソシクロヘキシルヒド
ロキシルアミンのカリウム塩0.3%及びフェルチオー
2ーアントラキノン0.3%を添加する。
染料の添加は停止する。製造された光重合可能な物質の
層は500仏のの乾燥層厚を有する。結果は次の通りで
ある: et(min)3.8Min.:et(max)4.5
Min.:△t十1.瓜Min.;△t(rel)十2
9%.例 15前記例14に於けるように操作するがポ
リアミド、軟化剤、光重合開始剤及び熱重合抑制剤より
の溶液に2一(8−ヒドロキシェチルーチオ)−アント
ラキノン0.03%を添加する。
層は500仏のの乾燥層厚を有する。結果は次の通りで
ある: et(min)3.8Min.:et(max)4.5
Min.:△t十1.瓜Min.;△t(rel)十2
9%.例 15前記例14に於けるように操作するがポ
リアミド、軟化剤、光重合開始剤及び熱重合抑制剤より
の溶液に2一(8−ヒドロキシェチルーチオ)−アント
ラキノン0.03%を添加する。
結果は次の通りである:
et(min)3.8Min.;et(max)5.7
Min.;△t十2.2Mjn.;△t(rel)十筋
%.例 16前記例14に於けるように操作するが、フ
ェニルチオー2ーアソトラキノン残基の代りに、2−(
3−ヒドロキシ−Q一メチルーエチルーチオ)−アント
ラキノン0.03%を添加する。
Min.;△t十2.2Mjn.;△t(rel)十筋
%.例 16前記例14に於けるように操作するが、フ
ェニルチオー2ーアソトラキノン残基の代りに、2−(
3−ヒドロキシ−Q一メチルーエチルーチオ)−アント
ラキノン0.03%を添加する。
結果は次の通りである:
et(min)2.29Min‐:et(maX)10
Min.;△t+7.79Min.;△t(rel)+
乳4%.例 17前記例14に於けるように操作するが
、フェニルチオ−2−ァントラキノンの代りに2−(B
ーアセトキシーエチルーチオ)ーアントラキノン0.0
3%を添加する。
Min.;△t+7.79Min.;△t(rel)+
乳4%.例 17前記例14に於けるように操作するが
、フェニルチオ−2−ァントラキノンの代りに2−(B
ーアセトキシーエチルーチオ)ーアントラキノン0.0
3%を添加する。
結果は次の通りである:et(min)3.8 Min
.;et(max)14Min.:△t十10‐虫Mi
n‐;△t(rel)十300%.例18前記例14に
於けるように操作するが、フェニルチオー2ーアントラ
キノンの代りに、2一(メトキシカルボニルーメチルー
チオ)−アントラキノン0.03%を添加する。
.;et(max)14Min.:△t十10‐虫Mi
n‐;△t(rel)十300%.例18前記例14に
於けるように操作するが、フェニルチオー2ーアントラ
キノンの代りに、2一(メトキシカルボニルーメチルー
チオ)−アントラキノン0.03%を添加する。
結果は次の通りである:
et(min)2.29Min.;et(maX)成り
in.;△t+3‐79 Min.;△t(rel)+
167%・比較試験12前記例14に於けるように操作
するが、アントラキノンチオェーテルの添加は省略する
。
in.;△t+3‐79 Min.;△t(rel)+
167%・比較試験12前記例14に於けるように操作
するが、アントラキノンチオェーテルの添加は省略する
。
結果は次の通りである:
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 主として光重合開始剤を含有する少くとも1つのオ
レフイン系不飽和の光重合可能な二重結合を有する少く
とも1つの低分子化合物と少くとも1つのこれと融和性
の有機ポリマー結合剤との混合物より成れる版木及びレ
リーフ版木を製造するための光重合可能な物質に於て、
これ等物質が均質な分布に於て全物質に関し約0.00
1乃至0.1重量%の量に於て式▲数式、化学式、表等
があります▼ (式中Rは炭素原子1乃至12個を有するアルキル残基
、場合に依りエーテル化又はエステル化されたヒドロキ
シ基又はアルコキシカルボニル基を置換基として有する
C_1−C_8−アルキル残基又は場合に依り置換され
たフエニル残基を示す)のエーテル化されたチオアント
ラキノン、並びに場合に依り追加的に有機第3級アミン
又は芳香族α−ケトカルボン酸又はそのアルキル残基中
に炭素原子1乃至18個を有するアルキルエステルを全
物質に関し約0.01乃至1重量%の量にて、且つ/又
は場合に依り追加的に有機N−ニトロソヒドロキシルア
ミン塩を全物質に関し約0.02乃至2重量%の量に於
て含有することを特徴とする版木及びレリーフ版木を製
造するための改良された光重合可能な物質。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19772722421 DE2722421C3 (de) | 1977-05-18 | 1977-05-18 | Photopolymerisierbares Gemisch für die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen |
DE2722421.1 | 1977-05-18 | ||
DE19772759163 DE2759163C2 (de) | 1977-12-31 | 1977-12-31 | Photopolymerisierbare Gemische für die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen |
DE2759163.5 | 1977-12-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS53142490A JPS53142490A (en) | 1978-12-12 |
JPS6032175B2 true JPS6032175B2 (ja) | 1985-07-26 |
Family
ID=25772039
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP53057226A Expired JPS6032175B2 (ja) | 1977-05-18 | 1978-05-16 | 版木及びレリ−フ版木を製造するために改良された光重合可能な物質 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4198241A (ja) |
