JPS60210733A - レンズ光軸検査装置 - Google Patents
レンズ光軸検査装置Info
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- JPS60210733A JPS60210733A JP6693484A JP6693484A JPS60210733A JP S60210733 A JPS60210733 A JP S60210733A JP 6693484 A JP6693484 A JP 6693484A JP 6693484 A JP6693484 A JP 6693484A JP S60210733 A JPS60210733 A JP S60210733A
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- Japan
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- lens
- light
- optical axis
- objective lens
- intensity distribution
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0221—Testing optical properties by determining the optical axis or position of lenses
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Moving Of The Head For Recording And Reproducing By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はレーザを光源として、円盤状記録媒体（以後デ
ィスクと称す。）上に形成した記録トラックに集光して
情報を記録あるいは再生する光学式記録再生装置等に用
いられるレンズの光軸検査装置に関するものである。
ィスクと称す。）上に形成した記録トラックに集光して
情報を記録あるいは再生する光学式記録再生装置等に用
いられるレンズの光軸検査装置に関するものである。
従来例の構成とその問題点
第１図を用いてまず、光学式記録再生装置の構成を簡単
に説明する。ディスク１はモータ３に同軸的に取り付け
られたターンテーブル２に装着されて回転する。半導体
レーザ４から発せられた光はミラー５により光路を変換
され光ピツクアップ６に収納された対物レンズＴに入射
する。また、半導体レーザ４．コリメータレンズ、４分
の１波長板、ビーム・スプリッター、光検出器等（図示
せず）を含む光学ユニット９がキャリッジ８に取り付け
られ、光学ユニット９に取り付けられた光ピツクアップ
６と共に例えばスラッピングモータ −によりディスク
１の半径方向に移送される。
に説明する。ディスク１はモータ３に同軸的に取り付け
られたターンテーブル２に装着されて回転する。半導体
レーザ４から発せられた光はミラー５により光路を変換
され光ピツクアップ６に収納された対物レンズＴに入射
する。また、半導体レーザ４．コリメータレンズ、４分
の１波長板、ビーム・スプリッター、光検出器等（図示
せず）を含む光学ユニット９がキャリッジ８に取り付け
られ、光学ユニット９に取り付けられた光ピツクアップ
６と共に例えばスラッピングモータ −によりディスク
１の半径方向に移送される。
このような光学式記録再生装置においては、記録トラッ
ク上の光ビームの集光状態すなわち、焦点面上での収差
によって記録再生特性が決定される。この集光状態に悪
影響を与える要因として、ディスクと光ピツクアップに
収納された対物レンズの光軸との垂直度ずれ、レーザ光
軸と対物レンズ光軸との傾きがあげられる。
ク上の光ビームの集光状態すなわち、焦点面上での収差
によって記録再生特性が決定される。この集光状態に悪
影響を与える要因として、ディスクと光ピツクアップに
収納された対物レンズの光軸との垂直度ずれ、レーザ光
軸と対物レンズ光軸との傾きがあげられる。
この対物レンズ元軸とディスクとの垂直度ずれ及び、レ
ーザ光軸との傾きを低減することが肝要であり、これに
よって記録再生特性を向上させることができる。
ーザ光軸との傾きを低減することが肝要であり、これに
よって記録再生特性を向上させることができる。
