JPS60185921A - 光学機器用反射防止装置 - Google Patents
光学機器用反射防止装置Info
- Publication number
- JPS60185921A JPS60185921A JP4259384A JP4259384A JPS60185921A JP S60185921 A JPS60185921 A JP S60185921A JP 4259384 A JP4259384 A JP 4259384A JP 4259384 A JP4259384 A JP 4259384A JP S60185921 A JPS60185921 A JP S60185921A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- optical
- lens
- light
- oil
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は光学機器用反射防止装置に係υ、特に光の干渉
を利用して微小間隙や表面あらさ等を測定する測定装置
その他の光学機器に適用するに好適な反射防止装置に関
する。
を利用して微小間隙や表面あらさ等を測定する測定装置
その他の光学機器に適用するに好適な反射防止装置に関
する。
一般に、光学機器での光路中において機器構成部材での
反射光は通常不要成分であシ、例えば光の干渉を利用し
た光学測定装置では、測定光に反射光が混入することに
よシ測定精度が悪化してしまう。
反射光は通常不要成分であシ、例えば光の干渉を利用し
た光学測定装置では、測定光に反射光が混入することに
よシ測定精度が悪化してしまう。
従来、上述の如き光学部品の表面での反射を防止する方
法として、光学部品の表面に誘電体膜を蒸着し、空気と
誘電体との境界での反射光と、誘電体と光学部品との境
界での反射光とが干渉して打ち消し合うように、誘電体
膜の厚さと誘電体の屈折率を入射光の波長に合わせて調
整する方法がある０ しかし、斯かる方法では、誘電体の膜厚を一定に保てず
、所望する屈折率の誘電体が得られない等の問題がある
。また、誘電体膜を蒸着して反射防止を施しても、反射
率は０．２チ程度以下にはできず、特にこのような部品
を干渉計等の精密光学測定器に組み込んで使用する場合
、この残留反射率０．２％が問題となる。
法として、光学部品の表面に誘電体膜を蒸着し、空気と
誘電体との境界での反射光と、誘電体と光学部品との境
界での反射光とが干渉して打ち消し合うように、誘電体
膜の厚さと誘電体の屈折率を入射光の波長に合わせて調
整する方法がある０ しかし、斯かる方法では、誘電体の膜厚を一定に保てず
、所望する屈折率の誘電体が得られない等の問題がある
。また、誘電体膜を蒸着して反射防止を施しても、反射
率は０．２チ程度以下にはできず、特にこのような部品
を干渉計等の精密光学測定器に組み込んで使用する場合
、この残留反射率０．２％が問題となる。
この残留反射率の与える影響を表面あらさ測定装置を例
にとって説明する。第１図は光干渉による表面あらさ測
定装置の構成図であり、直線偏光を発するレーザ発振器
１を備えている。この発振器１の出射口側にはビームス
プリッタ２を配置し、入射光と透過光に２分割させてい
る。ビームスプリッタ２からの透過光はレンズ６を介し
て偏波面保存型光ファイバ４に集光され、測定位置まで
搬送され、その出射口側にてレンズ５によシ再び平行光
にされる。レンズ５にはｙ波長板６が隣接され、これを
直線偏光が一往復すると偏波面が９０度回転するように
している。％波長板６は入射面に反射膜７を貼着し、反
射膜７は入射光の一部を反射し、残シを透過させる。Ｋ
波長板６の出射口面には被測定面８が対面し、反射膜７
