JPS60190737A - （ｓ）−（−）−７−メチル−３−アルキル−６−オクテン化合物の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は甘いばら様の香気を有し、香料、化粧料などの
重要な香料成分である（Ｓ）−←）−シトロネロール、
およびそのホモロジー並びにそれらの化合物の誘導体の
製法に関するものである。

ａ）従来技術および問題点 テルペン系香料は従来、容易に入手される精油から得ら
れた単離香料を加工製造さ゛れていた。近時消費量の増
加、精油価格の不安定などのため、これら天然精油の単
離による製法を、常に入手が容易な原料より合成によっ
て製造する方法に替わシつつある。

シトロネロールは上記テルペン系香料の１種でシトロネ
ジ油中に含まれる＠）−（ト）−シトロネロール、ゼラ
ニウム油中に含まれる（８１−（イ）−シトロネロール
、（Ｓ）−←）−シトロネロールがあり、特に０）−←
）−シトロネロールはこレラシトロネロール中で最もに
おいのすぐれた香料成分である。

これらシトロネロールも精油からの分離、シトロネラー
ルの還元、ブレボンやα−ピネンからの半合成などによ
って製造されていた。しかし、天然から得られたシトロ
ネロールの光学純度はせいぜい８０係程度で４−ｊたｏ
　（Ｇ、０ｈｌｏｆ、ｆ　ｃ）Ａｎｇｅｖ。

Ｃｈｅｍ、　、旦、２４（１９６１）：ｌ。

従って、よシ光学純度の高いシトロネロールト入手容易
な原料を用いる簡便な製造法の開発が望まれ、１９８２
年に森らはβ−ケトエステルを原料として（Ｓ）−←）
−シトロネロールを合成した◎［Ｋ、Ｍｏｒｉら８ｙｎ
ｔｈｅｓｉｇ＋　１９８２年７５２頁〕。

しかし、この合成法においては原料となる（３Ｒ）−３
−ヒドロキシブチエートの光学純度は８４チにとどまつ
ている。

ｂ）発明の目的 本発明は（Ｊ３）−←）−シトロネロールを入手容易で
ある（３Ｒ）−７−メチル−６−オクテン−１，３−ジ
オール誘導体を原料とし簡易な合成法によって高光学純
度の（Ｓ）−←）−シトロネロールならびに、従来精油
中に見い出されない（Ｓ）−←）−シトロネロールと同
程度のにおい強度ｔ−Ｗする但】−〇−シトロネロール
のホモロジー、を製造する方法を提供することを目的と
するものである。

Ｃ）発明の構成 本発明は一般式 （式中Ｒ１は低級アルキル基を示し、Ｒ２は、メシル基
、トシル基を表わす） を有する（３Ｒ）−７−メチル−６−オクテ／−１，３
−ジオール誘導体に一般式Ｌｌ（Ｒ’）２ｃｕ　（■）
（式中Ｒ３は低級アルキル基を表わす）で表わされるリ
チウムジアルキル銅錯体を反応させ一般式（式中Ｒ１お
よびＲ３は前記と同一意義を有する）ｔ”有する■）−
←）−７−メチル゛−３−アルキルー６−オクテン化合
物の製法、および脱アシル化して一般式 （式中Ｒ３は前記と同一意義を有する）を有する（Ｓ）
−←）−シトロネロールおよびそのホモロジーの製法で
ある。

