JPS60225150A - 紫外線硬化樹脂組成物 - Google Patents
紫外線硬化樹脂組成物Info
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- JPS60225150A JPS60225150A JP59080736A JP8073684A JPS60225150A JP S60225150 A JPS60225150 A JP S60225150A JP 59080736 A JP59080736 A JP 59080736A JP 8073684 A JP8073684 A JP 8073684A JP S60225150 A JPS60225150 A JP S60225150A
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- rosin
- meth
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(a)発明のFJ的
Cr1f、業にの利用分野〕
本発明は、土として、プリント配線板製】hに係るパタ
ー/形成相の、紫外線で硬化するエツチングレジストイ
ンキとしての用途を41する感光に1樹脂組成物に関す
る。
ー/形成相の、紫外線で硬化するエツチングレジストイ
ンキとしての用途を41する感光に1樹脂組成物に関す
る。
従来より、プリント配線板の製造における回路形成のた
めに工、チングレシストインキ、フォトレゾスト、トラ
イフィルムなとか使用され、パター/形成が行なわれて
いる。面して、銅張積層板の銅箔上にエツチングレジス
トインキを所望のパターン状トこ印刷した後、乾燥硬化
或いは紫外線硬化させ、次いでこれをエンチング液に侵
清し、不要部の銅箔を溶解除去してパターン形成させ、
さらにそのレジスト皮膜をアルカリ水溶液又は溶剤にて
剥離除去し、レジストパターンに対応した銅回路を形成
する方法が多用されている。
めに工、チングレシストインキ、フォトレゾスト、トラ
イフィルムなとか使用され、パター/形成が行なわれて
いる。面して、銅張積層板の銅箔上にエツチングレジス
トインキを所望のパターン状トこ印刷した後、乾燥硬化
或いは紫外線硬化させ、次いでこれをエンチング液に侵
清し、不要部の銅箔を溶解除去してパターン形成させ、
さらにそのレジスト皮膜をアルカリ水溶液又は溶剤にて
剥離除去し、レジストパターンに対応した銅回路を形成
する方法が多用されている。
上記において、エラチンブレシストインキラ印刷する方
法としては、一般にスクリーン印刷又はオフセット印刷
などがあり、またエツチング液としては塩化第二鉄水溶
液、塩化第二銅水溶液、過酸化水素とM酩の混合水溶液
、過硫酸塩水溶液などが多用されている。
法としては、一般にスクリーン印刷又はオフセット印刷
などがあり、またエツチング液としては塩化第二鉄水溶
液、塩化第二銅水溶液、過酸化水素とM酩の混合水溶液
、過硫酸塩水溶液などが多用されている。
従来、溶剤型エツチングレジストインキをプリント配線
板の製造に使用する場合は、それを銅張積層板の銅箔上
にパターン状にスクリーン印刷し、次いで加熱により溶
剤を揮発させてレジストパターン皮膜を形成させ、続い
て不要部の銅箔をエツチング液にて溶解除去し、さらに
溶剤又はア− ルカリ水溶液にてレジスト皮膜を剥離除去することによ
ってレジストパターンに対応した銅回路を形成させ、所
望のプリント配線板を製造している。
板の製造に使用する場合は、それを銅張積層板の銅箔上
にパターン状にスクリーン印刷し、次いで加熱により溶
剤を揮発させてレジストパターン皮膜を形成させ、続い
て不要部の銅箔をエツチング液にて溶解除去し、さらに
溶剤又はア− ルカリ水溶液にてレジスト皮膜を剥離除去することによ
ってレジストパターンに対応した銅回路を形成させ、所
望のプリント配線板を製造している。
しかし、そのような溶剤型エンチングレジストインキは
、印刷工程中や印刷の中断時にしばしばスクリーン印刷
版の目詰りによるトラブルを起すことがあり、また加熱
乾燥にかなりの時間と多量の熱エネルギーを必要とし、
さらに溶剤揮発による環境汚染や引火の危険性などの問
題を含んでいる。
、印刷工程中や印刷の中断時にしばしばスクリーン印刷
版の目詰りによるトラブルを起すことがあり、また加熱
乾燥にかなりの時間と多量の熱エネルギーを必要とし、
さらに溶剤揮発による環境汚染や引火の危険性などの問
題を含んでいる。
上記のような溶剤型エツチングレジストインキにみられ
る欠点を改良するために、種々の紫M線硬化型エツチン
グレジストインキが提案されている。即ち、紫外線硬化
型エッチングレジストインキを使用する場合は、それを
用いて銅張積層板の銅箔−にに所定のパターンをスクリ
ーン印刷又はオフセット印刷し、次いで加熱乾燥するこ
となく紫外線を照射し、レジストインキを硬化させてレ
ノストパターン皮膜を形成させ、続いてエツチング液に
てレジストパターン以外の不要の銅箔をエンチング除去
し、レジストパターンに対応した銅回路を形成させ、さ
らにアルカリ水溶液又は溶?I iごてレジスト皮)1
t2を剥離除去することによってプリント配線板を得る
ことができる。
る欠点を改良するために、種々の紫M線硬化型エツチン
グレジストインキが提案されている。即ち、紫外線硬化
型エッチングレジストインキを使用する場合は、それを
用いて銅張積層板の銅箔−にに所定のパターンをスクリ
ーン印刷又はオフセット印刷し、次いで加熱乾燥するこ
となく紫外線を照射し、レジストインキを硬化させてレ
ノストパターン皮膜を形成させ、続いてエツチング液に
てレジストパターン以外の不要の銅箔をエンチング除去
し、レジストパターンに対応した銅回路を形成させ、さ
らにアルカリ水溶液又は溶?I iごてレジスト皮)1
t2を剥離除去することによってプリント配線板を得る
ことができる。
紫外線硬化型エッチングレジストインキの公知例として
は、例えば特開昭51−002503号公報に記載のよ
うに、ポリエステル結合剤、ヒドロキシアルキルアクリ
レート、光重合性中ψ体、カルシボッ酪、及び光重合開
始剤を含む組成物でのインキ化が試みられている。しか
し、この組成物の場合は、アルカリ剥離においては膨潤
剥離であり、アルカリ剥離に要する時間は従来の溶剤型
ニー、チンブレシストインキの場合に比較して5〜10
倍も長くかかる、またその剥離時間を短縮するためにカ
ルボン酎の添加量を増加させるとWIB9の硬度が低下
するなど実用上の難点があった。
は、例えば特開昭51−002503号公報に記載のよ
うに、ポリエステル結合剤、ヒドロキシアルキルアクリ
レート、光重合性中ψ体、カルシボッ酪、及び光重合開
始剤を含む組成物でのインキ化が試みられている。しか
し、この組成物の場合は、アルカリ剥離においては膨潤
剥離であり、アルカリ剥離に要する時間は従来の溶剤型
ニー、チンブレシストインキの場合に比較して5〜10
