JPS60157711A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS60157711A JPS60157711A JP59012490A JP1249084A JPS60157711A JP S60157711 A JPS60157711 A JP S60157711A JP 59012490 A JP59012490 A JP 59012490A JP 1249084 A JP1249084 A JP 1249084A JP S60157711 A JPS60157711 A JP S60157711A
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- film magnetic
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- G11B5/3176—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps
- G11B5/3179—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は薄膜形成法を利用した薄膜磁気ヘッドの改良に
関する。
関する。
〈従来技術の説明〉
近年、磁気記録の分野に於いては高密度記録化、磁気記
録再生装置の小型化が推進されてきている。これに伴い
磁性体薄膜を積層してコアを形成する薄膜磁気ヘッドが
小型化、省スペース化等に適するために、これを用いる
機会が増加している。特に、２つのヘッドギャップかそ
れらの記録方向に交差する方向に近接して設けられ同時
に２つのトラックをトレースする様に配された複合磁気
ヘッド（以下単に複合ヘッドと称す）を薄膜磁気ヘッド
で構成すれば２つの磁気ヘッドコアの対向面積を極めて
小さくすることができるため、両ヘッドコア間のクロス
ト−りを極めて少なくすることができる。
録再生装置の小型化が推進されてきている。これに伴い
磁性体薄膜を積層してコアを形成する薄膜磁気ヘッドが
小型化、省スペース化等に適するために、これを用いる
機会が増加している。特に、２つのヘッドギャップかそ
れらの記録方向に交差する方向に近接して設けられ同時
に２つのトラックをトレースする様に配された複合磁気
ヘッド（以下単に複合ヘッドと称す）を薄膜磁気ヘッド
で構成すれば２つの磁気ヘッドコアの対向面積を極めて
小さくすることができるため、両ヘッドコア間のクロス
ト−りを極めて少なくすることができる。
以下本明細書ではこの種の複合ヘッドを例にとって説明
する。第１図は薄膜磁性層を用いて構成された従来の複
合ヘッドを示す斜視図である。
する。第１図は薄膜磁性層を用いて構成された従来の複
合ヘッドを示す斜視図である。
第１図に於いて、２は軟磁性材よりなる下部磁性層、４
ａ ＋’ ４ ｂは夫々非磁性体よりなる非磁性ギャ
ップ材、６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄは夫々絶縁層、８ａ、
８ｂは夫々軟磁性材薄膜を積層してなる上部磁性層、１
０は下部磁性層２及び上部磁性層８ｂより構成される薄
膜磁気ヘッド内に設けられたコイルパターン、１０ａ、
ｌＯｂは夫々コイルパターン１０の端部である。
ａ ＋’ ４ ｂは夫々非磁性体よりなる非磁性ギャ
ップ材、６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄは夫々絶縁層、８ａ、
８ｂは夫々軟磁性材薄膜を積層してなる上部磁性層、１
０は下部磁性層２及び上部磁性層８ｂより構成される薄
膜磁気ヘッド内に設けられたコイルパターン、１０ａ、
ｌＯｂは夫々コイルパターン１０の端部である。
第１図に示す複合ヘッドは２つのヘッド間のクロストー
クが小さい上に、図示の如く薄形化が可能であった。し
かし第２図に断面を示す様に、コイルパターン１０上に
絶縁層６Ｃを積層し、更に上部磁性層８ａ、８ｂを形成
する。従って上部磁性層８ａ、８ｂは凹凸面上に形成す
ることになるため、磁気特性が悪くなり、磁気ヘッドと
しての効率を大幅に低下させてしまう。これは磁性薄膜
を被着する際、被着面に対する軟質磁性材のスパッタ入
射角が極めて小さくなるため各凹凸部に於いて磁性材の
保持力は数１０６ｅにも達してしまい、これに伴って当
然透磁率も大幅に低下してしまうからである。
クが小さい上に、図示の如く薄形化が可能であった。し
かし第２図に断面を示す様に、コイルパターン１０上に
絶縁層６Ｃを積層し、更に上部磁性層８ａ、８ｂを形成
する。従って上部磁性層８ａ、８ｂは凹凸面上に形成す