本発明の出発物質として用いる前記式（ＩＩＩ）で示さ
れる（３Ｒ）−７−メチル−６−オクテｙ　−Ｌ３−ジ
オール銹導体は本発明者らが先に見い出した３−ケトカ
ルデン酸塩をパン酵母によって還元することよシ得られ
る光学純度＃１ぼ１００ｍの３−（６）−ヒドロキシカ
ルポン酸ｔｉ料とする。この反応は７−メチル−３−オ
キソ−６−オクテン酸エステルを水酸化カリウム又は水
酸化ナトリウム水溶液で加水分解し友後、ノ７ン酵母、
Ｄ−グルコースを加え３位のケトンを還元し１得られる
（３Ｂ）−３−ヒドロキシ−７−メチル−６−オクテン
酸（ＩＶ）とするｅ　（Ｍ、ＨｌｒａｍａらＪ、Ｃｈｓ
ｍ、８ｏａ　、　＋Ｃｈ＊ｍ、Ｃｏｎｍｕｎ、＊１９８
３．５９９） かくして得られｆｃ（３Ｂ）−３−ヒドロキシ−７−メ
チル−６−オクテン酸（ＩＶ）　Ｔｈ一般的な還元剤例
えば水素化リチウムアルミニウムで還元しく３Ｒ，）　
−７−メチル−６−オクテ７−　Ｌ３−ジオール（Ｖ）
とする。ここで用いる溶媒はエーテル系溶媒が好ましく
、反応は室温で十分進行する。

この（３Ｒ）−７−メチル−６−オクテン−１，３−ジ
オール（Ｖ）の１級水酸基を保護しエステル体（ｖｉ）
　、！：　Ｌ、た後、トシルクロリド、メシルクロＩＪ
　）４などをピリジ／、トリアジルアミンなどの塩基の
存在下作用させて本発明の出発物質（３Ｒ）−１−アシ
ルオキシ−７−メチル−３−トシルオキシ−６−オクテ
ン（ＩＩＩ）又は（３Ｒ）−１−アシルオキシ−７−メ
チル−３−メシルオキシ−６−オクテン（ＩＩＩ）を得
る。

ｔ＋、本発明の反応剤であるリチウムジアルキル銅錯体
は前記式（■）で宍わされる化合物である。

そして、リチウムジメチル銅錯体、リチウムジエチル銅
錯体、リチウムジブチル銅錯体などが含まれる。そして
これらの化合物、例えばリチウムジメチル銅錯体は市販
のヨウ化銅とメチルリチウムよシ公知の方法によシ容易
に得ることができる。

なおリチウムジエチル銅錯体、リチウムジプロピル銅錯
体、リチウムジブチル銅錯体々どは上記の方法において
メチルリチウムに代え、エチルリチウム、プロピルリチ
ウム、ブチルリチウムなどをそれぞれ用いて同様に得ら
れる。

本発明の反応は（３Ｒ）−１−アシルオキシ−７−メチ
ル−３−トシルオキシ−６−オクテン（Ｉｌｌ）又は（
３Ｒ）−１−アシルオキシ−７−メチル−３−メシルオ
キシ−６−オクテｙ　（ＩＩＩ）　ｋリチウムジアルキ
ル銅錯体（■）と置換反応に伺することにより（３Ｂ）
−１−アシルオキシ−７−メチル−３−アルキル−６−
オクテン（１）　ｔ−得ることができる。

カくシて得られ７’ｃ（３Ｓ）−１−アクルオキシー７
−メチルー３−アルキル−６−オクテン（１）’を水酸
化ナトリウム水溶液又は水酸化カリウム水溶液による温
和な加水分解又拡水票化リチウムアルミニ・ラムなどの
一般的な還元剤による還元反応で説アシル化することに
よｆｉ　（３Ｓ）−３−アルキル−７−メテルー６−オ
クテ／−１−オール（ｆｆ）を得ることができる。

前記式（…）で示される（３８）−３−メチル−７−メ
チル−６−オクテン−１−オール〔式（Ｉｆ）において
Ｒがメチル基〕はその光学純度が９６％以上であり、こ
のことは本発明の出発物質である前記式（ＩＩＩ）で示
される（３Ｒ）−７−メチル−６−オクテｙ−Ｌ３−ジ
オール誘導体の光学純度がほぼ１００チであることに基
く。

又前記式（ＩＩ）で示される（３８）−３−アルキル−
７−メチル−６−オクテン−１−オール〔式（ＩＩ）に
おいてＲがエチル基、プロピル基又はブチル基〕につい
ても同様である。

