JPS60240647A - Vessel made of synthetic resin and manufacture thereof - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 ■８発明の背景 技術分野 本発明は、合成樹脂製容器およびその製造方法に関する
ものである。詳しく述べると、ガスバリヤ−性が極めて
高くかつ透明性が良好で長期間にわたって高い減圧度ま
たは加圧度を保持し得る合成樹脂製容器およびその製造
方法に関するものである。Detailed Description of the Invention (8) Background Technical Field of the Invention The present invention relates to a synthetic resin container and a method for manufacturing the same. Specifically, the present invention relates to a synthetic resin container that has extremely high gas barrier properties, good transparency, and can maintain a high degree of vacuum or pressurization for a long period of time, and a method for manufacturing the same.

先行技術 従来、種々のタイプの合成樹脂製容器が各種分野におい
て使用されている。そして、それらの容器の中には、内
部が減圧される減圧容器があり、その−例を挙げると、
例えばビール、コーラ、サイダー等の炭酸飲料用容器が
ある。PRIOR ART Conventionally, various types of synthetic resin containers have been used in various fields. Among these containers, there are vacuum containers whose interiors are depressurized; for example,
For example, there are containers for carbonated drinks such as beer, cola, and cider.

このような減圧容器としては、従来、容器本体どしてガ
ス透過性がなくかつ透明性の良好なものとしてガラス製
容器が使用されてきた。しかしながら、ガラス製容器は
、保存または運搬中、もしくは使用中に破損しやすく、
また重いという欠点があった。このため、軽量で透明な
合成樹脂製容器の使用について検討を行なったが、合成
樹脂は大なり小なりガス透過性があるので、長時間の保
存中に周囲の雰囲気ガス、例えば空気が透過してしまう
。よって、減圧包装容器内に保存する必要があった。し
かるに、減圧包装容器による保存は、包装容器が減圧容
器であるために、極めて高価であるろンに密↓ｌおよび
間化で茗１７＜壬闇バかかるのでコスト高となるという
欠点があった。さらに、炭酸ガス含有飲料用容器にあっ
ては、飲料中の炭酸ガス成分が容器を透過して周辺雰囲
気中へ流出してしまう等の恐れがあった。As such a reduced pressure container, a glass container has conventionally been used because the container body has no gas permeability and has good transparency. However, glass containers are easily damaged during storage, transportation, or use.
Another drawback was that it was heavy. For this reason, we investigated the use of lightweight and transparent synthetic resin containers, but since synthetic resins are more or less gas permeable, surrounding atmospheric gases such as air may pass through them during long-term storage. I end up. Therefore, it was necessary to store it in a vacuum packaging container. However, storage in vacuum packaging containers has the drawback that, since the packaging containers are vacuum containers, they are extremely expensive, and the cost is high because of the high density and interspersion. . Furthermore, in the case of containers for beverages containing carbon dioxide gas, there is a risk that carbon dioxide components in the beverage may permeate the container and leak into the surrounding atmosphere.

■１発明の目的 したがって、本発明の目的は、減圧容器、加圧容器等に
用いられるガスの透過性を抑えた新規な合成樹脂製容器
を提供することにある。本発明の他の目的は、ガスバリ
ヤ−性が高くかつ透明性が良好で長時間にわたって高い
減圧度または加圧度を保持できる合成樹脂製容器を提供
することにある。本発明のさらに他の目的は破損の恐れ
がなくかつガスバリヤ−性の極めて高い透明合成樹脂製
の減圧ないし加圧容器を提供することにある。(1) Purpose of the Invention Accordingly, an object of the present invention is to provide a novel synthetic resin container with reduced gas permeability, which is used in reduced pressure containers, pressurized containers, and the like. Another object of the present invention is to provide a synthetic resin container that has high gas barrier properties, good transparency, and can maintain a high degree of vacuum or pressure for a long period of time. Still another object of the present invention is to provide a reduced pressure or pressurized container made of transparent synthetic resin that is free from damage and has extremely high gas barrier properties.

本発明の他の目的は、ガスバリヤ−性が高くかつ透明性
が良好で長時間にわたって高い減圧度または加圧痘を保
持できる合成樹脂製容器の製造方法を提供することにあ
る。本発明のさらに他の目的は、破損の恐れがなくかつ
ガスバリヤ−性の極めて高い透明合成樹脂製の減圧ない
し加圧容器の製造方法を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a synthetic resin container that has high gas barrier properties, good transparency, and can maintain a high degree of vacuum or pressure for a long period of time. Still another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a vacuum or pressurization container made of transparent synthetic resin that is free from breakage and has extremely high gas barrier properties.

これらの諸目的は、少なくとも１個所に密閉可能な開口
部を有する合成樹脂製容器本体の内表面または外表面の
少なくとも一方の表面に一般式■（ただし、式中、ｍは
１〜５の整数である。）を有するケイ素化合物と一般式
■ （ただし、式中、ｎは１〜５の整数であり、またＲ１お
よびＲ２は炭素原子数１〜４のアルキルまたはアルコキ
シ基、フェニル基または水酸基であるが、Ｒ１およびＲ
２が同時に水酸基であることはない。）を有するケイ素
化合物の混合物を反応１　させてガスバリヤ−性の連続
した被膜を形成′してなる合成樹脂製容器により達成さ
れる。For these purposes, at least one surface of the inner or outer surface of a synthetic resin container body having at least one sealable opening is formed using the general formula (where m is an integer from 1 to 5). ) and a silicon compound having the general formula ■ (where n is an integer of 1 to 5, and R1 and R2 are an alkyl or alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, or a hydroxyl group). However, R1 and R
2 cannot be a hydroxyl group at the same time. ) is reacted to form a continuous film having gas barrier properties.

また、本発明は、合成樹脂製容器本体が透明合成樹脂製
である合成樹脂製容器である。さらに、本発明は、前記
被膜が透明被膜である合成樹脂製容器である。本発明は
、前記被膜が膜厚がｏ、０１〜２．０μｍである合成樹
脂製容器である。また、本発明は、一般式■におけるｍ
が１〜５の整数であり、かつ一般式■におけるｎが１〜
５の整数であり、またＲ１およびＲ２が炭素原子数１〜
４のアルキル基または水酸基である合成樹脂製容器で゛
ある。さらに、本発明は、一般式■におけるＲ１が炭素
原子数１〜２のアルキル基であり、がつＲ２が水酸基で
ある合成樹脂製容器である。Further, the present invention is a synthetic resin container whose synthetic resin container body is made of transparent synthetic resin. Furthermore, the present invention is a synthetic resin container in which the coating is a transparent coating. The present invention is a synthetic resin container in which the coating has a thickness of 0.01 to 2.0 μm. Furthermore, the present invention provides m in the general formula (■)
is an integer from 1 to 5, and n in the general formula (■) is from 1 to
is an integer of 5, and R1 and R2 have 1 to 1 carbon atoms.
It is a synthetic resin container having an alkyl group or a hydroxyl group of No. 4. Furthermore, the present invention is a synthetic resin container in which R1 in the general formula (2) is an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and R2 is a hydroxyl group.

これらの諸目的は、少なくとも１個所に密閉可能な開口
部を有する合成樹脂製容器本体の内表面または外表面の
少なくとも一方の表面に一般式Ｉ（ただし、式中、ｍは
１〜５の整数である。）を有するケイ素化合物と一般式
■ （ただし、式中、ｎは１・〜５の整数であり、Ｊ、たＲ
１およびＲ２は炭素原子数１〜４のアルキルまたはアル
Ｔｅｌキシ基、フェニル基または水酸基であるが、Ｒ１
およびＲ２が同時に水酸基であることはない。）を右す
るケイ素化合物との混合溶液を塗ｆａｒ　Ｌ、乾燥し、
ついで゛酸素原子含有分子のガスの存ず１１・にプラズ
マ処理して前記容器本体の表面にがスバリャー性の連続
した被膜を形成ざ「ることを特徴とする合成樹脂製容器
の製造方法により達成される。For these purposes, at least one surface of the inner or outer surface of a synthetic resin container body having at least one sealable opening is formed by a compound of the general formula I (where m is an integer from 1 to 5). ) and a silicon compound having the general formula ■ (where n is an integer of 1 to 5, J, R
1 and R2 are an alkyl or alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group or a hydroxyl group, but R1
and R2 are never hydroxyl groups at the same time. ), apply a mixed solution with a silicon compound far L, dry it,
This is achieved by a method for manufacturing a synthetic resin container, which is then subjected to plasma treatment in the absence of a gas containing oxygen atoms to form a continuous coating with sparring properties on the surface of the container body. be done.