次に従来性なわれているこの対物レンズのｉ軸調整方法
について説明する。第２図は対物レンズを収納する光ピ
ツクアップの平面図、第３図は同断面図である。第２図
、第３図において１１は対物レンズ１０を収納したレン
ズ収納筒、１２ａ。
について説明する。第２図は対物レンズを収納する光ピ
ツクアップの平面図、第３図は同断面図である。第２図
、第３図において１１は対物レンズ１０を収納したレン
ズ収納筒、１２ａ。
１２ｂ［レンズ収納筒１１に固着されたトラッキング駆
動用可動コイル、１３は同じくフォーカス駆動用可動コ
イル、１４ａ、１４ｂは筐体１８に固着されたトラッキ
ング駆動用磁石ユニット、１６は同じくフォーカス駆動
用磁石ユニットである。レンズ収納筒１１は弾性支持部
材１６ａ。
動用可動コイル、１３は同じくフォーカス駆動用可動コ
イル、１４ａ、１４ｂは筐体１８に固着されたトラッキ
ング駆動用磁石ユニット、１６は同じくフォーカス駆動
用磁石ユニットである。レンズ収納筒１１は弾性支持部
材１６ａ。
１６ｂＫよって移動自在に弾性的に支持されている。
従って、公知の如く、フォーカス制御信号あるいはトラ
ッキング制御信号が可動コイル１３．可動コイル１２＆
、１２ｂに通電されると磁石ユニット１４ａ、１４ｂ、
１５との間でフレミングの左手の法則に従う電磁気力が
発生し、対物レンズ１０を収納したレンズ収納筒１１は
弾性支持部材１６ａ、１６ｂに弾性的に支持され、フォ
ーカス誤差あるいはトラッキング誤差を補正するよう移
動される。
ッキング制御信号が可動コイル１３．可動コイル１２＆
、１２ｂに通電されると磁石ユニット１４ａ、１４ｂ、
１５との間でフレミングの左手の法則に従う電磁気力が
発生し、対物レンズ１０を収納したレンズ収納筒１１は
弾性支持部材１６ａ、１６ｂに弾性的に支持され、フォ
ーカス誤差あるいはトラッキング誤差を補正するよう移
動される。
し
弾性支持部材１１３ｂはレンズ収納筒１１と筐体１８に
同軸的に係合されている。一方弾性支持部材１６ａはそ
の内周部はレンズ収納筒１１に係合され、外周部は弾性
支持部材ホルダー１７に係合されている。この弾性支持
部材ホルダー１７は筐体１８にねじ１９ａ〜１９ｄＫよ
って取り付けられているが、ホルダー１７に設けられた
貫通穴はねじ径より大きいので、図中のＸ方向及びＹ方
向′に移動可能となっている。
同軸的に係合されている。一方弾性支持部材１６ａはそ
の内周部はレンズ収納筒１１に係合され、外周部は弾性
支持部材ホルダー１７に係合されている。この弾性支持
部材ホルダー１７は筐体１８にねじ１９ａ〜１９ｄＫよ
って取り付けられているが、ホルダー１７に設けられた
貫通穴はねじ径より大きいので、図中のＸ方向及びＹ方
向′に移動可能となっている。
以上のような構成によシ第４図に示すような手段で、対
物レンズう′Ｃ軸Ａムを筐体１８の下面２０に対して垂
直に、すなわちＺ軸に一致させる。
物レンズう′Ｃ軸Ａムを筐体１８の下面２０に対して垂
直に、すなわちＺ軸に一致させる。
第４図は従来検査法の一例である。図中の１１゜１６！
Ｌ、１６ｂ、１７，１８．２０は第２図、第３図と同一
の部材を示す。２１はレンズ収納筒内に設置した反射ミ
ラーでめシ、２２は光ピツクアップを搭載する基台であ
る。Ｈｅ−Ｎｅレーザ２４から発せられた光は基台２２
に垂直入射するよう回動ミラー２３によって設定されて
いる。
Ｌ、１６ｂ、１７，１８．２０は第２図、第３図と同一
の部材を示す。２１はレンズ収納筒内に設置した反射ミ
ラーでめシ、２２は光ピツクアップを搭載する基台であ
る。Ｈｅ−Ｎｅレーザ２４から発せられた光は基台２２
に垂直入射するよう回動ミラー２３によって設定されて
いる。
ここでレンズ収納筒１１の中心軸ＢＢが基台２２に対し
て、すなわち筐体１８の下面２０に対して垂直でるれば
Ｈｅ−Ｈｅレーザ２４からの光は反射ミラー２１によシ
垂直に反射され、同一光路をたどってＨｅ −Ｎｏレー
ザ２４の出射窓に帰還する。したがって垂直でない場合
は反射ミラー２１からの反射光がＨａ−Ｎｅレーザ２４
の出射窓に帰還するよう、弾性支持部材ホルダー１７の
取り付は位置を移動させてレンズ収納筒１１の上端を引
き起し、レンズ収納筒１１の中心軸ＢＢを光ピックアッ
プ取り付は面に対して垂直にする。
て、すなわち筐体１８の下面２０に対して垂直でるれば
Ｈｅ−Ｈｅレーザ２４からの光は反射ミラー２１によシ
