JPS60169588A - 亜鉛用または亜鉛合金用酸性電着浴 - Google Patents

亜鉛用または亜鉛合金用酸性電着浴

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JPS60169588A
JPS60169588A JP60001969A JP196985A JPS60169588A JP S60169588 A JPS60169588 A JP S60169588A JP 60001969 A JP60001969 A JP 60001969A JP 196985 A JP196985 A JP 196985A JP S60169588 A JPS60169588 A JP S60169588A
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/22Electroplating: Baths therefor from solutions of zinc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/565Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (離業上の利用分野) この発明は広義には、鉄や屑のような鉄系素地を包きす
る各種の導電性素地上に耐食性で、及び/又は装飾的な
亜鉛もしくは亜鉛合金めっきを析出さぜるたりの酸性亜
鉛改良めっき浴及び酸性亜鉛合金改良めっき浴並び九こ
れらの浴を用いる方法に関する。
(従来技術) 硫酸塩型並びに塩化物型の公知の酸性亜鉛及び酸性亜鉛
合金めっき水性浴は、徂鉛又は亜鉛合金めっき膜に侵れ
た特性を与えると同時に浴の緩衝剤としても寄与するホ
ウ酸を必須成分として含むのが普通である。典型的な酸
性亜鉛及び酸性亜鉛合金めっき浴は少なくとも約25り
/lのホウ酸。
さらに典型的には約35 P/lのホウ酸を含んでいる
。かかる亜鉛及び亜鉛合金めっき浴の工業的操9pHは
約4〜乙の範囲であって、操業中に亜鉛イオン濃度を補
充するために可溶外亜鉛アノードを用いるのが普通であ
る。4F鉛合金めっき浴では、ニッケル及び/又はコバ
ルトのような合金化金属はかかる合金化金属の浴可溶性
・相溶性塩として浴中に添加することによって補給する
のが11に通である。
従来から、かかる酸性亜鉛及び酸性亜鉛合金めっき水性
浴に伴なう欠点は、不溶性のポリホウ酸塩化合物が亜鉛
アノード上に皮膜を形成すると同時に、めっき浴中に沈
殿することである。かかる好ましくない不溶性のポリホ
ウ酸塩化合物の形成は、数週間以上に亘って浴が放置さ
れて、かつ浴温か低下しているときに、ホウ酸濃度が高
いtよど増加する。
かかるポリホウ酸塩化合物は約3〜7分子のホク赦塩を
含んでいて極め−C不溶性なので、亜鉛アノード表面に
ポリホウ酸塩化合物の皮膜が蓄積してくると、浴の4電
性を著しく低下させると共に可溶性の亜鉛アノードの溶
出が減少するので頻繁[,1lJj鉛アノードを取り出
して表面を研摩又はひつJ蚤いて、満足な工業iM転が
できるようにアノードを再生してやる必要がある。亜鉛
アノードを頻繁に/R浄化することは時間の浪費であっ
て高価につき操作もめんどうなので、かかる1性亜鉛め
っき浴中の一成分としてのホウ酸を用いない方法が提契
されてさた。しかし力から、ホウ酸を完全に排除すると
、商業的に許容できるような亜鉛又は亜鉛合金めっき膜