前記諸［１的は、また少なくどし少なくとも１個所に密
閉可能な間口部を有覆る合成樹脂製容器本体の内表面Ｊ
、たけ外表面の少なくとも一方の表面に一般式Ｉを６す
るケイ素化合物と一般式■を有１イ）ノ１１′索化合物
どの混合溶液を超音波の作用により塗布し、乾燥し、つ
いで酸素原子含有分子のカスの存在ドにプラズマ処理し
て前記容器本体の表面にガスバリヤ−性の連続した被膜
を形成さゼることを特徴とする合成樹脂製容器の製造方
法により達成される。[1] The inner surface J of the synthetic resin container body having at least one sealable opening
, A mixed solution of a silicon compound having the general formula I and a compound having the general formula II is applied to at least one of the outer surfaces of the bamboo by the action of ultrasonic waves, dried, and then oxygen atoms This is achieved by a method for manufacturing a synthetic resin container, characterized in that a continuous film having gas barrier properties is formed on the surface of the container body by plasma treatment in the presence of molecular residue contained therein.

前記諸目的は、また少なくとも１個所に密閉可能な開口
部を有Ｊる合成樹脂製容器本体の表面を洗浄処理したの
ち、該容器本体の内表面または外表面の少なくとも一方
の表面に一般式Ｉを右するり、イ素化合物と一般式■を
有するケイ南化合物との混合溶液を塗布し、乾燥し、つ
いで酸素原子含有分子のガスの在合Ｆにプラズマ処理し
て前記容器本体の表面にカスバリヤー性の連続した被膜
を形成させることを特徴とする合成樹脂製容器の製造方
法により達成される。The above-mentioned objects are also achieved by cleaning the surface of a synthetic resin container body having at least one sealable opening, and then applying the general formula I to at least one of the inner surface and outer surface of the container body. Then, a mixed solution of an ion compound and a silicon compound having the general formula (2) is applied, dried, and then plasma treated to form a gaseous mixture of oxygen atom-containing molecules on the surface of the container body. This is achieved by a method for manufacturing a synthetic resin container characterized by forming a continuous film with gas barrier properties.

前記諸目的は、また少なくとし缶登皇各各１個所に密閉
可能な開口部を有する合成樹脂製容器本体の表面を洗浄
処理したのち、該容器本体の内表面または外表面の少な
くとも一方の表面に一般式Ｉを有するケイ素化合物と一
般式■を右するケイ素化合物との混合溶液を超音波の作
用により塗布し、乾燥し、ついで酸素原子含有分子のカ
スの存（ｉｌ・にプラズマ処理して前記容器本体の表面
にがスバリャー性の）重続した被膜を形成させることを
特徴どする合成樹脂製容器の製造方法により達成される
３゜ また、本発明は、反応が０．０１・−２，０Ｔｏｒｉ゛
の減圧下に行なわれなでなる合成樹脂製容器の製）ｉＦ
Ｊｔ３’ｄ＜χ・ある１、ざらに、本発明は、酸素原子
含有分子のガスのｌ！ｌ素含有間が２０へ・１００％の
濃１１１で−ある合成樹脂製容器の製３Ｌ方法である。The above-mentioned purposes also include cleaning the surface of a synthetic resin container body having at least one sealable opening in each can, and then cleaning at least one of the inner surface and the outer surface of the container body. A mixed solution of a silicon compound having general formula I and a silicon compound having general formula 3°, which is achieved by a method for manufacturing a synthetic resin container characterized by forming a superimposed film (of svalier properties) on the surface of the container body. (Manufacturing of synthetic resin containers that are processed under reduced pressure of 0 Tori) iF
Jt3'd<χ・1, roughly speaking, the present invention provides a method for determining the l! of a gas of oxygen atom-containing molecules. This is a 3L method for manufacturing a synthetic resin container with a concentration of 111 to 20 to 100%.

本発明は、反応温度が０〜１５０℃である合成樹脂製ｆ
′ｆ器の製造方法である。また、本発明は、一般式１１
、：Ｒ３けるｍが１〜５の整数であり、かつ一般式■に
お１ノる０が１〜５の整数であり、またＲ１およびＲ２
が炭素原子数１〜４のアルキル基また水酸基である合成
樹脂製容器の製造方法である。さらに、本発明は、一般
式■におけるＲ１が炭素原子数１〜２のアルキル基であ
り、かつＲ２が水酸基である合成樹脂製容器の製造方法
である。本発明は、プラズマ処理が０．１〜６０分間行
なわれＴなる合成樹脂［６美の製造方法である。さらに
本発明は、合成樹脂が透明合成樹脂である合成樹脂製容
器の製造方法である。本発明は、洗浄処理がアルカリ水
溶液中で行なわれる合成樹脂製容器の製造方法である。The present invention uses synthetic resin f with a reaction temperature of 0 to 150°C.
This is a method of manufacturing a 'f device. Further, the present invention provides general formula 11
, :R3 is an integer of 1 to 5, and in the general formula 1, 0 is an integer of 1 to 5, and R1 and R2 are
is an alkyl group or a hydroxyl group having 1 to 4 carbon atoms. Furthermore, the present invention is a method for producing a synthetic resin container in which R1 in the general formula (2) is an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and R2 is a hydroxyl group. The present invention is a method for producing synthetic resin [6] which is subjected to plasma treatment for 0.1 to 60 minutes. Furthermore, the present invention is a method for manufacturing a container made of synthetic resin, in which the synthetic resin is a transparent synthetic resin. The present invention is a method for manufacturing a synthetic resin container in which the cleaning treatment is performed in an alkaline aqueous solution.

また、本発明は、洗浄処理が超音波の作用により行なわ
れる合成樹脂製容器の製造方法である。Further, the present invention is a method for manufacturing a synthetic resin container in which cleaning treatment is performed by the action of ultrasonic waves.

■１発明の具体的構成 つぎに図面を参照しながら、本発明の詳細な説明する。■1 Specific structure of the invention Next, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

すなわち、第１図に示すように、本発明による合成樹脂
製容器１は、少なくとも１個所に密閉可能な開口部３を
有する透明合成樹脂製容器本体２よりなるもので、この
透明合成樹脂製容器本体２の内表面および外表面の少な
くとも一方の表面に前記一般式Ｉおよび■のライ素化合
物をプラズマ処理により反応させて透明被膜が形成され
る。例えば、第２（Ａ）図に示すように、容器本体２の
外表面全面に前記ケイ素化合物を反応させて透明被膜２
ａが形成されている。また、第２（Ｂ）図に示すように
、容器本体２の内表面全面に前記透明被膜が２ｂが形成
されている。さらに、第２（Ｃ）図に示すように、容器
本体２の外表面に前記透明液［Ｒ２ａが、またその内表
面に前記透明被膜２ｂが形成されている。なお、第２（
Ａ）〜（Ｃ）図において、透明被膜２ａ　、　２ｂの膜
厚は誇張して画かれている。That is, as shown in FIG. 1, a synthetic resin container 1 according to the present invention consists of a transparent synthetic resin container body 2 having at least one sealable opening 3. A transparent coating is formed on at least one of the inner and outer surfaces of the main body 2 by reacting the lyme compounds of formulas I and (2) with plasma treatment. For example, as shown in FIG. 2(A), a transparent coating 2 is formed by reacting the silicon compound on the entire outer surface of the container body 2.
a is formed. Further, as shown in FIG. 2(B), the transparent coating 2b is formed on the entire inner surface of the container body 2. Furthermore, as shown in FIG. 2(C), the transparent liquid [R2a] is formed on the outer surface of the container body 2, and the transparent coating 2b is formed on the inner surface thereof. In addition, the second (
In Figures A) to (C), the thicknesses of the transparent coatings 2a and 2b are exaggerated.