垂直に反射され、同一光路をたどってＨｅ −Ｎｏレー
ザ２４の出射窓に帰還する。したがって垂直でない場合
は反射ミラー２１からの反射光がＨａ−Ｎｅレーザ２４
の出射窓に帰還するよう、弾性支持部材ホルダー１７の
取り付は位置を移動させてレンズ収納筒１１の上端を引
き起し、レンズ収納筒１１の中心軸ＢＢを光ピックアッ
プ取り付は面に対して垂直にする。
このように従来例では、Ｈｅ−Ｎ６レーザ光軸に対して
反射ミラー２１が垂直に設定されるのでろって対物レン
ズ１ρの光軸そのものが調整されていない。
反射ミラー２１が垂直に設定されるのでろって対物レン
ズ１ρの光軸そのものが調整されていない。
このため対物レンズ鏡筒とレンズ収納筒のガタ及び対物
レンズ１０の光軸Ａムと対物レンズ鏡筒の中心軸のずれ
による光軸不良を補正することができないという欠点を
有している。
レンズ１０の光軸Ａムと対物レンズ鏡筒の中心軸のずれ
による光軸不良を補正することができないという欠点を
有している。
発明の目的
本発明は光強度分布から被検レンズの光軸傾きを検出す
ることによシ、上記従来例の欠点を解決するもので、被
検レンズの光軸を検査・調整する装置を提供することが
目的である。
ることによシ、上記従来例の欠点を解決するもので、被
検レンズの光軸を検査・調整する装置を提供することが
目的である。
発明の構成
本発明は被検レンズに入射する平行光ビームを、被検レ
ンズの焦点位置に配置した反射ミラーで反射し、その反
射光を再び前記被検レンズを通して平行反射ビームとし
た後、収束レンズで光スポットに集光する光学系に、前
記光スポットの光強度分布を検出するビーム形状検出手
段と、前記平行反射ビームより前記被検レンズの焦点位
置を検出する焦点検出手段とを設け、焦点検出手段によ
シ前記反射ミラーが前記被検レンズの焦点位置になるよ
う制御し、前記光スポットの光強度分布より前記被検レ
ンズの光軸の傾きを検出するよう構成したレンズ光軸検
査装置である。
ンズの焦点位置に配置した反射ミラーで反射し、その反
射光を再び前記被検レンズを通して平行反射ビームとし
た後、収束レンズで光スポットに集光する光学系に、前
記光スポットの光強度分布を検出するビーム形状検出手
段と、前記平行反射ビームより前記被検レンズの焦点位
置を検出する焦点検出手段とを設け、焦点検出手段によ
シ前記反射ミラーが前記被検レンズの焦点位置になるよ
う制御し、前記光スポットの光強度分布より前記被検レ
ンズの光軸の傾きを検出するよう構成したレンズ光軸検
査装置である。
実施例の説明
第６図に本発明の一実施例を示す。図中の１０゜１１．
１３，１５，１６ａ、１６ｔ）、１７，１８゜２０．２
２は第２図、第３図、第４図と同一の部材を示す。対物
レンズ１０がレンズ光軸を調整するための被検レンズで
βる。２６のＨｅ−Ｎｅレーザから出射した平行光ビー
ム２６１Ｌは複数のレンズで構成した２了のビームエク
スパンダ−により対物レンズ１０の口径程度のビーム径
に拡大され平行光ビーム２６ｂとなる。平行光ビーム２
θｂは２８の偏光ビームスプリッタ−と２９の具波長板
を通って基台２２に垂直に入射するよう設定されている
。対物レンズ１０で集光された光ビーム２６０ば３ｏの
平行ガラス板を通って対物レンズ１０の焦点位置に配置
された反射ミラー３１の集光点Ｐに集光する。平行ガラ
ス板３０はディスクに相当するもので対物レンズ１０の
収差補正のために挿入されている。反射ミラー３１で反
射した反射光は再度対物レンズ１ｏを通って平行反射ビ
ーム２６ｄとなり、猛波長板と偏光ビームスプリッタ−
２８の作用で３２のノ・−フビームスプリッターの方向
に光路が変換される。平行反射ビーム２８１１１’ｊハ
ーフビームスプリツタア３２で平行反射ビーム２５ｅｌ
、２６ｆに振幅分割され、平行反射ビーム２６ｅｌ［３
３の収束レンズで焦光点Ｑに集光する。３４はナイフェ
ツジで３６の駆動手段によりＲ方向に駆動され焦光点Ｑ
においてビームウェスト２６ｇを切断するよう構成され
ている。
１３，１５，１６ａ、１６ｔ）、１７，１８゜２０．２
２は第２図、第３図、第４図と同一の部材を示す。対物
レンズ１０がレンズ光軸を調整するための被検レンズで
βる。２６のＨｅ−Ｎｅレーザから出射した平行光ビー
ム２６１Ｌは複数のレンズで構成した２了のビームエク
スパンダ−により対物レンズ１０の口径程度のビーム径
に拡大され平行光ビーム２６ｂとなる。平行光ビーム２