JP (1) | JPS6032175B2 (ja) |
DK (1) | DK216678A (ja) |
FR (1) | FR2391492A1 (ja) |
GB (1) | GB1602620A (ja) |
NL (1) | NL7805329A (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2923602A1 (de) * | 1978-06-23 | 1980-01-10 | Sandoz Ag | Verwendung von substituierten alkylarylsulfoxiden und phenylarylsulfoxiden als photoinitiatoren |
DE3269491D1 (en) * | 1981-11-30 | 1986-04-03 | Ciba Geigy Ag | Photosensitive polymers |
US4532021A (en) * | 1983-07-18 | 1985-07-30 | Desoto, Inc. | Adherent ultraviolet cured coatings |
JPH01182845A (ja) * | 1988-01-13 | 1989-07-20 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
DE3905765A1 (de) * | 1989-02-24 | 1990-08-30 | Basf Ag | Lichtempfindliches aufzeichnungselement |
GB9122989D0 (en) * | 1991-10-30 | 1991-12-18 | Ici Plc | Polyamide materials |
DE4300856A1 (de) * | 1993-01-15 | 1994-07-21 | Basf Lacke & Farben | Lichtempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Reliefdruckplatte |
US5496685A (en) * | 1993-09-17 | 1996-03-05 | Chase Elastomer Corporation | Photosensitive compositions and elements for flexographic printing |
US5851731A (en) * | 1996-09-09 | 1998-12-22 | M. A. Hanna Company | Composition for the manufacture of flexographic printing plates |
EP0875022A4 (en) * | 1996-01-12 | 2000-07-12 | Hanna Mining Co | COMPOSITION FOR THE MANUFACTURE OF FLEXOGRAPHIC PRINTING PLATES |
JP2000066391A (ja) * | 1998-08-17 | 2000-03-03 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム |
CN102050930B (zh) * | 2005-12-27 | 2012-07-25 | 三井化学株式会社 | 含蒽醌衍生物的光固化性树脂组合物 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL245513A (ja) * | 1959-01-23 | |||
GB906142A (en) * | 1959-02-13 | 1962-09-19 | Gen Aniline & Film Corp | Light sensitive materials and photographic plate production |
US3024180A (en) * | 1959-08-17 | 1962-03-06 | Du Pont | Photopolymerizable elements |
DE1242449B (de) * | 1965-09-30 | 1967-06-15 | Kalle Ag | Lichtempfindliches Reproduktionsmaterial |
JPS4832367B1 (ja) * | 1969-03-25 | 1973-10-05 | ||
JPS498331B1 (ja) * | 1969-11-01 | 1974-02-26 | ||
DE2155000A1 (de) * | 1971-11-05 | 1973-05-10 | Bayer Ag | Thiomethylierte benzophenone |
US3787212A (en) * | 1972-08-04 | 1974-01-22 | Monsanto Co | Polymeric photosensitive compositions and methods using same |
US3827957A (en) * | 1973-01-12 | 1974-08-06 | Scm Corp | Photopolymerizable pigmented vehicles containing chlorosulfonated or alpha-haloalkylated polynuclear ketone initiators |
US4053317A (en) * | 1973-08-07 | 1977-10-11 | Teijin Limited | Light-sensitive composition |
US3885964A (en) * | 1974-05-31 | 1975-05-27 | Du Pont | Photoimaging process using nitroso dimer |
NL181693C (nl) * | 1974-11-29 | 1987-10-01 | Philips Nv | Inrichting voor het langs optische weg uitlezen van een stralingsreflekterende registratiedrager. |
