JPS60184889A - Pen point - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はに空蒸着法による耐摩耗性皮膜を少くとも筆記
当接部に有してなるペン先に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a pen nib which has an abrasion-resistant coating formed by dry vapor deposition on at least the writing contact area.

筆記面との摩擦による摩耗を抑えるためにペン先の表面
を耐摩耗性皮膜の被覆物とすることは既によく知られた
ところとなっている１、皮膜形成の方法としては昔から
知られている電気化学的鍍金法などのほか１種々金属や
その酸化物、窒化物。It is already well known that the surface of the pen tip is coated with an abrasion-resistant film in order to suppress wear caused by friction with the writing surface.1 The method of forming the film has been known for a long time. In addition to electrochemical plating methods, various metals and their oxides and nitrides are used.

炭化物など高硬度物質の皮膜も形成できるとして近年着
目されている真空蒸着法もある１、ところが、イオンブ
レーティングやスパッタリングなどの物理蒸着法とかプ
ラズマＯＶＤ、サーマルＯＶＤなどの化学蒸着法といつ
たような種類によらず、真空蒸着法によって皮膜を形成
したものは、ペン先にとって耐摩耗性と同様に重要な特
性である書き味を損う傾向にある。この傾向は特に小径
細筆防用のペン先の場合に強いのであるが。Vacuum deposition methods have attracted attention in recent years as they are capable of forming films of highly hard materials such as carbides. Regardless of the type, coatings formed by vacuum deposition tend to impair the writing feel, which is an important characteristic for pen nibs as well as abrasion resistance. This tendency is particularly strong in the case of pen nibs for small diameter and fine brush protection.

硬くて尖ったものであるがゆえと言える。This can be said to be because it is hard and sharp.

そこで、皮膜形成されるペン先基材は当然の結果として
予め丸みを帯びたものとされることになる。射出成形な
どのようにペン先基材の成形時に丸みをつけておくこと
もあるが、サンドブラスト。Therefore, the pen nib base material on which the film is formed is naturally rounded in advance. In some cases, such as injection molding, the pen tip base material is rounded during molding, but sandblasting.

バレル研摩、切削、電解研摩など後加工によることも多
い。Post-processing such as barrel polishing, cutting, and electrolytic polishing is often used.

寸法径の大きなものならば上述のような方法を必要に応
じて複数種組み合わせることによって十分に使用できる
製品を得ることができる。If the size and diameter are large, a product that can be used satisfactorily can be obtained by combining a plurality of the above-mentioned methods as necessary.

しかし、小径のペン先に所望形状の丸みを形成すること
は結構面倒なことであり＋また往々にして反りバリなど
を生じてしまう。However, forming a desired roundness on a small-diameter pen tip is quite troublesome, and often causes warping and burrs.

本発明は上述したところに鑑み、ペン先基材自体が十分
な丸みを有していなくても皮膜を形成されたペン先その
ものが十分な丸みを有しておれば耐摩耗性と同時に書き
味も満足されるとの考えから出発してなされたものであ
る。即ち本発明は、真空蒸着法による１ｌｌｒｊ摩耗性
皮膜を少くとも筆記当接部に有してなるペン先において
。In view of the above, the present invention has been made based on the above-mentioned findings, even if the pen nib base material itself does not have sufficient roundness, if the pen nib itself on which the film is formed has sufficient roundness, it will provide both abrasion resistance and writing quality. This was done based on the idea that it would also satisfy the following. That is, the present invention provides a pen nib which has a 1llrj abrasive film formed by vacuum deposition on at least the writing contact portion.

１）１１記皮膜が形成されるペン先基材は前記筆記当接
部に相当する部分として平坦部と角部とを有し、捷だ、
前記皮膜は前記ペン先基材の前記平坦部には厚く形成さ
れているとともに前記角部には、あるいは、前記角部に
かけてｉ薄く形成されており、ペン先の筆記当接部とし
ては前記ペン先基材の前記角部に相当する部分に丸みを
有していることを特徴とするぺ／先を要旨とするもので
ある。1) The pen nib base material on which the film No. 11 is formed has a flat part and a corner part as a part corresponding to the writing contact part, and is rounded.
The coating is thickly formed on the flat portion of the pen nib base material, and thinly formed on the corner portion or toward the corner portion, and serves as a writing contact portion of the pen nib. The gist of the present invention is a pen tip characterized in that a portion corresponding to the corner of the tip base material is rounded.