本発明の前記式（Ｉｔ）で示される（３８）−３−アル
キル−７−メチル−６−オクテン・−１−オールにおい
てアルキル基がメチル基である化合物は（Ｓ）−←）−
シトロネロールであり、アルキル基がエチル基、プロピ
ル基又はブチル基である化合物については（Ｓ）−←）
−シトロネロールのホモロジーの表記を用いた。

以上の工程を反応式で示す。

（式中Ｒ１およびＲ３は低級アルキル基を示しＲ２はメ
シル基又はトシル基を示す。） ｄ）製造例 次に製造例をあげてさらに詳細に説明するが、本発明を
これらの範囲に限定するものでないことはいうまでもな
い。

製造例１ （３Ｂ）−７−メチル−６−オクテン−１，３−ジオ：
二Ａ二 （３Ｒ）−３−ヒドロキシ−７−メチル−６−オクテン
酸３１．６Ｉ！を無水テトラヒドロフラン３００１ｕｇ
にとかした溶液を水垢化リチウムアルミニウム１４．１
Ｆ（２当量）の無水テトラヒドロフラン懸濁液９００　
ｍｌに水冷下滴下した。−夜撹拌したのち、２時間加熱
還流した。水冷下、過剰の還元剤を水で分解し、４Ｎ水
酸化す）　ＩＪウム１ノを加えた。有機溶媒を除去した
のち、エーテルを用いる連続抽出により抽出した。この
エーテル層を飽和塩化アンモニウム水溶液で洗い、乾燥
後、濃縮した。残渣をシリカダルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し標題化合物１５．８５１（収率５４％）ｔ
ｌ−得たＯ 性状：無色油状物 〔α）、＋５．９°（Ｃ＝　２．０　、クロロホルム）
ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２　＊δ）：　１．４７〜
１．８０（４Ｈ，ｍ）１．６３（３Ｈ，ｓ　）　、　１
．６９（３Ｈ，ｄ　、　Ｊ−１，１Ｈｚ　）２．１０（
２Ｈ，ｂｒｑ　、　Ｊ　＝７．２Ｈｚ）　、　２．２２
（２Ｈ，ｓ）３．７６−４．０３（３Ｈ，ｍ） ５．１４（ＩＨ，ｔｑ　、　Ｊ−７，２、１，１Ｈｚ）
ＩＲスペクトル（フィルム、　ｃｒｎ−’）：　３６０
０〜３１０．０．２９５０゜１６７０．１４４５．１０
５５．８４０マススペクトル（ＩＴＩ／ｚ）：　１５８
（Ｍ”）、１０７（ｂ、ｐ）製造例２ （３Ｒ）−１，３−ジヒドロキシ−７−メチル−６−オ
クテンｔ１５０ｍＡ’のピリジンにとかし、０℃でピパ
ロイルクロリド８．８ＩＩ（１当量）を加えた。

さらに１．５時間攪拌したのちピパロイルクロリド０、
４　＆　’ｉｉＨさらに加え３０分間攪拌した。

エーテル（２１）で抽出し、２Ｎ塩酸、飽和炭酸水垢ナ
トリウム水溶液、飽和増化アンモニウム水溶液で洗浄硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下のぞき、残渣
をシリカダルカラムクロマドグ２フイーで鞘製し杼題化
合物１４．３．９（収率８１％）を得た。

性状：無色油状物 〔α）２０　’　２．８°（Ｃ＝２゜Ｏ，クロロホルム
）ＮＭＲスペクト＃　（ＣＤＣ１３１δ）：１．２０（
９Ｈ，ｓ）、１．３８〜１．９１（４Ｈ，ｍ）　、　１
．６２（３Ｈ，ａ）　、　１．６８（３Ｈ，ｄ　、　Ｊ
＝１．１Ｈｚ）　、　１．９８〜２．２３（３Ｈ，ｍ）
　、３．５２−３．８０（ＩＨ，ｒｎ）　。