と被測定面８との両反射光による干渉を利用して表面あ
らさの測定をなすようにしている。なお、図中９は干渉
装置で、反射膜７、被測定面８０反射光を偏光面で区別
し、２つの光の光路長の差を一定に保つように制御し、
その制御量から被測定面８の変位をめるようにしている
（特開昭５６−１０３１３号公報参照）。
にとって説明する。第１図は光干渉による表面あらさ測
定装置の構成図であり、直線偏光を発するレーザ発振器
１を備えている。この発振器１の出射口側にはビームス
プリッタ２を配置し、入射光と透過光に２分割させてい
る。ビームスプリッタ２からの透過光はレンズ６を介し
て偏波面保存型光ファイバ４に集光され、測定位置まで
搬送され、その出射口側にてレンズ５によシ再び平行光
にされる。レンズ５にはｙ波長板６が隣接され、これを
直線偏光が一往復すると偏波面が９０度回転するように
している。％波長板６は入射面に反射膜７を貼着し、反
射膜７は入射光の一部を反射し、残シを透過させる。Ｋ
波長板６の出射口面には被測定面８が対面し、反射膜７
と被測定面８との両反射光による干渉を利用して表面あ
らさの測定をなすようにしている。なお、図中９は干渉
装置で、反射膜７、被測定面８０反射光を偏光面で区別
し、２つの光の光路長の差を一定に保つように制御し、
その制御量から被測定面８の変位をめるようにしている
（特開昭５６−１０３１３号公報参照）。
上記装置での光路軌跡は次のようになる。まず、発振器
１からの出射光Ｂｏは紙面と垂直な偏光面を有しく記号
「・」で表示）、ビームスプリッタ２、レンズ３、光フ
ァイバ４、レンズ５を経て％波長板６に入射される軌跡
をたどる。％波長板６への入射光は入射面側の反射膜７
での反射光Ｂ２と、透過して被測定面８で反射される反
射光Ｂ１とされ、両反射光Ｂ３、Ｂ２を測定光として逆
光路を経てビームスプリッタ２によシ干渉装置９に至る
のである。前記被測定面８での反射光Ｂ１は号波長板６
を１往復しているので偏光面が紙面に対し平行とされ（
記号「←→」で表示）、他方の反射光Ｂ２と偏光面が９
０度累々って、表面わらさ測定に供される。
１からの出射光Ｂｏは紙面と垂直な偏光面を有しく記号
「・」で表示）、ビームスプリッタ２、レンズ３、光フ
ァイバ４、レンズ５を経て％波長板６に入射される軌跡
をたどる。％波長板６への入射光は入射面側の反射膜７
での反射光Ｂ２と、透過して被測定面８で反射される反
射光Ｂ１とされ、両反射光Ｂ３、Ｂ２を測定光として逆
光路を経てビームスプリッタ２によシ干渉装置９に至る
のである。前記被測定面８での反射光Ｂ１は号波長板６
を１往復しているので偏光面が紙面に対し平行とされ（
記号「←→」で表示）、他方の反射光Ｂ２と偏光面が９
０度累々って、表面わらさ測定に供される。
ところが、上記測定時に、光ファイバ４の入射面と出射
面の両端面で反射光ＢＨＮ ”２２ （紙面に垂直な偏
光面を有する）、および％波長板６の裏面での反射面Ｂ
１１ （紙面に平行な偏光面を有する）が存在し、これ
が干渉装置９に入力し、測定誤差が発生してしまうっこ
のため、従来は光ファイバ４の両端面と％波長板乙の裏
面に前述した如き反射防止コーティングを施し、反射率
を０．２％程度に押えていた。
面の両端面で反射光ＢＨＮ ”２２ （紙面に垂直な偏
光面を有する）、および％波長板６の裏面での反射面Ｂ
１１ （紙面に平行な偏光面を有する）が存在し、これ
が干渉装置９に入力し、測定誤差が発生してしまうっこ
のため、従来は光ファイバ４の両端面と％波長板乙の裏
面に前述した如き反射防止コーティングを施し、反射率
を０．２％程度に押えていた。
しかし、反射光Ｂ１１ 、Ｂ２１、”２２ は同じ偏光
面の測定光Ｂ８、Ｂ２に対する混入率が小さいことが望