ることになるため、磁気特性が悪くなり、磁気ヘッドと
しての効率を大幅に低下させてしまう。これは磁性薄膜
を被着する際、被着面に対する軟質磁性材のスパッタ入
射角が極めて小さくなるため各凹凸部に於いて磁性材の
保持力は数１０６ｅにも達してしまい、これに伴って当
然透磁率も大幅に低下してしまうからである。
更に磁気ヘッドを考慮に入れたとき、ヘッド幅を６０ル
程度とすればコイルパターンｌＯの入る磁路の幅（第１
図文にて示す）は １５０ル程度となってしまい、コイ
ルパターンのターン数が数ターンになってしまう。記録
再生ヘッドに必要なターン数は２０タ一ン程度であるの
で、トランス等を用いてやらねばならない。この場合に
はトランスにより効率が低下する上に、トランスにより
必要なスペースが犬きく商品化する上で大きな問題とな
る。
程度とすればコイルパターンｌＯの入る磁路の幅（第１
図文にて示す）は １５０ル程度となってしまい、コイ
ルパターンのターン数が数ターンになってしまう。記録
再生ヘッドに必要なターン数は２０タ一ン程度であるの
で、トランス等を用いてやらねばならない。この場合に
はトランスにより効率が低下する上に、トランスにより
必要なスペースが犬きく商品化する上で大きな問題とな
る。
〈発明の目的〉
本願発明は上述の如き欠点に鑑みなされたもので、磁気
特性が良く、トランス等を設けることのない、装置の省
スペース化、小型化に適した薄膜磁気ヘッドを提供する
ことを目的とする。また本願発明の他の目的はクロスト
ークが少なく磁気特性の良好な薄膜複合磁気へ・ンドを
提供する処にある。
特性が良く、トランス等を設けることのない、装置の省
スペース化、小型化に適した薄膜磁気ヘッドを提供する
ことを目的とする。また本願発明の他の目的はクロスト
ークが少なく磁気特性の良好な薄膜複合磁気へ・ンドを
提供する処にある。
〈実施例による説明〉
以下本願発明を複合ヘッドに適用した場合の実施例を用
いて説明する。
いて説明する。
第３図は本願発明の一実施例としての薄膜複合磁気ヘッ
トを示す図である。第３図に於いて１２は非磁性基板で
あり、予め巻線用孔１２ａ、１２ｂが一対設けられてい
る。この基板１２は後述する各磁性層の磁性材と熱膨張
係数差を２０Ｘ １０−’ ／ ’Ｃ！以内に合わせた
結晶化ガラス等で構成される。
トを示す図である。第３図に於いて１２は非磁性基板で
あり、予め巻線用孔１２ａ、１２ｂが一対設けられてい
る。この基板１２は後述する各磁性層の磁性材と熱膨張
係数差を２０Ｘ １０−’ ／ ’Ｃ！以内に合わせた
結晶化ガラス等で構成される。
１４ａ、１４ｂは夫々下部薄膜磁性層であり、基板１２
上に近接して配されている。この下部薄膜磁性層１４ａ
、１４ｂは例えばアモルファス金属、センタスト２パー
マロイ等の軟磁性材をスパッター等の付着技術で基板１
２に付着゛させ、その後イオンミーリング等のエツチン
グ技術を用いて適宜除去することによって形成したもの
である。
上に近接して配されている。この下部薄膜磁性層１４ａ
、１４ｂは例えばアモルファス金属、センタスト２パー
マロイ等の軟磁性材をスパッター等の付着技術で基板１
２に付着゛させ、その後イオンミーリング等のエツチン
グ技術を用いて適宜除去することによって形成したもの
である。
１６ａ、１６ｂは夫々磁気ギャップ材層であって、下部
磁性層１４ａ、１４ｂ上の磁気ギャップ部を含む少なく
とも一部に対して５１０２等の非磁性材をスパッター等
により付着させ、その後イオンミーリング等のエツチン
グ技術で必要に応じて除去して形成したものである。１
８ａ、１８ｂは夫々絶縁層であって下部磁性層１４ａ、
１４ｂと後述する上部磁性層２０ａ、２０ｂとを遠ざけ
る役目をしている。材料としては例えば５ｉ０２等の非
磁性材を用いる。尚この絶縁層１８ａ、１８ｂは厚くす
る事によりヘッドの効率は上がるか、その場合材料が５
ｉ０２では各磁性層の磁性材との熱膨張係数が大きく異
なってしまうため好ましくなく、基板１２と同様に磁性
材との熱膨張係数差が２０ＸＩＢ−７／’Ｃ以下の非磁
性材料を用いなければならない。また絶縁層１８ａ、１
８ｂについても非磁性材料を下部磁性層１４ａ、１４ｂ
上にスパッター等により付着、積層し、その後イオンミ
ーリング等で一部除去して形成する。
磁性層１４ａ、１４ｂ上の磁気ギャップ部を含む少なく
とも一部に対して５１０２等の非磁性材をスパッター等
により付着させ、その後イオンミーリング等のエツチン
グ技術で必要に応じて除去して形成したものである。１
８ａ、１８ｂは夫々絶縁層であって下部磁性層１４ａ、
１４ｂと後述する上部磁性層２０ａ、２０ｂとを遠ざけ