倍も長くかかる、またその剥離時間を短縮するためにカ
ルボン酎の添加量を増加させるとWIB9の硬度が低下
するなど実用上の難点があった。
また、他の公知例として、特開昭57−013444号
公報に記載のように、ポリエステル、多塩基酸(又はそ
の無水物)のヒドロキシアルキルアクリレート (又は
メタクリレート)半エステル化物、エチレン性不飽和結
合を有するヒニルモノマー、及び光重合開始剤を含む感
光性樹脂組成物での試みがある。しかし、この組成物の
場合は、塗膜のF$!度が十分でなく、エツチング液中
での塗膜の軟化を生じ、工程中の移送ロールとの接触に
よるレジスト面の損傷か予想され、これも実用上の問題
を残していた。
公報に記載のように、ポリエステル、多塩基酸(又はそ
の無水物)のヒドロキシアルキルアクリレート (又は
メタクリレート)半エステル化物、エチレン性不飽和結
合を有するヒニルモノマー、及び光重合開始剤を含む感
光性樹脂組成物での試みがある。しかし、この組成物の
場合は、塗膜のF$!度が十分でなく、エツチング液中
での塗膜の軟化を生じ、工程中の移送ロールとの接触に
よるレジスト面の損傷か予想され、これも実用上の問題
を残していた。
従来公知の紫外線硬化樹脂組成物は、既述のように、f
、 ?な物性であるレジスト1に膜の硬度、耐エツチン
グ液性、或いはその剥離除去性などについて実用上の難
点を有していたか、木91明の技術的課題は、硬化性、
皮膜硬度及び耐工、チング靜性に慎れ、しかもアルカリ
水溶液での2IIfIa除去刊に優れた紫外線硬化樹脂
組成物を提供することにある。
、 ?な物性であるレジスト1に膜の硬度、耐エツチン
グ液性、或いはその剥離除去性などについて実用上の難
点を有していたか、木91明の技術的課題は、硬化性、
皮膜硬度及び耐工、チング靜性に慎れ、しかもアルカリ
水溶液での2IIfIa除去刊に優れた紫外線硬化樹脂
組成物を提供することにある。
(b)発明の構成
〔課題を解決するための手段〕
」−2の技術的課題を解決するために、本発明名らは次
のような組成物か有効であることを見り・出し、本発明
を完成するtこ至った。即ち、その組成物とは、多ル基
酸事水物のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートと
の゛ゼエステル化物 (■)。
のような組成物か有効であることを見り・出し、本発明
を完成するtこ至った。即ち、その組成物とは、多ル基
酸事水物のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートと
の゛ゼエステル化物 (■)。
酸価が50〜300のロジン系化合物(11)。
一般式
%式%
(式中、凡は水素原子又はメチル基、ルは木素原f−又
はメチル基、亀は水素原子、メチル基。
はメチル基、亀は水素原子、メチル基。
メチロール基、タイアセトンアルキル基、又は炭素数
1〜4のアルコオキシメチル基である)で表わされる化
合物(m)、光重合性モノマー(■)、及び光屯合開始
剤(V)を含むことを特徴とする紫外線硬化樹脂組成物
である。
1〜4のアルコオキシメチル基である)で表わされる化
合物(m)、光重合性モノマー(■)、及び光屯合開始
剤(V)を含むことを特徴とする紫外線硬化樹脂組成物
である。
なお、本す1m害において(メタ)アクリレートとはア
クリレート及びメタクリレートを総称し、また同様に
(メタ)アクリルとはアクリル及びメタクリルを、 (
メタ)アクリロイルとはアクリロイル及びメタクリロイ
ルをそれぞれ総称するものとする。
クリレート及びメタクリレートを総称し、また同様に
(メタ)アクリルとはアクリル及びメタクリルを、 (
メタ)アクリロイルとはアクリロイル及びメタクリロイ
ルをそれぞれ総称するものとする。
本発明に使用される多塩基酸無水物のヒドロキシアルキ
ル (メタ)アクリレートとの半エステル化物(I)に
ついては既に特公昭52−025438号公報等にも記
載されているが、多塩基酸無水物としては製水フタル酸
、無水テトラヒドロフタル酸、3−メチル無水テトラヒ
ドロフタル酸、 4−メチル無水テトラヒドロフタル酸
、無水へキサヒドロフタル酸、 3−メチル無水へキサ
ヒドロフタル触、 4−メチル無水へキサヒドロフタル
酸、無水ハイミンク酸、無水トデセこルコハク酸、無水
トリメリント酸、無水コハク醜、無水マレイン酸、無水
ピロメリット酸、ヘンンフェノンテトラカルポン酩無水
物などがあり、またヒドロキシアルキル(メタ)アクリ
レートとしては2−ヒドロキシエチル (メタ)アクリ
レート、 2−ヒドロキシプロピル (メタ)アクリレ
ート、ジエチレングリコールモノ (メタ)アクリレー
ト、1.4−ブタンジオールモノ (メタ)アクリレー
ト、1.6−ヘキサンジオールモノ (メタ)アクリレ
ートなとがあげられる。
ル (メタ)アクリレートとの半エステル化物(I)に
ついては既に特公昭52−025438号公報等にも記
載されているが、多塩基酸無水物としては製水フタル酸
、無水テトラヒドロフタル酸、3−メチル無水テトラヒ
ドロフタル酸、 4−メチル無水テトラヒドロフタル酸
、無水へキサヒドロフタル酸、 3−メチル無水へキサ
ヒドロフタル触、 4−メチル無水へキサヒドロフタル
酸、無水ハイミンク酸、無水トデセこルコハク酸、無水
トリメリント酸、無水コハク醜、無水マレイン酸、無水
ピロメリット酸、ヘンンフェノンテトラカルポン酩無水
物などがあり、またヒドロキシアルキル(メタ)アクリ
レートとしては2−ヒドロキシエチル (メタ)アクリ
レート、 2−ヒドロキシプロピル (メタ)アクリレ
ート、ジエチレングリコールモノ (メタ)アクリレー
ト、1.4−ブタンジオールモノ (メタ)アクリレー
ト、1.6−ヘキサンジオールモノ (メタ)アクリレ
ートなとがあげられる。
本発明に使用される半エステル化物(I)は、上記のよ
うな多塩基酸無水物とヒドロキシアルキル(メタ)アク
リレートから、次の合成例に示すように通常のエステル
化反応により得ることかできる。
うな多塩基酸無水物とヒドロキシアルキル(メタ)アク
リレートから、次の合成例に示すように通常のエステル
化反応により得ることかできる。
合成例 l
攪拌機及びコンデンサーを備えた三つロフラスコに無本
フタル酸148 g (l mol)及び2−ヒドロキ
シエチルアクリレート118g (l mol)を仕込
み、ハイドロキノンO1gを添加し、酸素気流中におい
て、 100°Cで6待間反応させ、反応生成物フタル
酸モノアクリロイルヒドロキシエチルエステルを得た。
フタル酸148 g (l mol)及び2−ヒドロキ
シエチルアクリレート118g (l mol)を仕込
み、ハイドロキノンO1gを添加し、酸素気流中におい
て、 100°Cで6待間反応させ、反応生成物フタル
酸モノアクリロイルヒドロキシエチルエステルを得た。
合成例2