本発明で使用される容器本体を構成する合成樹脂はポリ
スチレン、その共重合体く例ポリ（スチレン・メタクリ
ル醸メチル））、アク１ノル樹ｎ旨（例メチルメタクリ
レート単独重合体Ｊ：た１よその共重合体）、へＢＳ樹
脂、ポリカーボネート樹ｎ旨、ポリエステル樹脂、Ｐｖ
Ｃ樹脂、ポリオレフィン樹脂（例ポリエチレン樹脂）な
どである。ボ１ノカーボネーｌ〜としては、例えば４．
４′　−イソプロピリデンジフェノールポリカーボネー
トのようなビスフェノール型カーボネートの伯に、米国
特許第３．３０５，５０２号およびクリストファー、フ
ォックス共著「ポリカーボネート」第１６１−１７６頁
（１９６２年発行）に記載されて０る他のポリカーボネ
ート類、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート
等が挙げられる。The synthetic resins constituting the container body used in the present invention are polystyrene, copolymers thereof (e.g. poly(styrene/methacrylic methyl)), acrylic acid (e.g. methyl methacrylate homopolymer J: methacrylate), etc. its copolymer), BS resin, polycarbonate resin, polyester resin, Pv
C resin, polyolefin resin (eg polyethylene resin), etc. For example, 4.
Bisphenol-type carbonates such as 4'-isopropylidene diphenol polycarbonate are described in U.S. Pat. Examples include other polycarbonates such as diethylene glycol bisallyl carbonate.

被膜形成成分の一つは一般式■ （ただし、式中、ｍは１〜５の整数である。）を有する
ケイ素化合物である。One of the film-forming components is a silicon compound having the general formula (1) (where m is an integer from 1 to 5).

他方の被膜形成成分は、一般式■ を有するケイ素化合物である。該一般式■にお（Ｘで、
ｎは１〜５の整数である。またＲ１　およびＲ２は炭素
原子数１〜４のアルキルまたはアルコキシ基、フェニル
基または水酸基であるが、Ｒ１およびＲ２が同時に水酸
基であることはない。Ｒ１およびＲ２は、の好ましくは
炭素原子数１〜４のアルキル基または水酸基であるが、
両者が水ｉａｍであることはなく、特にＲ１が炭素原子
数１〜２のアルキル基でＲ２が水酸基である場合が好ま
しい。The other film-forming component is a silicon compound having the general formula (2). In the general formula ■ (with X,
n is an integer from 1 to 5. Further, R1 and R2 are an alkyl or alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, or a hydroxyl group, but R1 and R2 are never a hydroxyl group at the same time. R1 and R2 are preferably an alkyl group or a hydroxyl group having 1 to 4 carbon atoms,
Both are not water iam, and it is particularly preferable that R1 is an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms and R2 is a hydroxyl group.

このようなケイ素化合物の混合物は、メタノール、エタ
ノール、イソプロパツール等の有機溶媒の溶液として使
用される。Such mixtures of silicon compounds are used as solutions in organic solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, etc.

前記透明被膜は、つぎのようにして形成される。The transparent film is formed as follows.

例えば、容器本体の外表面に被膜を形成させる場合には
、開口部に密栓を施したのち、前記ケイ素化合物の混合
溶液中に浸漬する。この浸漬時間は、通常０．１〜６０
分、好ましくは０．３〜５分である。なお、この場合、
浸漬中に超音波を当てながら行なうと合成樹脂製容器表
面の微細孔からの空気抜きと該微細孔への溶質の浸入が
捉進されるので、生成する被膜のガスバリヤ−性が向上
する。For example, when forming a film on the outer surface of the container body, the opening is sealed and then immersed in the mixed solution of the silicon compound. This immersion time is usually 0.1 to 60
minutes, preferably 0.3 to 5 minutes. In this case,
If ultrasonic waves are applied during dipping, air will be removed from the fine pores on the surface of the synthetic resin container and solute will be trapped in the fine pores, thereby improving the gas barrier properties of the resulting film.

なお、前記混合溶液の塗布は浸漬のみに限られるのでは
なく、スプレーその他の方法で行なうこともできる。Note that the application of the mixed solution is not limited to dipping, but can also be performed by spraying or other methods.

浸潤処邪の温度は、通常Ｏ〜５０℃、好ましくは１０〜
３０℃である。また、超音波の作用下に行なう場合には
、０〜５０℃、好ましくは１０〜３０℃の液温で２０〜
２００ＫＨｚ、好ましくは２５〜５０　Ｋ　Ｈ７の周波
数で０．１〜１０分間、好ましくは０．５〜５分間行な
われる。The temperature of the infiltration area is usually 0~50℃, preferably 10~50℃.
The temperature is 30°C. In addition, when carrying out under the action of ultrasonic waves, the liquid temperature is 0 to 50°C, preferably 10 to 30°C, and 20 to 20°C.
It is carried out at a frequency of 200 KHz, preferably 25-50 K H7 for 0.1-10 minutes, preferably 0.5-5 minutes.

このようにして前記混合溶液を塗膜１された容器本体は
、５０〜１５０℃、好ましくは６０〜７０℃の温度で３
〜３０分間、好ましくは５−１５分間乾燥されたのち、
プラズマ処理に供される。The container body coated with the mixed solution in this manner is heated to 30°C at a temperature of 50 to 150°C, preferably 60 to 70°C.
After being dried for ~30 minutes, preferably 5-15 minutes,
Subjected to plasma treatment.

前核容器本体表面の塗膜をプラズマ処理して透明被膜を
形成させるには、例えば、つぎのようにして行なう。す
なわち、第３図に示すようにガス導入口１１およびガス
排出口１２を備えた反応器１３に電極１４を設け、該電
極１４には容器本体支持具１５を設け、該容器本体支持
具１５に前記混合溶液を塗布した容器本体２を支持させ
る。例えば密栓除去後の容器本体２の内部に容器本体支
持具１５を挿入して支持させる。なお、電極１４には冷
却装置１６ａを当接させるどともに該冷却装置１６ａは
温度調節器１６ｂｋ：連結されて冷却媒体、例えば水が
循環される。また電極１４にはアース１７が連結される
。一方、電極１４の対面には対極１８が設けられ、該対
極１８は整合器１９を軽て高周波電源２０に連結されて
いる。ガス導入口１１には、酸素容器２１および流量計
２２が連結されている。一方ガス排出口１２には、トラ
ップ２３を経て油拡散ポンプ２４、油回転ポンプ２５等
の減圧装置が連結されている。なお、第３図において符
号２６は圧力センサー、符Ｙ３２７（，１真空ゲージで
あり、また符号２８は温度計である。Plasma treatment of the coating film on the surface of the pronuclear container body to form a transparent film can be carried out, for example, as follows. That is, as shown in FIG. 3, an electrode 14 is provided in a reactor 13 equipped with a gas inlet 11 and a gas outlet 12, a container body support 15 is provided on the electrode 14, and a container body support 15 is provided on the electrode 14. The container body 2 coated with the mixed solution is supported. For example, the container body support 15 is inserted and supported inside the container body 2 after the seal is removed. A cooling device 16a is brought into contact with the electrode 14, and the cooling device 16a is connected to a temperature controller 16bk to circulate a cooling medium such as water. Further, a ground 17 is connected to the electrode 14 . On the other hand, a counter electrode 18 is provided on the opposite side of the electrode 14, and the counter electrode 18 connects a matching box 19 to a high frequency power source 20. An oxygen container 21 and a flow meter 22 are connected to the gas inlet 11 . On the other hand, a pressure reducing device such as an oil diffusion pump 24 and an oil rotary pump 25 is connected to the gas discharge port 12 via a trap 23 . In FIG. 3, the reference numeral 26 is a pressure sensor, the reference numeral Y327 is a vacuum gauge, and the reference numeral 28 is a thermometer.