まず、皮膜の材質について一例を挙げると、アルミニウ
ム、チタン、クロム、モリフテン、タンタル、タングス
テン、ロジウム、銀、白金、金。First, some examples of film materials include aluminum, titanium, chromium, molyftene, tantalum, tungsten, rhodium, silver, platinum, and gold.

ｍ、を鉛、ジルコニウム、八ツニウム、珪素、ボロン、
インジウムなどの金属や、これらの炭化物。m, lead, zirconium, octunium, silicon, boron,
Metals such as indium and their carbides.

酸化物、窒化物などであり、１種もしくは２種以上の混
合物たり得るが、炭素のように通常の概念では決して耐
摩耗性があるとは考えられないものも真空蒸着法によっ
て耐摩耗性を有する皮膜となる。They are oxides, nitrides, etc., and can be one type or a mixture of two or more types, but even carbon, which is never thought to be wear resistant in the usual concept, can be made wear resistant by vacuum evaporation. It becomes a film with

一方、ペン先基材の方はより広いｉｌｉα囲から材質を
選択することができる。即ち、前述した皮膜の材質例な
どを含めて各種金属９合金、金属化合物などのほかにも
、アセタール系、アミド系、アリル系などの種々合成樹
脂やこれらの焼結、焼成物などである。従って、セラミ
ックスなども適用できる。皮膜と同じ材質であることも
、また。On the other hand, the material for the pen nib base material can be selected from a wider iliα range. That is, in addition to various metal 9 alloys, metal compounds, etc., including the above-mentioned examples of the material of the coating, various synthetic resins such as acetal, amide, and allyl resins, and sintered and fired products thereof. Therefore, ceramics etc. can also be applied. Also, it is made of the same material as the membrane.

皮膜よりも硬いものであることもできる。硬いものほど
一般に精密な成形が困難であり８本発明のペン先におけ
る耐摩耗性皮膜は整形の機能も有するからである。It can also be harder than the film. This is because the harder the pen tip is, the more difficult it is to mold it precisely, and the wear-resistant coating in the pen nib of the present invention also has a shaping function.

更に電気化学的鍍金法などによる皮膜を有するものや改
質を受けたものであることもできる。Furthermore, the material may have a coating formed by electrochemical plating or the like, or may be modified.

以下、添付Ｍ面に示す実施例に基づいて説明する。The following will explain the embodiments shown in attached page M.

第１図、第２図のペン先１１は、しばしば中心孔ｉ　ｉ
　、ａ内に摺動線材を配備されることのある小管式筆記
具のペン先の例である。ストレートなパイプ状であるこ
とも多いが、細筆防用の場合には図のテーパー状小径部
１１ｂのように適宜小径化されることも多い。このペン
先１１はペン先基材１２と耐摩耗性皮膜１６とよりなる
（第２図参照）。ペン先基材１２は先端に平面部１２’
ａを有し、この平面部１２ａの内周縁部＋２ｂ、外周縁
部１２’ｃは角ばっている。本発明でいうペン先基材の
平坦部、角部は本例においては平面部１２ａ、内・外周
縁部＋　２ｂ　、＋　２０が該蟲するので、ここで詳し
く述べると、平坦部とは完全な平面である場合に限られ
ず、まだ、角部も鋭利であって実質的に曲率半径が零で
あると着像される場合に限らない。つまり。The pen nib 11 in FIGS. 1 and 2 often has a central hole i i
, a is an example of a pen nib of a small tube type writing instrument in which a sliding wire is sometimes provided. Although it is often in the shape of a straight pipe, in the case of fine brush protection, the diameter is often appropriately reduced as shown in the tapered small diameter portion 11b shown in the figure. This pen nib 11 consists of a nib base material 12 and an abrasion-resistant coating 16 (see FIG. 2). The pen nib base material 12 has a flat part 12' at the tip.
a, and the inner circumferential edge +2b and outer circumferential edge 12'c of this plane portion 12a are angular. In this example, the flat part and corner part of the pen nib base material in the present invention are the flat part 12a, inner and outer peripheral edges +2b, +20, so to explain in detail here, the flat part is completely different from the flat part. It is not limited to the case where the image is formed on a flat plane, and the corner portions are also sharp and the radius of curvature is substantially zero. In other words.

