JPS6028981A - ジオキソラニルペネムカルボン酸誘導体 - Google Patents

ジオキソラニルペネムカルボン酸誘導体

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JPS6028981A
JPS6028981A JP58138127A JP13812783A JPS6028981A JP S6028981 A JPS6028981 A JP S6028981A JP 58138127 A JP58138127 A JP 58138127A JP 13812783 A JP13812783 A JP 13812783A JP S6028981 A JPS6028981 A JP S6028981A
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    • C07D499/88—Compounds with a double bond between positions 2 and 3 and a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は次式ＣＩ）で表わされる２−置換または非置
換−６−（２−オキソ−１，３−ジオキシラン−４−イ
ル）−２−ペネム−３−カルボン酸（工ａ）または２−
置換または非置換−６−（１−ヒドロキシ−２−アルキ
リデン）−２−ペネム−３−カルボン酸（Ｉｂ）並びに
その誘導体、それらの製法、使用法およびそれらを有効
成分とする薬剤に関する： （式中、ｋは水素原子、軽金属原子またはカルボキシ保
護基を、Ｒ１はアルキル基を、ｋ２は水素原子、メチル
基または置換メチル基を表わす）。
上記の定義において、ｋ２で表わされる置換メチルとし
てはハロメチル、アシルオキシメチル、異項環チオメチ
ル、ジメチル側−プチルシリルオキシなどが包含される
。ここにおいて、アシルオキシとしてはアルカノイルオ
キシ、とくにアセチルオキシと炭酸系アシルオキシ、と
く１こカルバモイルオキシやその保護体が好適であるが
、他のアラルカッイルオキシ、アロイルオキシアルキル
スルホニルオキシ、アリールスルホニルオキシなども含
むものとする。
ハロメチル番ζおけるハロゲン原子としては塩素が好ま
しい。
異項環チオ基としては、窒素、酸素、硫黄がら選ばれた
異原子を含む５〜６員環の単環または双環共役異項環が
置換したチオ基であって、この異項環には各種の置換基
を有し得る。
異項環としては、前記定義の範囲内のものが含まれるが
、異原子数３ないし４の五員環のものが特に望ましい。
特に好ましいものはトリアゾール、オキサジアゾール、
チアジアゾール、テトラゾールであり、また、イミダゾ
ール、トリアジン、ジヒドロトリアジンも好例である。
各種置換基としては、アルキル、シアノアルキル、カル
ボキシアルキノへ　カルバモイルアルキル、ヒドロキサ
モイルアルキル、アルコキサモイルアルキル、アミノア
ルキノペＮ−アルキル化アミノアルキル、ウレイドアル
キル、ハロアルキル、カルバモイルハロアルキル、アリ
ールチオアルキル、１４項環子オアルキル、スルファモ
イルアルキル、アルケニル、カルボキシ、アミノ、ニト
ロ、ヒドロキシ、オキソ、ハロゲンなど、炭素、窒素、
酸素、ハロゲンなどの原子を介して結合するものが好ま
しい。これらの置換基は、更に同種または異種の置換基
を有していてもよく、また、カルボキシ、カルバモイル
、アミノ、ヒドロキシ、オキソ等は、常用の保護基で、
反応または利用の目的で修飾してあってもよいものとす
る。また、二以上の置換基が結合して、全体として環状
基を形成していてもよい。
Ｒで表わされるカルボキシ保護基としては、ペニシリン
、セファロスポリンの化学の分野で、分子中の他の部分
に不都合な変化を起こすことなく着脱可能のものとして
知られている保護基、たとえばアラルキルエステル（ベ
