JPS6015939A - 異物検査装置 - Google Patents
異物検査装置Info
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- JPS6015939A JPS6015939A JP12321783A JP12321783A JPS6015939A JP S6015939 A JPS6015939 A JP S6015939A JP 12321783 A JP12321783 A JP 12321783A JP 12321783 A JP12321783 A JP 12321783A JP S6015939 A JPS6015939 A JP S6015939A
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は物体表面上に存在する微小異物を検査する装置
に関し、特に半導体ウェー八表面の異物を検査してその
低減を図るための異物検査装置に関するものである。
に関し、特に半導体ウェー八表面の異物を検査してその
低減を図るための異物検査装置に関するものである。
半導体装置の製造工程で半導体ウェーハの表面に異物が
付着すると、該付着部位のパターンが欠落されて不良と
なり、半導体装置の歩留りを低下させる。このため、ウ
ェーハ上の異物を例えば光学的手法によってその異物の
個数を検出する装置が考えられる。しかしながら、この
ような装置では、異物の個数を検出するだけであり、本
来の異物検査を行なう目的である異物の発生原因を追求
し、異物の低減ないし防止することが容易にできなかっ
た。このため、異物の個数を検出するだけでは不十分で
あると本発明者は考えた。また、単に異物検査装置に顕
微鏡を応用し１異物を拡大して肉眼で観察する装置を付
設することを考えた。
付着すると、該付着部位のパターンが欠落されて不良と
なり、半導体装置の歩留りを低下させる。このため、ウ
ェーハ上の異物を例えば光学的手法によってその異物の
個数を検出する装置が考えられる。しかしながら、この
ような装置では、異物の個数を検出するだけであり、本
来の異物検査を行なう目的である異物の発生原因を追求
し、異物の低減ないし防止することが容易にできなかっ
た。このため、異物の個数を検出するだけでは不十分で
あると本発明者は考えた。また、単に異物検査装置に顕
微鏡を応用し１異物を拡大して肉眼で観察する装置を付
設することを考えた。
しかし、観察者自身が異物がどこに存在するかな、肉眼
で探す必要があるため、検査に用する時間が非常にかか
り、また観察者の疲労の度合し・も太きかった。
で探す必要があるため、検査に用する時間が非常にかか
り、また観察者の疲労の度合し・も太きかった。
本発明の目的は異物の数、分布はもとより異物材質や形
状を容易にしかも高能率で検査することができ、これに
より異物発生原因の検討および異物発生の防止を達成す
ることのできる異物検査装置を提供することにある。
状を容易にしかも高能率で検査することができ、これに
より異物発生原因の検討および異物発生の防止を達成す
ることのできる異物検査装置を提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、異物検出光学系、試料駆動系、異物検出回路
等を備える検査装置に、観察光学系を前記異物検査光学
系を一体的に設けると共Ｋ、異物検出回路には異物座標
記憶部を設け、この記憶部により試料駆動系を作動制御
し得るよう構成することにより、異物の数、分布を先に
検出した上で、観察光学系に対する各異物の位置決めを
適格に行ない、これにより異物の全体把握を高能率に行
なうことができるものである。
等を備える検査装置に、観察光学系を前記異物検査光学
系を一体的に設けると共Ｋ、異物検出回路には異物座標
記憶部を設け、この記憶部により試料駆動系を作動制御
し得るよう構成することにより、異物の数、分布を先に
検出した上で、観察光学系に対する各異物の位置決めを
適格に行ない、これにより異物の全体把握を高能率に行
なうことができるものである。
図は本発明の一実施例の全体構成図であり、被検査試料
としての半導体ウェーハ１は試料駆動系２によってＸ方
向、θ方向に移動可能なステージ３上に載置されている
。試料駆動系２は、前記ステージ３を直接水平方向に回
動させるθ方向送りモータ４と、このθ方向送りモータ
４を搭載したＸテーブル５を移動させるＸ方向送りモー
タ６とで構成し、各モータ４．６には夫々エンコーダ７
．８を付設している。
としての半導体ウェーハ１は試料駆動系２によってＸ方
向、θ方向に移動可能なステージ３上に載置されている
。試料駆動系２は、前記ステージ３を直接水平方向に回
動させるθ方向送りモータ４と、このθ方向送りモータ
４を搭載したＸテーブル５を移動させるＸ方向送りモー
タ６とで構成し、各モータ４．６には夫々エンコーダ７
．８を付設している。
前記ステージ３の直上位置には、異物検出光学系９を固
定的に配設し、かつこれには観察光学系１０を一体に設
け℃いる。前記異物検出光学系９は、偏光板１１、対物
レンズ１２、リレーレンズ１３、ハーフミラ−１４，１
５％レンズ１６およびアパーチャ１７を光軸上に配列し
てなり、ウェーハ１表面からの反射偏光を検出して最上
位置に設けた光電変換器１８に結像させ、これを電気信