θｂは２８の偏光ビームスプリッタ−と２９の具波長板
を通って基台２２に垂直に入射するよう設定されている
。対物レンズ１０で集光された光ビーム２６０ば３ｏの
平行ガラス板を通って対物レンズ１０の焦点位置に配置
された反射ミラー３１の集光点Ｐに集光する。平行ガラ
ス板３０はディスクに相当するもので対物レンズ１０の
収差補正のために挿入されている。反射ミラー３１で反
射した反射光は再度対物レンズ１ｏを通って平行反射ビ
ーム２６ｄとなり、猛波長板と偏光ビームスプリッタ−
２８の作用で３２のノ・−フビームスプリッターの方向
に光路が変換される。平行反射ビーム２８１１１’ｊハ
ーフビームスプリツタア３２で平行反射ビーム２５ｅｌ
、２６ｆに振幅分割され、平行反射ビーム２６ｅｌ［３
３の収束レンズで焦光点Ｑに集光する。３４はナイフェ
ツジで３６の駆動手段によりＲ方向に駆動され焦光点Ｑ
においてビームウェスト２６ｇを切断するよう構成され
ている。
３６は光量検出器でナイフェツジ３４で遮へいされるビ
ームウェスト２６ｇの光量変化を検出する。
ームウェスト２６ｇの光量変化を検出する。
４ｏは増幅回路で４１はビームウェス）２６ｇの遮へい
光量から光強度分布をめるための微分回路である。
光量から光強度分布をめるための微分回路である。
３７は固定のナイフェツジで平行反射ビーム２６ｆの一
部を遮へいし、そこを通過した平行反射ビームは３８の
収束レンズによって２分割ディテクター３９上に集光す
る。２分割ディテクター３９の各受光素子３９ａ、３９
ｂが受光する光量は４１の差動増幅回路で受光量差の信
号となる。
部を遮へいし、そこを通過した平行反射ビームは３８の
収束レンズによって２分割ディテクター３９上に集光す
る。２分割ディテクター３９の各受光素子３９ａ、３９
ｂが受光する光量は４１の差動増幅回路で受光量差の信
号となる。
この信号は４３の位相補償フィルターと４４の駆動回路
を通して可動コイル１３に印加され対物レンズ１Ｑを制
御する。この焦点制御方法はいわゆるナイフェツジ法と
云われるもので、２分割ディテクター３９を収束レンズ
３８の焦点位置に配置し、かつ波面分割された平行光ビ
ームが収束レンズ３８に入った時に受光素子３９１Ｌと
３９ｂの受光量が等しくなるように２分割ディテクター
３９の分割線を設定して対物レンズ１ｏを制御すること
により、反射ミラー３１と対物レンズ１０の間隔を常に
焦点距離に制御することができるものでろる〇 一般に対物レンズ１ｏの光軸が傾いても光学系の光路の
ずれ、あるいは傾きとして検出することは困難であり、
従来例のような間接的な方法で対物レンズ１０の傾きを
検査していた。しかし光学式記録再生装置においてこの
対物レンズ１ｏが傾くと再生出力が低下し、クロストー
クが増加するためこの傾きを±０．４０以下に設定する
必要がらる。当然のことながら光ピツクアップとしては
より厳しい精度が要求される。本発明ではこの精度を得
るために焦光点Ｐにおける光強度分布の変化に着目して
対物レンズ１０の傾き検査及び調整を行なおうとするも
のである。−例としてＮＡが０．５の対物レンズ１０を
傾けると集光点Ｐにおける光強度分布は第６図に示すよ
うに光強度のピーク値が低下し、一部が盛り上がる。こ
のピーク値の変化のみをみると第７図のようになり、対
物レンズの傾きが０．２６°で２〜３％、０．５°で１
０チ程度低下することが判る。従ってこの光強度のピー
ク値を精度よく測定すれば対物レンズ１ｏの傾きを調整
することができる。またこの調整は第６図のサイドの盛
り上がシを利用することもできる。
を通して可動コイル１３に印加され対物レンズ１Ｑを制
御する。この焦点制御方法はいわゆるナイフェツジ法と
云われるもので、２分割ディテクター３９を収束レンズ
３８の焦点位置に配置し、かつ波面分割された平行光ビ
ームが収束レンズ３８に入った時に受光素子３９１Ｌと
３９ｂの受光量が等しくなるように２分割ディテクター
３９の分割線を設定して対物レンズ１ｏを制御すること
により、反射ミラー３１と対物レンズ１０の間隔を常に
焦点距離に制御することができるものでろる〇 一般に対物レンズ１ｏの光軸が傾いても光学系の光路の
ずれ、あるいは傾きとして検出することは困難であり、
従来例のような間接的な方法で対物レンズ１０の傾きを
検査していた。しかし光学式記録再生装置においてこの
対物レンズ１ｏが傾くと再生出力が低下し、クロストー
