JPS60195749A - スタンパの製造方法 - Google Patents
スタンパの製造方法Info
- Publication number
- JPS60195749A JPS60195749A JP5193884A JP5193884A JPS60195749A JP S60195749 A JPS60195749 A JP S60195749A JP 5193884 A JP5193884 A JP 5193884A JP 5193884 A JP5193884 A JP 5193884A JP S60195749 A JPS60195749 A JP S60195749A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- stamper
- resist
- glass
- glass master
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 42
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 19
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 241001494479 Pecora Species 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ） 発明の技術分野
本発明は基板表面に凹凸パターンを転写するような、例
えば光ディスク等の情報記録担体を１に製する場合に用
いられるスタンパの製造方決であって、特にスタンパ表
面にガラスが付着するのを防ぐようにしたスタンパの製
造方法に関する。
えば光ディスク等の情報記録担体を１に製する場合に用
いられるスタンパの製造方決であって、特にスタンパ表
面にガラスが付着するのを防ぐようにしたスタンパの製
造方法に関する。
（ｂ） 従来技術と問題点
基板表頁に凹凸パターンを転写するスタンパの従来の製
造方法は、ガラス円盤を低速で回転させ、その円盤の中
心からホトレジストをスピンコードして薄いレジスト膜
を形成し、そのレジス）ＩＩをレーザ等で露光現像して
同心円状の溝を多数形成し、第１図（イ）に示すように
ガラス原盤１上に凸起レジスト２を作る。次に１４０℃
位でベーキングし、そのレジスト２表間にスタンパ表面
の寿命の向上をはかるため第１図（ロ）のようにクロー
Ａ （Ｃｒ）ＩＩ３を蒸着し、そのＣｒ膜膜上上、第１
図（９のようにニッケル（Ｎ１）膜４を蒸着し、そのＮ
１Ｍ４を電極とし第１図に）のようにＮ１メＶキ５を施
した後、ガラス原盤１を剥離しくレジスト２がガラス原
盤１と一諸ｌこ殆んど剥れる）、第１図（ホ）のような
スタンパＡを得る。
造方法は、ガラス円盤を低速で回転させ、その円盤の中
心からホトレジストをスピンコードして薄いレジスト膜
を形成し、そのレジス）ＩＩをレーザ等で露光現像して
同心円状の溝を多数形成し、第１図（イ）に示すように
ガラス原盤１上に凸起レジスト２を作る。次に１４０℃
位でベーキングし、そのレジスト２表間にスタンパ表面
の寿命の向上をはかるため第１図（ロ）のようにクロー
Ａ （Ｃｒ）ＩＩ３を蒸着し、そのＣｒ膜膜上上、第１
図（９のようにニッケル（Ｎ１）膜４を蒸着し、そのＮ
１Ｍ４を電極とし第１図に）のようにＮ１メＶキ５を施
した後、ガラス原盤１を剥離しくレジスト２がガラス原
盤１と一諸ｌこ殆んど剥れる）、第１図（ホ）のような
スタンパＡを得る。
上記第１図（ロ）のＣｒ膜３を蒸着するとき、Ｃｒ膜３
とガラス原盤ｌが直接接するところで、Ｃｒとガラスが
反応し、Ｃｒ［３にガラスが付着し、第１図に）のよう
にスタンパＡにガラス凸起６ができる。そのためスタン
パＡにより転写された光デイスク媒体の欠陥となり、ビ
ートエラーを発生させる問題があった。
とガラス原盤ｌが直接接するところで、Ｃｒとガラスが
反応し、Ｃｒ［３にガラスが付着し、第１図に）のよう
にスタンパＡにガラス凸起６ができる。そのためスタン
パＡにより転写された光デイスク媒体の欠陥となり、ビ
ートエラーを発生させる問題があった。
（ｃ） 発明の目的
本発明の目的はメッキ後のスタンパとガラス原盤を剥離
する時、スタンバパターン部にガラス付着するのを防止
し、ビットエラーの低減をはかったスタンパの製造方法
を提供することにある。
する時、スタンバパターン部にガラス付着するのを防止
し、ビットエラーの低減をはかったスタンパの製造方法
を提供することにある。
（ｄ） 発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、基板表面に凹凸パタ
ーンを転写するときに用いるスタンパの製造方法であっ
て、ガラス原盤上にレジスト膜の凸起を形成し、該レジ