しかして、油回転ポンプ等の減圧装置を作動さけてカス
排気口１２から反応器１３内の雰囲気ガスを〃１気して
所定の減圧度を約０．０５Ｔｏｒｒまで減圧した後、前
記酸素ガスを酸素容器２１から流量計２２を経てガス導
入口１１より反応器１３に供給しながら電極に通電して
プラズマを前記塗布面に照射して処理する。この場合、
塗面に一様にプラズマが照射されるように、例えば容器
本体を回転しながら照射を行なうことが望ましい。After reducing the atmospheric gas in the reactor 13 to a predetermined degree of pressure reduction to approximately 0.05 Torr by avoiding the operation of a pressure reducing device such as an oil rotary pump, the atmospheric gas in the reactor 13 is removed from the waste exhaust port 12 to a predetermined degree of pressure reduction to about 0.05 Torr, and then the oxygen gas is removed. While supplying oxygen from the oxygen container 21 to the reactor 13 through the gas inlet 11 via the flow meter 22, electricity is applied to the electrodes to irradiate the coating surface with plasma for treatment. in this case,
In order to uniformly irradiate the coated surface with plasma, it is desirable to perform irradiation while rotating the container body, for example.

この場合、プラズマ反応条件は、プラズマ処理時の反応
器内の圧力は０．０５〜２．０Ｔｏｒｒ　。In this case, the plasma reaction conditions are such that the pressure inside the reactor during plasma treatment is 0.05 to 2.0 Torr.

好ましくは０．０５〜０．３Ｔｏｒｒである。基盤却媒
体により冷却されるが、反応器内の温度は４０〜８０℃
、好ましくは５０〜７０℃である。また、高周波電力量
は５０〜２６０Ｗ、好ましくは７０〜１００Ｗである。Preferably it is 0.05 to 0.3 Torr. Although it is cooled by the base cooling medium, the temperature inside the reactor is 40-80℃
, preferably 50 to 70°C. Further, the high frequency power amount is 50 to 260W, preferably 70 to 100W.

さらに、酸素原子含有分子のガスとしては分子状酸素、
オゾン、−酸化炭素、炭酸ガス、−酸化窒素等があるが
、好ましくは分子状酸素（以下、酸素ガスという。）で
あり、その量は１００〜８００　ＴＩＬｌ　／ｍｉｎ　
、好ましくは２００〜５００ｍ１／ｍｉｎである。プラ
ズマ照射は１〜１０分間、好ましくは２〜５分間照射を
行う。よって基材である容器本体のプラズマ照射による
温度上昇が防止できるので、好適である。なお、反応温
度が４０℃〜８０℃程度である。Furthermore, molecular oxygen,
There are ozone, -carbon oxide, carbon dioxide gas, -nitrogen oxide, etc., but molecular oxygen (hereinafter referred to as oxygen gas) is preferable, and the amount thereof is 100 to 800 TILl/min.
, preferably 200 to 500 m1/min. Plasma irradiation is performed for 1 to 10 minutes, preferably for 2 to 5 minutes. Therefore, it is possible to prevent the temperature of the container body, which is the base material, from increasing due to plasma irradiation, which is preferable. Note that the reaction temperature is about 40°C to 80°C.

このような反応条件下に形成される透明被膜のＳ厚は、
０，０１〜２．０１１ｍ、好ましくは０゜０３〜０．２
μｍである。The S thickness of the transparent film formed under such reaction conditions is
0.01-2.011 m, preferably 0°03-0.2
It is μm.

ケイ素化合物の混合溶液塗布前に、溶液本体を洗浄処理
すれば、さらに良好な結果が得られる。Even better results can be obtained if the main body of the solution is washed before applying the silicon compound mixed solution.

洗浄は、水、酸水溶液、アルカリ水溶液、アルコ−肌　
缶石イ耕如ル襖披竺九ｍ　１．％　７１−＋　を−柄柄
ス渥アルカリ水溶液が好ましい。アルカリ水溶液として
は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭
酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸カリウム等
であるツそして通常０．５〜１０重量％、好ましくは１
〜５重量％の水溶液として用いられる。その処理ｖＩ間
は、通常１〜１０分間、りＹましくは２〜５分間である
。また、前記洗浄処理は、超音波の作用により行なえば
、さらに良好な結果が得られる。それは後に塗布する溶
液が基材の表面の凹にまで浸透することができるためと
思われる。超音波処理は、２０〜２００ＫＨｚ。Cleaning can be done with water, acid aqueous solution, alkaline aqueous solution, alcohol.
9m long sliding door 1. % 71-+ - Aqueous alkaline solution is preferred. Examples of the alkaline aqueous solution include sodium carbonate, potassium carbonate, lithium carbonate, sodium bicarbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc. and usually 0.5 to 10% by weight, preferably 1% by weight.
It is used as a ~5% by weight aqueous solution. The duration of the treatment is usually 1 to 10 minutes, preferably 2 to 5 minutes. Moreover, even better results can be obtained if the cleaning treatment is performed using ultrasonic waves. This seems to be because the solution applied later can penetrate into the depressions on the surface of the base material. Ultrasonication is performed at 20 to 200 KHz.

好ましくは２５〜５０　Ｋ　ｌ−１ｚの周波数で０．１
〜１０分間、好ましくは０．５〜５分間で行なわれる。Preferably 0.1 at a frequency of 25-50 Kl-1z
It is carried out for ~10 minutes, preferably 0.5-5 minutes.

超音波により洗浄処理を行なえば、アルカリ水溶液以外
の処理剤であってもかなり良好な結果が得られることは
もちろんである。また、アルカリ水溶液を用いて超音波
洗浄を行なえば、最も良好な結果が１ｑられる。It goes without saying that if cleaning treatment is carried out using ultrasonic waves, fairly good results can be obtained even with treatment agents other than aqueous alkaline solutions. Furthermore, the best results can be obtained by performing ultrasonic cleaning using an alkaline aqueous solution.

なお、本発明によるその他の合成樹脂製容器、例えば炭
酸飲料用容器（例えばビール、コーラ、サイダー、ジュ
ース等用）、食品用容器（例えば、ソーセージ、加工果
実用等用）等も、同様にして製造され得る。しかして、
該容器の開口部にはガスバリヤ−性の密栓ないし蓋によ
り密封される。Note that other synthetic resin containers according to the present invention, such as containers for carbonated drinks (for example, for beer, cola, cider, juice, etc.), containers for food (for example, for sausages, processed fruits, etc.), etc. can be similarly applied. can be manufactured. However,
The opening of the container is sealed with a gas barrier plug or lid.

■、具体的作用 以上のごとき方法で製造された合成樹脂製容器は、つぎ
のようにして使用される。すなわち、第１図に示すよう
な合成樹脂製容器１の容器本体２に炭酸飲料等の内容物
を、必要により充填したのち、減圧ないし加圧下あるい
は不活性ガス雰囲気下に栓部材４により密封して使用さ
れる。(2) Specific Function The synthetic resin container manufactured by the method described above is used in the following manner. That is, after filling the container body 2 of a synthetic resin container 1 as shown in FIG. 1 with contents such as carbonated beverages, if necessary, the container is sealed with a stopper member 4 under reduced or increased pressure or an inert gas atmosphere. used.

つぎに、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する
。Next, the present invention will be explained in more detail by giving Examples.

