JPS6019777A - オキシランの製法 - Google Patents

オキシランの製法

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JPS6019777A
JPS6019777A JP59129403A JP12940384A JPS6019777A JP S6019777 A JPS6019777 A JP S6019777A JP 59129403 A JP59129403 A JP 59129403A JP 12940384 A JP12940384 A JP 12940384A JP S6019777 A JPS6019777 A JP S6019777A
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JP
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peroxide
cyclohexanone
catalyst
oxirane
olefinically unsaturated
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JP59129403A
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ロルフ・フイツシヤ−
ハンス−マルチン・ヴアイツ
ノルベルト・リ−バ−
ハインリツヒ・ベ−ム
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D301/00Preparation of oxiranes
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    • C07D301/03Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds
    • C07D301/19Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with organic hydroperoxides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J21/00Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
    • B01J21/06Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、液相中でエポキシ化触媒の存在下に、対応す
るオレフィン性不飽和化合物を有機過酸化物と反応させ
ることによる、オキシランの新規な製法に関する。
有機過酸化物及びエポキシ化触媒を用い、液相中で次の
反応式 %式% (式中R及びR′は有機残基を意味する)に従い、オレ
フィン性不飽和化合物を対応するオキシラン及びヒドロ
キシル化合物に変えることは、多数の刊行物によりすで
に知られている。
その場合原則として二種の操作技術上の作業方向、すな
わち均一触媒のそれと不均一触媒のそれとを区別するこ
とができる。
特に米国特許3351615号明細書に詳細に記載され
ている均一触媒においては、反応混合物に可溶なエポキ
シ化触媒特にモリブデン及びタングステンの化合物、例
1えばナフテン酸塩が用いられる。それ自体原則的に適
する他の触媒金属(例えばチタン)の化合物を用いると
、オレフィン変化率及びオキシラン収率が明らかに悪(
なる。この場合過酸化物としては、特に三級ブチルヒド
ロパーオキシド、クモールヒドロパーオギシド及び1−
フェニルエタン−1−ヒドロパーオキシドが役立つ。他
の過酸化物、例えば次式 %式% ノールヒドロパーオキシド、これはシクロへキサノール
の酸素酸化生成物)は、これに対し不満足な結果1〜か
与えない(前記米国特許明細書例5参照)。
問題の反応の均一触媒反応に関する・研究から、この目
的のためエポキシ化触媒としてのチタン化合物も酸素輸
送体とl〜でのシクロヘキサノンパーオキシドも、推奨
できないことが結論される。それを別と1〜でも均一触
媒反応は操作技術上難点があるので、不均一触媒反応が
工業的目的のため優れている。
不均一触媒反応のためには、特に活性物質としての二酸
化チタン及び担体材料としての二酸化珪素又は珪酸塩を
有する相持触媒(西ドイツ特許出願公告2015506
号明細書)が知られており、この方法では過酸化物とし
て、バーアルコール例えば三級ブチルヒドロパーオキシ
ドそして特に1−フェニルエタン−1−ヒドロパーオキ
シド(エチルペンゾールヒドロパーオキシド)が用いら
れる。
この場合高い過酸化物変化率と比較的高、いオキシラン
に関する選択率が得られるが、経済的な見地からこの方
法はまだ不満足である。すなわち対応する炭化水素(例
