JPS60159184A - Anode for electrolyzing water - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To obtain an anode for electrolyzing water having low oxygen overvoltage and durability by depositing a noble metal such as Re, Rh or Ir on a layer and particles of Ni, Co or Ag. CONSTITUTION:A metallic layer 2 of one or more among Ni, Co and Ag is formed on a core 1 for an electrode so that particles 3 of one or more among Ni, Co and Ag are prtially exposed. Re or one or more noble metals 4 among Re, Rh and Ir are deposited on the surface of the layer 2 of the resulting porous substrate. This anode has low oxygen overvoltage and durability.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は水の電解方法、＃に低酸素過電圧で、耐久性の
大きな陽極を用いる水の電解方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a water electrolysis method using a highly durable anode with low oxygen overvoltage.

水素は、最近のエネルギー事情を反映し石油に代る新し
いエネルギー源として多方面から注目されている。そし
て、水素の工業的製造方法としては大別して水電解法と
コークスや石油の刀ス化法が挙げられる。前者の方法は
、原料として入手し易い水が用いられる反面、多数の電
解設備が必要なこと、電流の過不足に対する適応性が不
充分であること、電解液の炭酸化による劣化や床面積、
設＠費などに多くの問題が残されている。他方、後者の
方法は一般に操作が煩雑であると共に設備もかなり大型
なものが要求され、設備費がかなりかかるなどの問題が
ある。Reflecting the recent energy situation, hydrogen is attracting attention from many quarters as a new energy source to replace oil. Industrial methods for producing hydrogen can be roughly divided into water electrolysis methods and methods for converting coke or petroleum into carbon dioxide. Although the former method uses readily available water as a raw material, it requires a large number of electrolytic equipment, is insufficiently adaptable to excess or insufficient current, and suffers from deterioration due to carbonation of the electrolyte and floor space.
Many problems remain, including in terms of setup costs. On the other hand, the latter method is generally complicated to operate, requires fairly large equipment, and has problems such as considerable equipment costs.

上記の問題を解決する手段として、陽イオン交換膜を用
い電解槽で水を電解し、水素を製造する方法が最近提案
されている。As a means to solve the above problems, a method has recently been proposed in which water is electrolyzed in an electrolytic cell using a cation exchange membrane to produce hydrogen.

いわゆるイオン交換膜電解は食塩電解に適用されている
ことは周知の通りであるが、陽イオン交換膜で仕切られ
た陽極室に苛性カリ等のアルカリ水溶液を供給し、陰極
室には水又は稀薄アルカリ水溶液を供給して電解を行な
う水電解の方法とは陽極室条件が食塩電解の場合と大き
く異なり、特にかようなアルカリ性条件下での実用性あ
る陽極としてはニッケルが考えられている。It is well known that so-called ion exchange membrane electrolysis is applied to salt electrolysis, but an aqueous alkaline solution such as caustic potash is supplied to an anode chamber separated by a cation exchange membrane, and water or dilute alkali is supplied to a cathode chamber. Water electrolysis, in which electrolysis is carried out by supplying an aqueous solution, requires anode chamber conditions that are significantly different from salt electrolysis, and nickel is considered to be a practical anode, especially under such alkaline conditions.

一方、従来食塩電解等に用いられる白金、パラジウム、
ルテニウム等の貴金属、これらの合金あるいは、これら
の酸化物を主体とする陽極はコストが高いという点のみ
ならず、下記のような問題点を有するものであり、水電
解用陽極としては実用に供しえないものである。On the other hand, platinum, palladium, which is conventionally used in salt electrolysis, etc.
Anodes made mainly of noble metals such as ruthenium, alloys of these metals, or oxides of these metals are not only expensive, but also have the following problems, making them unsuitable for practical use as anodes for water electrolysis. It is impossible.

即ち、ルテニウムやパラジウムはアルカリによってしだ
いに溶解するため耐久性に劣るものである。That is, ruthenium and palladium are inferior in durability because they gradually dissolve in alkali.

本発明者等は、上述の問題点を解決するために鋭意検討
を加えた結果、低電圧で水を電解することのできる新規
な陽極を提供するもので、本発明は、ニッケル、コバル
ト、銀から選ばれた金属を含む粒子を、その一部が表面
に露出するように含んだニッケル、コバルト、銀から選
らばれた少なくとも一種の金属カー、ｆ２なる層を電極
芯体上に設けた多孔性電極基体の該層の表面にレニウム
もしくはレニウムとロジウム、イリジウム等の貴金属の
少なくとも一種が付着されてなる水電解用陽極を要旨と
するものである。The present inventors have made extensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, they have provided a new anode that can electrolyze water at low voltage. A porous structure in which a layer of at least one metal selected from nickel, cobalt, and silver, f2, containing particles containing a metal selected from nickel, cobalt, and silver, with a part thereof exposed on the surface, is provided on the electrode core. The gist of the present invention is an anode for water electrolysis in which rhenium or at least one of rhenium and a noble metal such as rhodium or iridium is attached to the surface of the layer of the electrode base.

本発明の陽極を水電解に使用する場合の対極としての陰
極は特に限定されることは必要でなく、従来の食塩電解
の際に用いられた陰極例えば、鉄、ステンレス等をエツ
チング処理した陰極等が使用可能である。勿論、本発明
で用いる陽極を陰極として用いることも可能である。When the anode of the present invention is used for water electrolysis, the cathode as a counter electrode is not particularly limited, and may be a cathode used in conventional salt electrolysis, such as a cathode etched with iron, stainless steel, etc. is available. Of course, it is also possible to use the anode used in the present invention as a cathode.

また、本発明の陽極を水電解に使用する場合の隔膜とし
ては、公知の含フツ素系陽イオン交換膜が使用されうる
が、なかでも、イオン交換基としてカルボン酸基を有す
るパーフルオロフッ化カーボン膜（例えば特開昭５１−
１４０８９θ号。In addition, when the anode of the present invention is used for water electrolysis, a known fluorine-containing cation exchange membrane may be used as the diaphragm. Among them, perfluorinated cation exchange membranes having carboxylic acid groups as ion exchange groups Carbon film (for example, JP-A-51-
No. 14089θ.

特開昭５２−　４８５ｆｌｅ号に開示されるもの）が耐
久性、低電解電圧の観点から特に好ましい。The one disclosed in JP-A No. 52-485fle) is particularly preferred from the viewpoint of durability and low electrolytic voltage.