実施例１ ボリエチレンフタレート製容器を濃度２．５％Ｎ８２Ｃ
Ｏ３溶液中に５分間浸漬して（超音波処理を行った）し
たのち上述のケイ素化合物濃億１２重四％イソプロパツ
ール溶液中に２０℃、１分間浸漬したのち、引き上げ速
度１６ｃｍ／分で引き上げた。次いで、７０℃で３０分
間乾燥した。次いで、低温プラズマ反応装置第３図１３
中に、当該合成樹脂製チューブを挿入し、脱気（０，０
５丁Ｏｒ＋・）し、次いで酸素ガスを装てんして約０゜
３Ｔｏｒｒ圧力下で、プラズマ出力電力１００Ｗ、２分
間プラズマ処理を平行平板型Ｍ（５０ｍｍｘ５０ｍ平板
使用）、距離的５０ｍｍで行ったところこの容器の片面
に膜厚が０．１μ空の透明被膜が被着した。この被覆容
器の酸素および炭酸ガスの透過性を測定するため前記材
質のフィルム（膜厚１２μ雇、面積５００Ｉ１１２＞を
用いて前記と同様の処理を行なった。この被覆フィルム
のガス透過性をリッジ−社製気体透過測定装置て測定し
たところ５０、６ｍ［、、、’ｍ　２−ｄａｙ　−ａｔ
ｍおよび２０４ｍヱ２／ｍ２　・ｄａｙ　”　ａｔｎｌ
であった。以下、実施例の）Ｊス透過牲は全て別途フィ
ルムを用意して同様に行　イ【　っ　ｌこ　、４ 実施例２ 実施例１と同様な方法において、１Ｉｉｌ麿５重量％の
混合溶液を用い、５分間超音波処理したものに外下てプ
ラズマ処］！Ｉ！を行なったところ、膜厚０゜０４μ蛮
の透明被膜が形成された。酸素および炭酸ガスの透過性
の同ｗＺなカウント数は、それぞれ７８および３１３で
あった。Example 1 A container made of polyethylene phthalate was heated to a concentration of 2.5% N82C.
After 5 minutes of immersion in O3 solution (ultrasonic treatment), 1 minute of immersion in the silicon compound-concentrated 12x4% isopropanol solution at 20°C for 1 minute, and then at a pulling speed of 16 cm/min. I pulled it up. Then, it was dried at 70°C for 30 minutes. Next, the low temperature plasma reactor
Insert the synthetic resin tube inside and deaerate (0,0
Then, with oxygen gas charged and a plasma output power of 100 W for 2 minutes under a pressure of about 0°3 Torr, plasma treatment was performed using a parallel plate type M (using a 50 mm x 50 m flat plate) at a distance of 50 mm. A transparent film having a thickness of 0.1 μm was deposited on one side of the container. In order to measure the oxygen and carbon dioxide gas permeability of this coated container, the same treatment as above was carried out using a film of the above material (thickness: 12 μm, area: 500 mm). When measured using a gas permeation measuring device manufactured by the company, it was 50.6 m[,,,'m 2-day-at
m and 204 mヱ2/m2 ・day”atnl
Met. In the following examples, all JS permeability tests were conducted in the same manner using separate films.Example 2 In the same manner as in Example 1, a mixed solution of 5% by weight of 1Iilmaro was used. , ultrasonic treated for 5 minutes, then put it outside in a plasma treatment]! I! When this was carried out, a transparent film with a film thickness of 0.04 μm was formed. The same wZ counts for oxygen and carbon dioxide permeability were 78 and 313, respectively.

比較例１ 実施例１で使用したポリエチレンテレフタレートの無処
理物の酸素および炭酸ガスの透過性の同様なカウント数
はそれぞれ２３１．？ｉよび９３９であった。Comparative Example 1 The same counts of oxygen and carbon dioxide permeability of the untreated polyethylene terephthalate used in Example 1 were 231. ? i and 939.

比較例２ 実施例１の方法において超音波処理およびプラズマ処理
を行なわずに３２重量％の混合溶液中に５分間浸漬した
のち、６０℃で１８０分間乾燥したところ、膜厚０．１
４μ雇の透明被膜が形成された。酸素および炭酸ガスの
透過性の同様なカウント数はそれぞれ２１３および８５
４であった。Comparative Example 2 In the method of Example 1, the film was immersed in a 32% by weight mixed solution for 5 minutes without ultrasonic treatment or plasma treatment, and then dried at 60°C for 180 minutes, resulting in a film thickness of 0.1
A transparent film with a thickness of 4μ was formed. Similar counts for oxygen and carbon dioxide permeability are 213 and 85, respectively.
It was 4.

実施例３〜１２ 実施例１と同様に膜厚１２μｍ＜ただし、実施例８〜１
２において膜厚１１．５〜１２μｍ）のポリエチレンテ
レフタレートフィルム（而槙５０ｃｍ２　）を、第１表
に示す処理剤を用いて超音波洗浄したのち、乾煙処理を
施した。ついで、実施例１ど同様く１々イ素化合物のイ
ソプロパノール溶液を第１表に示す濃度で使用し、該混
合溶液中に４分間浸漬して、その間４５　Ｋ　ｌ−Ｉ　
Ｚの周波数で超音波処理を行なったのち、７０℃で５分
間乾燥を行なった。ついで第１表に示す出力数および時
間で１００％の酸素の存在下にプラズマ処理を行なった
ところ、第１表の結果が得られた。Examples 3 to 12 Same as Example 1, film thickness 12 μm<However, Examples 8 to 1
In Example No. 2, a polyethylene terephthalate film (50 cm2) with a film thickness of 11.5 to 12 .mu.m was ultrasonically cleaned using the treatment agent shown in Table 1, and then subjected to a dry smoke treatment. Next, as in Example 1, an isopropanol solution of a single ion compound at the concentration shown in Table 1 was used, and the mixture was immersed for 4 minutes at 45 K l-I.
After performing ultrasonic treatment at a frequency of Z, drying was performed at 70° C. for 5 minutes. Next, plasma treatment was performed in the presence of 100% oxygen at the output numbers and times shown in Table 1, and the results shown in Table 1 were obtained.

この結果、洗浄処理の中性洗剤処理〉５％Ｎａ２　ＣＯ
３処理〉アルカリ処理２′メタノール処理の順にガスバ
リヤ−性が良いことがわかった。このことは、フィルム
の洗浄法即ち表面状態によってプラズマ生成膜が影響を
受けることが分った。As a result, the neutral detergent treatment for cleaning process > 5% Na2 CO
It was found that the gas barrier properties were better in the order of 3 treatments> alkali treatment and 2' methanol treatment. It has been found that the plasma-generated film is affected by the cleaning method of the film, that is, the surface condition.

■１発明の具体的効果 以上述べたように、本発明は、少なくとも１個所に密閉
可能な開口部を有する合成樹脂製容器本体の内表面また
は外表面の少なくとも一方の表面に、一般式Ｉを有する
ケイ素化合物と、一般式■を有するケイ素化合物との混
合物を反応させてガスバリヤ−性の連続した被膜を形成
してなる合成樹脂製容器であるから、ガス透過性、特に
酸素透過係数が極めて低く、このための合成樹脂製容器
外から容器内へのガス透過ならびに容器内から容器外へ
のガス透過は実質的になくなる。したがって、該合成樹
脂製容器をアミノ酸等の酸化されやすい薬剤を充填した
容器として使用した場合、該容器外から容器内へのガス
、特に酸素の透過は大質的にな（なり、このため長期間
にわたって所定の圧力が保たれ、かつ薬剤の変質もなく
なる。また、炭酸飲料等を充填した加圧容器として使用
した場合、該容器内から容器外へのガス、特に炭酸ガス
の透過は少なくなり、このため長期間にわたって容器内
の加圧度は保たれる。しかも、本発明による容器は合成
樹脂製であるので、運搬時、貯蔵詩あるいは使用時に衝
撃°を受ＩＪても破損の心配は全くない。■1 Specific Effects of the Invention As described above, the present invention provides the general formula I on at least one of the inner and outer surfaces of a synthetic resin container body having at least one sealable opening. This is a synthetic resin container made by reacting a mixture of a silicon compound with a silicon compound with a silicon compound with a general formula For this purpose, gas permeation from the outside of the synthetic resin container into the container and from the inside of the container to the outside of the container are substantially eliminated. Therefore, when the synthetic resin container is used as a container filled with a drug that is easily oxidized, such as an amino acid, the permeation of gas, especially oxygen, from outside the container into the container is significant (and therefore takes a long time). A predetermined pressure is maintained over a period of time, and there is no deterioration of the drug.Also, when used as a pressurized container filled with carbonated drinks, etc., the permeation of gas, especially carbon dioxide gas, from the inside of the container to the outside of the container is reduced. Therefore, the degree of pressurization inside the container is maintained for a long period of time.Furthermore, since the container according to the present invention is made of synthetic resin, there is no need to worry about damage even if it is subjected to impact during transportation, storage, or use. Not at all.

