JPS60177418A - 垂直磁気記録再生用薄膜ヘツド及びその製造方法 - Google Patents
垂直磁気記録再生用薄膜ヘツド及びその製造方法Info
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- JPS60177418A JPS60177418A JP59033035A JP3303584A JPS60177418A JP S60177418 A JPS60177418 A JP S60177418A JP 59033035 A JP59033035 A JP 59033035A JP 3303584 A JP3303584 A JP 3303584A JP S60177418 A JPS60177418 A JP S60177418A
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- Japan
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- magnetic pole
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は垂直磁気記録再生用ヘッドに係り、特に薄膜形
成方法にて各構成層を設けた垂直磁気記録再生用薄膜ヘ
ッド及びその製造方法に関づる。
成方法にて各構成層を設けた垂直磁気記録再生用薄膜ヘ
ッド及びその製造方法に関づる。
従来技術
例えばリング型の垂直磁気記録再生用ヘッド（以下垂直
型ヘッドという）を従来より用いられている単結晶磁性
材を加工して製造することが考えられるが、主！ｉ極と
補助磁極間の空間部を例えば約２０μと微少間隔に精度
良く加工することがむずかしく、垂直型ヘッドを量産す
ることができない。
型ヘッドという）を従来より用いられている単結晶磁性
材を加工して製造することが考えられるが、主！ｉ極と
補助磁極間の空間部を例えば約２０μと微少間隔に精度
良く加工することがむずかしく、垂直型ヘッドを量産す
ることができない。
また従来、垂直型ヘッドとして、例えば磁性薄膜（例え
ばパーマロイ薄膜）よりなる主磁極部と、例えばフ１エ
ライト祠よりなる補助磁極部とを有し、両磁極部は１０
０μ以下の間隔にて近接対向するようガラスホルダにて
基−板上に支持固定されてあり、補助磁極部の先端付近
には励磁用巻線が１００〜２００ターン巻かれた構成の
ものがあった。
ばパーマロイ薄膜）よりなる主磁極部と、例えばフ１エ
ライト祠よりなる補助磁極部とを有し、両磁極部は１０
０μ以下の間隔にて近接対向するようガラスホルダにて
基−板上に支持固定されてあり、補助磁極部の先端付近
には励磁用巻線が１００〜２００ターン巻かれた構成の
ものがあった。
しかし上記の従来の垂直型ヘッドは、ガラスホルダによ
り両磁極部を支持固定するため、両！ｉ極間を実用に足
る寸法（約２０μ）で位置決めすることが困難であり、
これも量産に向かないという欠点があった。
り両磁極部を支持固定するため、両！ｉ極間を実用に足
る寸法（約２０μ）で位置決めすることが困難であり、
これも量産に向かないという欠点があった。
そこで本発明は、垂直型ヘッドを薄膜形成方法を用いた
薄膜型ヘッドとすることにより、上記欠点を解決した垂
直磁気記録再生用薄膜ヘッド及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
薄膜型ヘッドとすることにより、上記欠点を解決した垂
直磁気記録再生用薄膜ヘッド及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
問題点を解決するだめの手段
本発明は非磁性基板と、基板上に被着された絶縁層と、
略コ字状をなし、その対向する一端部を厚みの大なる補
助磁極部とし他端を厚みの小なる主磁極部とする磁性体
層と、補助磁極部をとりまいて形成されたコイルパター
ンと、主磁極部を上面に形成され主磁極部が補助磁極部
の略中央位置に対向する高さとなるよう主磁極部の高さ
位置を設定する非磁性材層と、磁性材層を被覆する非磁
性材層とよりなり、上記各層は主磁極部と補助磁極部間
の対向部分間に相当する部分に空ｉｉ１部を形成するよ
うにしたものであり、以下図面とともにその一実施例に
ついて説明する。
略コ字状をなし、その対向する一端部を厚みの大なる補
助磁極部とし他端を厚みの小なる主磁極部とする磁性体
層と、補助磁極部をとりまいて形成されたコイルパター
ンと、主磁極部を上面に形成され主磁極部が補助磁極部
の略中央位置に対向する高さとなるよう主磁極部の高さ
位置を設定する非磁性材層と、磁性材層を被覆する非磁
性材層とよりなり、上記各層は主磁極部と補助磁極部間
の対向部分間に相当する部分に空ｉｉ１部を形成するよ
うにしたものであり、以下図面とともにその一実施例に
ついて説明する。
実施例
第１図（Ａ）、（Ｂ）〜第１０図（Ａ）、（Ｂ）と共に
、本発明になる垂直磁気記録再生用Ｗｊ模ヘッド（以下