クが増加するためこの傾きを±０．４０以下に設定する
必要がらる。当然のことながら光ピツクアップとしては
より厳しい精度が要求される。本発明ではこの精度を得
るために焦光点Ｐにおける光強度分布の変化に着目して
対物レンズ１０の傾き検査及び調整を行なおうとするも
のである。−例としてＮＡが０．５の対物レンズ１０を
傾けると集光点Ｐにおける光強度分布は第６図に示すよ
うに光強度のピーク値が低下し、一部が盛り上がる。こ
のピーク値の変化のみをみると第７図のようになり、対
物レンズの傾きが０．２６°で２〜３％、０．５°で１
０チ程度低下することが判る。従ってこの光強度のピー
ク値を精度よく測定すれば対物レンズ１ｏの傾きを調整
することができる。またこの調整は第６図のサイドの盛
り上がシを利用することもできる。
しかし弾性支持部材ホルダー１７によシ対物しンズ１０
の傾きを調整すると集光点Ｐの位置が動くため、−その
位置を探し出して光強度分布を測定しなければならない
。例えば集光点Ｐを直接光学的に拡大してテレビカメラ
等でその光強度分布を測定するためは数千倍に拡大する
必要がらり、視野は数μｍしかとれないこのため第２図
、第３図の構造のような光ビックアンプでは対物レンズ
１０の調整範囲（数百μｍ）はとてもカバーできない。
の傾きを調整すると集光点Ｐの位置が動くため、−その
位置を探し出して光強度分布を測定しなければならない
。例えば集光点Ｐを直接光学的に拡大してテレビカメラ
等でその光強度分布を測定するためは数千倍に拡大する
必要がらり、視野は数μｍしかとれないこのため第２図
、第３図の構造のような光ビックアンプでは対物レンズ
１０の調整範囲（数百μｍ）はとてもカバーできない。
またナイフェツジの遮へい光量から光強度分布をめる場
合も測定精度を上げるためにはナイフェツジの駆動範囲
を１ｏμ７ｎ程度にする必要があり同様の問題がある、
それに加えてナイフェツジで直接測定する場合は焦点制
御をかけることが難しく、Ｚ方向についても高精度に設
定する必要がある。集光点Ｐでの光強度分布の半直幅は
第１図のような装置でＦｉｏ、９μｍ程度であり、焦点
深度も±０．５μｍ程度であるため、弾性支持部材ホル
ダー１７を動かすたびにこの位置を探し出すととは非常
に煩しく実用的ではない。
合も測定精度を上げるためにはナイフェツジの駆動範囲
を１ｏμ７ｎ程度にする必要があり同様の問題がある、
それに加えてナイフェツジで直接測定する場合は焦点制
御をかけることが難しく、Ｚ方向についても高精度に設
定する必要がある。集光点Ｐでの光強度分布の半直幅は
第１図のような装置でＦｉｏ、９μｍ程度であり、焦点
深度も±０．５μｍ程度であるため、弾性支持部材ホル
ダー１７を動かすたびにこの位置を探し出すととは非常
に煩しく実用的ではない。
このため本発明では上記のごとく対物レンズ１０に入射
する平行光ビームを焦点位置に配置した反射ミラー３１
で反射し、その反射光を再度対物レンズ１ｏを通して平
行光ビームとした後、焦光点ＱＫ集光することによって
工およびｙ方向の動きをなくしている。第８図に示すよ
うに弾性部材ホルダー１７を調整して集光点Ｐが実線か
ら点線の状細に動いた場合、平行反射ビーム２ｅｄの光
強度分布中心は移動するが平行光であるため集光点Ｑは
常に収束レンズ３３の焦点位置になシ測定点は動かない
。一方、収束レンズ３３［よシ集光点Ｐの像を集光点Ｑ
に拡大して結像させることができるため、収差の少ない
レンズを用いれば測定精度の向上を図ることができる。
する平行光ビームを焦点位置に配置した反射ミラー３１
で反射し、その反射光を再度対物レンズ１ｏを通して平
行光ビームとした後、焦光点ＱＫ集光することによって
工およびｙ方向の動きをなくしている。第８図に示すよ
うに弾性部材ホルダー１７を調整して集光点Ｐが実線か
ら点線の状細に動いた場合、平行反射ビーム２ｅｄの光
強度分布中心は移動するが平行光であるため集光点Ｑは
常に収束レンズ３３の焦点位置になシ測定点は動かない
。一方、収束レンズ３３［よシ集光点Ｐの像を集光点Ｑ
に拡大して結像させることができるため、収差の少ない
レンズを用いれば測定精度の向上を図ることができる。
また実施例では１方向の光強度分布しか測定できないが
、たとえば特願昭５８−２０２９７３号明細書等に記載
のものを用いれば１つのナイフェツジでＸとｙ方向の光
強度分布を同時に測定することができ弾性部材ホルダー