３．９８〜４．５２（２Ｈ，ｍ）　、　５．１２（ＩＨ
，ｔｑ　、　Ｊ＝７．２　、１．１Ｈｚ）ＩＲスペクト
／Ｉ／　（７４ルＡ　ｌ　ｃｍ−’）　：　３６０（１
〜３２００　＋２９６０．２９２０，２８７０，１７２
５１４８０，１４６０゜１２８５．１１６０，１１１０
．８３５マススペクトル（ｍ／ｚ）：　２４２（Ｍ＋）
、１２２（’ｂ、ｐ、）製造例３ 製造例２で得た（刊−３−ヒドロキシ−７−メチル−１
−ピパロイルオキシ−６−オクテン１３．１ｇをピリジ
ン５８０ａに溶かし、トリエチルアｉ：／　９．８１ｎ
ｌとトシルクロリド１０３ｇ（１０当量）を加え１夜室
湛で攪拌した。減圧上濃縮を行ない、残渣にエーテルｓ
　ｏ　ｏｄｉ加えた。エーテル層を２Ｎ塩酸、飽和炭酸
水垢ナトリウム水溶液、飽和塩化アンモニウム水溶液で
順次洗浄した。有機層を乾燥後濃縮しシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製し標記化合物１４．２ｇ（収
率６６％）が得られた。

性状二無色油状物 〔α）、−８，９°（Ｃ＝２．０．クロロホルム）ＮＭ
Ｒスペクトル（ＣＤＣ４，Ｉδ）：　１．１８（９Ｈ，
ｓ）１．４８−１．７５（２Ｈ，ｍ）　、　１．５３（
３Ｈ，ｓ）　、１．６４（３Ｈ，ｓ）１．９４（４Ｈ，
ｂｒｑ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．４５（３Ｈ，５）４−
００（ＩＨ＋ｄｄｄ、Ｊ−＝１７．４．１１−２．６−
２Ｈｚ）４．０５（ＩＨ，ｄｄｄ、Ｊ＝１７．４．１１
．２．６．２Ｈｚ）４．６９（ＩＨ，ｑ　、Ｊ＝５．７
Ｈｚ）　、４．８８−５．０４（ＩＨ，ｍ）７．３２（
２Ｈ，ｄ、Ｊ＝１０．１Ｈｚ）、７．８２（２Ｈ，ｄ、
Ｊ＝１０１Ｈｚ）ＩＲスペクトル（フィルム、儒−’）
：２９７０，２９３０．２８７０゜１７２５．１６００
．１４９５，１４８０．１４６０．１３６０．１２８５
゜１１９０．１１７５．１１４０．１１２０．９０５．
８１５マススペクトル（ｍ／ｚ）；１２２（ｂ、ｐ）、
２２４，１０７製造例４ （Ｓ）−←）−シトロネロール・ピパロイルエステル１
ノの無水エーテルに懸濁した過剰の沃化第１銅に水冷下
、メチルリチウムのエーテル溶液（１，５モル溶液）１
４２．６ＦＩＬｌを加えリチウムジメチル銅試験ヲ調整
した。このリチウムジメチル銅試薬に製造例３で得た（
３Ｒ）−７−メチル−１−ピパロイルオキシ−３−トシ
ルオキシ−６−オクテ／７．０３１！の無水エーテル溶
液（２００ｍ）’１＝７８℃で加え３０分間攪拌した。