平坦部も角部も曲率半径を有するものであってよいし、
その為の加工が施されていてもよい訳である。要は、耐
摩耗性皮膜によって、ペン先基材が全く丸みを有さない
場合にはペン先としくＦｉ丸みを有することになり、ま
だペン先基（Ａか丸みを有する場合にペン先としてはよ
り丸み、を有することになり、これによって書き味良好
たり得ることである。ちなみに第２図においてペン先基
材１２の外周縁部１２Ｃに小さいながらも曲率半径を付
与して描いであるのもここで述べたことを示すためであ
る。一方、１制摩耗性皮膜１３はペン先基材１２の平面
６部１２ａ上に形成された厚肉部１３ａとペン先基材１
２の外周縁部１２ｃから更に後方（図面上方）にかけて
形成された薄肉部１３１〕とよりなる。これによって、
ペン先１１としてはペン先基材１２の平面部１２ａに比
べると小面積の平面部ｔ　１　ｃを先端に有するとと如
なり、また、ペン先基材１２の内・外周縁部１２ｂ、１
２ｃに比べると相当する部分に丸みを有するものとなっ
てｂるが、ここに本発明のペン先における耐摩耗性皮膜
の役割が存しているので次に説明する。Both the flat part and the corner part may have a radius of curvature,
It may be processed for that purpose. In short, due to the abrasion-resistant coating, if the nib base material is not rounded at all, it will have a Fi roundness as a pen nib, and if it still has a nib base (A or roundness), it will have a Fi roundness. The pen has a more rounded shape, which improves the writing quality.Incidentally, in Fig. 2, the outer peripheral edge 12C of the nib base 12 is shown with a small radius of curvature. This is also to show what has been stated here.On the other hand, the first wear-resistant coating 13 is formed between the thick part 13a formed on the flat surface 6 part 12a of the nib base material 12 and the nib base material 1.
2. A thin wall portion 131 is formed from the outer peripheral edge 12c of No. 2 to the rear (towards the top of the drawing). by this,
The pen nib 11 has a flat part t 1 c at the tip, which has a smaller area than the flat part 12 a of the nib base material 12 .
Compared to 2c, the corresponding portions are rounded, but this is where the role of the abrasion resistant film in the pen nib of the present invention lies, and will be explained next.

耐摩耗性皮膜の役割は、ペン先の＋Ｉｉ４摩耗性が不址
しているときはペン先に耐摩耗性を伺与するなど前提的
な役割を別にすれば、ペン先の形状をペン先基材の形状
と実際上達えることなく。The role of the abrasion-resistant film is that apart from the prerequisite role of imparting abrasion resistance to the pen tip when the +Ii4 abrasion resistance of the pen tip is not lost, the role of the abrasion-resistant film is to change the shape of the pen tip based on the pen tip. The shape of the material and actually without being able to improve.

丸みを付は加えることにあると言える。即ち。It can be said that adding roundness is all about adding roundness. That is.

丸みを＋Ｊけ加えるという物点では１例えば万年筆のペ
ン先の先端に溶着される所謂ペンポイントも同様の役割
を果すであろうが、そもそもペン先基材はその種類に応
じて最も好ましい形状に少くとも近づけて作られるもの
であり、耐摩耗性皮膜がより良い方向への作用を及ぼす
ことがあっても逆作用を及ぼすことは避けなければなら
ないのである。第２図において、ペン先１１がペン先基
材１２に比べると小面積化しながらも平面部ｊ１ｃを有
することやテーノく一状小径部ｉｉｂ上の耐摩耗性皮膜
１６が薄肉部１３ｂとなっているのもこの理由ゆえのも
のであり。In terms of adding roundness, for example, a so-called pen point that is welded to the tip of a fountain pen nib may play a similar role, but in the first place, the nib base material has the most desirable shape depending on the type. At the very least, they should be made close to each other, and even though the wear-resistant coating may have a positive effect, it must be avoided to have an adverse effect. In FIG. 2, although the pen nib 11 has a smaller area than the nib base material 12, it has a flat part j1c, and the wear-resistant coating 16 on the small diameter part iib of the tooth shape has become a thin part 13b. It is for this reason that it exists.