次に、本発明の陽極について説明する。本発明の陽極は
、ニッケル、コノヘルド、銀から選ばれた金属を含む粒
子を、その一部が表面に露出するように含んだニッケル
、コバルト、銀から選ばれた少なくとも一種の金属から
なる層を電極芯体上に設けた多孔性電極基体の該層の表
面にレニウムもしくはレニウムとロジウム、イリジウム
等の貴金属の少なくとも一種（以下、該金属という）が
付着されてなるものであって。Next, the anode of the present invention will be explained. The anode of the present invention has a layer made of at least one metal selected from nickel, cobalt, and silver containing particles containing a metal selected from nickel, cobalt, and silver, with a part of the particles exposed on the surface. Rhenium or rhenium and at least one noble metal such as rhodium or iridium (hereinafter referred to as the metal) is attached to the surface of the layer of the porous electrode base provided on the electrode core.

該多孔性電極基体の表面には多数の粒子が付着しており
巨視的にみると該多孔性電極基体の表面は微多孔性にな
っており、該金属は該層上。A large number of particles are attached to the surface of the porous electrode base, and macroscopically, the surface of the porous electrode base is microporous, and the metal is on the layer.

詳しくは、該層から突出している粒子の表面及び／又は
該粒子を電極芯体上に固着するために使用されるニッケ
ル、コバルト、ａ等の金属層上に付着されている。Specifically, it is deposited on the surface of the particles protruding from the layer and/or on the metal layer of nickel, cobalt, a, etc. used to fix the particles onto the electrode core.

かくして上記陽極はニッケル、コバルト、銀を含む粒子
が多孔性電極基体の表面に多数存在し、且つ前述した通
り、該表面が微多孔性になっているため、それだけ電極
活性面が大きくなり、これらの相乗効果によって、効果
的に酸素過電圧の低減を計ることがでぐる。Thus, in the above-mentioned anode, many particles containing nickel, cobalt, and silver exist on the surface of the porous electrode substrate, and as mentioned above, since the surface is microporous, the active surface of the electrode becomes larger, and these particles The synergistic effect of these makes it possible to effectively reduce oxygen overvoltage.

また１本発明における特徴は、突出粒子を表面に有する
電極基体上に該金属を付着させることにあり、該金属は
特に突出粒子に付着しやすく、微量の該金属でも電極表
面上に均一に分散して付着され、突出粒子の活性と相ま
って相乗的に過電圧を低下しうるちのである。Another feature of the present invention is that the metal is attached to the electrode base having protruding particles on the surface, and the metal is particularly easy to adhere to the protruding particles, and even a small amount of the metal is uniformly dispersed on the electrode surface. In combination with the activity of the protruding particles, the overvoltage can be reduced synergistically.

レニウムは原子価が１〜７と大きく変り得る元素であり
、酸化されても純金属と同等の電気伝導性を示し、耐被
毒性にすぐれていることから酸素発生反応に高い活性を
示す。このようにレニウムのみを付着させても酸素発生
反応に高い活性を示すが、合金化をはかるなど貴金属と
組み合せて使用することによりさらに活性の向上、すな
わち過電圧を低下しうる。またこれにより耐食性の向上
がはかれる。Rhenium is an element whose valence can vary greatly from 1 to 7, and even when oxidized, it exhibits electrical conductivity equivalent to that of pure metals, and has excellent toxicity resistance, so it exhibits high activity in oxygen generation reactions. Although rhenium alone exhibits high activity in the oxygen evolution reaction, by alloying or using it in combination with noble metals, the activity can be further improved, that is, the overvoltage can be reduced. This also improves corrosion resistance.

これらの貴金属として好ましいものは、ロジウム、イリ
ジウム等公知の貴金属である。Preferred as these noble metals are known noble metals such as rhodium and iridium.

突出金属粒子を表面上に有する電極基体上に付着させる
該金属の量としては電極基体の見かけ表面積１ｄｒｎ’
当り、貴金属元素に換算して　１〜５００ｍｇ、好まし
くは５〜２００膳ｇと極微量で充分である。この量的割
合は、１＋＊ｇ以下では過電圧低下への相乗効果に寄与
が少なく、また、　５００ｍｇより多くても、前述の相
乗効果がそれ以上見られないことによる。The amount of metal deposited on the electrode base having protruding metal particles on the surface is determined by the apparent surface area of the electrode base 1drn'
A very small amount of 1 to 500 mg, preferably 5 to 200 mg, is sufficient in terms of noble metal elements. This quantitative ratio is because if it is less than 1+*g, there is little contribution to the synergistic effect on reducing the overvoltage, and if it is more than 500 mg, the above-mentioned synergistic effect is not observed any more.

さらに１粒子は上記金属から成る層によって、電極表面
に強固に付着しているので、劣化しに＜＜、」−記低酸
素過電圧の持続性を飛躍的に延ばすことができる。Furthermore, since each particle is firmly attached to the electrode surface by the layer made of the above-mentioned metal, the durability of the low oxygen overvoltage can be dramatically extended without deterioration.

さらに、上記した効果により、電極の初期性能も向上す
る。Furthermore, the above-mentioned effects also improve the initial performance of the electrode.

また、電極芯体はその材質として任意の適当な導電性金
属例えばＴＩ　、Ｚｒ、Ｆｅ、Ｎｆ。The material of the electrode core may be any suitable conductive metal, such as TI, Zr, Fe, or Nf.

Ｖ　、　Ｍ　ｏ　、　Ｃｕ　、　Ａ　ｇ　、　Ｍ　ｎ　
、白金族金属、黒鉛、Ｃｒから選らばれた金属又はこれ
らの金属から選らばれた合金が採用し得る。この内Ｆｅ
、Ｆｅ合金（Ｆｅ−Ｎ１合金、Ｆｅ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−
Ｎｉ−Ｃｒ合金など）、Ｎｉ。V, Mo, Cu, Ag, Mn
, platinum group metals, graphite, Cr, or alloys of these metals. Of these, Fe
, Fe alloy (Fe-N1 alloy, Fe-Cr alloy, Fe-
Ni-Cr alloy, etc.), Ni.

Ｎｉ合金（Ｎｉ−Ｃｕ合金、Ｎ１−Ｃｒ合金など）、Ｃ
ｕ、Ｃｕ合金などを採用することが好ましい。Ni alloy (Ni-Cu alloy, N1-Cr alloy, etc.), C
It is preferable to use u, Cu alloy, etc.

特に好ましい電極芯体の材質はＦｅ、Ｃｕ。Particularly preferable materials for the electrode core are Fe and Cu.