反応液の温度を除々に上昇させ、−２０℃で２時間攪拌
したのち、反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液金加え
、有機層を分けた。有機層ｔ−１／の飽和塩化アンモニ
ウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃
縮残渣はシリカダルカラムクロマトグラフィーで精製し
、標記化合物３．０３．９（収率７１チ）ｔ−得た〇 性状：無色油状物 〔α）Ｄ　−１，０（Ｃ＝２．０．クロロホルム〕ＩＲ
スペクトル（フィルム、ｃｙ＋−’）：　２９７０．２
９３０．２８７５１７３０．１４８０．１４６０．１２
８５．１１６０．８３５ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２
．δ）二〇、９２（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）１．１
９（９Ｈ，ａ）、１．２５−１．７２（５Ｈ，ｍ）、１
．６０（３Ｈ，ａ）１．６８（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝１．１Ｈ
ｚ）１．９６（２Ｈ，ｂｒｑ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、４．
１０（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）５．０９（ＩＨ，ｔ
ｑ、Ｊ＝７．２＋１．１Ｈｚ）製造例５ （Ｓ）　−（−）−シトロネロール 製造例４で得られｆｃ■）＝←）−シトロネロール・ピ
パロイルエステル２．７７１１に１０ｑｂ水酸化ナトリ
ウム・メタノール溶液１５０１１１’ｔ−加え２０時間
室温で攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウムを加え
エーテルで抽出し、エーテル層全乾燥したのち濃縮した
〇 残渣上シリカゲルカラムクロ１トゲラフイーで精製しく
Ｓ）−←）−シトロネロール１．７６．９（収率９７％
）ｔ−得た＠ ここで得られ′ｆｃ＠ｒ成□□□）−←）−シトロネロ
ールの光学純度は９６％＠、＠、でおった０ 性状：無色油状物 ＩＲスペクトル（フィルム、ｃｍ　）：３６００〜３１
００，２９２０゜１４５０．１０５５．８２５ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１，Ｉδ）　：　０．９２　
（３１１、ｄ　、　Ｊ＝６．８Ｈｚ　）１．１７〜１．
７５（５Ｈ，ｍ）、　１．６１（３Ｈ，ｓ）　、　１．
６９（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝１．１Ｈｚ）＋１．９６（２Ｈ，ｂｒｑｙＪ＝７．
２Ｈｚ）。

３．６８（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６．４Ｈｚ）、５．１０（１
）１．ｔｑ、Ｊ＝７．２゜１．１Ｈｚ） マススペクトル（ｎ＋／ｚ）：１５６（Ｍ　）、９ｔ（
ｂ、ｐ、）元累分析Ｃ１゜Ｈ２ｏＯとして Ｃ（％）　Ｈ（％） 計算値　？６．８５　１２．８９ 実測値　７６．８０　１２．９９ 得られり但）−←〕−シトロネロールの光学純度の決定
は次のようにして行なった。

合成品′ｔ−酸化しシトロネル酸に変換したのち、オギ
ザリルクロリドで酸クロリドとした。

この酸クロリドｔ”＠ｉ（＋３−１−　（１−す７チル
）エチルアミ／と反応させ酸アミドとしたのちとの酸ア
ミドを高速液体クロマトグラフィーを用いジアステレオ
マーの混合比を分析した結果、但〕−配置が９８％、対
掌体が２係であることが判った。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 （式中Ｒ１は低級アルキル基を示し、Ｒ２はメシル基又
   はトシル基を示す） を有する（３Ｒ）−７−メチル−６−オクテン−１，３
   −ジオール誘導体に一般式Ｌｉ（Ｒ’）ｚｃｕ　（式中
   Ｒ３は低級アルキル基を示す）で表わされるリチウムジ
   アルキル銅錯体を反応させることを特徴とする一般式 （式中Ｒ’、Ｒ’は前記と同一意義ヲ有す）を有する（
   Ｓ）−←）−７−メチル−３−アルキル−６−オクテン
   化合物の製造法。 ２、一般式 （式中Ｒ１は低級アルキル基を示し、Ｒ２はメシル基又
   はトシル基を示す） ｔ−有する（３Ｒ）−７−メチル−６−オクテン−１，
   ３−ジオール誘導体に一般式Ｌｉ（Ｒ５）２Ｃｕ　（式
   中Ｒ３は低級アルキル基を示す）で表わされるリチウム
   ジアルキル銅錯体を反応させ一般式 （式中Ｒ１、Ｒ３は前記と同一意義を有す）を有するＣ
   ）−←）−７−メチル−３−アルキル−６−オクテン化
   合物を得、後脱アシル化することを特徴とする一般式 （式中Ｒ３は前記と同一意義を有す） を有する（８１−←）−シトロネロール及びそのホモロ
   ジーの製法。