垂直状態での筆記を意図されるペン先１１であるから、
ペン先基材１２も平面部１２ａを有しまた。耐摩耗性皮
膜１６の薄肉部１５ｂが文字通り薄肉であるから、ペン
先基材１２の本来の形状を維持できているのである。む
しろ耐摩耗性皮膜１３の薄肉部１３ｂは無くてもよいと
言え、それゆえに本発明では１角部には、あるいは、前
記角部にかけては」という表現を取っている。ちなみに
、核部にわける耐摩耗性皮膜は平坦部におけるのと比べ
て１７３以下、より好ましくは１７４以下とするのがよ
く、また、平坦部においても耐摩耗性皮膜は厚すぎる必
要はなく。Since the pen tip 11 is intended for writing in a vertical state,
The pen nib base material 12 also has a flat portion 12a. Since the thin portion 15b of the wear-resistant film 16 is literally thin, the original shape of the nib base material 12 can be maintained. Rather, it can be said that the thin-walled portion 13b of the wear-resistant coating 13 may be omitted, and therefore, in the present invention, the expression "at one corner" or "toward the corner" is used. Incidentally, the wear-resistant film divided into the core part should preferably be 173 or less, more preferably 174 or less, than that in the flat part, and the wear-resistant film does not need to be too thick even in the flat part.

数１０　／ｌｌｎ以下、より好ましくは１〜１０μｍｎ
のオーダーで形成し、この範囲で丸みを十分にできるよ
う、ある程度はペン先基材に丸みイ；」けしておく方が
よい。10/lln or less, more preferably 1 to 10 μmn
It is better to form the nib base material to a certain extent so that it can be sufficiently rounded within this range.

次に第３図乃至第５図のペン先２１について説明する。Next, the pen tip 21 shown in FIGS. 3 to 5 will be explained.

全体形状は例えば万年筆のペン先状とされるペン先２１
のペン先基＋Ａ２２には、前例のペン先基材１２の場合
と同様に理解し易いよう平面状に描かれた平坦部が２つ
形成され′ている。前方平坦部２２ａと斜方平坦部２２
１〕である。そして、耐摩耗性皮膜２３は前方平坦部２
２；１には薄ぐ、斜方平坦部２２１〕には厚く形成され
ている１、従って１本例では両平坦部２２ａ、２２ｂの
臨接部２２ｃが角部に当る１、これは本例のペン先２１
が斜めに維持されての亀ｄＣを５に図されたものである
ことによる。即ち１本１９すを示した理由は、筆記のだ
めのそれぞれの道具や装置のペン先にはそれぞれの用途
に応じ蛇形状がイづ与される訳であるから、１１１例に
おいて述べた諸条件を満足させながらその用途に合致す
る耐摩耗性皮膜被覆物たらしめることか必要であって、
平坦部や角部が複Ｅ！！Ｓるからといってその全てに厚
く、あるいは薄く耐摩耗性皮膜を形成する必要はないこ
とを述べるためである尚、参照符号２４はインキ通路で
あり、ｔた１本ペンのパイプ状チップやパイプスライド
式ンヤープペンンルのスライドパイプなど種々筆記具並
びに自動整図機やプリンターなどの種々装置のペン先を
挙げることができる。The overall shape is, for example, the nib of a fountain pen 21
The pen nib base +A22 has two flat parts drawn in a planar shape for easy understanding, as in the case of the pen nib base material 12 in the previous example. Front flat part 22a and oblique flat part 22
1]. The wear-resistant coating 23 is attached to the front flat portion 2.
2; 1 is formed thinly in 1, and thickly formed in the oblique flat part 221]; therefore, in this example, the adjacent part 22c of both flat parts 22a and 22b hits the corner 1; this is the case in this example. nib 21
This is due to the fact that the tortoise dC is maintained diagonally as shown in Figure 5. In other words, the reason for showing 19 points is that the pen tip of each writing tool or device is given a snake shape depending on its purpose, so the conditions stated in the 111 example are not satisfied. It is necessary to create a wear-resistant coating that satisfies the intended use,
Flat parts and corners are double E! ! This is to state that it is not necessary to form a thick or thin abrasion resistant film on all of the ink passages just because it is used for printing. Examples include various writing instruments such as the slide pipe of the pipe slide type pen, as well as pen nibs for various devices such as automatic drafting machines and printers.

次に本発明のペン先を製造する方法例について述べる１
、 本質的には種々の真空蒸着法において、蒸着卆 させる向き午蒸着源から距離、あるいは蒸着させる範囲
を絞るための窓格子の使用といった如く１条件や冶具な
どについて適宜選定すれば可能ではあるが、とりわけ効
率的と思えるのはノくイアススバッタリング法による場
合である。ノ（イアススバッタリング法は被蒸着物にバ
イアスをかけて電位を与え、これ尾よって蒸着エネルギ
ーを高め、もって良好な皮膜を形成することを目的とす
るスパッタリングの一方法であるが。Next, an example of the method for manufacturing the pen nib of the present invention will be described 1
In essence, in various vacuum evaporation methods, it is possible to change the direction of evaporation, the distance from the evaporation source, or the use of window gratings to narrow down the area to be evaporated, by appropriately selecting conditions and jigs. The method that seems to be particularly efficient is the one based on the Iasu Sbuttering method. (Iasu sputtering method is a sputtering method that applies a bias to the object to be deposited to apply a potential, thereby increasing the deposition energy and thereby forming a good film.