Ｎｌ、Ｆｅ−Ｎ１合金、Ｆｅ−Ｎ１−Ｃｒ合金である。These are Nl, Fe-N1 alloy, and Fe-N1-Cr alloy.

電極芯体の構造は、使用する電極の構造に合わせて任窟
適宜な形状寸法にすることができる。その形状は例えば
板状、多孔状、網状（例えばエクスパンドメタルなど）
、すだれ状等が採用でき、これらを平板状、曲板状、筒
状にしてもよい。The structure of the electrode core can be made into any suitable shape and size depending on the structure of the electrode used. Its shape is, for example, plate-like, porous, or net-like (e.g. expanded metal)
, a blind shape, etc. can be adopted, and these may be made into a flat plate shape, a curved plate shape, or a cylindrical shape.

ニッケル、コへル）、Ｉ！ｉがら選ばれた金属を含む粒
子としては、かかる金属単独、かかる金属を主体とする
金属、合金の粒子、又はこれら金属、合金の表面層を有
する複合体から成る粒子が採用される。Nickel, Kohel), I! As the particles containing the metal selected from i, particles consisting of such a metal alone, particles of a metal or alloy mainly composed of such metal, or particles of a composite having a surface layer of these metals or alloys are employed.

又上記金属を主体とする金属、合金を採用する場合、上
記金属以外の成分としては、その含有量にもよるが、酸
素過電圧の低下に過度に悪影響を及ぼさない金属が採用
でき、例えばＡＭ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｎ、Ｓｌ、Ｓｂ等が
採用できる。粒子の平均粒径は、電極表面の多孔仕度及
び後述する電極製造の際の粒子の分散性にも関係するが
、　０．１ＩＬ−１００＃Ｌであれば充分である。In addition, when using metals or alloys mainly composed of the above metals, as components other than the above metals, depending on the content, metals that do not have an excessively negative effect on the reduction of oxygen overvoltage can be used, such as AM, Zn, Mg, Sn, Sl, Sb, etc. can be used. Although the average particle diameter of the particles is related to the porosity of the electrode surface and the dispersibility of the particles during electrode manufacture, which will be described later, 0.1IL-100#L is sufficient.

」二記範囲中、電極表面の多孔性等の点から、好ましく
は０．８ｐ〜５０給、更に好ましくは１ｐ〜３０ｇであ
る。In the above range, from the viewpoint of the porosity of the electrode surface, it is preferably 0.8p to 50g, more preferably 1p to 30g.

上記粒子は、電極のより低い酸素過電圧を達成するため
、表面多孔性であることが好ましい。Preferably, the particles are superficially porous to achieve a lower oxygen overpotential of the electrode.

この表面多孔性とは、粒子の全表面が多孔性であること
のみを意味するものでなく、前述した金属から成る層よ
り露出した部分のみが多孔性になっておれば充分である
。This surface porosity does not mean only that the entire surface of the particle is porous; it is sufficient that only the portion exposed from the layer made of the metal described above is porous.

多孔性の程度は、その程度がかなり大きい程好ましいが
、過度に多孔性にすると粒子の機械的強度が低下する為
多孔度（Ｐｏｒｏｓｉｔｙ）が２０〜９０％にすること
が好ましい。上記範囲中東に好ましくは３５〜８５％、
特に好ましくは５０〜８０％である。The degree of porosity is preferably as large as possible; however, if the degree of porosity is excessively high, the mechanical strength of the particles decreases, so it is preferable that the porosity is 20 to 90%. Preferably 35 to 85% in the above range Middle East,
Particularly preferably 50 to 80%.

尚上記多孔度とは、公知の水置換法等によって測定され
る値である。The above porosity is a value measured by a known water displacement method or the like.

多孔性にする方法としては種々の方法が採用でき、例え
ばＮｌ、Ｃｏ、Ａｇを主体とする合金から、かかるＮｉ
、Ｃｏ、Ａｇ以外の金属を除去して多孔性にする方法、
この他Ｎｉ、Ｇｏ。Various methods can be adopted to make the porosity. For example, from alloys mainly composed of Nl, Co, and Ag, to
, Co, a method of removing metals other than Ag to make it porous,
In addition, Ni, Go.

Ａｇをカルボニル化合物化しこれを熱分解して多孔性の
金属を得る方法、Ｎｉ、Ｃｏ、Ａｇの有機酸塩を一熱分
解し、多孔性の金属を得る方法、Ｎｉ、Ｃｏ、ＡＨの酸
化物を水素還元雰囲気で加熱し、多孔性の金属を得る方
法等が採用できる。この内作業性の点で、Ｎｉ、Ｇｏ。A method of converting Ag into a carbonyl compound and thermally decomposing it to obtain a porous metal; A method of thermally decomposing organic acid salts of Ni, Co, and Ag to obtain a porous metal; Oxides of Ni, Co, and AH A method such as heating the metal in a hydrogen-reducing atmosphere to obtain a porous metal can be adopted. Among these, Ni and Go are preferred in terms of workability.

Ａｇを主体とする合金から、かかるＮ１．Ｃｏ。From an alloy mainly composed of Ag, such N1. Co.

Ａｇ以外の金属を除去する方法が好ましい。かかる場合
、粒子素材としてＮｉ、Ｃｏ、Ａｇから選ばれた第一の
金属と、Ａ文、Ｚｎ、Ｍｇ。A method that removes metals other than Ag is preferred. In such a case, the first metal selected from Ni, Co, and Ag as the particle material, and A, Zn, and Mg.

Ｓｎ、Ｓｔ　、Ｓｂから選ばれた第二の金属との合金を
採用し、苛性アルカリ処理して上記第二の金属の少なく
とも一部を除去せしめる方法が特に好ましい、このよう
な合金としては、ＮＩ−Ａ１合金、Ｎｌ−Ｚｎ合金、　
Ｎ　ｉ　−Ｍ　ｇ合金、Ｎｉ−３ｎ合金、Ｎｉ−５ｉ合
金、ＣＯ−Ａ見合金、Ｇｏ−Ｚｎ合金、Ｇｏ−Ｍｇ合金
。Particularly preferred is a method in which an alloy with a second metal selected from Sn, St, and Sb is used and treated with caustic alkali to remove at least a part of the second metal. -A1 alloy, Nl-Zn alloy,
Ni-Mg alloy, Ni-3n alloy, Ni-5i alloy, CO-A alloy, Go-Zn alloy, Go-Mg alloy.