１７をｘ、ｙ方向共に調整することができる。Ｚ方向は
制御がかかっておシ反射ミラー３１と対物レンズ１ｏと
の距離は変化しないため、結局集光点Ｑは弾性部材ホル
ダー１７を動かしても移動することなく精度のよい光強
度分布が容易に測定できる。従って微分回路４１から得
られる光強度分布のピーク値より対物レンズ１０の傾き
を容易に検出することが可能となった。
、たとえば特願昭５８−２０２９７３号明細書等に記載
のものを用いれば１つのナイフェツジでＸとｙ方向の光
強度分布を同時に測定することができ弾性部材ホルダー
１７をｘ、ｙ方向共に調整することができる。Ｚ方向は
制御がかかっておシ反射ミラー３１と対物レンズ１ｏと
の距離は変化しないため、結局集光点Ｑは弾性部材ホル
ダー１７を動かしても移動することなく精度のよい光強
度分布が容易に測定できる。従って微分回路４１から得
られる光強度分布のピーク値より対物レンズ１０の傾き
を容易に検出することが可能となった。
上記説明では焦点制御方式としてナイフェツジ法を用い
たが、非点収差法、臨界角法等を用いてもよく、光強度
分布の測定にはテレビカメラを用いてもよい。
たが、非点収差法、臨界角法等を用いてもよく、光強度
分布の測定にはテレビカメラを用いてもよい。
発明の詳細
な説明したように本発明では被検レンズの焦点位置で反
射した光ビームを平行光にした後再び集光するため、被
検レンズの調整過程での測定点の動きをなくすことがで
き、容易かつ高精度に光強度分布をめ、直接被検レンズ
の光軸傾きを測定することができる。このため、従来検
査法のようにレンズ鏡筒とレンズ光軸の傾きとレンズ鏡
筒とレンズ収納部の保合による傾きの影響をなくし、正
確に被検レンズの光軸傾きを測定し調整することが可能
になった。
射した光ビームを平行光にした後再び集光するため、被
検レンズの調整過程での測定点の動きをなくすことがで
き、容易かつ高精度に光強度分布をめ、直接被検レンズ
の光軸傾きを測定することができる。このため、従来検
査法のようにレンズ鏡筒とレンズ光軸の傾きとレンズ鏡
筒とレンズ収納部の保合による傾きの影響をなくし、正
確に被検レンズの光軸傾きを測定し調整することが可能
になった。
第１図は光学式記録再生装置の原理図、第２図。
第３図は被検レンズが設置さ五る光ピツクアップ部の平
面図および断正面図、第４図は従来のレンズ光軸検査装
置の断正面図、第５図は本発明の一実施例におけるレン
ズ光軸検査装置のブロック図、第６図、第７図は同装置
における被検レンズ光軸の傾きと光強度分布の関係を説
明するだめの特性図、第８図は同装置の集光点の動きの
詳細を示す図である。 ２６・・・・・・し〒ザ、１０・・・・・・対物レンズ
、３１・・・・・・反射ミラー、２８・・・・・・ビー
ムスプリッタ、３２・・・・・・ハーフビームスプリッ
タ、３３，３８・・・・・・収束レンズ、３４，３７・
・・・・・ナイフェツジ、３６・・・・・・光量検出器
、４１・・・・・・微分回路、３９・旧・・２分割ディ
テクタ、４３・・・・・・位相補償フィルタ、１３ ′
１０−＋９可動コイル０ 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 第３図 第４図 第５図 ＝ 第６図 第７図 ｔ％） １）’０．２５’ｌ）、５’ａり５６／６傾き角 第８図 。 ２６番
面図および断正面図、第４図は従来のレンズ光軸検査装
置の断正面図、第５図は本発明の一実施例におけるレン
ズ光軸検査装置のブロック図、第６図、第７図は同装置
における被検レンズ光軸の傾きと光強度分布の関係を説
明するだめの特性図、第８図は同装置の集光点の動きの
詳細を示す図である。 ２６・・・・・・し〒ザ、１０・・・・・・対物レンズ
、３１・・・・・・反射ミラー、２８・・・・・・ビー
ムスプリッタ、３２・・・・・・ハーフビームスプリッ
タ、３３，３８・・・・・・収束レンズ、３４，３７・
・・・・・ナイフェツジ、３６・・・・・・光量検出器
、４１・・・・・・微分回路、３９・旧・・２分割ディ
テクタ、４３・・・・・・位相補償フィルタ、１３ ′
１０−＋９可動コイル０ 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 第３図 第４図 第５図 ＝ 第６図 第７図 ｔ％） １）’０．２５’ｌ）、５’ａり５６／６傾き角 第８図 。 ２６番
Claims (2)