垂直薄膜ヘッドという）を製造工程順に説明する。第１
図（Ａ）、（Ｂ）中、１は例えば厚さ約０．３μのシリ
コンウェハー等の非磁性基板である。基板１上には例え
ばＳｉ Ｎ４又はＳｉＯ２よりなる絶縁材を被着させ、
これをエツチング等により、略コ字状で対向する一方の
端部に後に主磁極部を上部に設けられる主磁極側の端部
２を有し他方の端部に後に補助磁極部を上部に設けられ
る補助磁極側の端部３を有する絶縁層４を形成する。ま
た、主磁極側の端部２と補助磁極側の端部３の間は、後
に主磁極部と補助磁極部間の対向部分間となる空間部５
を形成され、その幅寸法は後に記録媒体が空間部５に嵌
入し円滑な信号の記録再生ができる幅寸法（例えば２１
μ）に選定されている。
、本発明になる垂直磁気記録再生用Ｗｊ模ヘッド（以下
垂直薄膜ヘッドという）を製造工程順に説明する。第１
図（Ａ）、（Ｂ）中、１は例えば厚さ約０．３μのシリ
コンウェハー等の非磁性基板である。基板１上には例え
ばＳｉ Ｎ４又はＳｉＯ２よりなる絶縁材を被着させ、
これをエツチング等により、略コ字状で対向する一方の
端部に後に主磁極部を上部に設けられる主磁極側の端部
２を有し他方の端部に後に補助磁極部を上部に設けられ
る補助磁極側の端部３を有する絶縁層４を形成する。ま
た、主磁極側の端部２と補助磁極側の端部３の間は、後
に主磁極部と補助磁極部間の対向部分間となる空間部５
を形成され、その幅寸法は後に記録媒体が空間部５に嵌
入し円滑な信号の記録再生ができる幅寸法（例えば２１
μ）に選定されている。
絶縁層４上の屑定位置には、第２図（Ａ）。
（Ｂ）に示す如く、導電材（例えば銅）層を被着さぜ補
助磁極部をとりまいて形成されるコイルパターンの下部
６ａ及びリード電極７をエツチングにより形成する。
助磁極部をとりまいて形成されるコイルパターンの下部
６ａ及びリード電極７をエツチングにより形成する。
次に第３図（Ａ）、（Ｂ）に示す如く、端子８を除いた
略コ字状部分の全面に亘り非磁性材（例えばポリイミド
）を塗布し、エツチングした後例えば２５０℃の温度で
４時間焼成することにより第一の非磁性材層９ａを形成
する。またこのポリイミドエツヂレグ時には非磁性材層
９ａの適宜位置に、フィルパターン下部６ａ及びリード
電極７とを接続しコイルパターンが後に形成挿通される
孔１０を形成する。
略コ字状部分の全面に亘り非磁性材（例えばポリイミド
）を塗布し、エツチングした後例えば２５０℃の温度で
４時間焼成することにより第一の非磁性材層９ａを形成
する。またこのポリイミドエツヂレグ時には非磁性材層
９ａの適宜位置に、フィルパターン下部６ａ及びリード
電極７とを接続しコイルパターンが後に形成挿通される
孔１０を形成する。
主磁極側の端部２の非磁性材層９ａ上に第４図（Ａ＞、
（Ｂ）に示づ−如く、主磁極部が上面に形成され、その
高さが補助磁極部の略中央位置で対向するよう高さ寸法
を選定される（例えば１μ）第二の非磁性材層９ｂを形
成する。非磁性材層９ａ、９ｂ上には例えばセンダスト
（商標）をスパッタ蒸着させることにより第５図（Ａ）
、（Ｂ）に示す如く、その補助磁極側の端部が第一層目
の補助磁極部１１ａどなり、主磁極側の端部１２が非磁
性材層９ｂの側端部を被覆して第一の磁性体層１３ａと
なるよう例えば０．２μで略コ字状に磁性体層を形成す
る。この際、補助磁極部１１ａの幅間法は、名札１０を
被覆しないように選定される。
（Ｂ）に示づ−如く、主磁極部が上面に形成され、その
高さが補助磁極部の略中央位置で対向するよう高さ寸法
を選定される（例えば１μ）第二の非磁性材層９ｂを形
成する。非磁性材層９ａ、９ｂ上には例えばセンダスト
（商標）をスパッタ蒸着させることにより第５図（Ａ）
、（Ｂ）に示す如く、その補助磁極側の端部が第一層目
の補助磁極部１１ａどなり、主磁極側の端部１２が非磁
性材層９ｂの側端部を被覆して第一の磁性体層１３ａと
なるよう例えば０．２μで略コ字状に磁性体層を形成す
る。この際、補助磁極部１１ａの幅間法は、名札１０を
被覆しないように選定される。
更に、第６図（Ａ）、（Ｂ）に示す如く、補助磁極側の
端部が第二層目の補助磁極部１１ｂとなり、主磁極側の
端部が非磁性材層９ｂ上に例えば厚さ５００人１幅寸法
２５μで主１１極部１４を形成し、宜つ磁ｔｉｔ体層１
３ａを被覆Ｊるように第二の磁性体層１３ｂを形成する
。また補助磁極部１１１）上には第７図（Ａ）、（Ｂ）
に示Ｊ−如く、第三層目の補助磁極部となる第三の磁性
体層１３０をリフトオフ法により例えば０．２μの厚さ
で形成する。
端部が第二層目の補助磁極部１１ｂとなり、主磁極側の
端部が非磁性材層９ｂ上に例えば厚さ５００人１幅寸法
２５μで主１１極部１４を形成し、宜つ磁ｔｉｔ体層１
３ａを被覆Ｊるように第二の磁性体層１３ｂを形成する
。また補助磁極部１１１）上には第７図（Ａ）、（Ｂ）
に示Ｊ−如く、第三層目の補助磁極部となる第三の磁性
体層１３０をリフトオフ法により例えば０．２μの厚さ
で形成する。