ンジル、メチルベンジ／ｌｚ、ジメチルベンジル、メト
キシベンジル、エトキシベンシノペニトロベンジル、ア
ミノベンジル、ジフェニルメチル、フタリジル、フェナ
シルなどのエステル）、置換アルキルエステル（トリク
ロロエチル、【−ブチル、アリルなどのエステル）、ア
リールエステル（ペンタクロロフェニル、インダニルな
どのエステル）、Ｎ−ヒドロキシアミノ化合物のエステ
ル（アセトンオキシム、アセトフェノンオキシム、アセ
トアルドキシム、Ｎ−ヒドロキシこはく酸イミド、Ｎ−
ヒドロキシフタルイミドなどとのエステル）、炭酸また
はカルボン酸との酸無水物などを構成する保護基がある
。
置換アミド、置換ヒドラジドなどで反応性の高いアミド
も均等なカルボキシ保護基として、これに含めるものと
する。この保護基部分は前記のような各種置換分を有し
ていてもよい。
とくに、アルキル１、アルカノイルオキシアルキル、ア
ルコキシアルキルまたはアミノアルコキシアルキルなど
のアルキルエステル類を形成する基、ベンジ／ｌｚ、ｐ
−ニトロベンジル、フェナシル、フタリジルなどのアラ
ルキルエステル類を形成する基、フェニル、ハロフェニ
ルなどのアリールエステル類を形成する基が好ましい。
式ＣＩ）で示される化合物のうち、とくに有用なカルボ
キシ誘導体は医薬用に適するものとして当業者によく知
られている誘導体であり、それは主として軽金嶌塩と薬
理学的活性エステルである。
軽金属塩としては好ましくは周期律表第１〜■属、第２
〜４周期に属する、生理学的に受容しつるイオンとなり
うる軽金属原子の塩、とくにリチウム、ナトリウム、カ
リウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウムなど
の塩を例示できる。
薬理学的活性エステルとしては、主に経口または非経口
投与において強い抗菌性を示すエステル、とくに置換ア
ルキルエステル（アルカノイルオキシアルキルエステル
、アルコキシホルミルオキシアルキルエステル、２−オ
キソ−１，３−ジオキソレニルメチルエステルなど）、
置換アラルキルエステル（フェナシルエステル、フタリ
ジルエステルナト）、置換アリールエステル（フェニル
エステル、キシリルエステル、インダニルエステルなど
）がよく知られており、これらは化合物（Ｉ）Ｉｃも利
用できる。
化合物（Ｉ）は好気性または嫌気性のダラム陽性菌（ブ
ドウ球菌など）、グラム陰性菌（大腸菌など）にたいし
て抗菌作用を示し、医薬、動物薬、殺菌剤、防腐剤など
として利用できる。
化合物（Ｉ）は安定であり、他剤耐性菌に有効な抗菌作
用や吸収、分布、代謝、***などの薬理学的特性の点で
すぐれている。
医薬として利用するときは、要すれば常用の添加剤を加
えて製剤化し、これを化合物（Ｉ）として外用では１０
μｇ〜１＃　、静脈注射ではｏ、２〜５ｇ１経口投与で
は１〜２ｇの日用量で外用、局所、経口、注射などによ
り投与すれば、感受性細菌感染症を予防または治療する
ことができる。
化合物（Ｉ）のうち、・カルボン酸と軽金属塩は静脈注
射、点滴、筋肉注射用などに、要すれば安定化剤や溶解
補助剤とともに、アンプル剤、バイヤル剤などの注射剤
として利用できる。薬理学的活性エステルは粉剤、カプ
セル剤、錠剤、けんだく剤などとして内服用に、また、
点眼剤、軟こう剤、乳剤、スプレー剤などとし外用ない
し局所投与に利用できる。
化合物（Ｉ）は、また、他の抗菌化合物の合成原料とし
て利用することもできる。
本発明に係る式（Ｉ）の化合物は、以下の方法で製造す
ることができる。
１）塩の製造 ペネム環の３位がカルボキシである化合物（Ｉ）に塩基
を作用させるか、交換分解法により他種カルボン酸の軽
金属塩を作用させると軽金属塩である化合物ＣＩ）を製
造できる。操作法はこの分野で用いられている方法が適
用できる。たとえば、遊離酸を炭酸水素軽金属塩で中和
する方法、アルコール、ケトン、エステルなどの極性有