- （１） 被検レンズに入射する平行光ビームの光源と、
前記被検レンズの焦点位置に配置した反射ミラーと、反
射光を前記被検レンズを通した後光スポソＨＣ集光する
収束レンズとを具備した光学系に、前記光スポットの光
強度分布を検出するビーム形状検出手段と、前記被検レ
ンズの焦点位置を検出する焦点検出手段とを設け、前記
光強度分布よシ前記被検レンズの光軸の傾きを検出する
ことを特徴とするレンズ光軸検査装置。 - （２）焦点検出手段によシ、反射ミラーが被検レンズの
焦点位置になるよう制御することを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載のレンズ光軸検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6693484A JPS60210733A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | レンズ光軸検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6693484A JPS60210733A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | レンズ光軸検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60210733A true JPS60210733A (ja) | 1985-10-23 |
Family
ID=13330317
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6693484A Pending JPS60210733A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | レンズ光軸検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60210733A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7869022B2 (en) | 2007-07-18 | 2011-01-11 | Asml Netherlands B.V. | Inspection method and apparatus lithographic apparatus, lithographic processing cell, device manufacturing method and distance measuring system |
| CN109115467A (zh) * | 2018-08-24 | 2019-01-01 | 成都精密光学工程研究中心 | 一种用于焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法 |
-
1984
- 1984-04-04 JP JP6693484A patent/JPS60210733A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7869022B2 (en) | 2007-07-18 | 2011-01-11 | Asml Netherlands B.V. | Inspection method and apparatus lithographic apparatus, lithographic processing cell, device manufacturing method and distance measuring system |
| CN109115467A (zh) * | 2018-08-24 | 2019-01-01 | 成都精密光学工程研究中心 | 一种用于焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法 |
| CN109115467B (zh) * | 2018-08-24 | 2020-04-14 | 成都精密光学工程研究中心 | 一种用于焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法 |
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