えばイソブタン及びエチルペンゾール)から酸素酸化に
より入手できる前記のパーアルコールは、簡単に酸素又
は空気により過酸化物に戻せないアルコールに移行する
。したがって循環法のためには、このアルコールを脱水
し、生成するオレフィン(例えばイソブチン及びスチロ
ール)を水素化して、 6− 最初の炭化水素にぜねばならない。
例えばスチロールをエチルペンゾールの脱水素にJ:り
工業的に?lることを考慮するならば、閉鎖循環系によ
るエポキシ化方法が必要なスチロールからのエチルペン
ゾールの製造が、経済的に不合理であることは明らかで
ある。
この理由から循J、ji法が放棄されて、オレフィンは
カップリング生成物として得られる。しかしカップリン
グ生成ウキとしてスチロールは、安価な工業的方法によ
り得られる価格によってのみ評価される。その価格はエ
ポキシ化方法による価格により著しく安いので、それに
応じてオキシランがイ直−1ニリする。
したがって本発明は、価格においてより有利な循環法に
よるとしても、及び/又は価値の高いカップリング生成
物によるとしても、いずれにせよオレフィン性不飽和化
合物及び過酸化物からのオキシランの製法の経済性を高
めようという一般的努力に基づいている。
本発明者らは、そのため有機過酸化物とじて 4− シクロヘキサノンパーオキシドを、そしてエポキシ化触
媒として、活性物質中に主として二酸化チタンを含有し
、そして担体材料が主として二酸化珪素又は珪酸塩から
成る相持触媒を使用物と反応させることにより、オキシ
ランを経済的に有利に製造しうろことを見出した。
過酸化物に対し60〜80%のオキシラン収率を与える
この方法は、特別な成果をあげるものとして注目に価す
る。なぜならば米国特許3551655号明細書の実施
例5によれば、シクロヘキサノンパーオキシドを用いる
均一触媒反応においてわずかに68%のオキシラン収率
が得られるにすぎず、またシクロヘキサノンパーオキシ
ドがそれに含まれるヒドロキシヒドロパーオキシドは、
プレナム・プレス、ニューヨーク/ロンドン3巻197
9年366頁の1フアンダメンタル・リザーチ・イン・
ホモジニアス・カタリンス」と題するプレイラスらの基
礎研究において、エポキシ化試薬と1〜で一般に効果が
ないとされているからである。
さらに注目すべきことは、シクロヘキサノンパーオキシ
ドが実際上定量的に価値の高い生成物であるシクロヘキ
サノンに移行することである。この事実を基礎とする本
発明方法の進歩は、経済性を考慮してシクロヘキサノン
及びオレフィンから出発するときに特に明白である。こ
の場合、他に操作技術上問題のない次の個々の工程 から、次式 で表わされる総合反応が得られる。すなわち炭化水素(
シクロヘキサン)1モル当り理論上2モルのオキシラン
カ得うレ、エチルペンゾール生 から出発する4−産性の場合のように1モルの生産では
ない。そのほかここで生ずるカップリング生成物のシク
ロヘキサノンは、それ自体特に価値が高いばかりでなく
、その製造価格においてもシクロヘキサンからの直接製
造におけるそれより実際上高価でない。この理由から、
シクロヘキサノンを水素化し、そして得られるシクロヘ
キサノールを再供給することは通常は推奨されない。
その高い経済性は、さらに工程(4)でシクロヘキサノ
ンが自然に生成し、例えばエチルペンゾールから出発す
る共生産性の場合における、スチロールへのフェニルエ
タノールの脱水素のような追加の工程が必要でないこと
も理由となる。
シクロヘキサノンパーオキシドは既知手段により得られ
、約0.1〜25重景%の過酸化物濃度になるまで、シ
クロヘキサノールに50〜160°Cで酸素又は空気を
導通すると、工業上置も簡単である。その場合あらかじ
め若干のシクロヘキサノンパーオキシドを装入しておく
と、過酸化物の生成が促進される。
とのシクロヘキサノンパーオキシド含有のシクロヘキサ
ノール溶液を、次いで自体既知の手段により、20〜1
50℃でオレフィン性不飽和化合物と反応させ、シクロ
ヘキサノンとオキシランにする。その場合オレフィン性
不飽和化合物は過酸化物に対し0.1〜10モルの過剰
で用いることが好ましい。
加圧下の操作は一般に必要ではないが、使用するオレフ
ィン性不飽和化合物が常圧及び反応温度で気体であると
きはそれが推奨される。
触媒を除いて反応関与体が均一な液相を生成しないとき
は、好ましくは不活性溶剤例えばドルオール、ジオキサ
ン、シクロヘキサン又は酢酸エチルを使用する。
反応混合物をその成分であるシクロヘキサノール、シク
ロヘキサノン、オレフィン性不飽和化合物、オキシラン
、水及び場合による溶剤、ならびに少量の副生物に仕上
げ処理することは、触媒の分離後、常法により行われ、
普通は分別蒸留による。
生成するオキシランが著しく反応性であるならば、反応
水を反応の間継続的に反応混合物から蒸留により除去し
、オキシランの代わりに対応する隣接グリコールが大量