号として検出する。なお、１９はウェーハ１表面 ′を
照明する平行光線発生用の異物照明系である。
定的に配設し、かつこれには観察光学系１０を一体に設
け℃いる。前記異物検出光学系９は、偏光板１１、対物
レンズ１２、リレーレンズ１３、ハーフミラ−１４，１
５％レンズ１６およびアパーチャ１７を光軸上に配列し
てなり、ウェーハ１表面からの反射偏光を検出して最上
位置に設けた光電変換器１８に結像させ、これを電気信
号として検出する。なお、１９はウェーハ１表面 ′を
照明する平行光線発生用の異物照明系である。
一方、観察光学系１０は前記ハーフミラ−１４に対向し
て設けた照明ランプ２０およびレンズ２１と、ハーフミ
ラ−１５に対向して設けたミラー２２′および接眼レン
ズ２３とを有しており、ウェーハ１表面を高倍率で肉眼
観察することができる。
て設けた照明ランプ２０およびレンズ２１と、ハーフミ
ラ−１５に対向して設けたミラー２２′および接眼レン
ズ２３とを有しており、ウェーハ１表面を高倍率で肉眼
観察することができる。
そして、前記光電変換器１８を異物検出回路２４に接続
する一方、前記試料駆動系２の各モータ４゜６（各エン
コーダ７、ｉ）も異物検出回路２４に接続している。こ
の異物検出回路２４は内部に座標記憶部２５を有すると
共に、外部には異物分布図作成器２６等を接続して℃・
る。
する一方、前記試料駆動系２の各モータ４゜６（各エン
コーダ７、ｉ）も異物検出回路２４に接続している。こ
の異物検出回路２４は内部に座標記憶部２５を有すると
共に、外部には異物分布図作成器２６等を接続して℃・
る。
以上の４トり成によれば、異物照明系１９にてつ工−ハ
１表面を照明した上でθ方向送りモータ４゜Ｘ方向送り
モータ６を作動すれば、ステージ３はθ方向、Ｘ方向に
徐々に移動され、これによりウェーハ１は異物検出光学
系９に対してその表面を渦巻状に相対走査される。異物
照明系１９はウェーハ１表面に対して所要の角度の平行
光で照明を行なうため、ウェーハ表面に異物が存在する
ときには異物による乱反射光が発生し、これが偏光板１
１を通して対物レンズ１２に入射され、更にリレーレン
ズ１３、ハーフミラ−１４，１５を通ってレンズ１６に
より光電変換器１８上に結像される。この結果、異物の
存在は光電変換器１８の出力によって異物検出回路２４
において検出できる。
１表面を照明した上でθ方向送りモータ４゜Ｘ方向送り
モータ６を作動すれば、ステージ３はθ方向、Ｘ方向に
徐々に移動され、これによりウェーハ１は異物検出光学
系９に対してその表面を渦巻状に相対走査される。異物
照明系１９はウェーハ１表面に対して所要の角度の平行
光で照明を行なうため、ウェーハ表面に異物が存在する
ときには異物による乱反射光が発生し、これが偏光板１
１を通して対物レンズ１２に入射され、更にリレーレン
ズ１３、ハーフミラ−１４，１５を通ってレンズ１６に
より光電変換器１８上に結像される。この結果、異物の
存在は光電変換器１８の出力によって異物検出回路２４
において検出できる。
そして、このとき、θ方向送りモータ４．Ｘ方向送りモ
ータ６からの座標信号によって異物の極座標も検出でき
、これによりウェーハ上の異物の座標および数を検出で
きる。これらの異物の分布は異物分布図作成器２６によ
って作図される。
ータ６からの座標信号によって異物の極座標も検出でき
、これによりウェーハ上の異物の座標および数を検出で
きる。これらの異物の分布は異物分布図作成器２６によ
って作図される。
一方、異物の座標および数は、同時に座標記憶部２５に
記憶される。そして、ウェーハ１全面の走査が完了した
後にこの記憶部２５から記憶座標を一つずつ引き出しこ
れに基づいて試料駆動系２を作動させれば、駆動系２は
異物が異物検出光学系９０対物レンズ１２、換言すれば
観、整光学系１００光軸に対応するようにウェーハ１の
位置を改めて設定する。したがって、この状態で照明ラ
ンプ２０を点灯すればランプ光はレンズ２１、ハーフミ
ラ−１４、リレーレンズ１３、対物レンズ１２および偏
光板１１を通してウェーハ表面を部分的に照明し、その
反射光は逆のコースを通り、ハーフミラ−１５、ミラー
２２にて反射された後に接眼レンズ２３にて肉眼観察可
能な状態とされる。
記憶される。そして、ウェーハ１全面の走査が完了した
後にこの記憶部２５から記憶座標を一つずつ引き出しこ
れに基づいて試料駆動系２を作動させれば、駆動系２は
異物が異物検出光学系９０対物レンズ１２、換言すれば
観、整光学系１００光軸に対応するようにウェーハ１の
位置を改めて設定する。したがって、この状態で照明ラ
ンプ２０を点灯すればランプ光はレンズ２１、ハーフミ
ラ−１４、リレーレンズ１３、対物レンズ１２および偏
光板１１を通してウェーハ表面を部分的に照明し、その
反射光は逆のコースを通り、ハーフミラ−１５、ミラー
２２にて反射された後に接眼レンズ２３にて肉眼観察可
能な状態とされる。
これにより、作業者は異物の形状、材質等を肉眼で観察
することができる。一つの異物の観察の完了後は次の記
憶座標を引き出せば、試料駆動系２は再び作動して次の
異物が光学系に対応するようにウェーハ１を自動位置設
定する。これにより、観察者によるウェーハ移動は全く
不要となり、従来のような異物を探す作業は不要になる
。
することができる。一つの異物の観察の完了後は次の記