US4113592A (en) * | 1975-04-14 | 1978-09-12 | Celanese Corporation | Trihalogenated hydrocarbons as co-photoinitiators |
US4054719A (en) * | 1976-11-23 | 1977-10-18 | American Cyanamid Company | Phenacyl ester photosensitizers for radiation-curable coatings |
-
1978
- 1978-05-16 JP JP53057226A patent/JPS6032175B2/ja not_active Expired
- 1978-05-17 DK DK216678A patent/DK216678A/da unknown
- 1978-05-17 NL NL7805329A patent/NL7805329A/xx not_active Application Discontinuation
- 1978-05-17 GB GB20032/78A patent/GB1602620A/en not_active Expired
- 1978-05-18 US US05/907,007 patent/US4198241A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-05-18 FR FR7814712A patent/FR2391492A1/fr active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4198241A (en) | 1980-04-15 |
FR2391492A1 (fr) | 1978-12-15 |
DK216678A (da) | 1978-11-19 |
GB1602620A (en) | 1981-11-11 |
FR2391492B1 (ja) | 1981-10-16 |
NL7805329A (nl) | 1978-11-21 |
JPS53142490A (en) | 1978-12-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4868091A (en) | Photopolymerizable recording material, in particular for the production of printing plates and relief plates | |
US4517279A (en) | Photosensitive elastomeric polymer composition for flexographic printing plates - processable in semi-aqueous basic solution or solvent systems | |
KR960016468B1 (ko) | 중합성 화합물 | |
JPS62121446A (ja) | 光重合により架橋可能の混合物 | |
JPS6032175B2 (ja) | 版木及びレリ−フ版木を製造するために改良された光重合可能な物質 | |
JPS60191237A (ja) | 露光硬化後非粘着性感光性樹脂組成物 | |
US4816379A (en) | Production of relief plates and printing plates by a positive-working method | |
JPS5823616B2 (ja) | 感光性ポリマ組成物 | |
EP0427950B1 (en) | A photosensitive resin composition for use in forming a relief structure | |
JPH0273813A (ja) | 光重合可能な混合物および光重合可能な記録材料 | |
JPS5818635A (ja) | 摩擦およびひつかきに強いグラビア印刷版を作る感光記録材料およびこれら記録材料によりグラビア印刷版を作る方法 | |
JPS6331484B2 (ja) | ||
US5041357A (en) | Radiation-polymerizable mixture and recording material containing it | |
EP0104751A2 (en) | Photosensitive elastomeric polymer composition for flexographic printing plates | |
JPS5911096B2 (ja) | 樹脂凸版用感光性組成物 | |
JPS61228002A (ja) | 高感度光硬化性樹脂組成物 | |
US4189322A (en) | Photopolymerizable compositions for the production of printing plates and relief plates containing dianthronyl or bisanthrone compound | |
US5468596A (en) | Photosensitive recording element and production of a relief printing plate | |
JPH02120864A (ja) | 感光性記録材料 | |
GB1601288A (en) | Photopolymerizable compositions for the production of printing plates and relief plates | |
AU629271B2 (en) | Process for producing an ozone-resistant flexographic printing form | |
AU629272B2 (en) | Photopolymerizable elastomeric mixture and recording material containing this mixture, for producing ozone-resistant flexographic printing forms | |
JPS62950A (ja) | 感光性樹脂版材 | |
JPS6024542A (ja) | 新規な光重合性組成物 | |
JPH02161437A (ja) | 光重合性組成物 |