に得られないように、連行剤としてシクロヘキサンを用
いることが好ましい。
シクロヘキサノール及び酸素又は空気からのシクロヘキ
サノンパーオキシド溶液の調製と、オレフィン性不飽和
化合物のエポキシ化とは、後者が反応条件下で自体が直
接酸素と反応しない限り、−緒に行うこともできろ。シ
クロヘキサノンパーオキシド溶液を製造するためのシク
ロヘキザノールからでなくてシクロヘキセンから出発す
る方法は、本発明方法の特に好ましい実施態様である。
その場合は前記の総合反応式(5)に従い、シクロヘギ
サン1モル当り2モルのオキシランを生産しうる。
本発明方法では、不均一触媒反応が関与するので、その
ため既知の技術により特に簡牟に連続的に実施できる。
本方法は、使用するオレフィン性不飽和化合物の種類に
原則として依存せず、したがって原基、すなわち酸性基
又は塩基性基を有するオレフィン性不飽和化合物のみが
制約され又は不適当である。
オレフィン性不飽和化合物はさらに2個又はそれ以上の
一〇=C−原子団を含有していてもよく、この場合は対
応するビス−及びポリオキシランが生成する。
オレフィン性不飽和化合物としては、第一に02〜C2
0−オレフィンがあげられる。その場合C4〜C20−
オレフィンは直鎖状でも分岐状でもよく、そして二重結
合は内側にあっても末端にあってもよい。工業的規模に
おいて必要なプロピレンオキシドの前段物質として、プ
ロピレンは特に重要である。そのほか下記のものも用い
られる。
シクロオレフィン例えばシクロペンテン、シクロヘキセ
ン、シクロオクテン及びシクロドデセン ビスオレフィン例えばブタジェン−1,6及びヘキサジ
エン−1,5 芳香脂肪族オレフィン例えばスチロール及びメチルスチ
ロール ビニルアルキルエーテル例エバビニルエチルエーテル及
びビニルエステル例えハ酢酸ビニル  11 − アリルアルキルエーテル例えばアリルメチルエーテル及
びアリルエステル例えば酢酸アリル アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル例えばそ
のメチルエステル。
一般にオレフィン性不飽和化合物は、置換基例えばハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアン基、アルコキシ基及びカル
ボアルコキシ基を有してよい。アルデヒド又はケトンの
機能原子団中の水酸基及びオキソ基の場合には、反応条
件下で副反応が起こ半≠るかどうか、またそれがどの程
度かを、予備試験により確認すべきである。
本発明方法に使用される担持触媒は、既知であって常法
により得られる(例えば西ドイツ特許出願公告2015
503号明細書参照)。好ましくは触媒は、活性成分と
してのTi020.2〜50重量%と担体材料50〜9
8.8重量%から成る。
活性成分はさらに少量の促進剤、例えばアルカリ土類金
属化合物7行にマグネシウム、カルシ−12= ラム、ストロンチウム又はバリウムの酸化物を含有でき
、そして担体材料は全部又は一部が珪酸塩例えば珪酸マ
グネシウム又は珪酸アルミニウムにより代替されてよい
。100〜500m2/9の内部表面積を有するSlO
□は優れた担体材料である。さらに担体材料はできるだ
け酸性又は塩基性の中心を有することなく、すなわち中
性に反応すべきである。
担持触媒の製造は、常法により、通常は最大寸法が約0
.1朋ないし2 mmである粒子を、チタン塩例えば塩
基性酢酸チタン、ならびに場合により促進剤金属の化合
物の水溶液又はメタノール溶液に、希望の量比で含浸し
、乾燥したのち、チタン塩を二酸化チタンに変えるため
空気流中で650〜800℃に加熱することにより行わ
れる。チタン塩の全部を一度に担体上に付着できないと
きは、その場合に応じた回数で含浸工程と乾燥工程を繰
り返えすことができる。
例えば西ドイツ特許出願公開2311822号明細書に
記載される、T1o2/5lO2を基礎とする触媒を調
製したのち、さらに有機珪素化合物例えばヘキサメチル
ジシラザンで後処理された触媒は、オキシラン選択率の
点で特に優れている。この後処理された触媒を活性化す
るためには、さらに空気流中で200〜500°Cに短
時間加熱することが有利である。
本発明方法のため経済的に最適なエポキシ化触媒の量は
、活性成分の含量、粒子の大きさ及びエポキシ化反応の
種類に依存する。したがってその量は一般に適応する数
値で示すことはできないが、通常は反応容積11当り1
〜200gであり、この適正値の範囲内で数回の予備試
験によりそれを見出すことは困難でない。
例A T]02/S]02担持触媒の製造 粒径0.5〜1 mmで456 m2/、!9の内部表
面積を有するシリカゲル500gを、塩基性酢酸チタン
(T1.20A、c6 ) 56.5 g及びメタノー
ル500m1からの溶液により含浸し、回転蒸発器内で
絶対気圧27ミリバール及び90°Cで蒸発濃縮して乾