を生成せしめつる電流密度範囲が著しく狭する。ホウ酸
を用いない酸性亜鉛又は亜鉛合金めっき溶液が広く採用
されるに至らない原因はここVこあった。
上記の問題は本発明による改良された酸性亜鉛及び亜鉛
合金めっき水性浴を用いることによって克服できる。こ
れによればポリヒドロキシ添加剤の一定制ipa雪を浴
中に添加することによって浴不溶性ポリホウ酸塩化合物
の形成を実質的に阻止し、又は画期的に減少させて浴及
び亜鉛アノードの可使寿命を著しく延長させるものであ
シ、この際使用するめつき浴は比較的低濃度のホウ酸で
も操業が可能であって、同時に広範な電流密度に亘って
装飾的光沢と延性のある14F鉛及び亜鉛合金めっきを
生成させる。
(発明の要約) 本発明の組成に関する提案による利益と有利性とは、亜
鉛を電着さぜるのに効果的な濃度のIIF鉛イオンと、
亜鉛−コバルト合金、亜鉛−ニッケル合金又は亜鉛−コ
バルト−ニッケル合金めっきIIメの場合VCは、さら
に有効量のコバルト及び/又はニッケルイオンと、ホウ
酸として計算して通常Cよ約2517を以下であって少
々くとも約2.5117tのホウ酸もしくけ浴可溶性・
相溶性ホウ酸塩と1 )In常は約10!/を以下の一
次光沢剤と、一般には約10y/を以下の濃度の二次も
しくは補助光沢剤と、浴のpHを約1〜約6.5になし
うる量の水素イオンと、次の一般式 %式% で示される化合物並びにこれらの周期表IA及び11A
族、亜鉛及びアンモニウムの塩並びにと11らの混合物
から成る群から選択された少なくとも3個の水酸基と少
なくとも4個の炭素原子を脣する浴可溶性・相溶性のポ
リヒドロキシ化合物添加剤とを含踊する塩化物型又は硫
酸置屋酸性めっき水溶孜ヲ用いることりこよって達成す
ることができる。
このポリヒドロキシ添加剤は通常、浴中のホウ酸及び他
の成分の一度とのかね合いで約3〜30P/lの一度で
使用する。
この発・ツ」の方法に関する提案によれば、iii記酸
性亜鉛又は亜鉛合金めっき水溶液を用いて浴感約60°
〜180”F(1/)6〜82℃)、電流密度約1〜6
00ASF (0,1〜32A/l)m )(D条件下
テ操業することにより導114.住素地上に光沢性で延
性があり、かつ密着性の良い亜鉛又は亜鉛合金めっき膜
が生J攻さtl、る。陪の操作条件はそのとき使用した
めつき浴のタイプ及び組成に応じて上記範囲内で変動う
る。
(好ましい実4態15J/) 本丸間の組成に関する提案による非ンアン化酸件朋鏑め
つき水性浴又は徂鉛合金めっき水性浴中vrcはl屯X
’lを重着はぜるの(屹イエ効な濃度の伸釦イオンでち
って約5 y/lないL居進和ジ4血範囲の亜鉛イオン
、% Waが約100°F(38℃)及びそれ以上テ4
jるLす7合に(ri約3001/lの亜鉛イオンを含
んでいる。纏化ナトl)ラム型、塩化カリウム型又は塩
化アンモニウム型のt波性塩化物溶液中では亜鉛イオン
濃度&;i通常は約7〜501/lの範囲以内に制御す
る。酸性硫酸LA倭めつきイ′6液中では、一般に椎鉛
イオン濃度は約30〜110ノ/lの範囲以内に制御す
る。しだがって、浴のそのときの組成と温度に応じて亜
鉛イオンは約5 y/lないし飽和濃度範囲、好まL〈
は約51’/l〜11oy/lの広い範囲で使用される
亜鉛合金めつき喚を所望する場合には、この酸性・水性
めっき浴中にはさらに有効量の合金化金属成分であって
ニッケル、コバルト及びこれらの混合物から成る群から