ましいものの、充分小さいものといえなかった。
面の測定光Ｂ８、Ｂ２に対する混入率が小さいことが望
ましいものの、充分小さいものといえなかった。
例えば、光ファイバ４の総合効率η（入射後の光強度／
入射前の光強度）を０．５ ％ 、反射膜７の反射率を
０．１′％、被測定面８の反射率を０．０５％とし、フ
ァイバ入射強度１とした場合、Ｂｏ と”＋１の比、Ｂ
、とＢ２１、”２２の比は各々１ ： １／２５．１：
１／１２．５．１ 二１／２５となシ、Ｂ１、Ｂ２に
比べて反射光Ｂ１８、Ｂ２□、Ｂ、２ が充分小さいと
はいえない。
入射前の光強度）を０．５ ％ 、反射膜７の反射率を
０．１′％、被測定面８の反射率を０．０５％とし、フ
ァイバ入射強度１とした場合、Ｂｏ と”＋１の比、Ｂ
、とＢ２１、”２２の比は各々１ ： １／２５．１：
１／１２．５．１ 二１／２５となシ、Ｂ１、Ｂ２に
比べて反射光Ｂ１８、Ｂ２□、Ｂ、２ が充分小さいと
はいえない。
また・誘電膜蒸着法では使用する光の波長が広範囲に亘
る場合には反射率を″低く押えることはできない欠点が
ある。例えば可視光全域では（４５゜ｎｍ〜７５０ ｎ
ｍ ）に亘る範囲では、数種の誘電体を多層に蒸着して
も、反射率は０．５％以下にはできなかった。
る場合には反射率を″低く押えることはできない欠点が
ある。例えば可視光全域では（４５゜ｎｍ〜７５０ ｎ
ｍ ）に亘る範囲では、数種の誘電体を多層に蒸着して
も、反射率は０．５％以下にはできなかった。
本発明は、上記従来の問題点に着目し、光学機器に用い
られる光学部品表面での反射を広範囲に亘って極めて小
さく押えることができる装置を提供することを目的とす
る。
られる光学部品表面での反射を広範囲に亘って極めて小
さく押えることができる装置を提供することを目的とす
る。
上記目的を達成するために、本発明に係る光学機器用反
射防止装置は、光学機器の光路中に介在されるレンズお
よび該レンズに隣接する光学部品との間に、前記光学部
品の屈折率と同等または極めて近い屈折率を有する媒質
を密着して設けたものである。望ましくは、媒質として
は屈折率マツチングオイル、光学部品としては光ファイ
バまたは波長板を用いる。
射防止装置は、光学機器の光路中に介在されるレンズお
よび該レンズに隣接する光学部品との間に、前記光学部
品の屈折率と同等または極めて近い屈折率を有する媒質
を密着して設けたものである。望ましくは、媒質として
は屈折率マツチングオイル、光学部品としては光ファイ
バまたは波長板を用いる。
上記構成によれば、光学部品の表面を当該光学部品と等
しい屈折率を有する媒質で被うことになる。反射は屈折
率の異なる媒質の境界面で起こるので、上記媒質すなわ
ち屈折率マツチング手段で被われた面での反射が防止さ
れる。
しい屈折率を有する媒質で被うことになる。反射は屈折
率の異なる媒質の境界面で起こるので、上記媒質すなわ
ち屈折率マツチング手段で被われた面での反射が防止さ
れる。
以下に本発明に係る光学機器用反射防止装置の実施例を
図面を参照して詳細に説明する。
図面を参照して詳細に説明する。
第２図は上述した表面あらさ測定器の光ファイバの端面
での反射を防止するようにした第１実施例の断面図であ
る。図示の如く、光ファイバ１０は光を伝えるコア１１
とその外層のクラッド１２を中心部に有してなるもので
、その端面を隣接されたレンズ１５と光軸が一致するよ
うに対面配置さじている。そして、ファイバ１０とレン
ズ１５との間には、円筒状に形成され九ケーシング１４
が設けられ、該ケーシング１４の両端部をファイバ１０
とレンズ１５とによシ閉塞して密閉空間１５を形成して
いる。なお、ケーシング１０には一端をレンズホルダ部
として拡径部１６を設け、レンズ１３を止めリング１７