次に第８図（Ａ＞、（Ｂ）に示す如く、端子８゜名札１
０及びコイルパターンの形成に支障とならない部分を除
いて略コ字状部分の全面に亘り非磁性材を塗布しエツチ
ングした後、例えば２５０℃の温度で４時間焼成し、第
三の非磁性材層９Ｃを形成り“る。また第９図（Δ）、
（Ｂ）に示す如く補助磁極部１１をとりまくように導電
体（例えば銅）によりコイルパターン上部６ｂを設け、
コイルパターン上部６ｂを名札１０を介してコイルパタ
ーン下部６ａ及びリード電極７に接続し、連続したコイ
ルパターン６を形成し、その両端部を端子８より取出す
。
０及びコイルパターンの形成に支障とならない部分を除
いて略コ字状部分の全面に亘り非磁性材を塗布しエツチ
ングした後、例えば２５０℃の温度で４時間焼成し、第
三の非磁性材層９Ｃを形成り“る。また第９図（Δ）、
（Ｂ）に示す如く補助磁極部１１をとりまくように導電
体（例えば銅）によりコイルパターン上部６ｂを設け、
コイルパターン上部６ｂを名札１０を介してコイルパタ
ーン下部６ａ及びリード電極７に接続し、連続したコイ
ルパターン６を形成し、その両端部を端子８より取出す
。
次に基板１を除いて略コ字状部分の全面に亘ってレジス
トコーティングを行った後、基板１に異方性メサエッチ
ングを行い、両磁極１１．１４間の空間部５及び略コ字
状部分で囲１尭された空間部１５の形成を行う。
トコーティングを行った後、基板１に異方性メサエッチ
ングを行い、両磁極１１．１４間の空間部５及び略コ字
状部分で囲１尭された空間部１５の形成を行う。
シリコンウェハー等の基板１上には、上記した工程によ
り多数の垂直薄膜ヘッドを１６を形成し、これにダイシ
ングを行い次にブレーキングを行うことにより第１０図
に示す個々の垂直薄膜ヘッド１６が得られる。
り多数の垂直薄膜ヘッドを１６を形成し、これにダイシ
ングを行い次にブレーキングを行うことにより第１０図
に示す個々の垂直薄膜ヘッド１６が得られる。
なお、上記した実施例においては基板１の材質としてシ
リコンを用いたがこれに限るものではなく、空間部５の
挾寸法を実現できる他の非磁性材を用いても良い。
リコンを用いたがこれに限るものではなく、空間部５の
挾寸法を実現できる他の非磁性材を用いても良い。
効果
上述の如く、本発明になる垂直磁気記録再生用簿膜ヘッ
ド及びその製造方法によれば、主磁極部と補助磁極部間
の対向部分間に相当する空間部をエツチング等の薄膜形
成方法により形成されるので、容易に実用に足る微小寸
法の空間部を正確に“形成することができ、更に垂直磁
気記録再生用薄膜ヘッドをウェハー上に多数個同時に製
造するので、量産ができる等の特長を有する。
ド及びその製造方法によれば、主磁極部と補助磁極部間
の対向部分間に相当する空間部をエツチング等の薄膜形
成方法により形成されるので、容易に実用に足る微小寸
法の空間部を正確に“形成することができ、更に垂直磁
気記録再生用薄膜ヘッドをウェハー上に多数個同時に製
造するので、量産ができる等の特長を有する。
第１図〜第１０図は、本発明になる垂直磁気記録再生用
薄膜ヘッドの一実施例を製造工程順に示した平面図及び
縦断面図である。 １・・・基板、４・・・絶縁層、５・・・空間部、６，
６８゜６ｂ・・・コイルパターン、７・・・リード電極
、８・・・端子、９，９ａ 、９ｂ 、９Ｃ−・・非磁
性材層、１０−・・孔、１１ 、１１ ａ 、 １ ｌ
ｂ ・・・補助磁極部、１３゜１３ａ、１３ｂ、１３
ｃ・・・磁性体層、１４−・・主磁極部、１６・・・垂
直薄膜ヘッド。 第１図 第３図 第２図 第４図 第６図 第９図 第１０図
薄膜ヘッドの一実施例を製造工程順に示した平面図及び
縦断面図である。 １・・・基板、４・・・絶縁層、５・・・空間部、６，
６８゜６ｂ・・・コイルパターン、７・・・リード電極
、８・・・端子、９，９ａ 、９ｂ 、９Ｃ−・・非磁
性材層、１０−・・孔、１１ 、１１ ａ 、 １ ｌ
ｂ ・・・補助磁極部、１３゜１３ａ、１３ｂ、１３
ｃ・・・磁性体層、１４−・・主磁極部、１６・・・垂
直薄膜ヘッド。 第１図 第３図 第２図 第４図 第６図 第９図 第１０図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、非磁性基板と、該基板上に被着された絶縁層と、略
コ字状をなし、その対向する一端部を厚みの大なる補助
磁極部とｂ（ｌ！！端を厚みの小なる主磁極部とする磁
性体層と、該補助磁極部をとりまいて形成されたコイル
パターンと、該主磁極部を上面に形成され該主磁極部が
該補助磁極部の略中央位置に対向する高さとなるよう該
主磁極部の高さ位置を設定する非磁性材層と、該磁性材
層を被覆する非磁性材層とよりなり、上記各層は該主磁
極部と該補助磁極部間の対向部分間に相当する部分に空
間部を形成されてなる垂直磁気記録再生用薄膜ヘッド。 ２、非磁性基板上に絶縁層を設け、該絶縁層上にコイル
下部を形成し、該コイル下部及び該絶縁層を被覆して第
一の非磁性体層を設け、該第−の非磁性体層の所定位置