機溶媒中、低級カルボン酸アルカリ金属塩を作用させた
のち、難溶性溶媒を加えて目的とする塩を析出させる方
法などが好ましい。
反応は通常５０℃以下で行なうと１〜１０分間で終了す
るが、副反応がなければさらに長時間放置することもで
きる。
このようにして製造した塩は、結晶、粉末などの固体と
して分離したのち製剤化するか、凍結乾燥法などにより
抗菌製剤とすることができる。
２）カルボキシ保護基の脱離 カルボキシ保護基をもつ化合物（Ｉ）は、以下に例示す
る脱保護反応に付して、カルボキシ化合物ＣＤとするこ
とかできる。この脱保護反応には、たとえば下記のよう
な、この分野で常用の操作法を適用することができる。
ａ）反応性の高いエステル、アミド、無水物などの形の
カルボキシ保護基は酸、塩基、緩衝液、イオン交換樹脂
と水性溶液中で接触させることにより脱保護できる。反
応性が低いときにも、公知の方法によって反応性を高め
れば、容易に脱保護することができる場合もある。代表
例としては、たとえばトリクロルエチルエステノペＰ−
ニトロベンジルエステル、フェナシルエステルなトラ金
属と酸、接触還元、ジチオン酸塩などで処理して脱保護
する方法がある。
ｂ）アラルキルエステルは接触還元により脱保護できる
こともある。この場合、パラジウム、ニッケルなどの触
媒の存在下に水素を常法に従って作用させる。
Ｃ）　アラルキルエステル、シクロプロピルメチルエス
テル、スルホニルエチルエステルナトハ加溶媒分解反応
などによって脱保護できる。この反応では鉱酸、ルイス
酸、スルホン酸、強酸性カルボン酸などを、要すればカ
チオン捕捉剤の存在下に作用させる。
ｄ）　フェナシルエステル、アルケニルエステル、ヒド
ロキシアラルキルエステルなどは、塩基や核剤の作用で
、また、光化学的活性なフェナシルエステルなどは光照
射により脱保護できる。
ｅ）２−アルケニルエステルにアルカン酸アルカリ金属
とパラジウム本トリフェニルホスフィンを作用させれば
アルカリ金属塩を製造できる。
ｆ）その他、均等なカルボキシ保護基脱離法を用いるこ
とができる。
３）２位置換基の導入（Ｓヘテロ化） 化合物（Ｉ）の２位が脱離基置換メチル基である化合物
に対応する異項環チオールまたはその反応性誘導体を作
用させれば目的とする化合物（Ｉ）を製造することがで
きる。ここに、脱離基としてはハロゲン、スルホニルオ
キシ、ア／ｌ／Ａ／イルオキシ基などの活性脱離基がよ
い。前記チオールの反応性誘導体としては、アルカリ金
属塩、アンモニウム塩などが好ましい。反応は無水溶媒
中でも、含水溶媒中でも０℃〜６０℃で十分進行する。
この反応は脱水剤、塩化ホスホリル化合物などにより、
促進されることもある。
４）環化（Ｗｉｔｔｉｇ反応） 式ＣＩ）の化合物の前駆体の１つであるカルボニル−ア
ルキリデンホスホラン化合物を適当な溶媒中で加熱還流
すれば、閉環してペネム環か形成し、目的化合物（Ｉ）
が得られる。溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレ
ジなトカ用いラレル。
５）構造変換 式（Ｉａ）で示されるジオキソラニル化合物は、クロロ
ホルム、ベンゼン、アセトニトリル、水の様な溶媒中、
触媒量の１，５−ジアザビシクロ〔５゜４、Ｆ）−５−
ウンデセン（ＤＢＵ）　、炭酸水素ナトリウムなどで処
理すれば、ヒドロキシアＪレキリデン化合物（Ｉｂ）に
変換することができる。
６）薬理学的活性エステル カルボキシ保護基をもつ化合物（Ｉ）は、２）に記載し
た方法で脱保護した後、薬理学的活性エステル、例えば
ピバロイルオキシメチル（ＰＯＭ）エステルに変換する
ことができる。即ち、例えばジメチルホルムアミド（Ｄ
ＭＦ）中、トリエチルアミンの様な塩基の存在下、遊離
カルボン酸とピノくロイルオキシメチルヨーシトを０℃
〜室温で反応させればＰＯＭエステルが得られる。
７）カルボキシ基その他の反応性官能基の保護化合物（
Ｉ）に化学反応を施して、他の化合物（１）などに変化