合成例 lと同様に無水へキサヒドロキシフタル酸15
4gCl量of)、 2−ヒドロキシエチルアクリレ−
) 116g (1mol) 、及びハイドロキノンモ
ノメチルエーテルO1gから反応生成物へキサヒドロキ
シフタル酸七ノアクリロイルヒドロキシエチルエステル
をイ1また。
4gCl量of)、 2−ヒドロキシエチルアクリレ−
) 116g (1mol) 、及びハイドロキノンモ
ノメチルエーテルO1gから反応生成物へキサヒドロキ
シフタル酸七ノアクリロイルヒドロキシエチルエステル
をイ1また。
合成例3
合成例 1と同様に 4−メチルへキサヒドロキシ無水
フタル% 168g (l mol)、 2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート 130g (l mol)
、及びパイトコキノン0.1gから反応生成物4−メチ
ルへキサヒドロキシフタル醜モノメタクリロイルヒドロ
キシエチルエステルを得た。
フタル% 168g (l mol)、 2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート 130g (l mol)
、及びパイトコキノン0.1gから反応生成物4−メチ
ルへキサヒドロキシフタル醜モノメタクリロイルヒドロ
キシエチルエステルを得た。
合成例 4
合成例1と同様に4−メチルテトラヒドロキシ無水フタ
ル酸lft8g (l mat)、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート 130 g (l mol) 、及
びハイドロキノンモノメチルエーテル01gから反応生
a物4−メチルテトラヒドロキシフタル酸モノメタクリ
ロイルヒドロキシエチルエステルを得た。
ル酸lft8g (l mat)、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート 130 g (l mol) 、及
びハイドロキノンモノメチルエーテル01gから反応生
a物4−メチルテトラヒドロキシフタル酸モノメタクリ
ロイルヒドロキシエチルエステルを得た。
合成例5
合成例 1と同様に無水コハクm l00g (I m
ol)。
ol)。
2−ヒドロキシプロピルアクリレート 131g(l
mol) 、 及びハイドロキノンモノメチルエーテル
O,1gから反応生成物コハク醇モノアクリロイルヒ]
・ロキシブロビルエステルを得た。
mol) 、 及びハイドロキノンモノメチルエーテル
O,1gから反応生成物コハク醇モノアクリロイルヒ]
・ロキシブロビルエステルを得た。
このようにして得られた半エステル化物CI)は、 1
種又は 2種以!−を任意の割合で混合して使用するこ
とかでき、その使用蓼は、本発明に係る紫外線硬化樹脂
組成物に対して5〜90重量%であることが好ましい。
種又は 2種以!−を任意の割合で混合して使用するこ
とかでき、その使用蓼は、本発明に係る紫外線硬化樹脂
組成物に対して5〜90重量%であることが好ましい。
次に、本発明に使用されるロジン系化合物(II)とし
ては、例えばロジン変性マレイン酸樹脂、ロンン変性フ
ェノール樹脂、重合ロジン、水添ロジンなどがあげられ
る。それらのロジン系化合物(II)の酸価は50〜3
00であることを要するが、特に 100〜250であ
ることが好ましく、これが50未猫の場合はアルカリ水
溶液による除去性か低ドする。
ては、例えばロジン変性マレイン酸樹脂、ロンン変性フ
ェノール樹脂、重合ロジン、水添ロジンなどがあげられ
る。それらのロジン系化合物(II)の酸価は50〜3
00であることを要するが、特に 100〜250であ
ることが好ましく、これが50未猫の場合はアルカリ水
溶液による除去性か低ドする。
L記のようなロジン系化合物(II)の使用量は、本発
明に係る紫外線硬化樹脂組成物に対して1〜30重量%
であることか好ましく、これが1セ量%未尚の場合はア
ルカリ除去性が低下し、またこれが30重竜%を越える
と皮膜がもろくなって工程中でクラック剥離によるトラ
ブルを生じ易くなる。
明に係る紫外線硬化樹脂組成物に対して1〜30重量%
であることか好ましく、これが1セ量%未尚の場合はア
ルカリ除去性が低下し、またこれが30重竜%を越える
と皮膜がもろくなって工程中でクラック剥離によるトラ
ブルを生じ易くなる。
本発明において上記のようなロジン系化合物(II)を
他の成分と共に使用する利点は、銅箔エンチング後の紫
外線硬化皮膜のアルカリ除去性が非常に向tし、銅箔上
への紫外線硬化皮膜の残留がなくなること、アルカリ剥
離の工程ラインが短くなり、またアルカリ水溶液の温度
が低い場合でも十分に剥離ができるためにアルカリ水溶
液による銅張lJ!1層板の変色がないことなどである
。
他の成分と共に使用する利点は、銅箔エンチング後の紫
外線硬化皮膜のアルカリ除去性が非常に向tし、銅箔上
への紫外線硬化皮膜の残留がなくなること、アルカリ剥
離の工程ラインが短くなり、またアルカリ水溶液の温度
が低い場合でも十分に剥離ができるためにアルカリ水溶
液による銅張lJ!1層板の変色がないことなどである
。
さらに、本発明に使用される。
一般式
(式中、凡は水素原子又はメチル基、ルは水素原子又は
メチル基、几は水素原子、メチル基、メチロール基、ダ
イアセトンアルキル基、又は炭素fi1〜4のアルコオ
キシメチル基である)で表わされる化合物(III)と
しては、例えば (メタ)アクリルアマイド、トメチル
(ツタ)アクリルアマイド、 N−エチJl/ (ツタ
)アクリルアマイド、ジメチル (メタ)アクリルアマ
イド、N−メチロール (メタ)アクリルアマイド、ダ
イア七トン (メタ)アクリルアマイド、 N−ノトキ
ンメ■ チル (メタ)アクリルアマイド、 N−エトキンノチ
ル (メタ)アクリルアマイド、N−n−プロポキシメ
チル (メタ)アクリルアマイド、 N −n −ブト
キシメチル(メタ)アクリルアマイドなどがある。
メチル基、几は水素原子、メチル基、メチロール基、ダ
イアセトンアルキル基、又は炭素fi1〜4のアルコオ
キシメチル基である)で表わされる化合物(III)と
しては、例えば (メタ)アクリルアマイド、トメチル
(ツタ)アクリルアマイド、 N−エチJl/ (ツタ
)アクリルアマイド、ジメチル (メタ)アクリルアマ
イド、N−メチロール (メタ)アクリルアマイド、ダ
イア七トン (メタ)アクリルアマイド、 N−ノトキ
ンメ■ チル (メタ)アクリルアマイド、 N−エトキンノチ
ル (メタ)アクリルアマイド、N−n−プロポキシメ
チル (メタ)アクリルアマイド、 N −n −ブト
キシメチル(メタ)アクリルアマイドなどがある。
にL記のような化合物(m)の使用量は、本発明に係る
紫外線硬化樹脂組成物に対して 1〜30重量%である
ことが好ましく、これが30重量%を越えるとレジスト
インキとしてのインキ適性に欠けた流動性を呈し易い。
