JPS60153024A - レ−ザビ−ムを融通自在に構成するためのシステム - Google Patents
レ−ザビ−ムを融通自在に構成するためのシステムInfo
- Publication number
- JPS60153024A JPS60153024A JP59196931A JP19693184A JPS60153024A JP S60153024 A JPS60153024 A JP S60153024A JP 59196931 A JP59196931 A JP 59196931A JP 19693184 A JP19693184 A JP 19693184A JP S60153024 A JPS60153024 A JP S60153024A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- constituted
- magnifier
- propagation
- axis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 15
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 8
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 241001424413 Lucia Species 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/067—Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing
- B23K26/0673—Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing into independently operating sub-beams, e.g. beam multiplexing to provide laser beams for several stations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/0604—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/067—Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0019—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors)
- G02B19/0023—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors) at least one surface having optical power
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0028—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed refractive and reflective surfaces, e.g. non-imaging catadioptric systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0905—Dividing and/or superposing multiple light beams
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0911—Anamorphotic systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/1006—Beam splitting or combining systems for splitting or combining different wavelengths
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/143—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using macroscopically faceted or segmented reflective surfaces
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/144—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using partially transparent surfaces without spectral selectivity
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/145—Beam splitting or combining systems operating by reflection only having sequential partially reflecting surfaces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Laser Surgery Devices (AREA)
- Lasers (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレーザ源から各々の作業ステーションに、個々
のレーザビーム又は個々のビームを組合わせることによ
り得られそして成分ビームのパワーの和であるパワーを
有するビームを供給することができるパワーレーザビー
ムの融通自在な構成I flexible compo
sition)のだめのシステムに関する。
のレーザビーム又は個々のビームを組合わせることによ
り得られそして成分ビームのパワーの和であるパワーを
有するビームを供給することができるパワーレーザビー
ムの融通自在な構成I flexible compo
sition)のだめのシステムに関する。
レーザビームのエネルギーは材料熱処理から切断及び溶
接の如き機械的操作の範囲にわたる技術分野で広く使用
されており、そして種々の異なる特性及び・切−を有す
るビームが用途の種類に従って必要とされる。
接の如き機械的操作の範囲にわたる技術分野で広く使用
されており、そして種々の異なる特性及び・切−を有す
るビームが用途の種類に従って必要とされる。
故にそれは、各々のステーションが操作の種類及び加工
されるべきピースの種類(材料、寸法)に従って変るパ
ワーを吸収するところの種々の作業ステーションに供給
することを要求され得る。
されるべきピースの種類(材料、寸法)に従って変るパ
ワーを吸収するところの種々の作業ステーションに供給
することを要求され得る。
この問題は当該レーザビームがそっくりそのま甘で使用
されること又はよシ低いパワーのいくつかのビームに分