にて固定するものとし、他端にファイバ嵌着部となす拡
径部１８を同様に形成して、止めねじ１９にて固定する
ようにしている。
での反射を防止するようにした第１実施例の断面図であ
る。図示の如く、光ファイバ１０は光を伝えるコア１１
とその外層のクラッド１２を中心部に有してなるもので
、その端面を隣接されたレンズ１５と光軸が一致するよ
うに対面配置さじている。そして、ファイバ１０とレン
ズ１５との間には、円筒状に形成され九ケーシング１４
が設けられ、該ケーシング１４の両端部をファイバ１０
とレンズ１５とによシ閉塞して密閉空間１５を形成して
いる。なお、ケーシング１０には一端をレンズホルダ部
として拡径部１６を設け、レンズ１３を止めリング１７
にて固定するものとし、他端にファイバ嵌着部となす拡
径部１８を同様に形成して、止めねじ１９にて固定する
ようにしている。
次に、上記ファイバ１［１，レンズ１３、およびケーシ
ング１４によシ囲まれた密閉空間１５内には、光学物品
たる光ファイバ１０の特に光路部材となるコア１１の屈
折率と略等しい屈折率を有する媒質としてのオイル２０
を充填している。このオイル２０は屈折率マツチングオ
イルと称されるもので、例えばシリコンオイルから構成
される。
ング１４によシ囲まれた密閉空間１５内には、光学物品
たる光ファイバ１０の特に光路部材となるコア１１の屈
折率と略等しい屈折率を有する媒質としてのオイル２０
を充填している。このオイル２０は屈折率マツチングオ
イルと称されるもので、例えばシリコンオイルから構成
される。
ここで、光ファイバ１０のコア１１が石英から形成され
ている場合には、その屈折率は波長６５２．８ｎｍの光
に対してｎｃ ＝ １．４５８である。したがって、石
英用の屈折率マツチングオイルとしては屈折率ｎ。−ｔ
４５８±０．０００５程度のものが知られているので、
当該オイルを密閉空間１５内に充填するのである。この
場合、コア１１の端面がオイル２０で被われるように、
完全に充満させる。
ている場合には、その屈折率は波長６５２．８ｎｍの光
に対してｎｃ ＝ １．４５８である。したがって、石
英用の屈折率マツチングオイルとしては屈折率ｎ。−ｔ
４５８±０．０００５程度のものが知られているので、
当該オイルを密閉空間１５内に充填するのである。この
場合、コア１１の端面がオイル２０で被われるように、
完全に充満させる。
このような構成に係る反射防止装置の作用は次のように
なる０まずレンズ１５への入射光をＢ３゜とすると、こ
の入射光”３０がレンズ１６を透過する際に、表面およ
び裏面で反射光”３４ 、Ｂ３２を生じるが、これは発
散し弱まるので問題とならない。
なる０まずレンズ１５への入射光をＢ３゜とすると、こ
の入射光”３０がレンズ１６を透過する際に、表面およ
び裏面で反射光”３４ 、Ｂ３２を生じるが、これは発
散し弱まるので問題とならない。
レンズ１′５を通過した光は、マツチングオイル２０内
を通ってコーア１１に集光される。ここで、コア１１の
屈折率をｎｃ１マツチングオイル２ｏの屈折率ｎｍとす
ると、コア１１の表面での反射率Ｒは、フレネルの公式
によシ、次式で表わされる。
を通ってコーア１１に集光される。ここで、コア１１の
屈折率をｎｃ１マツチングオイル２ｏの屈折率ｎｍとす
ると、コア１１の表面での反射率Ｒは、フレネルの公式
によシ、次式で表わされる。
上記（１）式に、前述のコア１１とマツチングオイル２
０の屈折率ｎｃＸ ｎｍの値を代入してめると、その値
は０．０００００３１以下となる。したがって、この実
施例によれば、ファイバ１０の端面での反射率を実質上
塔にすることができる。
０の屈折率ｎｃＸ ｎｍの値を代入してめると、その値
は０．０００００３１以下となる。したがって、この実