紫外線硬化樹脂組成物に対して 1〜30重量%である
ことが好ましく、これが30重量%を越えるとレジスト
インキとしてのインキ適性に欠けた流動性を呈し易い。
本発明においてにL記のような化合物(Ill)を他の
成分と共に使用する最大の利点は、紫外線硬化皮1模の
1ill!度が高くなることである。このように硬度の
高い紫外線硬化皮膜が得られれば、レジスト皮膜が工程
中のロールなどとの接触により損傷することがなく、片
面のみならず両面基板を製造する上で非常に有利である
ことは言うまでもない。
成分と共に使用する最大の利点は、紫外線硬化皮1模の
1ill!度が高くなることである。このように硬度の
高い紫外線硬化皮膜が得られれば、レジスト皮膜が工程
中のロールなどとの接触により損傷することがなく、片
面のみならず両面基板を製造する上で非常に有利である
ことは言うまでもない。
また、本発明に使用される光重合性モノマー(IV)と
しては耗釈的効果の大きい、低粘度のモノマーが望まし
い、そのような光重合性モノマー(TV)の例として、
(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、
エチル (メタ)アクリレート、 n−プロピル (メ
タ)アクリレート、1so−プロピル (メタ)アクリ
レート、 n−ブチル (メタ)アクリレート、 2−
エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ
)アクリレート、ステアリル (メタ)アクリレート、
シクロヘキシル (メタ)アクリレート、フェノキンエ
チル(メタ)アクリレート、2−工)・キシエチル(メ
タ)アクリレート、 2−ブトキノエチル (メタ)ア
クリレート、グリシジル (メタ)アクリレート、 2
−ヒドロキシエチル (メタ)アクリレート、 2−ヒ
ドロキシプロピル(ツタ)アクリレート、ヘンシル (
メタ)アクリレート、 2−ヒドロキシエチル (メタ
)アクリロイルフォスフェート、テトラヒドロキシフル
フリル (メタ)アクリレート、エチレングリコールモ
ノ (メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモ
ノ (メタ)アクリレート、エチルカルピトール (メ
タ)アクリレート、エチレングリコールン (メタ)ア
クリレート、ポリエチレングリコールシ (メタ)アク
リレート、1.4−ブタンジオールン (メタ)アクリ
レート、1,6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート
、トリメチロールプロパントリ (メタ)アクリレート
、ヒドロキシピパリン酸エステルネオペンチルグリコー
ルジ (メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ (メタ)アクリレートなどがあげられる。
しては耗釈的効果の大きい、低粘度のモノマーが望まし
い、そのような光重合性モノマー(TV)の例として、
(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、
エチル (メタ)アクリレート、 n−プロピル (メ
タ)アクリレート、1so−プロピル (メタ)アクリ
レート、 n−ブチル (メタ)アクリレート、 2−
エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ
)アクリレート、ステアリル (メタ)アクリレート、
シクロヘキシル (メタ)アクリレート、フェノキンエ
チル(メタ)アクリレート、2−工)・キシエチル(メ
タ)アクリレート、 2−ブトキノエチル (メタ)ア
クリレート、グリシジル (メタ)アクリレート、 2
−ヒドロキシエチル (メタ)アクリレート、 2−ヒ
ドロキシプロピル(ツタ)アクリレート、ヘンシル (
メタ)アクリレート、 2−ヒドロキシエチル (メタ
)アクリロイルフォスフェート、テトラヒドロキシフル
フリル (メタ)アクリレート、エチレングリコールモ
ノ (メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモ
ノ (メタ)アクリレート、エチルカルピトール (メ
タ)アクリレート、エチレングリコールン (メタ)ア
クリレート、ポリエチレングリコールシ (メタ)アク
リレート、1.4−ブタンジオールン (メタ)アクリ
レート、1,6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート
、トリメチロールプロパントリ (メタ)アクリレート
、ヒドロキシピパリン酸エステルネオペンチルグリコー
ルジ (メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ (メタ)アクリレートなどがあげられる。
このような光重合性モノマー(IV)は、 1g又は2
種型l−を任意の割合で混合して使用することができ、
またその使用量は、本発明に係る紫外線硬化樹脂組成物
シこ対して2〜40重量%であることが好ましく、これ
が40重量%を越えるとアルカリ剥離性が著しく低下す
る。
種型l−を任意の割合で混合して使用することができ、
またその使用量は、本発明に係る紫外線硬化樹脂組成物
シこ対して2〜40重量%であることが好ましく、これ
が40重量%を越えるとアルカリ剥離性が著しく低下す
る。
さらに、本発明に使用される光重合開始剤(V)として
は、公知の光重合開始剤を使用することができるが、紫
外線硬化樹脂組成物としての貯蔵安定性のよいものが望
ましい。それらの例として、ヘンツイン、ベンジル、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾイン−nへプロピルエーテル、ペンツインーis
o −プロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエー
テル、ペンツイン−ISO−ブチルエーテル、ペンツフ
ェノン、ジアセチル、アセトフェノンアン)・ラキノン
、 2−エチルアントラキノン、 2−クロロアントラ
キノン、ヘンシルジメチルケタール、チオキサントン、
2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサント
ン、1.4−1so−プロビルフェこルー 2−ヒドロ
キシ−2−メチルプロパン−1−オン、 2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オンなど
があげられ、単独又は併用で使用される。
は、公知の光重合開始剤を使用することができるが、紫
外線硬化樹脂組成物としての貯蔵安定性のよいものが望
ましい。それらの例として、ヘンツイン、ベンジル、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾイン−nへプロピルエーテル、ペンツインーis