る役目をしている。材料としては例えば５ｉ０２等の非
磁性材を用いる。尚この絶縁層１８ａ、１８ｂは厚くす
る事によりヘッドの効率は上がるか、その場合材料が５
ｉ０２では各磁性層の磁性材との熱膨張係数が大きく異
なってしまうため好ましくなく、基板１２と同様に磁性
材との熱膨張係数差が２０ＸＩＢ−７／’Ｃ以下の非磁
性材料を用いなければならない。また絶縁層１８ａ、１
８ｂについても非磁性材料を下部磁性層１４ａ、１４ｂ
上にスパッター等により付着、積層し、その後イオンミ
ーリング等で一部除去して形成する。
２０ａ、２０ｂは夫々上部（第２の）薄膜磁性層であっ
て、夫々下部磁性層１４ａ、１４ｂと磁気ギャップ部を
含む積層部分２１ａ、２１ｂと、この部分から離れた積
層部分２２ａ、２２ｂとで積層される。これによってこ
の上部磁性層２０ａ。
て、夫々下部磁性層１４ａ、１４ｂと磁気ギャップ部を
含む積層部分２１ａ、２１ｂと、この部分から離れた積
層部分２２ａ、２２ｂとで積層される。これによってこ
の上部磁性層２０ａ。
２０ｂは図示の如く下部磁性層１４ａ、１４ｂと共に夫
々孔１２ａ、１２ｂを囲む磁気回路を形成する。この上
部磁性層２０ａ、２０ｂについてもアモルファス金属、
センダスト、ハーマロイ等の軟磁性材をスバ・ンター等
で刺着して積層した後。
々孔１２ａ、１２ｂを囲む磁気回路を形成する。この上
部磁性層２０ａ、２０ｂについてもアモルファス金属、
センダスト、ハーマロイ等の軟磁性材をスバ・ンター等
で刺着して積層した後。
イオンミーリング等のエツチング技術を用いて適宜除去
することによって形成される。尚２４ａ。
することによって形成される。尚２４ａ。
２４ｂは夫々孔１２ａ、１２ｂを介して磁気回路に右廻
される巻線コイルである。
される巻線コイルである。
」−述した如き薄膜磁気ヘッドによれば、下部磁性層１
４ａ、１４ｂと上部磁性層２０ａ 、 ２０ ｂを積層
する際、それらによって構成される磁気回路の内側に、
積層方向について磁性層の存在しない空間部を設けてい
るので、この磁気回路によって構成される磁気ヘッドに
対して容易に巻線を施すことができる。そのためコイル
パターン等を形成することがなく、磁気特性は良好なも
のとなる。また巻線ターン数も増やすことができるので
トランス等を用いる必要もなく装置の省スペース化及び
小型化に対しても極めて有利である。
４ａ、１４ｂと上部磁性層２０ａ 、 ２０ ｂを積層
する際、それらによって構成される磁気回路の内側に、
積層方向について磁性層の存在しない空間部を設けてい
るので、この磁気回路によって構成される磁気ヘッドに
対して容易に巻線を施すことができる。そのためコイル
パターン等を形成することがなく、磁気特性は良好なも
のとなる。また巻線ターン数も増やすことができるので
トランス等を用いる必要もなく装置の省スペース化及び
小型化に対しても極めて有利である。
また複合ヘッドとして見た場合にも両磁気ヘッドコアの
対向面積は極めて小さい為、両コア間のクロスＩ・−り
を極めて少なくすることができる。
対向面積は極めて小さい為、両コア間のクロスＩ・−り
を極めて少なくすることができる。
尚、上述の実施例に於いては２ケ所の積層部分２１．２
２を設けて、２つの薄膜磁性層１４ 、２０にて磁気回
路を構成しているか、３層以上で磁気回路を構成するこ
とも可能である。即ち、例えばド部薄膜磁性層と上部薄
膜磁性層がキャップ材層の少なくとも一部を介する積層
部のみにおいて積層され、夫々の他端を予め基板上に設
けられた磁性材または更に積層した薄膜磁性層を介して
磁気的に接続する様に構成することも可能である。
２を設けて、２つの薄膜磁性層１４ 、２０にて磁気回
路を構成しているか、３層以上で磁気回路を構成するこ
とも可能である。即ち、例えばド部薄膜磁性層と上部薄
膜磁性層がキャップ材層の少なくとも一部を介する積層
部のみにおいて積層され、夫々の他端を予め基板上に設
けられた磁性材または更に積層した薄膜磁性層を介して
磁気的に接続する様に構成することも可能である。
く効果の説明〉
以上実施例を用いて説明した様に、本願発明によれば薄
膜磁気ヘッドに於いても容易に巻線を施すことができる
様になったため、トランス等が不要となり、装置の省ス
ペース化、小型化に対して有効なばかりでなく、磁気ヘ
ッド自体の磁気特性をも向上させることができる。また
極めてクロストークが少なく磁気特性の良好な複合薄膜
磁気へンドを得ることができる。
膜磁気ヘッドに於いても容易に巻線を施すことができる
様になったため、トランス等が不要となり、装置の省ス
ペース化、小型化に対して有効なばかりでなく、磁気ヘ