本発明者らは、被蒸着物の曲率半径の小さな部分には電
界密度が犬きぐなることに着目し、イオン化した雰囲気
ガスが核部においてイオンボンバードと同等の作用をな
して皮膜形成を抑えないかと考え実施してみたところ、
実際良好な結果を得たものである。The present inventors focused on the fact that the electric field density is extremely low in parts with a small radius of curvature of the object to be deposited, and found that the ionized atmospheric gas does not act in the same way as ion bombardment at the core, preventing film formation. When I thought about it and tried implementing it,
In fact, good results were obtained.

壕だ、添付第６図は装置例の概念図である。The attached Figure 6 is a conceptual diagram of an example of the device.

参照符号６１がチタン、クロムなどよりなるターゲット
、即ち、必要に応じて槽内に導入されル酸素、　窒素、
アンモニア、メタン、エタン。Reference numeral 61 indicates a target made of titanium, chromium, etc., i.e., oxygen, nitrogen,
Ammonia, methane, ethane.

亜硫酸ガスなどによって酸化物、窒化物、炭化物、硫化
物などの皮膜を形成する母体、Ｆ１６２が皮膜形成され
るペン先基材（サンプル）６６を載置するサンプルホル
ダー、同６４がターゲツト６１背面の磁石、同６５がプ
ラズマ放電を安定化させるコイル、同６６がターゲット
６１とサンプルホルダー６２との間に蒸着を阻害しない
よう配したリング状のアノード。A sample holder on which a pen nib base material (sample) 66 is placed, on which a film of F162 is formed, which is a matrix on which films of oxides, nitrides, carbides, sulfides, etc. are formed by sulfur dioxide gas, etc.; 65 is a magnet, a coil for stabilizing plasma discharge, and 66 is a ring-shaped anode placed between a target 61 and a sample holder 62 so as not to inhibit vapor deposition.

同６７がサンプル加熱ヒーター、同６Ｂ、６．９が電源
であり、電源６８によってアノード６６に対するサンプ
ルホルダー６２．サンプル６３の電位が負になされてい
る。67 is a sample heating heater, 6B, 6.9 is a power source, and a power source 68 is used to connect the sample holder 62 to the anode 66. The potential of the sample 63 is made negative.

以下１本発明のペン先の有する長所の説明を兼ねて実施
の一例を述べる。An example of implementation will be described below, while also explaining the advantages of the pen nib of the present invention.

準備したサンプルは第１図、第２図に示した如きパイプ
状のペン先基材である。平面部直径０．１２Ｗｘ、小径
化されない外径０．３０肱。The prepared sample is a pipe-shaped pen nib base material as shown in FIGS. 1 and 2. Flat part diameter 0.12Wx, outer diameter not reduced to 0.30mm.

中心孔直径０．ｏ９ｍ、長さ７Ｍのステンレス製で、内
周縁部、外周縁部としてアール近似でそれぞれ約６μｍ
、約３２μｍｎ　の曲率半径の角部を有している。つま
り、予め研摩を施したものであるが不十分で、このペン
先基材だけでは小管式筆記具に組立てて紙に鎖記しても
中心孔内に紙屑などを詰め易く、また、ガリガリした感
触で滑らかな書き味を得られない。Center hole diameter 0. Made of stainless steel with a length of 9m and a length of 7M, the inner and outer edges are approximately 6μm each in radius approximation.
, and has a corner portion with a radius of curvature of approximately 32 μmn. In other words, although it has been pre-polished, it is not sufficient, and even if it is assembled into a small tube type writing instrument and chained to paper with this nib base material, it is easy to get paper scraps etc. in the center hole, and it has a scratchy feel. I can't get a smooth writing feel.

しかし、これをサンプルホルダー上に平面部がチタンの
ターゲットに向くよう垂直に載置し。However, this was placed vertically on the sample holder with the flat part facing the titanium target.

アルゴンガスによるイオンボンバード洗浄後。After ion bombardment cleaning with argon gas.