選択された合金化金属が所望の合金組成のめつき膜が得
られるような濃度において含有される。亜鉛−コバルト
合金めっき膜が所望されるときは、合金めっき膜中には
一般に約0.05〜5重量%のコバルトを含んでいる。
残部は擢鉛である。亜鉛−ニッケル合金めっき膜が所望
されるときは、合金めつきJ膜中には約0.05〜20
重量%のニッケルを含み、残部が亜鉛から成るのが普通
である。前記の濃度以内でニッケルとコバルトを含んだ
亜鉛−二ノケル−コバルト3元合金めつき膜を得ること
ができるが、ニッケル対コバルトの比率は所望の物性が
JOられるように変えることができる。
亜鉛−ニッケル合金用に適した酸性めっき水溶液は浴可
溶性・相溶性の形で導入された約1ないし約60 jl
/lのニッケルイオンを含んでいる。亜鉛−コバルト合
金用に好適なめつき浴中には浴可溶性・水溶性の形で6
人された約1ないし約4017tのコバルトイオンを含
んでいる。塩化物型酸性めっき浴中では、コバルトイオ
ン濃度は約2〜15y/l■α囲以内に制御することが
好ましく、かかる塩化物置酸性めっき溶液中のニッケル
濃度は約5〜25 fl/L 範囲以内に制御すること
が好−ましい。塩化物型酸性浴では、ニッケル及び/又
はコバルトイオンは塩化物として加え、硫酸塩型酸性浴
中には対応する硫酸塩を使うのが普通である。
ニッケル及び/又はコバルトイオンの操業中における補
充はこれらの金属の適当な塩を研加して所望4度範囲に
維持されるようにする。
塩化物型酸性めっき浴は溶液の4電性全増加さするため
に中性の不活性塩を含むのが普通であシ、通常は約20
〜450 P/lの量で用いられる。この中性の塩類は
マグネシウム及びアルカリ金属の塩化物であるのが普通
であって、アルカリ金属とはナトリウム、カリウム及び
リチウム並びに広義にはアンモニウムが包含される。典
型的には導電性塩として塩化ナトリウム又は塩化カリウ
ムが用いられる。
このめっき浴の他の必須成分はホウ酸並びにホウ酸の浴
可溶性Φ相溶性塩類であって、少なくとも約2.5り/
lないし飽和濃度、好ましくは約25P/を以下で使用
される。約25 P/を以上のホク敏m夏でも唾鉛めつ
き膜に対しては有害でばないが、ポリホウ酸亜鉛が形成
するので好ましくない。ポリヒドロキシ添加剤が存在し
ていてもホウ酸濃度が高いときにはポリホウ・酸塩が形
成される傾向があるので、ホウ酸一度は最高で約15 
P/l 、好ましくは約10 y/を以下の水準に維持
することが好ましい。ホウ酸が約30〜A Op/lの
量で用いられる従来の通常浴に比べてホウ酸成分濃度が
低いにもかかわらず、本発明の方法では高霜流密度領域
でさえも光沢性で延性があシ、密着性の良い亜鉛又は亜
鉛合金めっき膜を与え、かつ広い範囲の電流密度に亘っ
てこの浴の使用を可能にする。
この亜鉛及び亜鉛合金めっき浴は、さらにpHを約1〜
6.5にするような量の水素イオンを含んでいる。塩化
物型酸性浴ではpHを約4.5〜6.2に、硫酸塩型酸
性浴では浴のpHが約3.5〜5.2になるような量の
水素イオンを存在はせるのが好捷しい。
従来技術では非シアン化酸性唾鉛又は酸性亜鉛合金めっ
き水性浴は、例えば米国特許第4,170,526号、
同第4,207.15fJ号、同第4.17(S、01
7号及び同第4,070,256号公報に開示されてい
るような周知の一次1沢剤又は−次光沢剤混合物を含有
している。本発鴫の実施に際L7て特に有用な一次光沢