憶座標を引き出せば、試料駆動系２は再び作動して次の
異物が光学系に対応するようにウェーハ１を自動位置設
定する。これにより、観察者によるウェーハ移動は全く
不要となり、従来のような異物を探す作業は不要になる
。
（１）異物検出光学系と一体的に観察光学系を設ける一
方、異物検出回路に座標記憶部を設けているので、異物
の数やその分布を検出できるのはもとより、記憶された
異物の座標に基づいて容易かつ迅速に異物の観察な行な
うことができ異物の形状、材質を高能率に検査すること
ができる。
方、異物検出回路に座標記憶部を設けているので、異物
の数やその分布を検出できるのはもとより、記憶された
異物の座標に基づいて容易かつ迅速に異物の観察な行な
うことができ異物の形状、材質を高能率に検査すること
ができる。
（２）異物の観察は検出された異物の座標を記憶しこれ
に基づ〜・て行なっているのでｎ、整光学系によるウェ
ーハの全面走査を不要にして異物を迅速にかつ洩らすこ
となく観察でき、これにより効率の向−ヒと共に観察光
学系の倍率を更に高めることができ、形状、材質等の検
査を行ない易くできる。
に基づ〜・て行なっているのでｎ、整光学系によるウェ
ーハの全面走査を不要にして異物を迅速にかつ洩らすこ
となく観察でき、これにより効率の向−ヒと共に観察光
学系の倍率を更に高めることができ、形状、材質等の検
査を行ない易くできる。
（３）異物の数、分布のみならず異物の形状、材質をも
合わせて検査できるので、異物の発生原因を正確に検討
できかつ異物の発生予防に対処することができる。
合わせて検査できるので、異物の発生原因を正確に検討
できかつ異物の発生予防に対処することができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが１本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、異物検出光学
系や観察光学系の具体的構成は他の構成であってもよく
、また、試料駆動系はＸ、Ｙ方向にステージを移動させ
る構成であってもよく、或は光学系を試料に対して移動
させてもよい。
具体的に説明したが１本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、異物検出光学
系や観察光学系の具体的構成は他の構成であってもよく
、また、試料駆動系はＸ、Ｙ方向にステージを移動させ
る構成であってもよく、或は光学系を試料に対して移動
させてもよい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である半導体ウェーハの異
物検出に適用した場合について説明したが、それに限定
されるものではなく、ホトマスク或はその他の写真技術
等に適用できる。
をその背景となった利用分野である半導体ウェーハの異
物検出に適用した場合について説明したが、それに限定
されるものではなく、ホトマスク或はその他の写真技術
等に適用できる。
図は本発明の異物検出装置の全体構成図である。
１・・・試料（ウェーハ）、２・・・試料駆動系、３ス
テージ、４・・・θ方向送りモータ、６・・・Ｘ方向送
りモータ、９・・・異物検出光学系、１０・・・観察光
学系、１８・・・光電変換器、１９・・・異物照明系、
２４・・・異物検出回路、２５・・・座標記憶部。 ′−゛、 代理人 弁理士 高 橋 明 夫 。 ξ
テージ、４・・・θ方向送りモータ、６・・・Ｘ方向送
りモータ、９・・・異物検出光学系、１０・・・観察光
学系、１８・・・光電変換器、１９・・・異物照明系、
２４・・・異物検出回路、２５・・・座標記憶部。 ′−゛、 代理人 弁理士 高 橋 明 夫 。 ξ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、試料の表面上に存在する異物を検出する異物検出光
学系と、試料を前記異物検出光学系に対して相対移動し
て走査を行なう試料駆動系と、前記異物検出光学系およ
び試料枢動系からの信号に基づいて異物の数や分布を検
出する異物検出回路とを備え、前記異物検出光学系には
観察光学系を一体的に設ける一方、前記異物検出回路に
は座標記憶部を設け、この座標記憶部により前記試料駆
動系を作動制御し得るよう構成したことを特徴とする異
物検査装置。 ２ 座標記憶部は検出された異物の座標を記憶し。 この記憶に基づいて試料ｇ動系により異物を観察光学系
に対応位置設定し得るよう構成してなる特許請求の範囲
第１項記載の異物検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12321783A JPS6015939A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | 異物検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12321783A JPS6015939A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | 異物検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6015939A true JPS6015939A (ja) | 1985-01-26 |