Ｃｏ−５ｎ合金、Ｃｏ−８ｉ合金、Ａｇ−ＡＭ合金、Ａ
ｇ−Ｚｎ合金、　Ａ　ｇ　−Ｍ　ｇ合金、Ａｇ−５ｎ合
金、Ａｇ−３　Ｉ合金が採用でき、これらの内入手容易
な点から、Ｎ　Ｉ−Ａ１合金。Co-5n alloy, Co-8i alloy, Ag-AM alloy, A
g-Zn alloy, Ag-Mg alloy, Ag-5n alloy, and Ag-3 I alloy can be used, and the N I-A1 alloy is preferred because these are easily available.

Ｃｏ−Ａｌ１合金、Ａｇ−Ａ交合金が好ましい。Co-Al1 alloy and Ag-A cross alloy are preferred.

かかる好ましい合金は、具体的には未展開のラネー−−
−／ケル（Ｒａｎａｙ　Ｎ１ｃｋｅｌ）　、ラネーコノ
曳ル）　（Ｒ６ｎａｙ　Ｃｏｂａｌｔ）　、ラネー銀（
Ｒａｎｓｙ　５ｉｌｖｅｒ）である。この内特にＮ　Ｉ
−Ａｌ１合金、具体的には未展開ラネーニッケルが好ま
しい。Such preferred alloys are specifically undeveloped Raney alloys.
-/Kel (Ranay N1ckel), Ranay Cobalt (R6nay Cobalt), Ranay Cobalt (Ranay Cobalt), Ranay Cobalt (Ranay Cobalt)
Ransy 5ilver). Of these, especially N I
-Al1 alloys, specifically unexpanded Raney nickel, are preferred.

本発明において、粒子を付着するための層に採用される
金属としては、削アルカリ性を有し、上記粒子を強固に
付着し得る金属が採用されうるが、特にＮｉ　、Ｃｏ　
、Ａｇから選ばれた少なくとも一種の金属を採用するの
がよい。特に採用する粒子の主体となる金属と同種の金
属を採用することが好ましい。In the present invention, as the metal employed in the layer for adhering particles, metals having alkali cutting properties and capable of firmly adhering the particles can be employed, but in particular, Ni, Co, etc.
It is preferable to use at least one metal selected from , Ag. In particular, it is preferable to use the same type of metal as the main metal of the particles.

本発明の層の厚みは、採用する粒子の粒径にもよるが、
　２０〜２００用であれば充分で、更に好ましくは２５
〜１５０　ｇ、特に好ましくは３０〜１００ｐである。The thickness of the layer of the present invention depends on the particle size of the particles employed, but
20 to 200 is sufficient, more preferably 25
-150 g, particularly preferably 30-100 p.

これは本発明では、前述した粒子の一部が電極芯体上の
金属から成る層に埋没した状態で、付着せしめるからで
ある。かかる状態を理解しやすい様に、本発明の電極表
面の断面図を第１図に示す。図示されている様に電極芯
体１上に金属から成る層２が設けられ、該層に粒子３の
一部が、その層の表面から露出する様に含まれている。This is because, in the present invention, some of the particles described above are attached to the electrode core while being buried in the metal layer. In order to facilitate understanding of this state, a cross-sectional view of the electrode surface of the present invention is shown in FIG. As shown in the figure, a layer 2 made of metal is provided on an electrode core 1, and part of particles 3 are contained in this layer so as to be exposed from the surface of the layer.

更に、電極芯体１、Ｎ２、粒子３からなる基体上に該金
属４が付着されている。尚層２中の粒子の割合は５〜８
０ｖｔ％であることが好ましく、更に好ましくは１０〜
５０ｗｔ％である。かかる状態の外、電極芯体と、粒子
を含む層との間に、ＮＩ　、Ｃｏ、Ａｇ、Ｃｕから選ば
れた金属から成る中間層を設けることによって、更に電
極の耐久性を向上させることができる。かかる中間層は
、上記層の金属と同種又は異種であっても差しつかえな
いが、かかる中間層を前述した層との付着性の点から、
これらの中間層及び層の金きは同種のものであることが
好ましい、中間層の厚みは、機械的強度のＡｔ）も　５
〜１００　ｐであれば充分であり、更に女子ましくは２
０〜ｓｏｐ、特に好ましくは３０〜５０ｐである。Furthermore, the metal 4 is adhered onto a base consisting of the electrode core 1, N2, and particles 3. The ratio of particles in layer 2 is 5 to 8.
It is preferably 0vt%, more preferably 10-
It is 50wt%. In addition to this condition, the durability of the electrode can be further improved by providing an intermediate layer made of a metal selected from NI, Co, Ag, and Cu between the electrode core and the layer containing particles. can. Such an intermediate layer may be of the same type or different type from the metal of the above-mentioned layer, but in terms of adhesion between the intermediate layer and the above-mentioned layer,
It is preferable that the intermediate layer and the metal plating of the layer are of the same type, and the thickness of the intermediate layer is determined by the mechanical strength (At).
~100 p is sufficient, and for girls it is 2
0-sop, particularly preferably 30-50p.

この様な中間層を設けた電極を理解しやすｌ、Ｎように
、電極の断面図を第２図に示した。To facilitate understanding of the electrode provided with such an intermediate layer, a cross-sectional view of the electrode is shown in FIG.

１は電極芯体、５は中間層、２は粒子を含む層、３は粒
子、４は該金属である。1 is an electrode core, 5 is an intermediate layer, 2 is a layer containing particles, 3 is a particle, and 4 is the metal.

電極は第１．第２図から見て明らかな採に。The electrode is the first. This is obvious from Figure 2.

七の表面をＷｔ視的に見れば、電極表面に多数の粒子が
露出し、該金属の大部分が露出粒子上側こ付着された状
態にになっているが、巨視的Ｉこ見ると表面層は多孔性
になっている。If the surface of No. 7 is viewed from a Wt perspective, many particles are exposed on the electrode surface, and most of the metal is attached to the top of the exposed particles, but when viewed macroscopically, the surface layer is porous.