剤は米国特許W4,252,619号公報の第1表に記
載さ!したものが包含される。この−次ブム沢剤は約o
、o o i〜10t/l、好寸しくけ約0.01〜5
 P/lの濃度で使用する。
任意成分ではあるがこのめっき浴中には補助光沢剤もし
くは二次光沢剤を含むことが好ましく、この光沢剤は塩
化物型酸性浴及び非シアン化硫酸塩型酸性浴中に通常使
用される型のものでよい。
補助光沢剤濃度は約i o pit以下、好ましくは約
0.2〜51/lである。塩化物型酸性浴中で満足に用
いられる二次光沢剤の代表的なものとしてはポリエーテ
ル、芳香族カルボン酸及びその塩、ニコチネート四級化
合物、脂肪族アルデヒド、芳香族アルデヒドもしくはク
トンその他である。硫酸塩型酸性浴に対して満足に使用
されうる代表的な二次光沢剤のなかにはポリアクリルア
ミド、チオウレア、ニコチネート四級化合物又はその他
が包含される。かかる補助光沢剤が使用きれるときには
一次光沢剤と併用して2種もしくは3種以上の混合物の
形で用いるのが普通である。
以上の浴成分に加えて、本発明のめつき浴には低濃度の
ホウ酸の存在下に一定制御量のポリヒドロキシ化合物添
加剤をさらに含有させて、不溶性のポリホウ酸塩から成
る沈殿の生成を大幅に減少させて、所望の物性をもつ亜
鉛もしくは亜鉛合金めつきj摸が伶られるようにする。
該ポリヒドロキシ添加剤は次の一般式 で示さiする化合物並びにこれらの周期表IA及び11
A族、亜鉛及びアンモニウムの塩並ひにこれらの混合物
から成る群から選択された少なくとも3個の水酸基と少
なくとも4個の炭素原子を有する浴可溶性・相溶性の化
合物から成っている。
使用するポリヒドロキシ添加剤の濃度は浴中のホウ酸及
び他の浴成分の濃度を勘案して決定するが、一般的には
約6〜30F/l、好ましくは約5〜15 P/lの範
囲である。”、0171以上の濃度であっても工業的に
なんらの支障もないが、かかる高b’A 1隻1d商業
的採算の見地からみて重重しくない。
この添加剤の使用濃度はそのときに使用した化合物もし
くけ化合物の混合物が有する分子量、そのとき用いた化
合物が有する官能基の鍾類によって若干は変動する。
本発明の方法に関する提案によれば、この酸性亜鉛水性
浴もしくは腋性能鉛合金水性浴は亜鉛。
亜鉛−ニッケル合金、亜鉛−コバルト合金又は亜鉛−ニ
ッケルーコバルト合金を電着させるのに用い、浴温は室
6情ないし約120°F(49℃)、好ましくけ約65
〜90°F’(18〜32℃)である。カソード+h流
密度はそのときの採用技術、被めっき物品の形状、その
ときの浴組成及び浴中の活性成分濃度Vこもよるがl’
g 1〜300ASF (0,1〜32 A/Dm2)
の範囲で操作する。
(実施例) 本釦弓の非シアン化酸性亜鉛もしくは亜鉛合金めっき改
良心をさらに説明するために次に実施例を述べるが、こ
ILらの実施例は単に説明の目的のものであって、こ几
まで記載し、かつ特許請求の範囲に示した本光り」がこ
几らによって制約されるものではない。
実施例1 約55グ/lの塩化亜鉛、150f/lの塩化ナトリラ
ム、7.517tのホウ酸、7.51/lのトリメチロ
ールプロパンから成るポリヒドロキシ添加剤、2,51
1/lの担体光沢剤としての安息香酸ナトリウム、担体
光沢剤としての2.4,7.9−テトラメチル−5−デ
シン−4,フーシオールエトキシレート及ヒ非イオン性
ポリエーテル系湿潤剤から成る4、81/lの[5ur
fynol 485 J (商品名)、補助光沢剤とし