施例によれば、ファイバ１０の端面での反射率を実質上
塔にすることができる。
まだ、上記屈折率ｎｍ ＝ １．４’５ Ｂ （６５２
，８ｎｍ ）の屈折率マツチングオイルを選んだとき、
可視光全域に亘る反射率は次のようになる。石英からな
るコア１１の波長４５０ｎｍ 〜７００ｎｍの光に対す
る屈折率ｎＣは、ｎｃ＝ １．４５〜１．４７ （７）
範、囲にある。一方、屈折率マツチングオイルのル（折
率ｎｍの波長依存性もこれと同程度でおるとすれば、最
悪の場合でもｌｎｃ”ｍｌ≦０．０２２’ｔ’あシ、ｎ
ｃ十”ｍ＃５であるｏ したがって（１）式を用いてフ
ァイバ１０の端面の反射率Ｒをめると、Ｒ≦０．００６
チとなシ、可視光全域に亘って反射率が極めて低い１匿
となる。
，８ｎｍ ）の屈折率マツチングオイルを選んだとき、
可視光全域に亘る反射率は次のようになる。石英からな
るコア１１の波長４５０ｎｍ 〜７００ｎｍの光に対す
る屈折率ｎＣは、ｎｃ＝ １．４５〜１．４７ （７）
範、囲にある。一方、屈折率マツチングオイルのル（折
率ｎｍの波長依存性もこれと同程度でおるとすれば、最
悪の場合でもｌｎｃ”ｍｌ≦０．０２２’ｔ’あシ、ｎ
ｃ十”ｍ＃５であるｏ したがって（１）式を用いてフ
ァイバ１０の端面の反射率Ｒをめると、Ｒ≦０．００６
チとなシ、可視光全域に亘って反射率が極めて低い１匿
となる。
次に、第３図は前記表面あらさ測定器の％波長板の端面
での反射を防止するだめの第２実施例に係る、反射防止
装置の断面図である。この装置は、測定器先端に配置さ
れ、入射面側に反射膜２１を貼着した号波長板２２に対
し、その外周を囲繞する謳１状ケーシング２６を装着し
ている。ケーシング２ろは光出射面側に向けて延設され
、延長部内に前記波長板２２に対面する第２レンズ２４
Ｂ１これト平行に第２レンズ２４Ｂをこれらの光軸が一
致するように取付けている。すなわち、ケーシング２５
は一端部側に拡径部２５を形成し、波長板２２を装着し
て止めリング２６で固定している。
での反射を防止するだめの第２実施例に係る、反射防止
装置の断面図である。この装置は、測定器先端に配置さ
れ、入射面側に反射膜２１を貼着した号波長板２２に対
し、その外周を囲繞する謳１状ケーシング２６を装着し
ている。ケーシング２ろは光出射面側に向けて延設され
、延長部内に前記波長板２２に対面する第２レンズ２４
Ｂ１これト平行に第２レンズ２４Ｂをこれらの光軸が一
致するように取付けている。すなわち、ケーシング２５
は一端部側に拡径部２５を形成し、波長板２２を装着し
て止めリング２６で固定している。
他端部側にはレンズ２４Ａ、２４Ｂのホルダとして機能
させるために、拡径部２７を設け、第ルンズ２４Ａと波
長板２２の間に密閉空間２日を形成しつつスペーサ２９
を介して第２レンズ２４Ｂを取付け、外端を止めリング
３０で固定している。
させるために、拡径部２７を設け、第ルンズ２４Ａと波
長板２２の間に密閉空間２日を形成しつつスペーサ２９
を介して第２レンズ２４Ｂを取付け、外端を止めリング
３０で固定している。
そして、前記密閉空間２８内に波長板２２と屈折率の略
等しい屈折率を有する屈折率マツチングオイル３１を充
填するのである。
等しい屈折率を有する屈折率マツチングオイル３１を充
填するのである。
ここで、前記人波長板２２は光学的異方性を有する結晶
でできておシ、第４図に示したように、直交するＦ軸と
Ｓ軸とからなる結晶軸を持ち、Ｆ−Ｓ平面に直交する方
向を光の入射方向とするものである。このとき、Ｆ軸方
向の偏光面を有する光に対する屈折率をｎＦ、ｓ軸方向
のそれをｎＩｌ］とすると、ｎＦ＜ｎ［１である。今、
水晶製の波長板では波長６３２．８ ｎｍの光に対して
、ｎＦ＝１．５５２、”ｓ ＝ １．５４５である。し