させるとき、目的とする基以外の反応性官能基を保護し
ておく必要がある場合かある。この場合、その反応性官
能基の種類に応じてこの分野でよく用いられている方法
を援用して保護することができる。このような方法は浅
記のような各種成帯に詳述されている。
たとえば、ヒドロキシ基にはアシル化、エーテル化など
、アミノ基にはアシル化、エナミン化、シリル化など、
カルボキシ基にはエステル化、アミド化、酸無水物化な
どを常法により施こすことができる。また、薬理学的性
質を改変して所望の性質を与えるために、薬理学的活性
エステルとする場合も、この項の反応に含めるものとす
る。この場合、カルボン酸（Ｉ）に塩基を作用させて塩
とし、これに所望エステル基のハライドを作用させて目
的とする化合物ＣＩ）を合成することもできる。
ｒの十ろ？ｉ−反広什其のａ譜のナーめ出！Ｓ猫ヰ七ト
びその導入、脱離法については、例えばＪ、Ｆ、Ｗ。
ＭｃＯｍｉｅ　Ｅｄ、、　”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇ
ｒｏｕｐｓ　ｉｎ　（）ｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒ
ｙ″ｐｐ、１８３（１９７３）　ＰＬＥＵＭ　Ｐｒｅｓ
ｓ。
Ｎ、Ｙ、　ｉやＳ、Ｐａｔａｉ　、　Ｅｄｉｔ、　、　
”Ｔｈｅ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆＦｕｎｃｔｉｏｎ
ａｌ　Ｇｒｏｕｐｓ’、　ｐｐ、５０５（１９６９）、
Ｉｎｔｅｒ　−５ｃｉｅｎｃｅ　Ｐｕｂｌ、、　Ｊｏｈ
ｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　５ｏｎｓ　Ｌｔｄ。
Ｌｏｎｄｏｎ　；　Ｆｌｙｎｎ　Ｅｄ、、　’Ｃｅｐｈ
ａｌｏｓｐｏｒｉｎｓ　ａｎｄＰｅｎｉｃｉｌｌ　ｉｎ
ｓ’　、　Ａｃａｄｅｍｉｃ　Ｐｒｅｓｓ、　Ｎ、Ｙ、
（１９７２）などの成帯ないし各種特許文献などに詳記
されている方法を利用することもできる。
８）反応条件 前記合成方法（１）　−（６）は通常−３０℃〜１００
℃、とくｌこ一２０℃〜５０℃の温度で１０分間〜５時
間かけて反応させることが多い。これらは溶媒中、要す
れば無水条件下に実施する。その他の常法は、いずれも
適用できる。反応用溶媒としては、炭化水素、ハロゲン
化炭化水素、エーテル、ケトン、エステル、ニトロ炭化
水素、ニトリル、アミド、スルホキシド、カルボン酸、
荷機塩基、アルコール、水、その他の系列に属する工業
用溶媒またはその混合物を利用できる。
９）後処理 反応液から未反応原料、副生成物、溶媒などの夾雑物を
抽出、蒸発、洗浄、乾燥などの常法により除去したのち
、吸着、溶離、蒸留、沈殿、析出、クロマトグラフィー
など、常用の後処理法を組合せて生成物を単離すること
ができる。
１０）製造原料 化合物（Ｉ）は下記式（ＩＩ）のカルボニル−アルキリ
デンホスホラン化合物を原料として製造することができ
る： 〔式中、Ｒ，Ｒ１およびに２は前記と同意義である〕。
製造原料（ｎ）に於いて、ｋ２がハロメチルであるもの
は、下記の式（ｍ）で示される化合物から、以下の反応
式Ｉに従って製造することができる：ＣＯＯＰＭＢ　Ｃ
ＯＯＰＭＢ ＯＯＰＭＢ 上記反応式１の出発物質となる化合物（ＩＩＩ）　ｆｉ
、以下の反応式■〜Ｖのいずれ力）ｌこ従って製造する
ことができる： 反応式■ （ＣＡＮ：セリツクアンモニウムナイトライド）反応式
■ 上記反応式■〜■において、ペニシリンと同じ立体構造
を持ったアゼチジノン出発物質は、以下の反応式■に従
って製造することができる：反応式■ に２がｌ・ロメチルである式（ｎ）の製造原料はまた、
以下の反応式■に従ってペニシリンから製造することも
できる： 反応式■ ＣＯＣｏｏＰ　ＣＯＯＰＭＢ （ＩＩ） （ｍ−Ｃ００Ｐ：ｍ−りｏｏ過安息香酸　）製造原料（