o −プロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエー
テル、ペンツイン−ISO−ブチルエーテル、ペンツフ
ェノン、ジアセチル、アセトフェノンアン)・ラキノン
、 2−エチルアントラキノン、 2−クロロアントラ
キノン、ヘンシルジメチルケタール、チオキサントン、
2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサント
ン、1.4−1so−プロビルフェこルー 2−ヒドロ
キシ−2−メチルプロパン−1−オン、 2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オンなど
があげられ、単独又は併用で使用される。
なお、必要に応じてn−ブチルアミン、l5O−ブチル
アミン、トリエチルアミン、ジエチルアミノエチルメタ
クリレート、ミヒラーケトン、ナトリウムジエチルチオ
フォスフェートなどを有効な増感剤として併用すること
ができる。
アミン、トリエチルアミン、ジエチルアミノエチルメタ
クリレート、ミヒラーケトン、ナトリウムジエチルチオ
フォスフェートなどを有効な増感剤として併用すること
ができる。
本発明において、貯蔵安定性を改良するために、熱重合
禁止剤としてハイドロキノン、/\イ]・ロキノン七ツ
メチルエーテル、カテコール、 p−t−ブチルカテコ
ール、トリフェニルフォスフェートなどを添加すること
ができる。これらの熱重合禁止剤は光重合反応を拘制す
ることなく、熱重合のみを防止するものである。
禁止剤としてハイドロキノン、/\イ]・ロキノン七ツ
メチルエーテル、カテコール、 p−t−ブチルカテコ
ール、トリフェニルフォスフェートなどを添加すること
ができる。これらの熱重合禁止剤は光重合反応を拘制す
ることなく、熱重合のみを防止するものである。
また、エンチングレジストインキとして使用するに際し
ては、印刷適性を向上させるために消泡剤、充填剤とし
ての体質顔料1着色顔料、レベリング剤、チクントロビ
ンク付与剤などを添加することができる。
ては、印刷適性を向上させるために消泡剤、充填剤とし
ての体質顔料1着色顔料、レベリング剤、チクントロビ
ンク付与剤などを添加することができる。
上記において、消泡剤としては例えばシリコン系化合物
、フッ素系化合物、アクリル系化合物などを、また充填
剤としての体質顔料としては沈降性硫醸へリウム、タル
ク、カオリン、炭醜カルシウム、ケイ酸アルミニウド、
ホワイトカーボンなどを、また着色顔料としてはメチレ
ンブルー、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリ
ーン、カーボンブランクなと゛を、そしてレベリング剤
としてはシリコン系オリゴマー、アクリル系オリゴマー
などを、さらにチクソトロピンク付与剤としては有機化
ベントナイト、微粉末シリカなどをそれぞれ使用するこ
とができる。
、フッ素系化合物、アクリル系化合物などを、また充填
剤としての体質顔料としては沈降性硫醸へリウム、タル
ク、カオリン、炭醜カルシウム、ケイ酸アルミニウド、
ホワイトカーボンなどを、また着色顔料としてはメチレ
ンブルー、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリ
ーン、カーボンブランクなと゛を、そしてレベリング剤
としてはシリコン系オリゴマー、アクリル系オリゴマー
などを、さらにチクソトロピンク付与剤としては有機化
ベントナイト、微粉末シリカなどをそれぞれ使用するこ
とができる。
本発明に係る紫外線硬化樹脂組成物を硬化させる際に使
用される紫外線は、 150〜500 nsの波長、特
に300〜450n−の波長領域のものが有効であり、
使用される光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超
高圧水銀灯、カーホンアーク灯、メタルハライドランプ
などが望ましい。
用される紫外線は、 150〜500 nsの波長、特
に300〜450n−の波長領域のものが有効であり、
使用される光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超
高圧水銀灯、カーホンアーク灯、メタルハライドランプ
などが望ましい。
また、本発明に係る、エツチングレジストインキとして
の紫外線硬化樹脂組成物は、それを構成する上記各成分
を三木ロールなどを用いて均一に混練して作成すればよ
い。
の紫外線硬化樹脂組成物は、それを構成する上記各成分
を三木ロールなどを用いて均一に混練して作成すればよ
い。
次に、前記の合成例で得られた各種の半エステル化物(
I)を用いた実施例及び比較例を示して1本発明を具体
的に説明する。
I)を用いた実施例及び比較例を示して1本発明を具体
的に説明する。
実施例 1
合成例 1で得られたフタル酸モノアクリロイルヒドロ
キシエチルエステル40重量部、合成例2で得られたヘ
キサヒドロキシフタル酩モノアクリロイルヒドロキシエ
チルエステル30重量部、ロジン変性マレイン酩樹脂(
酩価200、軟化点 110℃)10重量部、アクリル
アマイド5重量部、エチルカルビトールアクリレートI
I重湯部、光重合開始剤としてヘンツイン−1so−ブ
チルエーテル4重量部を配合してエンチングレジストイ
ンキ用の樹脂組成物を得た。
キシエチルエステル40重量部、合成例2で得られたヘ
キサヒドロキシフタル酩モノアクリロイルヒドロキシエ
チルエステル30重量部、ロジン変性マレイン酩樹脂(
酩価200、軟化点 110℃)10重量部、アクリル
アマイド5重量部、エチルカルビトールアクリレートI
I重湯部、光重合開始剤としてヘンツイン−1so−ブ
チルエーテル4重量部を配合してエンチングレジストイ
ンキ用の樹脂組成物を得た。
次いで、1−記の樹脂組成物に、スクリーン印刷適性を
得るために硫酸バリウム30重4)部、タルク20 重
−In 部、フタロシアニンブルー1重量部、アエロジ
ル# 200 (IJ本アエロジル製) 2 上置RB
、消泡剤として5H−21PA (東しシリコン製)0
.1重埴部、レベリング剤としてモツプロー (モンサ
ンド社製) 1重量部を混合し、その混合物を三本ロー
ル(弁上製作所製)を用いて均一に混練してエンチング
レジストインキを作成した。
得るために硫酸バリウム30重4)部、タルク20 重
−In 部、フタロシアニンブルー1重量部、アエロジ
ル# 200 (IJ本アエロジル製) 2 上置RB
、消泡剤として5H−21PA (東しシリコン製)0
.1重埴部、レベリング剤としてモツプロー (モンサ
ンド社製) 1重量部を混合し、その混合物を三本ロー
ル(弁上製作所製)を用いて均一に混練してエンチング
レジストインキを作成した。