たがって、屈折率マツチングオイル５１には、波長板の
屈折率ｎＦ、ｙ）ｓ に極めて近い屈折率を有するもの
として、屈折率ｎ。−１，５３５のオイル（例えば東し
シリコン製ｓａ ７１０〔商品名〕）を使用するのであ
る。
でできておシ、第４図に示したように、直交するＦ軸と
Ｓ軸とからなる結晶軸を持ち、Ｆ−Ｓ平面に直交する方
向を光の入射方向とするものである。このとき、Ｆ軸方
向の偏光面を有する光に対する屈折率をｎＦ、ｓ軸方向
のそれをｎＩｌ］とすると、ｎＦ＜ｎ［１である。今、
水晶製の波長板では波長６３２．８ ｎｍの光に対して
、ｎＦ＝１．５５２、”ｓ ＝ １．５４５である。し
たがって、屈折率マツチングオイル５１には、波長板の
屈折率ｎＦ、ｙ）ｓ に極めて近い屈折率を有するもの
として、屈折率ｎ。−１，５３５のオイル（例えば東し
シリコン製ｓａ ７１０〔商品名〕）を使用するのであ
る。
斯かる第２実施例によれば、％波長板２２に光を入射し
た場合、第２レンズ２４Ｂを出るまでの間に・第ルンズ
２４Ａの表裏面で反射光Ｂ４１、Ｂ４２を生じ、同じく
第２レンズ２４Ｂの表裏面で反射光Ｂ４３ 、Ｂ４４を
生じるが、これらは発散し、弱まるので問題とならない
。今、前記入射光Ｂ４０が波長板２２のＦ軸方向の偏光
面を有するものであるとき、前記（１１式を用いると、
ｎｃ−ｎＦ−１，５５２、ｎｍ ”” １，５５５ を
代入すると反射率は、ｎＦ＝０．００４％となる。また
、入射光Ｂ４゜がＳ軸方向の偏光面のとき、ｎｃ−ｎθ
＝１．５，４５、ｎｍ＝１．５５３ を代入すると、同
じく、Ｒ８＝ ０．００１％となる。したがって、マツ
チングオイル５１０作用によシ、光学部品たる波長板端
面での反射率を極めて小さくすることができるのであシ
、もって測定精度を著しく向上させることができる。
た場合、第２レンズ２４Ｂを出るまでの間に・第ルンズ
２４Ａの表裏面で反射光Ｂ４１、Ｂ４２を生じ、同じく
第２レンズ２４Ｂの表裏面で反射光Ｂ４３ 、Ｂ４４を
生じるが、これらは発散し、弱まるので問題とならない
。今、前記入射光Ｂ４０が波長板２２のＦ軸方向の偏光
面を有するものであるとき、前記（１１式を用いると、
ｎｃ−ｎＦ−１，５５２、ｎｍ ”” １，５５５ を
代入すると反射率は、ｎＦ＝０．００４％となる。また
、入射光Ｂ４゜がＳ軸方向の偏光面のとき、ｎｃ−ｎθ
＝１．５，４５、ｎｍ＝１．５５３ を代入すると、同
じく、Ｒ８＝ ０．００１％となる。したがって、マツ
チングオイル５１０作用によシ、光学部品たる波長板端
面での反射率を極めて小さくすることができるのであシ
、もって測定精度を著しく向上させることができる。
上述した両実施例は、表面あらさ測定装置に適用した例
であるが、他の精密光学測定器に用いることができ、そ
の他、反射防止が必要とされる光学機器について適用で
きる。また、屈折率マツチング手段としてはシリコンオ
イルに限らず、反射防止対象面を有する光学部品に密着
できる液状媒質であればよい。
であるが、他の精密光学測定器に用いることができ、そ
の他、反射防止が必要とされる光学機器について適用で
きる。また、屈折率マツチング手段としてはシリコンオ
イルに限らず、反射防止対象面を有する光学部品に密着
できる液状媒質であればよい。
以上説明したように、本発明によれば、屈折率等価媒質
を光学部品に密着配置させたので、光学部品表面での反
射率を広い範囲に亘って非常に低く抑えることができる
。
を光学部品に密着配置させたので、光学部品表面での反
射率を広い範囲に亘って非常に低く抑えることができる
。
第１図は従来の表面あらさ測定装置の構成図、第２図は
第１実施例に係る反射防止装置断面図、第３図は第２実