| JPH0441497B2 JPH0441497B2 (ja) | 1992-07-08 |
Family
ID=14855094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12321783A Granted JPS6015939A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | 異物検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6015939A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6211148A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-20 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 異物検査装置 |
| JPS6211140A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-20 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 異物検査装置 |
| JPS6275336A (ja) * | 1985-09-30 | 1987-04-07 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 異物検査装置 |
| JPS6276732A (ja) * | 1985-09-30 | 1987-04-08 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 異物検査装置 |
| JPH0326944A (ja) * | 1989-06-26 | 1991-02-05 | Ulvac Japan Ltd | 基板上の異物検査装置 |
| US5814828A (en) * | 1994-10-07 | 1998-09-29 | Kabushiki Kaisha Topcon | Apparatus for defining the location of a foreign object on a rotary body in terms of a coordinate system |
| WO2007141857A1 (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-13 | Olympus Corporation | 外観検査装置 |
| TWI408361B (zh) * | 2004-12-10 | 2013-09-11 | Olympus Corp | 外觀檢查裝置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54101390A (en) * | 1978-01-27 | 1979-08-09 | Hitachi Ltd | Foreign matter inspector |
| JPS54102837A (en) * | 1978-01-28 | 1979-08-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Pattern check system |
-
1983
- 1983-07-08 JP JP12321783A patent/JPS6015939A/ja active Granted
Patent Citations (2)
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| JPS54101390A (en) * | 1978-01-27 | 1979-08-09 | Hitachi Ltd | Foreign matter inspector |
| JPS54102837A (en) * | 1978-01-28 | 1979-08-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Pattern check system |
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| TWI408361B (zh) * | 2004-12-10 | 2013-09-11 | Olympus Corp | 外觀檢查裝置 |
| WO2007141857A1 (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-13 | Olympus Corporation | 外観検査装置 |
| JPWO2007141857A1 (ja) * | 2006-06-08 | 2009-10-15 | オリンパス株式会社 | 外観検査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0441497B2 (ja) | 1992-07-08 |
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