上記のエンチングレジストインキを 200メンシユテ
トロン製スクリーンにて銅張積層板上に0.1.0.1
5、0.2.0.25、0.3. 0.4、0.5+n
mの線間線巾を10本ずつ有するパターンを印刷し、高
圧水銀灯80W/am、照射距M15cm、照射時間2
0秒で紫外線硬化させ、得られたレジスト皮膜は膜厚1
5鉢、硬度 (鉛筆硬度)4重1密着性too/ +0
0のちのであった。
トロン製スクリーンにて銅張積層板上に0.1.0.1
5、0.2.0.25、0.3. 0.4、0.5+n
mの線間線巾を10本ずつ有するパターンを印刷し、高
圧水銀灯80W/am、照射距M15cm、照射時間2
0秒で紫外線硬化させ、得られたレジスト皮膜は膜厚1
5鉢、硬度 (鉛筆硬度)4重1密着性too/ +0
0のちのであった。
上記の積層板を40℃の40%塩化第二鉄水溶液で3分
間エツチングしたが、レジスト皮膜のハガレは生じなか
った。続いて、その積層板を25℃の3%水水化化ナト
リウム水溶液処理したところ、レジスト皮膜は8秒で完
全に剥離し、断線、ピンホールなどのないプリント配線
板を得た。
間エツチングしたが、レジスト皮膜のハガレは生じなか
った。続いて、その積層板を25℃の3%水水化化ナト
リウム水溶液処理したところ、レジスト皮膜は8秒で完
全に剥離し、断線、ピンホールなどのないプリント配線
板を得た。
比較例 l
攪拌機及びコンデンサー付水分離器、温度計を備えた三
つ[Jフラスコにプロピレングリコール76g (l
mat) 、イソフタル酸25g (0,15mol)
、無水マレイン酸99 g (0,85mol)を仕
込み、酢酸カルシウム 0.1gを添加し、窒素カス気
流中において170°Cで8時間重縮合反応させて得ら
れたポリエステル35重量部、合成例2で得られたヘキ
サヒドロキシフタル酩千ノアクリロイルヒドロキシエチ
ルエステル40重量部、フェノキシエチルアクリレート
20重量部、光重合開始剤としてヘンジルジメチルケタ
ール5重量部を配合してエツチングレジストインキ用の
樹脂組成物を得た。
つ[Jフラスコにプロピレングリコール76g (l
mat) 、イソフタル酸25g (0,15mol)
、無水マレイン酸99 g (0,85mol)を仕
込み、酢酸カルシウム 0.1gを添加し、窒素カス気
流中において170°Cで8時間重縮合反応させて得ら
れたポリエステル35重量部、合成例2で得られたヘキ
サヒドロキシフタル酩千ノアクリロイルヒドロキシエチ
ルエステル40重量部、フェノキシエチルアクリレート
20重量部、光重合開始剤としてヘンジルジメチルケタ
ール5重量部を配合してエツチングレジストインキ用の
樹脂組成物を得た。
次いで、上記の樹脂組成物に、スクリーン印刷適性を得
るために硫酸バリウム30重量部、タルク20重量部、
フタロシアニンブルー1重% 部、アエロジル#200
(日本アエロジル酸)2重量部、消泡剤としてSH−
21PA (東しシリコン製)0.1重量部、レベリン
グ剤としてモダフロー (モンサンド社製) 1重埴部
を混合し、その混合物を三本ロール(月1.製作所製)
を用いて均一に混練してエツチングレジストインキを作
成した。
るために硫酸バリウム30重量部、タルク20重量部、
フタロシアニンブルー1重% 部、アエロジル#200
(日本アエロジル酸)2重量部、消泡剤としてSH−
21PA (東しシリコン製)0.1重量部、レベリン
グ剤としてモダフロー (モンサンド社製) 1重埴部
を混合し、その混合物を三本ロール(月1.製作所製)
を用いて均一に混練してエツチングレジストインキを作
成した。
上記のエンチングレジストインキを実施例 1と同様に
銅張積層板上にスクリーン印刷し、紫外線硬化させ、得
られたレジスト皮膜は膜厚15JL、硬度(鉛筆硬度)
H1密看性100/100のものであった。
銅張積層板上にスクリーン印刷し、紫外線硬化させ、得
られたレジスト皮膜は膜厚15JL、硬度(鉛筆硬度)
H1密看性100/100のものであった。
上記のa層板を40°Cの40%塩化第二鉄水溶液で3
分間エツチングしたが、レジスト皮膜が0.1.0.1
5mmの線間線巾の部分にハガレを生じ、銅箔が部分的
に過剰エツチングされていた。続いて、その積層板を4
0℃の3%水水化化ナトリウム水溶液処理したところ、
レジスト皮膜を完全に剥離するのに30秒を要した。
分間エツチングしたが、レジスト皮膜が0.1.0.1
5mmの線間線巾の部分にハガレを生じ、銅箔が部分的
に過剰エツチングされていた。続いて、その積層板を4
0℃の3%水水化化ナトリウム水溶液処理したところ、
レジスト皮膜を完全に剥離するのに30秒を要した。
実施例2
合成例2で得られたヘキサヒドロキシフタル酩モノアク
リロイルヒドロキシエチルエステル60東量部、ロジン
変性マレイン酸樹脂(酩価160.軟化点95℃) 5
重重部、メタクリルアマイド15重に部、フェノキシエ
チルアクリレートlo重yi+j部、トリノチロールプ
ロバ/トリアクリレート 5屯ニ一1部、ヘンシルジメ
チルケタール5毛早部を配合してエンチングレジストイ
ンキ用の樹脂Ml物とし、さらにこれに硫酸バリウム4
0重%1部、カオリン20屯に部、フタロシアニンブル
ー 1主星部、アエロジル# 380 (1」本アエロ
ジル製)21[、消泡剤5)I−30PA (東しシリ
コン製)0゜1重zfr部、レヘリング剤ポリフローN
o90(共栄社油脂製) 1重量部を混合し、その混合
物を三本ロール (井り製作剛製)を用いて均一に混練
してエツチングレジストインキを作成した。
リロイルヒドロキシエチルエステル60東量部、ロジン
変性マレイン酸樹脂(酩価160.軟化点95℃) 5
重重部、メタクリルアマイド15重に部、フェノキシエ
チルアクリレートlo重yi+j部、トリノチロールプ
ロバ/トリアクリレート 5屯ニ一1部、ヘンシルジメ
チルケタール5毛早部を配合してエンチングレジストイ
ンキ用の樹脂Ml物とし、さらにこれに硫酸バリウム4
0重%1部、カオリン20屯に部、フタロシアニンブル
ー 1主星部、アエロジル# 380 (1」本アエロ
ジル製)21[、消泡剤5)I−30PA (東しシリ
コン製)0゜1重zfr部、レヘリング剤ポリフローN
o90(共栄社油脂製) 1重量部を混合し、その混合
物を三本ロール (井り製作剛製)を用いて均一に混練
してエツチングレジストインキを作成した。
上記のエツチングレジストインキを実施例 1と同様に
銅張積層板上にスクリーン印刷し、紫外線硬化させ、得
られたレジスト皮膜は膜厚15川、硬度(鉛筆硬度)3
■1密着性+00/+00のものであった。
銅張積層板上にスクリーン印刷し、紫外線硬化させ、得
られたレジスト皮膜は膜厚15川、硬度(鉛筆硬度)3
■1密着性+00/+00のものであった。
L記の積層板を40℃の30%塩化第二銅水溶液で3分
間エツチングしたが、レジスト皮膜のハカレは生じなか
った。続いて、その積層板を40℃の3%水酸化カリウ