施例の同断面図、第４図は波長板の説明図である。 １０・・・光ファイバ、 １５．２４Ａ、２４Ｂ・・・レンズ、 １４．２３・・・ケーシング、 １５．２８・・・密閉空間、 ２０．５１・・・屈折率マツチングオイル。 代理人 鵜 沼 辰 之 ＠ ４ 図 Ｓ軸 第２図 ＠ ３ 図 ２１ ２２ ２８
第１実施例に係る反射防止装置断面図、第３図は第２実
施例の同断面図、第４図は波長板の説明図である。 １０・・・光ファイバ、 １５．２４Ａ、２４Ｂ・・・レンズ、 １４．２３・・・ケーシング、 １５．２８・・・密閉空間、 ２０．５１・・・屈折率マツチングオイル。 代理人 鵜 沼 辰 之 ＠ ４ 図 Ｓ軸 第２図 ＠ ３ 図 ２１ ２２ ２８
Claims (4)
- （１）光学機器の光路中に介在されるレンズおよび該し
／ズに隣接する光学部品との間に、前記光学部品の屈折
率と同等または極めて近い屈折率を有する媒質を密着し
て設けたことを特徴とする光学機器用反射防止装置。 - （２）前記媒質は前記レンズと光学部品によシ閉塞され
九ケーシングに充填されたオイルであることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の光学機器用反射防止装置
。 - （３） 前記光学部品は光ファイバであることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の光学機器用反射防止装
置。 - （４） 前記光学部品は波長板であることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の光学機器用反射防止装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4259384A JPS60185921A (ja) | 1984-03-05 | 1984-03-05 | 光学機器用反射防止装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4259384A JPS60185921A (ja) | 1984-03-05 | 1984-03-05 | 光学機器用反射防止装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60185921A true JPS60185921A (ja) | 1985-09-21 |
Family
ID=12640358
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4259384A Pending JPS60185921A (ja) | 1984-03-05 | 1984-03-05 | 光学機器用反射防止装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60185921A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100416992B1 (ko) * | 2001-05-03 | 2004-02-05 | 삼성전자주식회사 | 광소자에 구비된 광섬유 어레이의 피치를 측정하는 장치 |
-
1984
- 1984-03-05 JP JP4259384A patent/JPS60185921A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100416992B1 (ko) * | 2001-05-03 | 2004-02-05 | 삼성전자주식회사 | 광소자에 구비된 광섬유 어레이의 피치를 측정하는 장치 |
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