スト膜凸起上にニッケル膜を蒸着した後、該ニッケル膜
を電極としニッケルメッキを施し、前記ガラス原盤を剥
離し前記レジストを除去した後前記ニッケル膜上にクロ
ーム膜を蒸着しスタンパとするか、或いはガラス原盤上
に露光現像不能とした第１のレジスト膜を形成し、該第
１のレジスト膜上に、さらに第２のレジスト膜の凸起を
形成し、その第２のレジスト膜の凸起上にクローム膜を
蒸着し、該クローム膜上にニッケル膜を蒸着した後、該
ニッケル膜を電極としてニッケルメッキを施した後、前
記ガラス原盤を剥離してスタンパとしたことを特徴とす
るスタンパの製造方法を提供することにより達成される
。
ーンを転写するときに用いるスタンパの製造方法であっ
て、ガラス原盤上にレジスト膜の凸起を形成し、該レジ
スト膜凸起上にニッケル膜を蒸着した後、該ニッケル膜
を電極としニッケルメッキを施し、前記ガラス原盤を剥
離し前記レジストを除去した後前記ニッケル膜上にクロ
ーム膜を蒸着しスタンパとするか、或いはガラス原盤上
に露光現像不能とした第１のレジスト膜を形成し、該第
１のレジスト膜上に、さらに第２のレジスト膜の凸起を
形成し、その第２のレジスト膜の凸起上にクローム膜を
蒸着し、該クローム膜上にニッケル膜を蒸着した後、該
ニッケル膜を電極としてニッケルメッキを施した後、前
記ガラス原盤を剥離してスタンパとしたことを特徴とす
るスタンパの製造方法を提供することにより達成される
。
（ｅ） 発明の実施例
以下本発明の実施例を図面により詳述する。
第２図（イ）〜（ホ）は本発明のスタンパの製造方法の
一実施例を説明する図である。
一実施例を説明する図である。
１、第２図（イ）は第１図（イ）に示す従来と全く同じ
ようｌこしてガラス原盤１上に凸起レジスト２を作りた
ものである。次に、１４０℃位でベーキングし、そのレ
ジスト２表面に第２図（ロ）のようにニッケル（Ｎ１）
膜７を蒸着し、そのＮ１Ｍ７を電極として第２図（ハ）
のようにＮ１メッキ８を施した後、ガラス原盤１を剥離
しくレジスト２がガラス原盤１と一諸に殆んど剥れる）
、第２図に）のようなスタンパ形状とする。次にスタン
パ表両を洗浄した後、前記Ｎ１膜７上に、第２図（ホ）
のようにＣｒ膜９を蒸着しスタンパＡをＩる。
ようｌこしてガラス原盤１上に凸起レジスト２を作りた
ものである。次に、１４０℃位でベーキングし、そのレ
ジスト２表面に第２図（ロ）のようにニッケル（Ｎ１）
膜７を蒸着し、そのＮ１Ｍ７を電極として第２図（ハ）
のようにＮ１メッキ８を施した後、ガラス原盤１を剥離
しくレジスト２がガラス原盤１と一諸に殆んど剥れる）
、第２図に）のようなスタンパ形状とする。次にスタン
パ表両を洗浄した後、前記Ｎ１膜７上に、第２図（ホ）
のようにＣｒ膜９を蒸着しスタンパＡをＩる。
上記のような工程とすることで、ガラス原盤１とＣｒ
Ｍ ９が直接接するような工程がないので、Ｃｒとガラ
スが反応し、スタンバ人にガラスを付着させるようなこ
とがない。
Ｍ ９が直接接するような工程がないので、Ｃｒとガラ
スが反応し、スタンバ人にガラスを付着させるようなこ
とがない。
又本発明の別の方法として、第３図に示すようなスタン
パの製造方法がある。
パの製造方法がある。
図において、第３図（イ）はガラス原盤１上に第１のレ
ジスト膜１０（レジストを一層塗布し、ハードベーク（
約２４０℃位）により露光、現像不能にする）を形成し
たものである。このレジスト膜上０上に、さらにレジス
トをもう一層塗布し、その二層目にパターンを形成し、
第３図（ロ）のようなレジスト凸起１１を作る。次にレ
ジスト凸起ｌｌ上に第３図（ハ）のようにＣｒ膜１２を
蒸着し、咳Ｏｒ膜１２上に第３図に）のようにＮ１膜１
３を蒸着した後、該Ｎ１Ｍ［１３を電極としてＮ１メッ
キ１４を施し、前記ガラス原盤１を剥離しくレジスト１
０．１１がガラス原盤１と一諸に殆んど剥れる５、第３
図（へ）のようにスタン／％Ａを得る。
ジスト膜１０（レジストを一層塗布し、ハードベーク（
約２４０℃位）により露光、現像不能にする）を形成し
たものである。このレジスト膜上０上に、さらにレジス
トをもう一層塗布し、その二層目にパターンを形成し、
第３図（ロ）のようなレジスト凸起１１を作る。次にレ
ジスト凸起ｌｌ上に第３図（ハ）のようにＣｒ膜１２を
蒸着し、咳Ｏｒ膜１２上に第３図に）のようにＮ１膜１
３を蒸着した後、該Ｎ１Ｍ［１３を電極としてＮ１メッ
キ１４を施し、前記ガラス原盤１を剥離しくレジスト１
０．１１がガラス原盤１と一諸に殆んど剥れる５、第３
図（へ）のようにスタン／％Ａを得る。
上記のようにガラス原盤１上に露光、現像不能にしたレ
ジスト層１０を設けて、Ｃｒ膜１２とガラス原盤１が直
接接することのないようにしているので、スタンパＡに
ガラスが付着する危険は皆無となる。