前述した様に多孔性の度合は、酸素過電圧の低下にも関
連する為多孔性の度合は電気二重層容量でｌ０００ＩＬ
Ｆ／ｃｎｔ以上であれば充分１二目的を達成できる。上
記範囲中好ましくは２０００　ｇ　Ｆ／ｃｎ！　以上、
特に好ましくは５０００　ｌＬＦ／−以上である。電気
二重層容量は、電解質溶液中に電極を浸漬した場合に、
電極表面近傍に正負のイオンカ監短し箋距離を隔てて相
対的に分布して形成される電気二重層の静電容量であり
、詳しくは、実測される微分容量を示す。As mentioned above, the degree of porosity is also related to the decrease in oxygen overvoltage, so the degree of porosity is 1000IL in electric double layer capacity.
If it is F/cnt or more, it is sufficient to achieve one or two purposes. In the above range, preferably 2000 g F/cn! that's all,
Particularly preferably, it is 5000 lLF/- or more. Electric double layer capacity is calculated by immersing an electrode in an electrolyte solution.
This is the capacitance of an electric double layer formed in the vicinity of the electrode surface and relatively distributed at a distance between positive and negative ion forces, and more specifically, it shows the actually measured differential capacitance.

この容量は、電極表面が大きくなると共Ｉこ大きくなる
。従って電極表面が多孔性となり電極表面積が大きくな
ると、電極表面の電気二重層容量も大きくなる。よって
、電気二重層容ＩｋＩこよって、電気化学的に有効な電
極表面積即ち電極表面の多孔仕度が判る。This capacitance increases by I as the electrode surface becomes larger. Therefore, when the electrode surface becomes porous and the electrode surface area increases, the electric double layer capacity of the electrode surface also increases. Therefore, the electric double layer volume IkI determines the electrochemically effective electrode surface area, that is, the porosity of the electrode surface.

尚電気二重層容量は、測定時の温度や電解質溶液の種類
、濃度、電極電位等によっても変化するので、本発明の
電気二重層容量は、下記の方法によって測定された値を
意味する。Note that the electric double layer capacity varies depending on the temperature at the time of measurement, the type of electrolyte solution, the concentration, the electrode potential, etc., so the electric double layer capacity of the present invention means a value measured by the method described below.

試験片（電極）を３５ｎｔ％、　１１ａＯＨ水溶液（２
５’０）に浸漬し、試験片の約　１００倍の末世は面積
をもつ白金黒付き白金板を対極として挿入し、この状態
でのセルインビーグンスをコールラウシュ・　ブリッヂ
で測定して試験片の電気二重層容量をめる。The test piece (electrode) was 35 nt%, 11aOH aqueous solution (2
A black platinum plate with a surface area approximately 100 times that of the test piece was inserted as a counter electrode, and the cell-in-begence in this state was measured using a Kohlrausch bridge. Increase electric double layer capacitance.

多孔性基体を得るためのｎ重金属粒子を含む層の形成手
段としては種々の手法が採用され、例えば、分散メッキ
法、溶融噴霧法、焼結法など、が採用されうるが、特に
分散メッキ法が好ましい。Various methods can be used to form a layer containing n-heavy metal particles to obtain a porous substrate, such as a dispersion plating method, a melt spray method, a sintering method, etc., but a dispersion plating method is particularly suitable. is preferred.

分散メッキ法とは、金属層を形成する金属を含む水溶液
に、−例としてニッケルを主体とする粒子を分散せしめ
た浴に、電極芯体を陰極として、メッキを行ない、電極
芯体上に、上記金属と粒子を共析せしめるものである。Dispersion plating is a method in which plating is performed using an electrode core as a cathode in an aqueous solution containing the metal forming the metal layer, for example, a bath in which nickel-based particles are dispersed. The above metal and particles are eutectoid.

メンキ法としては、例えば金属層としてニッケル層を採
用する場合、全塩化ニッケル浴、高塩化ニッケル浴、塩
化ニッケルー酢酸ニッケル浴、高硫酸ニッケル浴、黒色
ニッケル浴、硫酸ニッケル浴、硬質ニッケル浴、硼弗化
ニッケル浴、燐酸塩のニッケルメッキ浴、ニッケル合金
浴を採用し得る。For example, when using a nickel layer as the metal layer, the Menki method uses a total nickel chloride bath, a high nickel chloride bath, a nickel chloride-nickel acetate bath, a high nickel sulfate bath, a black nickel bath, a nickel sulfate bath, a hard nickel bath, and a nickel bath. Nickel fluoride baths, nickel phosphate plating baths, and nickel alloy baths may be employed.

金属層としてコバルト層を採用する場合は、塩化コバル
ト浴、スルファミン酸コバルト浴、硫酸コバルトアンモ
ニウム浴、硫酸：ｌバルト浴、可溶性有機酸コバルト塩
のメッキ浴を採用し得る。When a cobalt layer is used as the metal layer, a cobalt chloride bath, a cobalt sulfamate bath, a cobalt ammonium sulfate bath, a sulfuric acid:l balt bath, or a plating bath of a soluble organic acid cobalt salt can be used.

金属層として銀層を採用する場合は、銀メンキ用浴（Ａ
ｇＣＮ　３８ｇ／文、　ＫＩＮθＯｇ／見、に２Ｃ０３
１５ｇ／ｊＬ）を採用し得る。When using a silver layer as the metal layer, use a silver coating bath (A
gCN 38g/text, KINθOg/see, ni 2C03
15g/jL) can be adopted.

本発明では前述した浴を採用することが好ましいが、本
発明はこれらに限定されるものでなく種々のＮｉメッキ
浴、Ｃｏメッキ浴、Ａｇメッキ浴を採用することができ
る。In the present invention, it is preferable to employ the baths described above, but the present invention is not limited thereto, and various Ni plating baths, Co plating baths, and Ag plating baths can be employed.

特にＮｉメンキ浴、Ｃｏメッキ浴の場合、浴のｐＨを　
１．５〜４．５に制御するのが好ましい、この理由は一
般に、Ｎｉを含む粒子、ＣＯを含む粒子は表面に付着酸
素を有するものであるが、このような付着酸素は粒子が
電極芯体上に付着される際に粒子の接着強度を阻害する
ものであって、メッキ浴中で１粒子表面のかような付着
酸素を除去するのにｐ）！　１．５〜４．５のメッキ浴
が好ましいことによる。また、上記効果のために浴中に
ＣｊＬイオンを存在せしめることも有効で、その場合Ｃ
見イオン濃度を　１３５ｇ／４１浴以上とするのがよい
、　ｐＨを　１．５〜４．５、且つＣＩＬイオン濃度を
　１３５ｇ／交以上とする時は尚好ましい。In particular, in the case of Ni-plated baths and Co-plated baths, the pH of the bath should be adjusted.
It is preferable to control the temperature between 1.5 and 4.5. The reason for this is that particles containing Ni and particles containing CO generally have oxygen attached to their surfaces. It inhibits the adhesion strength of the particles when they are deposited on the body, and it is necessary to remove such adhering oxygen from the surface of one particle in the plating bath (p)! This is because a plating bath of 1.5 to 4.5 is preferable. It is also effective to have CjL ions present in the bath for the above effect; in that case, CjL ions
It is preferable that the ion concentration is 135 g/41 bath or more, and it is more preferable that the pH is 1.5 to 4.5 and the CIL ion concentration is 135 g/41 bath or more.