また、本発明はプラズマ法により被膜を形成させている
ため、被膜が形成される樹脂基材の表面を粗面化すると
同時に被膜が形成されるので、剥離しに＜＜、均一かつ
薄い被膜が容易に形成されるものである。In addition, since the coating is formed using a plasma method in the present invention, the coating is formed at the same time as the surface of the resin base material on which the coating is formed is roughened. It is easily formed.

また、以上述べたように、本発明は少なくとも１個所に
密閉可能な開口部を有する合成樹脂製容器本体の内表面
または外表面の少なくとも一方の表面に一般式Ｉを有す
るケイ素化合物と一般式Ｉを右するケイ素化合物との混
合溶液を塗布し、乾燥し、ついで酸素の存在下にプラズ
マ処理して前記容器本体の表面に刀゛スバリャー性の連
続した被＋＋Ｓ＞　Ｚ：形成させることを特徴どする合
成樹脂製容器の製）前方法であるから、上述したガスバ
リヤ−性を有づる合成樹脂製容器を、容易に製造できる
。Further, as described above, the present invention provides a silicon compound having the general formula I on at least one of the inner surface and the outer surface of a synthetic resin container body having at least one sealable opening; A mixed solution of a silicon compound having the same properties as above is applied, dried, and then subjected to plasma treatment in the presence of oxygen to form a continuous coating of sparring properties on the surface of the container body. Since this method is the first method for producing a synthetic resin container, it is possible to easily produce a synthetic resin container having the above-mentioned gas barrier properties.

さらに、短時間に比較的低温で合成樹脂製容器本体表面
にガスバリヤ−性の被膜が形成できるので、容器本体の
熱によるゆがみ、添加剤の溶出等を起こすことがなく、
ガスバリヤ−性を有する容器を製造できる。Furthermore, since a gas barrier film can be formed on the surface of the synthetic resin container body in a short time and at a relatively low temperature, there is no distortion of the container body due to heat, no elution of additives, etc.
Containers with gas barrier properties can be manufactured.

さらに、前記混合溶液の容器本体表面への塗布を超音波
の作用により行なえば、表面の微細孔からの脱気と被膜
形成成分の該微細孔への浸入とが促進されるので、生成
する被膜は強固となり、ガスバリヤ−性は向上する。ま
た、前記混合溶液の塗布前に容器本体の洗浄処理、特に
アルカリ洗浄および／または超音波洗浄を行なえば、ガ
スバリヤ−性はさらに向上する。Furthermore, if the mixed solution is applied to the surface of the container main body by the action of ultrasonic waves, degassing from the fine pores on the surface and penetration of the film-forming components into the fine pores are promoted, so that the formed film is becomes stronger and gas barrier properties are improved. Moreover, if the container body is cleaned, particularly alkaline cleaning and/or ultrasonic cleaning, before application of the mixed solution, the gas barrier properties will be further improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第１図は本発明方法により製造された合成樹脂製容器の
一例を示す断面図、第２（Ａ）〜（Ｃ）図は第１図に示
す合成樹脂製容器の部分拡大断面図、第３図は本発明で
示されるプラズマ処理装置の一例を示す概略断面図であ
る。 １・・・合成樹脂製容器、　２・・・容器本体、２ａ、
２ｂ・・・透明被膜、３・・・間口部、４・・・栓部材
。 特ＦＦ出願人　テ　ル　七　株式会社 第１図　第２図 第３図FIG. 1 is a sectional view showing an example of a synthetic resin container manufactured by the method of the present invention, FIGS. 2(A) to 2(C) are partially enlarged sectional views of the synthetic resin container shown in FIG. The figure is a schematic sectional view showing an example of a plasma processing apparatus according to the present invention. 1...Synthetic resin container, 2...Container body, 2a,
2b...Transparent coating, 3...Front area, 4...Plug member. Special FF Applicant Teru Seven Co., Ltd. Figure 1 Figure 2 Figure 3

Claims (1)