ジスト層１０を設けて、Ｃｒ膜１２とガラス原盤１が直
接接することのないようにしているので、スタンパＡに
ガラスが付着する危険は皆無となる。
従って、上述のスタンバ人により転写された光デイスク
媒体が欠陥となりビットエラーを起すようなことはない
。
媒体が欠陥となりビットエラーを起すようなことはない
。
（ｆ） 発明の効果
以上詳細に説明したように本発明のスタｙ／（の製造方
決はガラス原盤とＣｒ膜が直接接触しないよつに、Ｎｌ
メＶキの電極蒸着の方法を変えたり、或いはレジストの
二Ｘ＊布を行うことにより、ガラス原盤のガラスとＣｒ
が反応を起さないようにしているので、メッキ後のスタ
ンバとガラス原盤（イン を剥離した時、従来のようにスタンバパターン部にガラ
スの付着を防ぐことができる。その結果、スタンバによ
り転写した光デイスク媒体の欠陥を（Ｇ７） 防ぎ、光ディスクのビットエラーを低減させることがで
きる。
決はガラス原盤とＣｒ膜が直接接触しないよつに、Ｎｌ
メＶキの電極蒸着の方法を変えたり、或いはレジストの
二Ｘ＊布を行うことにより、ガラス原盤のガラスとＣｒ
が反応を起さないようにしているので、メッキ後のスタ
ンバとガラス原盤（イン を剥離した時、従来のようにスタンバパターン部にガラ
スの付着を防ぐことができる。その結果、スタンバによ
り転写した光デイスク媒体の欠陥を（Ｇ７） 防ぎ、光ディスクのビットエラーを低減させることがで
きる。
（ハ）
第１図（イ）〜（ホ）は従来のスタンバの製造方法を説
明する工程図、第２図は本発明のスタンバの製造方法の
一実施例を説明する図で、（イ）〜（ホ）は工程図を示
し、第３図は本発明の別の実施例を示す図で、１＝）（
イ）〜（へ）は工程図である。 図において、１はガラス原盤、２は凸起レジスト、７は
Ｎｉｌ［，８はＮｉメッキ、９はＣｒ ＪＩ！ ＋１０
はレジスト層、１１はレジスト凸起、１２は （ｆ、）
Ｃｒ膜、１３はＮ［膜、１４はＮ１メッキを示す。 亭１図 茅２図 羊 ３ 図
明する工程図、第２図は本発明のスタンバの製造方法の
一実施例を説明する図で、（イ）〜（ホ）は工程図を示
し、第３図は本発明の別の実施例を示す図で、１＝）（
イ）〜（へ）は工程図である。 図において、１はガラス原盤、２は凸起レジスト、７は
Ｎｉｌ［，８はＮｉメッキ、９はＣｒ ＪＩ！ ＋１０
はレジスト層、１１はレジスト凸起、１２は （ｆ、）
Ｃｒ膜、１３はＮ［膜、１４はＮ１メッキを示す。 亭１図 茅２図 羊 ３ 図
Claims (2)
- （１） 基板表面に凹凸パターンを転写するときに用い
るスタンパの製造方法であって、ガラス原盤上にレジス
ト膜の凸起を形成し、該レジスト膜凸起上にニッケル膜
を蒸着した後、該ニッケル膜を電極としニッケルメッキ
を施し、前記ガラス原盤を剥離した後、前記ニッケル膜
上にクローム膜を蒸着してスタンパとしたことを特徴と
するスタンパの製造方法。 - （２）基板表面に凹凸パターンを転写するときに用いる
スタンパの製造方法であって、ガラス原盤上に露光現像
不能とした第１のレジスト膜を形成し、該１ｇ１のレジ
スト膜上に、さらに第２のレジスト膜の凸起を形成し、
その第２のレジスト膜の凸起上にクローム膜を蒸着し、
該クローム膜上にニッケル膜を蒸着した後、該ニッケル
膜を電極としてニッケルメッキを施し、前記ガラス原盤
上剥離してスタンパとしたことを特徴とするスタンパの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5193884A JPS60195749A (ja) | 1984-03-16 | 1984-03-16 | スタンパの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5193884A JPS60195749A (ja) | 1984-03-16 | 1984-03-16 | スタンパの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60195749A true JPS60195749A (ja) | 1985-10-04 |
Family
ID=12900805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5193884A Pending JPS60195749A (ja) | 1984-03-16 | 1984-03-16 | スタンパの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60195749A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01253847A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-11 | Toppan Printing Co Ltd | 光ディスク用スタンパーの製造方法 |