ｎ）に於いて、Ｒ２がメチルであるものは、下記の反応
式■〜廟のいずれかに従って製造することかできる： 反応式■ Ｃ００ＰＮＢ　′Ａ″”” ０ＯＰＮＢ （１）　Ｃ００ＰＮＢ 反応式■ ＯＯＰＮＢ 反応式Ｘ Ｃ００ＰＮＢ （ＩＩ） ６反応式■ Ｃ００ＰＮＢ　Ｃ００ＰＮＢ ＣＯＯＰＮＢ　Ｃ００ＰＮＢ （ＩＩ） 製造原料（■）において、Ｒ２が水素原子であるものは
、以下の反応式Ｘ■　に従って製造することができる： 反応式ｘｍ （ＩＩ） 製造原料（ＩＩ）に於いて、Ｒ２がアセトキシメチルで
あるものは、以下の反応式■に従って製造することがで
きる。
反応式■ 製造原料（ＩＩ）において、　Ｒ２かジメチルｔ−ブチ
ルシリルオキシメチルであるものは、以下の反応式層に
従って製造することができる： 反応式ＸＩＶ ０ＤＰＮＢ ＣＩ［） 製造原料（ｎ）において、Ｒ２が異項環チオメチルであ
るものは、Ｒ２かハロメチルである化合物ＣＩ［）から
以下の反応式Ｘ■に従って製造することができる： 反応式ＸＶ 上記の製造法に従って製造した式（ＩＩ）で示される製
造原料を、その物理定数と共に後記表１に示す。
以下に実施例を示して本発明の詳細な説明する。
生成物の物理定数は、後記の表にまとめて記載した。表
中、ＩＲは、ｍ−１値を、ＮＭＲはδ値を、δ値は結合
定数をＨｚ値で示す。
実施例中、量を表わす部はβ−ラクタム原料１重量部に
対する重量の割合を、モル当量数は原料β−ラクタム１
モルに対するモル数を示す。
後処理には、反応液に通常、必要に応じて水、ジクロロ
メタンなどの溶媒を加え、水洗、乾燥、減圧濃縮して得
られる残留物を、必要ならシリカゲル・クロマトグラフ
ィーで精製したのち、結晶化、沈殿、口過などで採取す
る方法を組合せて用いる。生成物の物理定数の測定値は
標品と一致する。
使用した略号は、以下の通りである。
Ｐｈ　：フェニル基 Ｍｅ　：メチル基 Ｅ【　：エチル基 ＰＭＢ：ｐ−メトキシベンジル基 ＰＯＭ：ピバロイルオキシメチル基 ＡＣニアセチル基 ■ 尚、表中、ｋｌの欄に示した（ａ）およヒ’　（ｂ　）
　ハＲ１の立体配置を表わしくａ＝Ｒ，ｂ＝Ｓ）、α、
βは、表１の化合物においては３位の、その他の表の化
合物においては６位の置換基の配位を表わす（αはα配
位、βはβ−配位）。また、表４の化合物番号の下に示
したシス−トランス異性は、メチロールとラクタムカル
ボニルのシス・トランスを示す。
実施例Ｉ Ｃ０２１’　Ｐ、３　ｔ、；ｕ２””Ｉ５粗クロロメチ
ル体１．１ｇを乾燥トルエン１００ｄにとかし、８５℃
で２時間加熱する。反応終了後溶媒を減圧留去し、シリ
カゲルクロマトグラフ的化合物の物理定数は表２に示す
。
実施例２ クロロメチル体２４８〜を塩化メチレンＩＱｍｌと水１
ｄの混合溶媒に溶かし、５−メルカプト−１−メチル−
１，２，３，４−テトラゾールのナトリウム塩２００　
ｍｆｌおよびテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムプロミド
２０〜を加えて室温で２時間攪拌する。有機層を分離し
、飽和ＮａＨω３水で洗浄し、Ｍｇ　Ｓ０４で乾燥した
後溶媒を減圧留去し、シリカゲルクロマトクラフィー（
ベンゼン：酢酸エチル＝１：３）で分離精製するとテト
ラゾール中間体２６０ダが得られる。
上で得た中間体を乾燥トルエン２０ＴＬｌｌこ溶かし、
９０℃で２時間加熱する。反応終了後溶媒を減圧留去し
、シリカゲルクロマトグラフィー（ベンゼン：酢酸エチ
ル−２：１）で分離精製すると泡末状の目的物質１３０
ｑが得られる。目的化合物の物理定数は表２に示す。
実施例２と同様の方法で製造した式（Ｉ）の化合物を、
その物理定数と共に表２に示す。
実施例３ 実施例１で得たに２がクロロメチルである式（Ｉ）の化
合物４０ｍｆ／を塩化メチレン２ｍｌと水０．５　ｍｌ
の混合溶媒にとかし、５−メルカプト−１−メチル−１
，２，３，４−テトラゾールのナトリウム塩１９■およ
びテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムプロミド３１１ｙを
加えて室温で２時間攪拌する。有機層を分離し、飽和Ｎ
　ａ１１ＣＯａ水で洗浄し、Ｍｇ　ＳＯ，ｉで乾燥した
後溶媒を減圧留去し、シリカゲルクロマトグラフィー（
ベンゼン：酢酸エチル−２＝１）で分離精製すると泡末
状の目的化合物３８ｑが得られる。
目的化合物の物理定数は表３に示す。
実施例３と同様の方法で製造した式（Ｉ）の化合物を、
その物理定数と共に表３に示す。
（シス） ２ ｋかジメチル（−ブチルシリルオキシメチルである式Ｃ
Ｉ）の化合物３５■をＣＤＣｄ３０．５ｍｌにとかし、
１，５−ジアザビシクロＣ５，４，０’：］　−５−ウ
ンデセン（ＤＢＵ）、（１ミリモル／トルエンｌ　ｒａ
ｇ　）を加える。反応は室温で瞬時に完了し、目的とす
るヒドロキシアルキリデン化合物かトランス体とシス体
の比率１：３で生成する。反応液に酢酸エチル５ｒｎｌ
を加えて水洗した後Ｍｇ　ＳＯ４で乾燥し、目的化合物
３２１１ｇを得た。目的化合物の物理定数は表４に示す
。
実施例４と同様の方法で製造した式ＣＩ）の化合物を、
その物理定数と共に表４に示す。
実施例５ 塩化アルミニウム１０４　Ｍｆ／をアニソール２ｍｌと
塩化メチレンＱ、　２＃！ｅの混合溶媒にとかし、これ
に出発物質であるエステル１００１ｎ９を一４０℃で加
え、１時間この温度で攪拌する。ＮａＨＣＯ３２９５〜
をとかした０、０１Ｍ燐酸緩衝液１０ｄをこの溶液に一
４０℃で加え、更に塩化メチレン２０跳１を加えた後０
℃で３０分間攪拌する。濾過後、水層をＨＰ２０て分離
精製し、凍結乾燥すると白色粉末状の目的化合物３５■
が得られる。目的化合物の物理定数は表５に示す。
実施例５と同様の方法で製造した式（Ｉ）の化合物を、
その物理定数と共に表５に示す。
実施例６ 出発物質であるＰ−ニトロベンジルエステル１２０１Ｎ
ｇを酢酸エチル５０ｄにとかし、パラジウム／炭素（１
０％）１００Ｉｕｊの存在下、室温で水素接触還元を行
なう。１時間毎にパラジウム／炭素１００〜を追加し、
６時間反応させる。反応終了後溶媒を減圧留去し、得ら
れた遊離酸をＤＭＦ５ｍｌにとかし、０℃でトリエチル
アミン４０μβとピバロイルオキシメチルエステル（■
ＣＨ２０Ｃ０２ｔ−Ｂｕ）１０８μｌを加え、１時間攪
拌する。反応終了後酢酸エチル２０−を加えて濾過し、
Ｆ液を水洗した後Ｍｇ　Ｓ０４で乾燥し、溶媒を減圧留
去して得られる残留物をシリカゲルクロマトグラフィｌ
（ベンゼン：酢酸エチル＝２　：　１　）で分離すると
目的化合物であるピバロイルオキシメチルエステル７０
〜が得られる。目的化合物の物理定数は表６に示す。
実施例６と同様にして製造した式（Ｉ）の化合物を、そ
の物理定数と共に表６に示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 （１）下記化学構造式で表わされる２−置換または非置
    換−６−（２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イ
    ル）マタは（１−ヒドロキシ−２−アルキリデン）−２
    −ペネム−３−カルボン酸とそのカルボキシ基における
    誘導体： （式中、ｋは水素原子、軽金属原子またはカルボキシ保
    護基を、［１はアルキル基を、Ｒ２は水素原子、メチル
    基または置換メチル基を表わす）。 （２、特許請求の範囲（１）の化合物を有効成分とする
    抗菌剤。 細菌を殺菌または静菌する方法に用いる特許請求の範囲
    （１）の化合物の用途。 （４）特許請求の範囲（１）の化合物を核置換反応、核
    合成、脱保護、造塩またはエステル化などによって製造
    する方法。
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