ての60 try/Lのブチルニコチネートジメチルサ
ルフェート四級化合物、及び浴のpHを約5に調節する
のに十分な里の塩化水素酸を含む塩化物型酸性亜鉛めっ
き浴を調製した。
清浄化した鋼製裸テストパネルを亜気かくはん下で浴温
約75°F(24℃)、電流密度的3OASF(3,2
A/Dm2)において10分ないし30分間、浴中でめ
っきした。生成テストパネルを肉視したところ、密着性
で完全光沢で、平滑な装飾亜鉛めっき膜がその上に析出
しているのが観察された。
実施例2 45 f/lの塩化亜鉛、200 P/lの塩化カリウ
ム、7.5jl/lのホウ酸、10P/lのポリヒドロ
キシ添加剤としてのペンタエリスリトール、ポリエーテ
ル系担体光沢剤としての10 P/lのエトキシβ−ナ
フトール、補助光沢剤としての17η/lのブチルニコ
チネートメチルトシレート(tosylate)四級化
合物、第二補助光沢剤としての48mg/lのベンザル
アセトン及びpH約5.4に調整するだめの塩化水素酸
を含む塩化物型酸性亜鉛めっき水性浴を調製した。
清浄な鋼製様テストパネルを実施例1と同様に臣気かく
はん下、浴温約75°F(24℃)、平均電流密度的4
5 ASF (4,8A/Dm2)において該浴中でめ
っきした。実施例1と全く同様に、このテストパネル上
には完全光沢で平滑な装飾唾鉛めつき膜が生成していた
実施例3 56り/lの塩化亜鉛、135P/lの塩化アンモニウ
ム、7.5P/lのホウ酸、7.591/lのトリメチ
ロールプロパン、10 P/lの「5urfynol 
485 J(商品名)、及び1.2y/lの安息香酸ナ
トリウムによって、塩化アンモニウムとホウ酸とが低濃
度であることを特徴とする塩化物型酸性亜鉛めっき水性
浴を調製した。浴のpHを約5に調整して、実施例1に
記載したと同様にして、カソード電流密度的1〜40A
SF(0,1〜4.3A/Dm)にてめっきを行なった
ところ、半光沢性で平滑な優れためつき膜が低電流密度
領域において生成した。
実施例4 859’/lの塩化亜鉛、125ノ/lの塩化ナトリウ
ム、1011/lのホウ酸、0.5P/lの安息香酸ナ
トリウム、4.8P/lの「5urfynoi 485
J (商標名)、20mg/lのブチルニコチネートジ
メチルザルフェート四級化合物、50y/lのベンザル
アセトン及びポリヒドロキシ添加剤としての109/l
のソルビトールを含む塩化物型酸性亜鉛めっき水性浴(
r−調製した。
該浴を用い浴温70°F(21℃)、 カソード電流密
度2 OASF (2,I A/Dm2)において10
分間、ハルセルテストハネルをめっきした。このハルセ
ルパネルには電流密度3〜40 ASF (0,3〜4
.3A/D+n )を示す全領域に亘って光沢推鉛めっ
き膜が生成しているのが観察された。
実施例5 709/lの塩化亜鉛、48f/lの塩化ニッケル・ろ
水和物、125ノ/lの塩化ナトリウム、159/lの
ホウo、1oy/lのンルビトー#、3 j’/lの安
息θ酸ナトリウム、49/lの酢酸ナトリウム、5yi
tの[5urynol 485J (商品名)、0.2
1/lのアルキルナフタレンスルホネー)、0.05P
/lのベンジリデンアセトン及びpHを約5にしうる量
の水素イオンを含む酸性亜鉛−ニッケル合金めっき水性
浴を調製した。
前記めっき浴を亜鉛アノードを用いて浴温85’F (
30℃)に調整して回転バレル中で平均電流密度的1.