1、水溶液で処理したところ、レジスト皮膜は4秒で完
全に剥離し、断線、ピンホールなどのないプリント配線
板を得た。
間エツチングしたが、レジスト皮膜のハカレは生じなか
った。続いて、その積層板を40℃の3%水酸化カリウ
1、水溶液で処理したところ、レジスト皮膜は4秒で完
全に剥離し、断線、ピンホールなどのないプリント配線
板を得た。
実施例3
合成例3で得られた4−メチルへキサヒドロキシフタル
酩モノメタクリロイルヒドロキシエチルエステル30重
、l1l一部、合成例4で得られた 4−メチルテトラ
ヒドロキンフタル酸モノメタクリロイルヒドロキシエチ
ルエステル40 用量m、重合ロジン(S価140、軟
化点95℃)8重湯部、メタクリル714110重量部
、テトラヒドロキシフルフリルアクリレート 8重量部
、ヘンツインエチルエーテル4重量部を配合してエツチ
ングレジストインキ用の樹脂組成物とし、さらにこれに
タルクlO重量部、ケイ酩アルミニウム30fii部、
フタロシアニングリーン 1重量部、消泡剤5)I−2
1PA (東しンリ、:1751 )0.2.% Fl
jJ、レベリング剤モタフロー (モノサンド社製)
2用量部を混合し、その程合物を三木ロール (弁上製
作所製)を用いて均・に混練してニー7チングレジスト
インキを作成した。
酩モノメタクリロイルヒドロキシエチルエステル30重
、l1l一部、合成例4で得られた 4−メチルテトラ
ヒドロキンフタル酸モノメタクリロイルヒドロキシエチ
ルエステル40 用量m、重合ロジン(S価140、軟
化点95℃)8重湯部、メタクリル714110重量部
、テトラヒドロキシフルフリルアクリレート 8重量部
、ヘンツインエチルエーテル4重量部を配合してエツチ
ングレジストインキ用の樹脂組成物とし、さらにこれに
タルクlO重量部、ケイ酩アルミニウム30fii部、
フタロシアニングリーン 1重量部、消泡剤5)I−2
1PA (東しンリ、:1751 )0.2.% Fl
jJ、レベリング剤モタフロー (モノサンド社製)
2用量部を混合し、その程合物を三木ロール (弁上製
作所製)を用いて均・に混練してニー7チングレジスト
インキを作成した。
」−記のエンチングレジストインキを実施例 1と同様
に銅張積層板上にスクリーン印刷し、紫外線硬化させ、
得られたレジスト皮膜は膜厚18μ、硬度(鉛筆硬度)
3■1富着性+00/looのものであった。
に銅張積層板上にスクリーン印刷し、紫外線硬化させ、
得られたレジスト皮膜は膜厚18μ、硬度(鉛筆硬度)
3■1富着性+00/looのものであった。
l−記の積層板を40°Cの30%塩化第乙鉄水溶液で
3分間エツチングしたが、レジスト皮膜のハガレはなく
、耐エツチング液性は良好であった。続いて、そのIA
層板を30℃の3%水酸化ナトリウム水溶液で処理した
ところ、レジスト皮膜は5秒で完全に剥離し、断線、ピ
ンホールなどのないプリント配線板を得た。
3分間エツチングしたが、レジスト皮膜のハガレはなく
、耐エツチング液性は良好であった。続いて、そのIA
層板を30℃の3%水酸化ナトリウム水溶液で処理した
ところ、レジスト皮膜は5秒で完全に剥離し、断線、ピ
ンホールなどのないプリント配線板を得た。
比較例2
合成例2で得られたヘキサヒドロキシフタル酸モノアク
リロイルヒドロキシエチルエステル40重S11部、合
成例3で得られた4−メチルへキサヒドロキシフタル酪
モノメタクリロイルヒドロキシエチルエステル30重に
部、重合ロジン(酸価140、軟化点95℃)10重積
部、2−ヒドロキシエチルアクリレート16 i %i
部、ペンシルジメチルケタール4Φ、−7,を部を配合
してエツチングレジストインキ用の樹脂組成物とし、さ
らにこれに炭酸カルシウム30 X ;+5部、lIk
酩バリウム20重量部、フタロシアニンブルー 1屯量
部、アエロジル# 200 (日本アエロジル製) 1
重量部、消泡剤5H−30PA (東しシリコン%)0
.1重量部、レベリング剤ポリフローNo90(バ栄社
油脂製)1重量部を混合し、その混合物を三木ロール
(井上製作所製)を用いて均一に混練してエツチングレ
ジストインキを作成した。
リロイルヒドロキシエチルエステル40重S11部、合
成例3で得られた4−メチルへキサヒドロキシフタル酪
モノメタクリロイルヒドロキシエチルエステル30重に
部、重合ロジン(酸価140、軟化点95℃)10重積
部、2−ヒドロキシエチルアクリレート16 i %i
部、ペンシルジメチルケタール4Φ、−7,を部を配合
してエツチングレジストインキ用の樹脂組成物とし、さ
らにこれに炭酸カルシウム30 X ;+5部、lIk
酩バリウム20重量部、フタロシアニンブルー 1屯量
部、アエロジル# 200 (日本アエロジル製) 1
重量部、消泡剤5H−30PA (東しシリコン%)0
.1重量部、レベリング剤ポリフローNo90(バ栄社
油脂製)1重量部を混合し、その混合物を三木ロール
(井上製作所製)を用いて均一に混練してエツチングレ
ジストインキを作成した。
l−記のエツチングレジストインキを実施例 1と同様
に銅張積層板」二にスクリーン印刷し、紫外線硬化させ
、得られたレジスト皮膜は膜厚15.、硬度(鉛筆硬度
)HB、密着性100/100のものであった。
に銅張積層板」二にスクリーン印刷し、紫外線硬化させ
、得られたレジスト皮膜は膜厚15.、硬度(鉛筆硬度
)HB、密着性100/100のものであった。
上記の積層板を40℃の40%塩化第゛−鉄水溶液で3
分間エツチングしたが、レジスト皮膜が0.1゜0.1
5、0.2■の線間線巾の部分にハカレを生し、銅箔が
部分的に過剰エンチングされていた。続いて、その積層
板を30°Cの3%水酩化ナトリウト水溶液で処理した
ところ、レジスト皮11!l!を完全に剥離するのに
8秒を貧した。
分間エツチングしたが、レジスト皮膜が0.1゜0.1
5、0.2■の線間線巾の部分にハカレを生し、銅箔が
部分的に過剰エンチングされていた。続いて、その積層
板を30°Cの3%水酩化ナトリウト水溶液で処理した
ところ、レジスト皮11!l!を完全に剥離するのに
8秒を貧した。
実施例4
合成例2で得られたヘキサヒドロキシフタル酸七ノモノ
リロイルヒドロキシエチルエステル30千r一部、合成
例3で得られた4−メチルへキサヒドロキシフタル酩モ
ノメタクリロイルヒドロキシエチルエステル30重早部
、ロジン変性マレイン酸樹脂(酸価250、軟化点13
0℃)10東φ部、メタクリルアマイド10重量部、
2−ヒドロキシエチルアクリレート15重f部、ベンフ
ィン−1so−ブチルエーテル5重に部を配合してエラ
チンブレジス)・インキ用の樹脂組成物とし、さらにこ
れにタルク20重量部、ホワイトカーボン20重量部、
カーボンブラック 1重量部、消泡剤5H−21PA
(東レシリコン製) 0.1ffifa部、レベリング
剤モダフロー (モノサント社製)2重量部、熱重合禁