ッド自体の磁気特性をも向上させることができる。また
極めてクロストークが少なく磁気特性の良好な複合薄膜
磁気へンドを得ることができる。
第１図は従来の薄膜ヘッドによる複合ヘッドを示す図、
第２図は従来技術の問題点を説明するための図、
第３図は本願発明の一実施例としての複合薄膜磁気ヘン
ドを示す図である。 １２は非磁性基板、１２ａ、１２ｂは夫々巻線用孔、１
４ａ、１４ｂは夫々下部薄膜磁性層。 １６ａ、１６ｂは夫々ギャップ材層、１８ａ。 １８ｂは夫々絶縁層、２０ａ、２０ｂは夫々上部薄膜磁
性層、２１ａ、２１ｂは夫々積層部分、２２ａ、２２ｂ
は夫々積層部分、２４ａ、２４ｂは夫々巻線コイルであ
る。
ドを示す図である。 １２は非磁性基板、１２ａ、１２ｂは夫々巻線用孔、１
４ａ、１４ｂは夫々下部薄膜磁性層。 １６ａ、１６ｂは夫々ギャップ材層、１８ａ。 １８ｂは夫々絶縁層、２０ａ、２０ｂは夫々上部薄膜磁
性層、２１ａ、２１ｂは夫々積層部分、２２ａ、２２ｂ
は夫々積層部分、２４ａ、２４ｂは夫々巻線コイルであ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）第１の薄膜磁性層と、該第１の薄膜磁性層の少なく
とも一部に積層したギャップ材層と、該ギャップ材層の
少なくとも一部を介した積層部で前記第１の薄膜磁性層
に積層した第２の薄膜磁性層とを有し、前記積層部の積
層方向から見て前記第１１７）薄膜磁性層と前記第２の
薄膜磁性層との間の双方が共に存在しない空間部を介し
て巻線コイルを施したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド
。 ２）非磁性基板と、該基板上に装置した第１の薄膜磁性
層と、該第１の薄膜磁性・層の少なくとも一部に積層し
たギャップ材層と、夫々を該ギャップ材層の少なくとも
一部を介する互いに近接した積層部で前記第１の薄膜磁
性層に積層した一対の第２の薄膜磁性層とを有し、前記
積層部の積層方向から見て前記第１の薄膜磁性層と前記
一対の第２の薄膜磁性層との間の双方が共に存在しない
空間部に対応する前記基板の一部に巻線用の孔を夫々設
けたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59012490A JPH0664709B2 (ja) | 1984-01-26 | 1984-01-26 | 薄膜磁気ヘツド |
| US07/330,925 US4884156A (en) | 1984-01-26 | 1989-03-27 | Magnetic head having a thin-film and a coil |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59012490A JPH0664709B2 (ja) | 1984-01-26 | 1984-01-26 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60157711A true JPS60157711A (ja) | 1985-08-19 |
| JPH0664709B2 JPH0664709B2 (ja) | 1994-08-22 |
Family
ID=11806835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59012490A Expired - Fee Related JPH0664709B2 (ja) | 1984-01-26 | 1984-01-26 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4884156A (ja) |
| JP (1) | JPH0664709B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP0501617A2 (en) * | 1991-02-27 | 1992-09-02 | International Business Machines Corporation | Thin film magnetic read/write head |
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| EP0824751A1 (en) * | 1996-03-08 | 1998-02-25 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Multichannel magnetic head |