3 A/Dm2において鋼製部品をめっきした。
該部品には約0.3%ニッケルを含む亜鉛−ニッケル合
金から成る光沢性めっき膜が析出していた。
実施例6 351/lの塩化亜鉛、40り/lの塩化コバルト・6
水和物、20 P/lの塩化ニッケル、20り/lのホ
ウ酸、1.5P/lのトリメチロールプロパン、120
グ/lの塩化ナトリウム、2.69’/lのサルチル酸
ナトリウム、41/lのr 5urfynol A 8
5J (商品名)、1y/Zのポリオキシエチレン(1
\4、W。
2000)、8m9/lのブチルニコチネートジメチル
サルフェート四級化合物、52mg/lのペンジリデン
ア嗜ヒドン、o、6y/lのアルキルナフタレンスルホ
ネート オンを含む酸性服鉛ーコバルトーニッケル合金めっき水
性浴を調製した。浴部を約76°F(25’C)に調整
して,平均カソード…流密度約7 ASF (0,7A
/Dm2)に赴いて部品を回転バレル中でめっきした。
肉視により瑛査したところノを天性合金めつき模が析出
していたが、分析の結果、コバルト0.7%、ニッケル
0.6%、残部は実質的にIJE鉛から成っていた。
実施例7 1 1 0 51/lの塩化1亜鉛、A O P/l 
(D塩化コバルト−6水和物、130P/lの塩化ナト
リウム、10P/lのホウ酸,16P/lのペンタエリ
スリトール、1、6jE/lの安息香酸、4,51/l
のr Surfynol 485 J(藺品名)、5 
0 1!g/lの4−フ二二ルー4ースルホブタンー2
ーオン、6 0 vg/lの4−フェニル−3−ブテン
−2−オン、1 0 tng/lのブチルニコチネート
メチルトシレート四級化合物及びpHを約5、2になし
つる愈の水素イオン盆含む酸性亜鉛−コバルト合金めっ
き水性浴を調製した。
浴温を75°F(24’C)に調整して重患かくはんを
行なった。平均力ンード電流密度約2 、 2 A/D
m2において作業ラック上に部品を引っ掛けてめっきを
行なった。該部品を肉視したところ完全光沢性のめつき
膜が生成し、分析の結果では0.6重量%のコバルトと
残部が実質的に亜鉛から成るめっき・屑であった。
実〃也例8 1 0 0 P/lの硫酸徂鉛・1水和物、75り/l
の値1駿ニッケル・6水和物、15P/lの硫酸アンモ
ニウム、1 5 y/Lのホウ酸、7,5y/Lのトリ
メチロールプロパン,1.5P/Zのポリアクリルアミ
ド( M,W, 1 5,0 0 0 1、0.3p/
Zのチオウレア及びpH4.2になしうる量の水素イオ
ンを用いて酸性亜鉛−ニッケル合金めっき水性浴を調製
した。
浴温85°F(30℃〕に調整し、流動かく(はんを行
なって渦流を与えた。
平均カソード電流密度約2 6A/Dm2にはいて導管
部品をめっきj−たところ、半光沢亜鉛−ニッケル合金
めっきが析出し、ニッケル分は約2.5%、残部は亜鉛
であることが判明した。
実施例9 2 0 0 f/lの硫酸亜鉛・1水和物、2 0 9
/lの硫酸アンモニウム、1 0 y/Lのホウ酸、1
 0 7/lのトリメチロールプロパン、0.05)’
/lのポリアクリルアミド( M.W, 1,0 0 
0,0 0 0 )、0.15!/lのアリルチオウレ
ア及び約4のpHを与える量の水素イオンを含有する硫
酸塩型酸性即鉛めつき水性浴全調製した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1) 酸性めっき水溶液であって、亜鉛市′着に有効
    な量の亜鉛イオンと、並びに亜鉛−コバルト合金、亜鉛
    −ニッケル合金及び亜鉛−コバルトーニッケル合金電着
    に有効な鰭の任意成分としてのコバルト及び/又はニッ
    ケルイオンと、ホウ酸として計算して少々くとも2.5
    9!の量で含有されるホウ酸及び浴可溶性・相溶性ホウ
    酸塩と、浴のpHを酸性狽11になしつるのに十分な址
    で含有される水素イオンと、次の一般式 %式%) で示される化合物並びにこれらの周期表IA及びnA族
    、亜鉛及びアンモニウムの塩並びにこれらの混合物から
    成る群から選択された少なくとも3個の水酸基と少なく
    とも4個の炭素原子を有する浴可溶性・相溶性のポリヒ
    ドロギシ化合物添加剤とを含有する酸性めっき水溶液。 f2+ 該ポリヒドロキシ添加剤が少なくとも3P/l
    の量で含有されること全特徴とする特許、請求の範囲第
    1項に記、載の酸性めっき溶液。 (3)該ポリヒドロキシ添加剤が少なくとも309/を
    以下の量で含有されることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項に記載の酸性めっき溶液。 (4)該ポリヒドロキシ添加剤が少なくとも5〜15y
    tの量で含有されることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項に記載の敵性めっき溶液。 (5)該亜鉛イオンが51!/lないし飽和濃度の範囲