上記したような共電着メッキ層を得る具体的な好ましい
手段について説明する。A specific preferred means for obtaining the co-electrodeposited layer as described above will be explained.

ニッケル、コバルト、銀から選ばれた金属を含む粒子を
分散せしめた浴に電極芯体な浸漬せしめ、該浴中に配置
された振動板を振動させつつ、バブラーにより浴の攪拌
を行ないながらメッキするか、あるいはメッキ浴をメッ
キ槽と浴貯槽の間でメッキ浴を循環しながら、浴の線速
度を　５〜３００ｃｍ／ｓｓｃとしメッキするのがよい
。The electrode core is immersed in a bath in which particles containing metal selected from nickel, cobalt, and silver are dispersed, and plating is performed while a diaphragm placed in the bath is vibrated and the bath is stirred by a bubbler. Alternatively, plating is preferably carried out at a linear velocity of 5 to 300 cm/ssc while circulating the plating bath between the plating tank and the bath storage tank.

前者の方法を採用する場合振動数は５〜５００回／分、
好ましくは１０〜３００回／分、更に好ましくは５０〜
１５０回／分、振１Ｊはメッキ槽の高さの５〜３０％、
好ましくは１０〜２５％、更に好ましくハ１５〜２５％
、バブリングガス量はメッキ槽底面ｆｉｌｄｍ’当り　
０．１−　１００４１　／分、好ましくは１〜５０１／
分、更に好ましくは５〜３５文／分とするのがよい。When using the former method, the frequency is 5 to 500 times/min.
Preferably 10-300 times/min, more preferably 50-300 times/min
150 times/min, 1J of shaking is 5-30% of the height of the plating tank,
Preferably 10-25%, more preferably 15-25%
, bubbling gas amount per plating tank bottom fildm'
0.1-10041/min, preferably 1-501/min
minutes, more preferably 5 to 35 sentences/minute.

後者の方法の場合、浴の線速度として好ましくは１０〜
２０００１１７秒、更に好ましくは１５〜１２０ｃｍ７
秒とするのがよい。In the case of the latter method, the linear velocity of the bath is preferably 10 to
2000117 seconds, more preferably 15-120cm7
It is better to set it to seconds.

この様な粒子の浴中での割合は、Ｉｇ／文〜２００ｇ／
見にしておくことが電極表面に粒子の付着状態を良好に
する意味から好ましい、又分散メソ・キ作業時の温度条
件は２０〜８０℃、電流密度はＩ　Ａ　／ｄｍ’　−２
ＯＡ　／ｄｍ’であることが好ましい。The proportion of such particles in the bath ranges from Ig/b to 200 g/b.
It is preferable to keep the temperature at a temperature of 20 to 80°C during the dispersion meso-ki operation, and the current density to I A /dm' -2.
Preferably, OA/dm'.

尚メッキ浴には、歪減少用の添加剤、共析を助長する添
加剤等を適宜加えてよいことはもちろんである。It goes without saying that additives for strain reduction, additives for promoting eutectoid deposition, etc. may be added to the plating bath as appropriate.

また１粒子と金属層との密着性をさらに強固にするため
に、加熱や、分散メ・ンキ後再度Ｎ＋メンキを行なうこ
と等を適宜行なってもよし）ことはもちろんである。Furthermore, in order to further strengthen the adhesion between one particle and the metal layer, it is of course possible to perform heating, N+ coating again after dispersion coating, etc.).

この様にして、電極芯体上、金属層を介して粒子が伺着
した多孔性基体が得られる。In this way, a porous substrate in which the particles adhere to the electrode core via the metal layer is obtained.

次に、かようにして得られた電極体の表面番とレニウム
もしくはレニウムと貴金属の少なくとも−極を付着せし
めるが、この付着手段については特に限定されるを要し
ない。本発明者等の検討によれば、レニウムの塩もしく
はレニウムの塩と賃金属の塩を溶解した水溶液中で電気
メッキ又は化学メッキでレニウムもしくはレニウムと貴
金属を折山せしめたりすることも可能である。Next, rhenium or at least a negative electrode of rhenium and a noble metal is attached to the surface of the electrode body thus obtained, but there are no particular limitations on the attachment means. According to studies by the present inventors, it is also possible to deposit rhenium or rhenium and precious metals by electroplating or chemical plating in an aqueous solution containing a rhenium salt or a rhenium salt and a metal salt. .

かくして得られた本発明のＴ！を極は第１図あるいは第
２図に示される金属からなる層２及び粒子３にレニウム
もしくはレニウムと貴金属の少なくとも一種４が伺着さ
れたものである。Thus obtained T! of the present invention! The pole has rhenium or at least one kind of rhenium and a noble metal 4 adhering to a layer 2 and particles 3 made of a metal as shown in FIG. 1 or 2.

実施例１ 未展開ラネーニッケル粉末（Ｎ　ｉ　５０ｆｆｉ量％。Example 1 Undeveloped Raney nickel powder (Ni 50ffi amount%.

Ａ文５０重量％）を全塩化ニッケル浴（Ｎｉ０文２ｅ８
８２０３００ｇ１文、Ｈ３ＢＯ２３８ｇ／４１　）中に
１０ｇ１文の割合で分散させた。かくして得られたｐＨ
２，２の分散液を電気メツキ槽に供給した。電気メツキ
槽は槽底部に上下に移動す、る開孔板を有しており、開
孔板の上部に窒素等のガスを噴出するバブラーが配置さ
れている。A 50% by weight) was added to a total nickel chloride bath (Ni0 2e8
820,300g/1 sentence, H3BO238g/41) was dispersed at a ratio of 10g/1 sentence. The pH thus obtained
The dispersion of 2.2 was supplied to the electroplating tank. The electroplating tank has a perforated plate that moves up and down at the bottom of the tank, and a bubbler that blows out gas such as nitrogen is placed above the perforated plate.

檜の両側部には同じ面積のニッケル電極（陽極）が設け
られており、槽の中央部にはマイナス電源に接続された
被メッキ板（鉄製エキスパンド）が配置されている。Nickel electrodes (anodes) with the same area are provided on both sides of the cypress, and a plated plate (expanded iron) connected to a negative power source is placed in the center of the tank.