止剤/%イトロキノン0.1−mff1部を混合し、そ
の混合物を三本ロール(井1−製作所5fl)を用いて
均一・に混練してエツチングレジストインキを作成した
。
リロイルヒドロキシエチルエステル30千r一部、合成
例3で得られた4−メチルへキサヒドロキシフタル酩モ
ノメタクリロイルヒドロキシエチルエステル30重早部
、ロジン変性マレイン酸樹脂(酸価250、軟化点13
0℃)10東φ部、メタクリルアマイド10重量部、
2−ヒドロキシエチルアクリレート15重f部、ベンフ
ィン−1so−ブチルエーテル5重に部を配合してエラ
チンブレジス)・インキ用の樹脂組成物とし、さらにこ
れにタルク20重量部、ホワイトカーボン20重量部、
カーボンブラック 1重量部、消泡剤5H−21PA
(東レシリコン製) 0.1ffifa部、レベリング
剤モダフロー (モノサント社製)2重量部、熱重合禁
止剤/%イトロキノン0.1−mff1部を混合し、そ
の混合物を三本ロール(井1−製作所5fl)を用いて
均一・に混練してエツチングレジストインキを作成した
。
)Z 記(7)エツチングレジストインキを実施例 1
と同様に銅張積層板りにスクリーン印刷し、紫外線硬化
させ、得られたレジスト皮膜は膜厚15μ、硬度(鉛筆
硬度)3H,密着性100/100のものであった。
と同様に銅張積層板りにスクリーン印刷し、紫外線硬化
させ、得られたレジスト皮膜は膜厚15μ、硬度(鉛筆
硬度)3H,密着性100/100のものであった。
E記の積層板を40℃の40%塩化第二鉄水溶液で3分
間エツチングしたが、レジスト皮膜のハガレはなく、耐
エツチング液性は良好であった。続いて、その積層板を
20℃の3%水水化化カリウム水溶液処理したところ、
レジスト皮膜は5秒で完全に剥離し、断線、ピンホール
などのないプリント配線板を得た。
間エツチングしたが、レジスト皮膜のハガレはなく、耐
エツチング液性は良好であった。続いて、その積層板を
20℃の3%水水化化カリウム水溶液処理したところ、
レジスト皮膜は5秒で完全に剥離し、断線、ピンホール
などのないプリント配線板を得た。
(C)発明の゛効果
本発明に係る紫外線硬化樹脂組成物は、硬化性、皮膜硬
度及び耐エツチング液性に優れ、しかで、プリント配線
板製造のためのエラチングレンストインキ用として好適
のものである。
度及び耐エツチング液性に優れ、しかで、プリント配線
板製造のためのエラチングレンストインキ用として好適
のものである。
以I4
代理人 弁理士 安 # 惇 逸
Claims (1)
- (1)多’H2に酸無水物のヒドロキシアルキル(メタ
)アクリレートとの半エステル化物 (I)酸価が50
〜300のロジン系化合物(II)、般式 (式中、凡は水素原子又はメチル基、ルは水素b;<−
r又はメチルノ、シ丸は水素原子、メチル基。 メチロール基、タイ7セトンアルキル基、又は炭素数
1〜4のアルコオキシメチル基である)で表わされる化
合物(■)、光重合性七ツマ−(■)、及び光重合開始
剤(V)を含むことを特徴とする紫外線硬化樹脂組成物
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59080736A JPS60225150A (ja) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | 紫外線硬化樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59080736A JPS60225150A (ja) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | 紫外線硬化樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60225150A true JPS60225150A (ja) | 1985-11-09 |
Family
ID=13726670
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59080736A Pending JPS60225150A (ja) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | 紫外線硬化樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60225150A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63265980A (ja) * | 1987-04-22 | 1988-11-02 | Toyobo Co Ltd | 紫外線硬化型インキ組成物 |
JPH0436927A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-06 | Fuji Yakuhin Kogyo Kk | 光粘着化感光性組成物 |
WO2008026465A1 (fr) * | 2006-08-30 | 2008-03-06 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Matériau de plaque d'impression lithographique photosensible |
JP2011001461A (ja) * | 2009-06-18 | 2011-01-06 | Chisso Corp | インクジェット用インク及び該インクから得られる硬化膜 |
JP2016191010A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 互応化学工業株式会社 | インクジェットエッチングレジスト用紫外線硬化性組成物 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51999A (ja) * | 1974-06-21 | 1976-01-07 | Nippon Electric Co | Jidoshoruijunjoseirisochi |
JPS52113810A (en) * | 1976-03-16 | 1977-09-24 | Mitsubishi Rayon Co | Surface processing for printed matters |
JPS5713444A (en) * | 1980-06-27 | 1982-01-23 | Tamura Kaken Kk | Photosensitive composition |
-
1984
- 1984-04-20 JP JP59080736A patent/JPS60225150A/ja active Pending
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