    において含有されることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項に記載の酸性めっき溶液。 (6)該亜鉛イオンが5〜11Qy/l の範囲におい
    て含有されることを特徴とする特許請求の範囲第1項に
    記載の酸性めっき溶液。 (ハ 該ホウ酸及びその塩が25〃l以下の量で含有さ
    れることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の酸
    性めつき溶液。 (8)該ホウ酸及びその塩が15り/を以下の量で含有
    されること孕%敏とする特許請求の範囲第1項VLbL
    載の酸性めっき溶!夜。 (9)該ホウ酸及びその塩が10ノ/を以下の量で含有
    されることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
    1寂住めつき溶液。 (10)該水素イオンが浴のpHを1〜6.5 になし
    うるよ′)な梠で含有されることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項Q’C記載の酸性めっき溶液。 (H)d性めっき溶液が塩化物)iめっき溶液であって
    、か−)該水素イオンが浴のpHを4.5〜6.2とな
    しつるような量で含有されることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項に記載の酸性めっき溶液。 (12)酸性めっき溶液が硫酸塩型めっき溶液であって
    、かつ該水素イオンが浴のpHを3.5〜5.2となし
    うるような量で含有されることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項に記載の酸性めっき溶液。 (13〕さらにo、oot 〜1ay/l tvrxノ
    ー次光沢剤y>z含有されることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項に記載の酸性めっき溶液。 (14)さらに0.01〜5 P/lの一瞼の一次元沢
    剤が含有されることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    に記載の酸性めっき溶液。 (15)さらに10り/を以下の少なくとも1種の補助
    光沢剤が含有されることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項に記載の酸性めっき溶液。 (16)さらに0.2〜5 jl/lの少なくとも1種
    の補助光沢剤が含有されることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項に記載の酸性めっき溶液。 (17)さらに4501’/を以下の浴可溶性・相溶性
    導電性塩が含有されることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項に記載の酸性めっき溶液。 (18)該コバルトイオンが1〜40り/lの量で含有
    されることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
    酸性めっき溶液。 (19)該ニッケルイオンが1〜609/lの量で含有
    されることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
    酸性めっき溶液。 (20〕亜鉛並びにコバルト及び/又はニッケル含有亜
    鉛合金の電着方法であって、亜鉛電着に有効な量の亜鉛
    イオンと、並びに唾鉛−コバルト合金、叱鉛−ニッケル
    合金及び亜鉛−コバルト−ニッケル合金電着に有効な量
    の任意成分としてのコバルト及び/又はニッケルイオン
    と、ホウ酸として計算して少なくとも2.5ノの量で含
    有されるホウ酸及び浴可溶性・相溶性ホウ酸塩と、浴の
    pH全酸性il+11になしつるのに十分な量で含有さ
    れる水素イオンと、次の一般式 で示される化合物並びにこれらの周期表IA及び11A
    族、亜鉛及びアンモニウムの塩並びにこれらの混合物か
    ら成る群から選択された少なくとも3個の水酸基と少な
    くとも4個の炭素原子を有する浴可溶性・相溶性のポリ
    ヒドロキシ化合物添加剤とを含有する酸性めっき水溶液
    を用いて所望のめつき膜厚が得られる時間帯に亘ってめ
    っきを行なって素地上に亜鉛並びにコバルト及び/又は
    ニッケル含有亜鉛合金才電着させる方法。
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