開孔板を槽高さの２０％の振１１］で、振動数　１００
回／分で振動させ、バブラーからは檜の底面積１ｄｍ’
当りｌＯ見／分の割合で窒素ガスを導出させてメッキを
行なった。メッキ条件は、４０”Ｏで電流密度３Ａ／ｄ
ｒｎ’で　１時間であった。得られたメンキ槽は、厚さ
約　１５０　ｐの全面にわたって均一なもので、その中
に含まれるラネーニッケル粒子の割合は３０％であった
。Shake the perforated plate at 20% of the tank height [11], and the frequency is 100.
Vibrate at a rate of 1 dm/minute, and the base area of the cypress from the bubbler is 1 dm.
Plating was performed by introducing nitrogen gas at a rate of 10/min. Plating conditions were 40”O and current density 3A/d.
It took 1 hour at rn'. The obtained Menki tank was uniform over the entire surface with a thickness of about 150 μm, and the proportion of Raney nickel particles contained therein was 30%.

かくして得られた多孔性電極基体を８０　’Ｏの２０％
ＮａＯＨ７に溶液中で１時間処理した。The porous electrode substrate thus obtained was heated to 20% of 80'O.
Treated with NaOH7 in solution for 1 hour.

次に、この多孔性電極基体を、酒石酸７ｗｔ％。Next, this porous electrode substrate was treated with 7 wt% tartaric acid.

塩化ロジウム　０．５ｖｔ％、過レニウム酸カリウｈ　
Ｏ，５ｗｔ％を含む溶液中テロ０℃、′ｒｒＬ流密度＋
ＯＡ／ｄｍ’で　１時間電気メツキを施した。レニウム
とロジウムの付Ｍ量は含量で基体の見掛表面積当り　１
００ｍｇ／ｄｍ’　テあった。Rhodium chloride 0.5vt%, potassium perrhenate h
In a solution containing O, 5 wt% at 0°C, 'rrL flow density +
Electroplating was performed at OA/dm' for 1 hour. The amount of rhenium and rhodium attached is 1 per apparent surface area of the substrate.
00mg/dm'te was present.

また、陰極としては、上記陽極と同様にしてラネーニッ
ケル合金粒子を分散メッキし、貴金属は付着せしめない
ものを同様に１ａＯＨ水溶液中で処理したものを用澄、
シた。As a cathode, Raney nickel alloy particles were dispersed and plated in the same manner as the anode, but no precious metal was attached, and the cathode was similarly treated in a 1aOH aqueous solution.
Shita.

次に、イオン交換容量が１．４５ｍｅｑ／ｇ乾燥樹脂、
厚さ２１０ルを有するポリテトラフルオロエチレンとＧ
Ｆｚ　＝　ＣＦＯ（ＣＦ２　’）３ＣＯＯＣＡ＋ｏの共
重合体からなる陽イオン交換膜を介して、陽極室側に上
記陽極を、陰極室側に上記陰極を配して水電解槽を組み
立てた。Next, a dry resin with an ion exchange capacity of 1.45 meq/g,
Polytetrafluoroethylene and G having a thickness of 210 l
A water electrolytic cell was assembled by disposing the anode on the anode chamber side and the cathode on the cathode chamber side via a cation exchange membrane made of a copolymer of Fz=CFO(CF2')3COOCA+o.

そして、陽極室に３０％ＫＱＩ＋水溶液を供給し、陰極
室に水を供給して、陽陰極室のＫＯ）ｌ濃度を２０％に
維持しツツｌ１ｌＯ℃、を流密度？ＯＡ／ｄｒｎ’ｃ’
電解を行なった。Then, 30% KQI + aqueous solution is supplied to the anode chamber, water is supplied to the cathode chamber, the KO)l concentration in the anode and cathode chambers is maintained at 20%, and the flow density is ? OA/drn'c'
Electrolysis was performed.

この時の摺電圧は１．８９Ｖで、３０日間電解経過後も
摺電圧は変化しなかった。The sliding voltage at this time was 1.89 V, and the sliding voltage did not change even after 30 days of electrolysis.

陽極における酸素過電圧は９０°Ｃ２電流密度？ＯＡ／
ｄｍＩテ約Ｑ、２［ＩＶ−Ｃ’あった。Is the oxygen overvoltage at the anode 90°C2 current density? OA/
dmIte was approximately Q, 2[IV-C'.

実施例２ 未展開ラネーニッケル粉末（Ｎ１５０重量％。Example 2 Unexpanded Raney nickel powder (N150% by weight).

Ａ１５０重量％）を全塩化ニッケル浴ＣＭｉ［：Ｑ２・
　ｔ３１１２０３００ｇ　／　ｆＬ　、Ｈ３ＢＯ２３８
ｇ　／交）中に１０ｇ１の割合で分散させた。かくして
得られたｐｉ　２．０の分数液を用いてメンキ装置によ
り電気メッキを行なった。メッキ装置は分散液貯槽と、
該貯槽かもポンプによりメッキ槽の底部に分散液を供給
する手段を有し、該メッキ槽の両側部にはニッケル電極
（陽＠）が配置され、その中央にはマイナス電源に接続
された鉄製被メッキ板が配置されている。分散液は貯槽
とメンキ槽の間を循環されている。メッキ方法はメッキ
装置においてｐＨ２，０，４０℃の分散液をメンキ槽中
での上昇速度が７０ｃｍ／秒となるように循環しつつ電
流密度３Ａ／ｄｒｎ’で３０分間行なった。得られたメ
ンキ槽は灰黒色の約？Ｏｐの均一厚みをもつもので、該
メッキ槽中のラネーニッケルは約３３重量％であった。A150% by weight) in a total nickel chloride bath CMi[:Q2・
t31120300g/fL, H3BO238
It was dispersed at a ratio of 10 g/1 g/g/g). Electroplating was performed using the thus obtained pi 2.0 fraction solution using a Menki apparatus. The plating device includes a dispersion liquid storage tank,
The storage tank also has a means for supplying the dispersion liquid to the bottom of the plating tank using a pump, and nickel electrodes (positive@) are arranged on both sides of the plating tank, and a steel sheath connected to a negative power source is placed in the center. A plated plate is placed. The dispersion liquid is circulated between the storage tank and the Menki tank. The plating method was carried out in a plating apparatus at a current density of 3 A/drn' for 30 minutes while circulating a dispersion liquid of pH 2, 0, and 40° C. in a coating tank at a rate of rise of 70 cm/sec. The resulting menki tank is grayish black in color. The plating bath had a uniform thickness of Op, and the Raney nickel in the plating bath was approximately 33% by weight.