【特許請求の範囲】 （１）少なくとも１個所に密閉可能な開口部を有する合
成樹脂製容器本体の内表面または外表面の少なくとも一
方の表面に一般式Ｉ （ただし、式中、ｍは１〜５の整数である。）を有する
ケイ素化合物と一般式■ （ただし、式中、ｎは１〜５の整数であり、またＲ１お
よびＲ２は炭素原子数１〜４のアルキルまたはアルコキ
シ基、フェニル基または水酸基であるが、Ｒ１およびＲ
２が同時に水酸基であることはない　）本石するケイ素
化合物の泪合物を反応させてガスバリヤ−性の連続した
被膜を形成してなる合成樹脂製容器。 く２）前記合成樹脂製容器本体が透明合成樹脂製である
特許請求の範囲第１項に記載の合成樹脂製容器。 （３）前記被膜が透明被膜である特許請求の範囲第２項
に記載の合成樹脂製容器。 （４）前記被膜は膜厚が０．０１〜２μｍである特許請
求の範囲第１項ないし第３項のいずれか一つに記載の合
成樹脂製容器。 （５）一般式Ｉにおけるｍが１〜５の整数であり、かつ
一般式■におけるｎが１〜５の整数であり、またＲ１お
よびＲ２が炭素原子数１〜４のアルキル基または水酸基
である特許請求の範囲第１項に記載の合成樹脂製容器。 （６）一般式■におけるＲ１が炭素原子数１〜２のアル
キル基であり、かつＲ２が水酸基である特許請求の範囲
第５項に記載の合成樹脂製容器。 （７）少なくとも１個所に密閉可能な開口部を有する合
成樹脂製容器本体の内表面または外表面の少なくとも一
方の表面に一般式■ （ただし、式中、ｍは１〜５の整数である。）を有する
ケイ素化合物と一般式■ くただし、式中、ｎは１〜５の整数であり、またＲ１お
よびＲ２は炭素原子数１〜４のアルキルまたはアルコキ
シ基、フェニル基または水素基であるが、Ｒ１およびＲ
２が同時に水酸基であることはない。）を有するケイ素
化合物との混合溶液を塗布し、乾燥し、ついで酸素原子
含有分子のガスの存在下にプラズマ処理して前記容器本
体の表面にガスバリヤ−性の連続した被膜を形成させる
ことを特徴とする合成樹脂製容器の製造方法。 （８）反応が０．０１〜２．０Ｔｏｒｒの減圧下に行な
われてなる特許請求の範囲第７項に記載の合成樹脂製容
器の製造方法。 （９）酸素原子含有分子のガスの酸素含有量が２０〜１
００％の濃度である特許請求の範囲第７項または第８項
に記載の合成樹脂製容器の製造方法。 （１°Ｏ）反応温度が０〜１５０℃である特許請求の範
囲第７項ないし第９項のいずれか一つに記載の合成樹脂
製容器の製造方法。 （１１）一般式Ｉにおけるｍが１〜５の整数であり、か
つ一般式■におけるｎが１〜５の整数であり、またＲ１
およびＲ２が炭素原子数１〜４のアル・キル基また水酸
基である特許請求の範囲第７項に記載の合成樹脂製容器
の製造方法。 （１２）一般式πにおけるＲ１が炭素原子数１〜２のア
ルキル基であり、かつＲ２が水酸基である特許請求の範
囲第１１項に記載の合成樹脂製容器の製造方法。 （１３）プラズマ処理が０．１〜６０分間行なわれてな
る特許請求の範囲第７項に記載の合成樹脂製容器の製造
方法。 （１４）合成樹脂が透明合成樹脂である特許請求の範囲
第７項ないし第１３項のいずれか一つに記載の合成樹脂
製容・器の製造方法。 （１５）少なくとも１個所に密閉可能な開口部を有する
合成樹脂製容器本体の内表面；ｌ；たは外表面の少なく
とも一方の表面に一般式Ｉ （ただし、式中、ｍは１〜５の整数である。）を有する
ケイ素化合物と一般式■ （ただし、式中、ｎは１〜５の整数であり、またＲ１お
よびＲ２は炭素原子数１−・４のアルキルまたはアルコ
キシ基、フェニル基または水酸基であるが、Ｒ１および
Ｒ２が同時に水酸基であることはない。）を有するケイ
素化合物との混合溶液を超音波の作用により塗布し、乾
燥し、ついで酸素の原子含有分子のガスの存在下にプラ
ズマ処理して前記容器本体の表面にガスバリ１７−性の
連続した被膜を形成させることを特徴とする合成樹脂製
容器の製造方法。 （１６）反応が０．０１〜２、Ｑ　７　ｏｒｒの減圧下
に行なわれてなる特許請求の範囲第１５項に記載の合成
樹脂製容器の製造方法。 （１７）酸素の原子含有分子のガスの酸素含有量が２０
〜１００％の濃度である特許請求の範囲第１５項または
第１６項に記載の合成樹脂製容器の製造方法。 （１８）反応湿度が０〜１５０℃である特許請求の範囲
第１５項ないし第１７項にのいずれか一つに記載の合成
樹脂製容器の製造方法。 （１９）一般式Ｉにおけるｍが１〜５の整数であり、か
つ一般式■におけるｎが１〜５の整数であり、またＲ１
およびＲ２が炭素原子数１〜４のアルキル基または水酸
基である特許請求の範囲第１５項に記載の合成樹脂製容
器の製造方法。 〈２０）一般式■におけるＲ１が炭素原子数１〜２のア
ルキル基であり、かつＲ２が水酸基である特許請求の範
囲第１９項に記載の合成樹脂製容器の製造方法。 （２１）プラズマ処理が１回で０．１〜６０分間行なわ
れてなる特許請求の範囲第１５項に記載の合成樹脂製容
器の製造方法。 （２２）合成樹脂が透明合成樹脂である特許請求の範囲
第１５項ないし第２１項のいずれか一つに記載の合成樹
脂製容器の製造方法。 （２３）少なくとも１個所に密閉可能な開口部を有する
合成樹脂製容器本体の表面を洗浄処理したのち、該容器
本体の内表面または外表面の少なくとも一方の表面に一
般式■ （ただし、式中、ｍは１〜５の整数である。）を有する
ケイ素化合物と一般式■ （ただし、式中、ｎは１〜５の整数であり、またＲ１お
よびＲ２は炭素原子数１〜４のアルキルまたはアルコキ
シ基、フェニル基または水酸基であるが、Ｒ１およびＲ
２が同時に水酸基であることはない。）を有するケイ素
化合物との混合溶液を塗布し、乾燥し、ついで酸素原子
含有分子のガスの存在下にプラズマ処理して前記容器本
体の表面にガスバリヤ−性の連続した被膜を形成させる
ことを特徴とする合成樹脂製容器の製造方法。 （２４）反応が０．０１〜２．０Ｔｏｒｒの減圧下に行
なわれなる特許請求の範囲第２３項に記載の合成樹脂製
容器の８造方法。 （２５）酸素原子含有分子のガスの酸素含有量が２０〜
１００％の濃度である特許請求の範囲第２３項または第
２４項に記載の合成樹脂製容器の製造方法。 （２６）反応湿度が０〜１５０℃である特許請求の範囲
第２３項ないし第２５項のいずれか一つに記載の合成樹
脂製容器の製造方法。 （２７）一般式■におけるｍが１〜５の整数であり、か
つ一般式■におけるｎが１〜５の整数であり、またＲ１
およびＲ２が炭素原子数の１〜４のアルキル基または水
酸基である特許請求の範囲第２３項に記載の合成樹脂製
容器の製造方法。 （２８）一般式■におけるＲ１が炭素原子数１〜２のア
ルキル基であり、かつＲ２が水酸基である特許請求の範
囲第２７項に記載の合成樹脂製容器の製造方法。 （２９）プラズマ処理が１回で０．１〜６０分間行なわ
れてなる特許請求の範囲第２３項に記載の合成樹脂製容
器の製造方法。 （３０）合成樹脂が透明合成樹脂である特許請求の範囲
第２３項ないし第２９項のいずれか一つに記載の合成樹
脂製容器の製造方法。 （３１）洗浄処理はアルカリ水溶液中で行なわれてなる
特許請求の範囲第２３項ないし第３０項のいずれか一つ
に記載の合成樹脂製容器の製造方法。 （３２）洗浄処理は超音波の作用により行なわれる特許
請求の範囲第３１項に記載の合成樹脂製容器の製造方法
。 （３３）少なくとも１個所に密閉可能な開口部を有する
合成樹脂製容器本体の表面を洗浄処理したのち、一般式
■ （ただし、式中、ｍは１〜５の整数である。）を有する
ケイ素化合物と一般式■ （ただし、式中、ｎは１〜５の整数であり、またＲ１お
よびＲ２は炭素原子数１〜４のアルキルまたはアルコキ
シ基、）ｌニル基または水酸基であるが、Ｒ１およびＲ
２が同時に水酸基であることはない。）を有するケイ素
化合物との混合溶液を超音波の作用により塗布し、乾燥
し、ついで酸素原子含有分子のガスの存在下にプラズマ
処理して前記容器本体の表面にガスバリヤ−性の連続し
た被膜を形成させることを特徴とする合成樹脂製容器の
製造方法。 （３４）反応が０．０１〜０．２Ｔｏｒｒの減圧下に行
なわれてなる特許請求の範囲第３３項に記載の合成樹脂
製容器の製造方法。 （３５）酸素原子含有分子のガスの酸素含有量が２０・
−１００％の１１麿である特許請求の範囲第３３項また
は第３４項に記載の合成樹脂製容器の製造方法。 （３６）反応温度が０〜１５０℃である特許請求の範囲
第３３項ないし第３６項のいずれか一つに記載の合成樹
脂製容器の製造方法。 （３７ン一般式Ｉにおけるｍが１〜５の整数であり、か
つ一般式■にお（ブるｎ−が１〜５の整数であり、また
Ｒ１　およびＲ２が炭素原子数の１〜４のアルキル基ま
たは水酸基である特許請求の範囲第３３項に記載の合成
樹脂製容器の製造方法。 （３８）一般式■におけるＲ１が炭素原子数１〜２のア
ルキル基であり、かっＲ２が水酸基である特許請求の範
囲第３７項に記載の合成樹脂製容器の製造方法〜 （３９）プラズマ処理が１回で０．１〜６０分間行なわ
れてなる特許請求の範囲第３３項に記載の合成樹脂製容
器の製造方法。 （４０）合成樹脂が透明合成樹脂である特許請求の範囲
第３３項ないし第３９項のいずれか一つに記載の合成樹
脂製容器の製造方法。 （４１）洗浄処理はアルカリ水溶液中で行なわれてなる
特許請求の範囲第３３項ないし第４０項のいずれか一つ
に記載の合成樹脂製容器の製）外方法。 （４２）洗浄処理は超音波の作用により行なわれてなる
特許請求の範囲第４１項に記載の合成樹脂製容器の製造
方法。[Scope of Claims] (1) At least one of the inner and outer surfaces of a synthetic resin container body having at least one sealable opening is formed by the general formula I (where m is 1 to 1). is an integer of 5) and a silicon compound having the general formula (where n is an integer of 1 to 5, and R1 and R2 are an alkyl or alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group or hydroxyl group, R1 and R
2 is not a hydroxyl group at the same time.) A synthetic resin container formed by reacting a mixture of silicon compounds to form a continuous film having gas barrier properties. (2) The synthetic resin container according to claim 1, wherein the synthetic resin container body is made of transparent synthetic resin. (3) The synthetic resin container according to claim 2, wherein the coating is a transparent coating. (4) The synthetic resin container according to any one of claims 1 to 3, wherein the coating has a thickness of 0.01 to 2 μm. (5) m in general formula I is an integer of 1 to 5, and n in general formula (2) is an integer of 1 to 5, and R1 and R2 are an alkyl group or a hydroxyl group having 1 to 4 carbon atoms. A synthetic resin container according to claim 1. (6) The synthetic resin container according to claim 5, wherein R1 in the general formula (2) is an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and R2 is a hydroxyl group. (7) At least one of the inner and outer surfaces of the synthetic resin container body having at least one sealable opening is formed by the general formula (1) (where m is an integer from 1 to 5). ) and a silicon compound having the general formula (■), where n is an integer of 1 to 5, and R1 and R2 are an alkyl or alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, or a hydrogen group. , R1 and R
2 cannot be a hydroxyl group at the same time. ) is applied, dried, and then subjected to plasma treatment in the presence of a gas of oxygen atom-containing molecules to form a continuous film with gas barrier properties on the surface of the container body. A method for manufacturing a synthetic resin container. (8) The method for producing a synthetic resin container according to claim 7, wherein the reaction is carried out under reduced pressure of 0.01 to 2.0 Torr. (9) The oxygen content of the gas of oxygen atom-containing molecules is 20 to 1
The method for producing a synthetic resin container according to claim 7 or 8, wherein the concentration is 0.00%. (1°O) The method for producing a synthetic resin container according to any one of claims 7 to 9, wherein the reaction temperature is 0 to 150°C. (11) m in general formula I is an integer of 1 to 5, and n in general formula (2) is an integer of 1 to 5, and R1