２ アルゴンガス圧力１Ｘ　１０　Ｔｏｒｒ　＋　ザンプル
加熱温度３００　’Ｃ，直流電圧４５０Ｖ、直流電流１
６Ａ、コイル電流１０Ａ（垂直磁界７２Ｇａｕｓｓ　）
　、バイアス電圧−７５Ｖの条件で、平面部における膜
厚が約２μ口１のチタン皮膜を形成後、アルゴンガス圧
力Ｂ　ｘ　１０　Ｔｏｒｒ＋窒素ガス圧力２　Ｘ　１０
　”Ｔ’ｏｒｒ　、直流電圧５００Ｖ。2 Argon gas pressure 1X 10 Torr + sample heating temperature 300'C, DC voltage 450V, DC current 1
6A, coil current 10A (vertical magnetic field 72 Gauss)
After forming a titanium film with a film thickness of approximately 2 μm on the flat surface under conditions of a bias voltage of -75 V, argon gas pressure B x 10 Torr + nitrogen gas pressure 2 x 10
"T'orr, DC voltage 500V.

直流電流１．４　Ａと条件の一部を変えて、同じく約２
μＩｎの窒化チタン皮膜を形成したものはテーパー状小
径部上の膜厚（２層和）が最大で約１　／Ｊｌ１１で、
　また、内周縁部、外周縁部に相当する部分の曲率半径
がそれぞ訃約５４μＩｎ　、約８０μｍｎ　となってお
り、これを小管式筆記具に組立てて筆記したところ１紙
屑など詰まり難く、また、滑らかな筆記感触が得られ、
速度変化が付随する手書き試験においても筆跡の幅変化
はほとんど見られなかった。The DC current was 1.4 A, and with some changes in the conditions, it was also about 2
The maximum film thickness (sum of two layers) on the tapered small diameter part of the μIn titanium nitride film is about 1/Jl11,
In addition, the radius of curvature of the portions corresponding to the inner peripheral edge and the outer peripheral edge are approximately 54 μIn and approximately 80 μm, respectively, and when this was assembled into a small tube type writing instrument and used to write, it was difficult to get clogged with paper scraps. Provides a smooth writing feel,
Even in handwriting tests involving changes in speed, there were almost no changes in handwriting width.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第１図は本発明の一実施例を示す要部縦断面図、第２図
は第１図のＡ１部分の拡大図。 第６図は他の一実施例を示す要部縦断面図。 第４図は同斜視図、第５図は第３図のＡ２部分の拡大図
、第６図はバイアススパッタリング装置の一例を示す概
念図である。 １１．１２・・・・・・ペン先 １２．２２・・・・・・ペン先基材 １２　ａ、２２　ａ、２２　ｂ・・・・・・ペン先基材
の平坦部 １２ｃ、２２ｃ・・・・・ペン先基材の角部１３．２３
・・・・・・耐摩耗性皮膜。 特許出願人　ぺんてる株式会社 第３図 ４ 第４図 第５図 ２ノFIG. 1 is a vertical sectional view of a main part showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of the A1 portion in FIG. 1. FIG. 6 is a vertical cross-sectional view of main parts showing another embodiment. FIG. 4 is a perspective view of the same, FIG. 5 is an enlarged view of a portion A2 in FIG. 3, and FIG. 6 is a conceptual diagram showing an example of a bias sputtering apparatus. 11.12...Nib 12.22...Nib base material 12 a, 22 a, 22 b...Flat portions 12c, 22c of the nib base material... ... Corner part 13.23 of the pen nib base material
・・・・・・Abrasion resistant film. Patent applicant: Pentel Co., Ltd. Figure 3 Figure 4 Figure 4 Figure 5 Figure 2 No.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 真空蒸着法による耐摩耗性皮膜を少くとも筆記当接部に
有してなるペン先において、的記皮膜が形成されるペン
先基材は前記筆記当接部に相当する部分として平坦部と
角部とを有し、また、前記皮膜は前記ペン先基材の前記
平坦部には厚く形成されているとともに前記角部には。 あるいは、前記角部にかけては薄く形成されており、ペ
ン先の筆記当接部としては前記ペン先基材のｒ＋１１記
角部に相当する部分に丸みを有していることを特徴とす
るペン先３．[Scope of Claims] In a pen nib having an abrasion-resistant coating formed by vacuum deposition on at least the writing contact part, the pen nib base material on which the marking film is formed corresponds to the writing contact part. The pen tip base material has a flat part and a corner part, and the coating is thick on the flat part of the nib base material, and is thick on the corner part. Alternatively, the pen nib is formed thinly toward the corner, and has a rounded portion corresponding to the r+11 corner of the nib base material as a writing contact portion of the nib. 3.