| EP0354773A2 (en) * | 1988-08-09 | 1990-02-14 | Plasmon Data Systems, Inc. | Optical disk manufacture |
| US5338178A (en) * | 1990-11-30 | 1994-08-16 | Hitachi, Ltd. | Embossing metal hold |
| US6927016B2 (en) | 2001-10-23 | 2005-08-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Blank disc and direct stamper and its manufacturing method |
-
1984
- 1984-03-16 JP JP5193884A patent/JPS60195749A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01253847A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-11 | Toppan Printing Co Ltd | 光ディスク用スタンパーの製造方法 |
| JP2526980B2 (ja) * | 1988-04-01 | 1996-08-21 | 凸版印刷株式会社 | 光ディスク用スタンパ―の製造方法 |
| EP0354773A2 (en) * | 1988-08-09 | 1990-02-14 | Plasmon Data Systems, Inc. | Optical disk manufacture |
| US5338178A (en) * | 1990-11-30 | 1994-08-16 | Hitachi, Ltd. | Embossing metal hold |
| US6927016B2 (en) | 2001-10-23 | 2005-08-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Blank disc and direct stamper and its manufacturing method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6126952A (ja) | 情報記録担体の製造法 | |
| JPS60195749A (ja) | スタンパの製造方法 | |
| JP2005038477A (ja) | 磁気記録媒体用スタンパーの製造方法および磁気記録媒体用スタンパーの製造装置 | |
| JPS59224320A (ja) | 金型の製造方法 | |
| JPS6171487A (ja) | 記録媒体用ガラス基板 | |
| JPH04259936A (ja) | 情報記録媒体製作用スタンパの製作方法 | |
| JPH04259938A (ja) | 情報記録媒体製作用スタンパの製作方法 | |
| JPH046640A (ja) | スタンパー | |
| JP2693585B2 (ja) | スタンパ製造方法 | |
| JPS6028048A (ja) | マスタ−スタンパ−の製造方法 | |
| JP2916542B2 (ja) | 電鋳原版電鋳方法及び電鋳原版 | |
| JPH0660441A (ja) | 光ディスク用スタンパの製造方法 | |
| JPH0336021A (ja) | 高硬度スタンパ及びその製造方法 | |
| JPH02198835A (ja) | マスター用ガラス基板 | |
| JPS63302439A (ja) | スタンパ作製方法 | |
| JPS61284843A (ja) | 光デイスク成形用スタンパの製造方法 | |
| JPS6177152A (ja) | 光デイスク用スタンパの製作法 | |
| JP2792186B2 (ja) | 光学式記録媒体の製造方法 | |
| JPH0273987A (ja) | スタンパの複製方法 | |
| JPH02277791A (ja) | 光ディスク用スタンパの製造方法 | |
| JPS60243295A (ja) | スタンパの製造方法 | |
| JPS59173287A (ja) | 複製母型の製造方法 | |
| JPH04229211A (ja) | スタンパの製造方法 | |
| JP2517161B2 (ja) | 光ディスク原盤およびマスタ―スタンパ―の製造方法 | |
| JPS6266444A (ja) | 光メモリ素子用フオトマスク |