このメッキ板を８０℃、２０％のＮａＯＨ水溶液中で１
時間処理した。This plated plate was placed in a 20% NaOH aqueous solution at 80°C.
Time processed.

この電極にクエン酸１０％、塩化イリジウム　０．５ｗ
ｔ％、過レニウム酸カリウム０．５ｗｔ％を含む水溶液
中、θ０°Ｃ１電流密度１０Ａ／ｄｒｎ’の条件で１時
間電気メツキを施した。レニウムとイリジウムの付着量
は含量で基体の見掛表面積当り　１００Ｂ／ｄｍ’であ
った。Add 10% citric acid and 0.5w iridium chloride to this electrode.
Electroplating was performed for 1 hour at a current density of 10 A/drn' at θ0° C1 in an aqueous solution containing 0.5 wt % of potassium perrhenate. The amount of rhenium and iridium deposited was 100 B/dm' per apparent surface area of the substrate.

かくして得られた陽極を用い、実施例１と同様にして水
電解を行なった。Using the thus obtained anode, water electrolysis was performed in the same manner as in Example 1.

この時の摺電圧は１．６９Ｖで、３０日間電解経過後も
摺電圧は変化しなかった。The sliding voltage at this time was 1.69 V, and the sliding voltage did not change even after 30 days of electrolysis.

また、陽極の酸素過電圧は実施例１と同条件下Ｔ約０．
２６Ｖであった。Further, the oxygen overvoltage of the anode was approximately 0.0 T under the same conditions as in Example 1.
It was 26V.

体を＋５ｗｔ％ＫＯＨ，０，５ｗｔ％過レニウム酸カリ
ウム。+5wt% KOH, 0.5wt% potassium perrhenate for the body.

０．５％塩化ロジウムを含む水溶液中で９０°０゜電流
密度３０Ａ／ｄｍ’の条件で陰分極、陽分極を各３０分
間合計１時間くり返し行なった。レニウムとロジウムの
４４着量は含量で基体の見掛表面積当り　１００１ｇ／
ｄｒｎ’であ−う−た１　・これを実施例１と同様にし
て陽極とし、水電解を行なった所、摺電圧は１．７０Ｖ
で、３０日間電解経過後も摺電圧は変化しなかった。In an aqueous solution containing 0.5% rhodium chloride, cathodic polarization and anodic polarization were repeated for 30 minutes each under conditions of 90° 0° and a current density of 30 A/dm' for a total of 1 hour. The amount of rhenium and rhodium is 1001g/apparent surface area of the substrate.
drn' 1 ・When water electrolysis was performed using this as an anode in the same manner as in Example 1, the sliding voltage was 1.70V.
The sliding voltage did not change even after 30 days of electrolysis.

また、陽極の酸素過電圧は実施例１と同条件下で約０．
２７Ｖであった。Further, the oxygen overvoltage of the anode was approximately 0.0% under the same conditions as in Example 1.
It was 27V.

実施例４ 実施例１と同様にして作製した電極基体を酒石酸１０ｉ
＋ｔ％、過レニウム酸０．５貿ｔ％を含むメッキ液を用
い、８０°０．電流密度＋ＯＡ　／ｄｍ’　テ１時間電
気メッキすることにより作製した電極（レニウムの付着
量は基体の見掛表面積当り　１００ｍｇ／ｄｍ’）を陽
極とし実施例１と同様の条件で電解を行なったところ摺
電圧は１．？３Ｖであった。陽極の過電圧は０．２θＶ
であった。Example 4 An electrode substrate prepared in the same manner as in Example 1 was treated with tartaric acid 10i.
80°0. Electrolysis was carried out under the same conditions as in Example 1 using an electrode prepared by electroplating at current density + OA / dm' for 1 hour (the amount of rhenium deposited was 100 mg/dm' per apparent surface area of the substrate) as an anode. The sliding voltage is 1. ? It was 3V. Anode overvoltage is 0.2θV
Met.

比較例１ 実施例１と同様にして作製した電極基体を陽極として用
いる他は実施例１と同様の条件で水電解を行なったとこ
ろ、摺電圧は１．８８Ｖであった。陽極の過電圧は０．
４５Ｖであった。Comparative Example 1 Water electrolysis was carried out under the same conditions as in Example 1, except that an electrode substrate prepared in the same manner as in Example 1 was used as an anode, and the sliding voltage was 1.88V. The overvoltage of the anode is 0.
It was 45V.

比較例２ 実施例１と同様にして作製した電極基体を塩化ロジウム
、ホウ酸を含む水溶液中に浸漬することにより、ロジウ
ムを３００ｍｇ／ｄｒｎ’担持した電極を陽極とし実施
例１と同様の条件で水電解を行なったところ、摺電圧は
１．７ｆｌＶであった。陽極の過電圧は０．３２Ｖであ
った。Comparative Example 2 An electrode substrate prepared in the same manner as in Example 1 was immersed in an aqueous solution containing rhodium chloride and boric acid, and an electrode supporting 300 mg/drn' of rhodium was used as an anode under the same conditions as in Example 1. When water electrolysis was performed, the sliding voltage was 1.7 flV. The overvoltage of the anode was 0.32V.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第１図は本発明の陽極の１例の表面部分断面図、第２図
は本発明の陽極の他の例の表面部分断面図を示した。FIG. 1 shows a partial cross-sectional view of the surface of one example of the anode of the present invention, and FIG. 2 shows a partial cross-sectional view of the surface of another example of the anode of the present invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] ニッケル、アバルト、銀から選ばれた金属を含む粒子を
、その一部が表面に露出するように含んだニッケル、コ
バルト、銀から選ばれた少なくとも一種の金属からなる
層を電極芯体上に設けた多孔性電極基体の該層の表面に
レニウムもしくはレニウムとロジウム、イリジウム等の
貴金属の少なくとも一種が付着されてなる水電解用陽極
。A layer made of at least one metal selected from nickel, cobalt, and silver containing particles containing a metal selected from nickel, abarth, and silver such that a part of the particles is exposed on the surface is provided on the electrode core. An anode for water electrolysis, wherein rhenium or at least one of rhenium and a noble metal such as rhodium or iridium is attached to the surface of the layer of a porous electrode substrate.