燥物となし、これを空気流中で800℃に2時間加熱す
る。こうして得られる触媒の量は669gで、これは’
I’j、021.8重量%を含有する。
例B シリル化TiO2/ Sj、Q2担体触媒の製造例Aに
よる触媒185gを、ヘキサメチルジシラザン25g及
びn−へブタン1250m1か媒を活性化するため、3
20〜660°Cになお50分間加熱する。
例C シクロヘキサノール性シクロヘキサノンパーオキシド溶
液の製造 開始剤としてシクロヘキサノンパーオキシド3gを含有
するシクロヘキサノール”6−00 jiに、酸素12
.51を115°Cで2.5時間導入する。
沃素滴定によればこの溶液は、0.67モル/l又は0
.69モル/kgのモル濃度に対応して、シクロヘキサ
ノンパーオキシドを5.2重量%含有する。
実施例1 プロピレンオキシド(メチルオキシラン)の製造 プロピレン10g(238ミリモル)、例Cによるシク
ロヘキサノンパーオキシド溶液61g(パーオキシド2
4ミリモル)及び何人による触媒5gからの混合物を、
振動式オートクレーブ中で80℃に60分間加熱する。
この反応混合物は過酸化物を含有せず、ガスクロマトグ
ラフィによると、使用した過酸化物に対して、プロピレ
ンオキシド及びシクロヘキサノンの各収率は60%及び
97%である。
実施例2 1.2−オクテンオキシド(ヘキシルオキシラン)の製
造 オクテン−1の15g(154ミリモル)、シクロヘキ
サノール20g及び例Bによる触媒5gからの混合物を
、例Cによるシクロヘキサノンパーオキシド溶液54g
(パーオキシド13、4 ミIJモル)と攪拌しながら
80℃で60分間混合する。さらに5分経過したのち、
沃素滴定により過酸化物が検出されないので、反応は終
了している。
ガスクロマトグラフィによれば、使用したシクロヘキサ
ノンパーオキシドに対して、シクロヘキサノンの収率は
98%、1,2−オクテンオキシドの収率は71%であ
る。
実施例6 プロピレンオキシド(メチルオキシラン)の製造 プロピレン10g(238ミリモル)、例Cによるシク
ロヘキサノンパーオキシド溶液596g(々−オキシド
23.8ミリモル)及び例Bによる触媒6gからの混合
物を、振動式オートクレーブ中で80℃に60分間加熱
する。この反応混合物は過酸化物を含有せず、ガスクロ
マトグラフィによると、プロピレンオキシド及びシクロ
ヘキサノンの収率は、使用した過酸化物に対しそれぞれ
63%及び96%である。
実施例4 シクロヘキセンオキシド(1,2−テトラメチレンオキ
シラン)の製造 例Bによる触媒1.5g及びシクロヘキセン82g(1
モル)からの)V濁液を、80℃で攪拌しながら60分
間に例Cによるシクロヘキサノンパーオキシド溶液56
g(パーオキシド21ミリモル)と混合する。さらに1
5分後の過酸化物変化率は90%であり、そしてこれか
ら計算したシクロヘキセンオキシド及びシクロヘキサノ
ンの各収率は、ガスクロマトグラフィによると94%及
び98%である。
出願人 バスフ・アクテエンゲゼルシャフト代理人 弁
理士 小 林 正 雄  19−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、有機過酸化物としてシクロヘキサノンパーオキシド
    を、そしてエポキシ化触媒として、活性物質中に主とし
    て二酸化チタンを含有し、そして担体材料が主として二
    酸化珪素又は珪酸塩から成る相持触媒を使用することを
    特徴とする、液相中でエポキシ化触媒の存在下に、対応
    するオレフィン性不飽和化合物を有機過酸化物と反応さ
    せることによるオキシランの製法。
JP59129403A 1983-06-24 1984-06-25 オキシランの製法 Pending JPS6019777A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
DE33227454 1983-06-24
DE19833322745 DE3322745A1 (de) 1983-06-24 1983-06-24 Verfahren zur herstellung von oxiranen

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JPS6019777A true JPS6019777A (ja) 1985-01-31

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ID=6202263

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DE3322745A1 (de) 1985-01-03
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