| US6856228B2 (en) * | 1999-11-23 | 2005-02-15 | Intel Corporation | Integrated inductor |
| US6891461B2 (en) * | 1999-11-23 | 2005-05-10 | Intel Corporation | Integrated transformer |
| US7852185B2 (en) * | 2003-05-05 | 2010-12-14 | Intel Corporation | On-die micro-transformer structures with magnetic materials |
| US20050231752A1 (en) * | 2004-04-16 | 2005-10-20 | Nokia Corporation | Image data transfer system and method |
| US8134548B2 (en) | 2005-06-30 | 2012-03-13 | Micron Technology, Inc. | DC-DC converter switching transistor current measurement technique |
| EP2117672B1 (en) | 2007-02-02 | 2013-01-23 | Donaldson Company, Inc. | Air filtration media pac |
| CN102438723B (zh) | 2007-06-26 | 2015-12-16 | 唐纳森公司 | 过滤介质包，过滤元件和方法 |
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| US3716677A (en) * | 1970-06-05 | 1973-02-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Multi-channel magnetic head |
| US3662119A (en) * | 1970-06-30 | 1972-05-09 | Ibm | Thin film magnetic transducer head |
| US4085430A (en) * | 1974-01-24 | 1978-04-18 | U.S. Philips Corporation | Thin film magnetic head with a gap formed between a loop shaped core part and a bridging core part |
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| DE2721452A1 (de) * | 1977-05-12 | 1978-11-16 | Siemens Ag | Integrierte magnetkopfstruktur und verfahren zu ihrer herstellung |
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-
1984
- 1984-01-26 JP JP59012490A patent/JPH0664709B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
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- 1989-03-27 US US07/330,925 patent/US4884156A/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0501617A2 (en) * | 1991-02-27 | 1992-09-02 | International Business Machines Corporation | Thin film magnetic read/write head |
| EP0501617A3 (ja) * | 1991-02-27 | 1994-04-27 | Ibm |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4884156A (en) | 1989-11-28 |
| JPH0664709B2 (ja) | 1994-08-22 |
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