に孔を形成し、主磁極部が上面に形成され該主磁極部が
該補助磁極部の略中央位置に対向する高さとなるよう該
主磁極部の高さ位置を設定する第二の非磁性体層を設け
、該第−の非磁性体層及び第二の非磁性体層上に略コ字
状をなす第一の磁性体層を形成し、該第−の磁性体層の
上面に該主磁極部を形成する第二の磁性体層を設け、更
に該補助磁極部側の磁性体層上に第三の磁性体層を設け
、該第二及び第三の磁性体層を被覆して第三の非磁性体
層を設４Ｊ、コイル上部を形成し、該コイル下部と該コ
イル上部を該孔（スルーホール）を介して接続させて該
補助磁極部をとりまいたコイルパターンを形成し、該非
磁性基板の所定位置に空間部を形成し、個々のヘッドに
画成する工程よりなり、上記各層が該主磁極部と該補助
磁極部間の対向部分間に相当する部分に空間部を形成す
る垂直磁気記録再生用薄膜ヘッドの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59033035A JPS60177418A (ja) | 1984-02-23 | 1984-02-23 | 垂直磁気記録再生用薄膜ヘツド及びその製造方法 |
| US06/703,682 US4729050A (en) | 1984-02-23 | 1985-02-20 | Thin-film vertical magnetization transducer head |
| GB08504622A GB2156140B (en) | 1984-02-23 | 1985-02-22 | Thin-film vertical magnetization transducer head and a method for fabricating same |
| DE19853506364 DE3506364A1 (de) | 1984-02-23 | 1985-02-22 | Duennschicht-uebertragerkopf mit vertikaler magnetisierung und verfahren zu seiner herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59033035A JPS60177418A (ja) | 1984-02-23 | 1984-02-23 | 垂直磁気記録再生用薄膜ヘツド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60177418A true JPS60177418A (ja) | 1985-09-11 |
Family
ID=12375533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59033035A Pending JPS60177418A (ja) | 1984-02-23 | 1984-02-23 | 垂直磁気記録再生用薄膜ヘツド及びその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4729050A (ja) |
| JP (1) | JPS60177418A (ja) |
| DE (1) | DE3506364A1 (ja) |
| GB (1) | GB2156140B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5712747A (en) * | 1996-01-24 | 1998-01-27 | International Business Machines Corporation | Thin film slider with on-board multi-layer integrated circuit |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5068959A (en) * | 1988-07-11 | 1991-12-03 | Digital Equipment Corporation | Method of manufacturing a thin film head |
| US5375023A (en) * | 1992-12-29 | 1994-12-20 | International Business Machines Corporation | Submicron thin film inductive head with self-aligned staggered pole-tips |
| DE10210326B4 (de) * | 2002-03-08 | 2019-02-21 | Asm Automation Sensorik Messtechnik Gmbh | Magnetisieren von magnetischen Meßkörpern |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4321641A (en) * | 1977-09-02 | 1982-03-23 | Magnex Corporation | Thin film magnetic recording heads |