The method for producing a synthetic resin container according to claim 7, wherein R2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydroxyl group. (12) The method for producing a synthetic resin container according to claim 11, wherein R1 in the general formula π is an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and R2 is a hydroxyl group. (13) The method for manufacturing a synthetic resin container according to claim 7, wherein the plasma treatment is performed for 0.1 to 60 minutes. (14) The method for manufacturing a synthetic resin container/vessel according to any one of claims 7 to 13, wherein the synthetic resin is a transparent synthetic resin. (15) The inner surface of the synthetic resin container body having at least one sealable opening; is an integer) and a silicon compound having the general formula ■ (where n is an integer of 1 to 5, and R1 and R2 are an alkyl or alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, or (R1 and R2 are not hydroxyl groups at the same time.) A mixed solution with a silicon compound having a hydroxyl group (R1 and R2 are never hydroxyl groups at the same time) is applied by ultrasonic action, dried, and then coated in the presence of a gas of molecules containing oxygen atoms. A method for manufacturing a synthetic resin container, characterized in that a continuous film with gas burr properties is formed on the surface of the container body by plasma treatment. (16) The method for producing a synthetic resin container according to claim 15, wherein the reaction is carried out under a reduced pressure of 0.01 to 2, Q 7 orr. (17) The oxygen content of the gas of molecules containing oxygen atoms is 20
The method for manufacturing a synthetic resin container according to claim 15 or 16, wherein the concentration is 100% to 100%. (18) The method for producing a synthetic resin container according to any one of claims 15 to 17, wherein the reaction humidity is 0 to 150°C. (19) m in general formula I is an integer of 1 to 5, and n in general formula (II) is an integer of 1 to 5, and R1
16. The method for producing a synthetic resin container according to claim 15, wherein R2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydroxyl group. <20) The method for producing a synthetic resin container according to claim 19, wherein R1 in the general formula (2) is an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and R2 is a hydroxyl group. (21) The method for manufacturing a synthetic resin container according to claim 15, wherein the plasma treatment is performed for 0.1 to 60 minutes at a time. (22) The method for manufacturing a synthetic resin container according to any one of claims 15 to 21, wherein the synthetic resin is a transparent synthetic resin. (23) After cleaning the surface of a synthetic resin container body having at least one sealable opening, at least one of the inner and outer surfaces of the container body is coated with the general formula , m is an integer of 1 to 5.) and a silicon compound having the general formula ■ (wherein, n is an integer of 1 to 5, and R1 and R2 are alkyl having 1 to 4 carbon atoms or Alkoxy group, phenyl group or hydroxyl group, R1 and R
2 cannot be a hydroxyl group at the same time. ) is applied, dried, and then subjected to plasma treatment in the presence of a gas of oxygen atom-containing molecules to form a continuous film with gas barrier properties on the surface of the container body. A method for manufacturing a synthetic resin container. (24) 8. A method for manufacturing a synthetic resin container according to claim 23, wherein the reaction is carried out under reduced pressure of 0.01 to 2.0 Torr. (25) The oxygen content of the gas of oxygen atom-containing molecules is 20~
The method for manufacturing a synthetic resin container according to claim 23 or 24, wherein the concentration is 100%. (26) The method for producing a synthetic resin container according to any one of claims 23 to 25, wherein the reaction humidity is 0 to 150°C. (27) m in the general formula (■) is an integer of 1 to 5, and n in the general formula (■) is an integer of 1 to 5, and R1
24. The method for producing a synthetic resin container according to claim 23, wherein R2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydroxyl group. (28) The method for manufacturing a synthetic resin container according to claim 27, wherein R1 in the general formula (2) is an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and R2 is a hydroxyl group. (29) The method for manufacturing a synthetic resin container according to claim 23, wherein the plasma treatment is performed for 0.1 to 60 minutes at a time. (30) The method for manufacturing a synthetic resin container according to any one of claims 23 to 29, wherein the synthetic resin is a transparent synthetic resin. (31) The method for manufacturing a synthetic resin container according to any one of claims 23 to 30, wherein the cleaning treatment is performed in an alkaline aqueous solution. (32) The method for manufacturing a synthetic resin container according to claim 31, wherein the cleaning treatment is performed by the action of ultrasonic waves. (33) After cleaning the surface of the synthetic resin container body having at least one sealable opening, silicon having the general formula ■ (where m is an integer from 1 to 5) Compounds and general formula ■ (In the formula, n is an integer of 1 to 5, and R1 and R2 are an alkyl or alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a nyl group or a hydroxyl group, but R1 and R
2 cannot be a hydroxyl group at the same time. ) is applied by the action of ultrasonic waves, dried, and then subjected to plasma treatment in the presence of a gas of oxygen atom-containing molecules to form a continuous film with gas barrier properties on the surface of the container body. A method for manufacturing a synthetic resin container, characterized by forming a synthetic resin container. (34) The method for producing a synthetic resin container according to claim 33, wherein the reaction is carried out under reduced pressure of 0.01 to 0.2 Torr. (35) The oxygen content of the gas of oxygen atom-containing molecules is 20.
- The method for manufacturing a synthetic resin container according to claim 33 or 34, which is 100% 11%. (36) The method for producing a synthetic resin container according to any one of claims 33 to 36, wherein the reaction temperature is 0 to 150°C. (37) m in the general formula I is an integer of 1 to 5, and in the general formula The method for producing a synthetic resin container according to claim 33, which is an alkyl group or a hydroxyl group. (38) In the general formula (1), R1 is an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and R2 is a hydroxyl group. A method for manufacturing a synthetic resin container according to claim 37 (39) A synthetic resin according to claim 33, wherein the plasma treatment is performed for 0.1 to 60 minutes at a time A method for manufacturing a container. (40) A method for manufacturing a synthetic resin container according to any one of claims 33 to 39, wherein the synthetic resin is a transparent synthetic resin. (41) The cleaning treatment is (42) The cleaning treatment is carried out by the action of ultrasonic waves. A method for manufacturing a synthetic resin container according to claim 41.