| US4195323A (en) * | 1977-09-02 | 1980-03-25 | Magnex Corporation | Thin film magnetic recording heads |
| US4219855A (en) * | 1978-12-21 | 1980-08-26 | International Business Machines Corporation | Thin film magnetic head |
| US4353102A (en) * | 1979-07-04 | 1982-10-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin-film magnetic head |
| US4295173A (en) * | 1979-10-18 | 1981-10-13 | International Business Machines Corporation | Thin film inductive transducer |
| US4317148A (en) * | 1980-01-24 | 1982-02-23 | Sperry Corporation | Transducer for perpendicular magnetic recording |
| JPS573210A (en) * | 1980-06-03 | 1982-01-08 | Ricoh Co Ltd | Vertical magnetic head |
| US4423451A (en) * | 1981-08-10 | 1983-12-27 | Sperry Corporation | Thin film magnetic head having disparate poles for pulse asymmetry compensation |
| JPS5877017A (ja) * | 1981-10-28 | 1983-05-10 | Sharp Corp | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS59104717A (ja) * | 1982-12-08 | 1984-06-16 | Comput Basic Mach Technol Res Assoc | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 |
-
1984
- 1984-02-23 JP JP59033035A patent/JPS60177418A/ja active Pending
-
1985
- 1985-02-20 US US06/703,682 patent/US4729050A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-02-22 GB GB08504622A patent/GB2156140B/en not_active Expired
- 1985-02-22 DE DE19853506364 patent/DE3506364A1/de active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5712747A (en) * | 1996-01-24 | 1998-01-27 | International Business Machines Corporation | Thin film slider with on-board multi-layer integrated circuit |
| US5771571A (en) * | 1996-01-24 | 1998-06-30 | International Business Machines Corporation | Method for manufacturing thin film slider with on-board multi-layer integrated circuit |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3506364A1 (de) | 1985-08-29 |
| GB8504622D0 (en) | 1985-03-27 |
| GB2156140B (en) | 1987-10-14 |
| US4729050A (en) | 1988-03-01 |
| DE3506364C2 (ja) | 1987-01-22 |
| GB2156140A (en) | 1985-10-02 |
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