割されることを可能とする手段と共に、適当なパワーの
単一レーザ源を使用することによって解決することがで
きる。
されること又はよシ低いパワーのいくつかのビームに分
割されることを可能とする手段と共に、適当なパワーの
単一レーザ源を使用することによって解決することがで
きる。
しかしながら、必要とされる最大パワーが非常に高い場
合には、この種の解決はプラントの操作及び保全コスト
の故に経済的観点から又はシステムの複雑性及び単一レ
ーザ源において故障が発生する場合のスタンバイ(st
and−by)の全くないことの故に信頼性の観点から
便利とは言えない。
合には、この種の解決はプラントの操作及び保全コスト
の故に経済的観点から又はシステムの複雑性及び単一レ
ーザ源において故障が発生する場合のスタンバイ(st
and−by)の全くないことの故に信頼性の観点から
便利とは言えない。
これに反して、異なったレーザ源から発するいくつかの
レーザビームの利用可能性に基づく解決は操作において
及び将来の拡大の観点からより多様性であり、そしてよ
り高度の信頼性を有する。
レーザビームの利用可能性に基づく解決は操作において
及び将来の拡大の観点からより多様性であり、そしてよ
り高度の信頼性を有する。
何故ならば、すべてのレーザ源の同時故障による完全な
停止の確率は低いからである。
停止の確率は低いからである。
しかしながら、このような場合において、より低いパワ
ーのいくつかのビームから高パワーレーザビームを得る
という問題が解決されなければならない。この点におい
て、個々のビームが並べで(5ide −by−5id
e )伝搬されそして適当なフォーカシング装置(fo
cusing device )により共通の焦点で重
ね合わせられるところのシステムによっていくつかのレ
ーザビームを組合わせることが提唱された。
ーのいくつかのビームから高パワーレーザビームを得る
という問題が解決されなければならない。この点におい
て、個々のビームが並べで(5ide −by−5id
e )伝搬されそして適当なフォーカシング装置(fo
cusing device )により共通の焦点で重
ね合わせられるところのシステムによっていくつかのレ
ーザビームを組合わせることが提唱された。
しかしながら、これらの解決は機械的操作のために一般
的に必要とされろ7オーカシング(foc−using
)特性を有するレーザビームを得ることを可能としな
かった。
的に必要とされろ7オーカシング(foc−using
)特性を有するレーザビームを得ることを可能としな
かった。
本発明は同じビームを個々に又は操作上の要求に従って
組合せて使用することを可能とする並びにたとえばレー
ザ源の交換性及び作業ステーションの各々において入手
可能なパワーを変えることの最大の容易さの如き種々の
利点を有する、レーザビームの融通自在な構成のための
システムヲ提供する。
組合せて使用することを可能とする並びにたとえばレー
ザ源の交換性及び作業ステーションの各々において入手
可能なパワーを変えることの最大の容易さの如き種々の
利点を有する、レーザビームの融通自在な構成のための
システムヲ提供する。
本発明に従うシステムはレーザビームを放出することが
できる少なくとも2つのレーザ源と、作業ステーション
と、予め選ばれた入射角で配置された適当な鏡の対によ
シ構成されたデカップリングユニット(decolLp
ling unit )と、構成ユニット1 comp
osition unit )と、予め選ばれた入射角
で配置された可動鏡のマトリックスにより構成された方
向づけユニットを具備し、該方向づけユニツl相互に、
該レーザ源に及び該作業ステーションに作用的に接続さ
れており、該システムは該レーザ源の少なくとも1つが
実質的に塊状断面のビームを放出することができること
と、該構成ユニットが所定の伝搬方向において第1ビー
ムを供給することができる伝搬手段と、実質的に環状断
面の該ビームを反射するための少なくとも1つの穴付き
鐘(holed m1rror )を具備し、眼鏡の穴
は該第1ビームの外側寸法に実質的に等しい寸法を有し
、眼鏡は該第1ビームの前記伝搬方向に同軸に配置され
ておりそして予め選ばれた角度前記伝搬方向に対して傾
斜しており、眼鏡の下流で、成分ビームの同心断面によ
り構成された断面を有する複合ビームを入手することが
できることを特徴とする。
できる少なくとも2つのレーザ源と、作業ステーション
と、予め選ばれた入射角で配置された適当な鏡の対によ
シ構成されたデカップリングユニット(decolLp
ling unit )と、構成ユニット1 comp
osition unit )と、予め選ばれた入射角
で配置された可動鏡のマトリックスにより構成された方
向づけユニットを具備し、該方向づけユニツl相互に、
該レーザ源に及び該作業ステーションに作用的に接続さ
れており、該システムは該レーザ源の少なくとも1つが
実質的に塊状断面のビームを放出することができること
と、該構成ユニットが所定の伝搬方向において第1ビー
ムを供給することができる伝搬手段と、実質的に環状断
面の該ビームを反射するための少なくとも1つの穴付き
鐘(holed m1rror )を具備し、眼鏡の穴
は該第1ビームの外側寸法に実質的に等しい寸法を有し
、眼鏡は該第1ビームの前記伝搬方向に同軸に配置され
ておりそして予め選ばれた角度前記伝搬方向に対して傾
斜しており、眼鏡の下流で、成分ビームの同心断面によ
り構成された断面を有する複合ビームを入手することが
できることを特徴とする。
好ましい態様に従えば、前記構成ユニットはレーザビー
ムの同軸組合わせを行なうためにレーザビームの断面を
縮小し又は拡大することができるところのレーザビーム
の断面の寸法を変えるだめの手段も具備する。
ムの同軸組合わせを行なうためにレーザビームの断面を
縮小し又は拡大することができるところのレーザビーム
の断面の寸法を変えるだめの手段も具備する。
本発明の特徴及び利点は本発明の好ましい態様を非限定
的例として示す添付図面第1図乃至第4図を参照して以
下に説明する。
的例として示す添付図面第1図乃至第4図を参照して以
下に説明する。
第1図において、ブロックio、it、i2u連続CO
2型の3つの2.5 KWパワーレーザビーム源を表わ
す。
2型の3つの2.5 KWパワーレーザビーム源を表わ
す。
レーザ源10.、IL 12は線13.14.15によ
り示された3つのレーザビームが所定の水準で同じ面内
で伝搬するような方法で地上から適当な高さに配置され
ている。この特定の場合において3つのビームは環状断
面である。
り示された3つのレーザビームが所定の水準で同じ面内
で伝搬するような方法で地上から適当な高さに配置され
ている。この特定の場合において3つのビームは環状断
面である。
参照番号1611′i小さな入射角に配置された情の対
17及び18.19及び20.21及び22を含んで成
るデカップリング装置を全体として示す。
17及び18.19及び20.21及び22を含んで成
るデカップリング装置を全体として示す。
平担であり1.つ鋼構造体であるこれらの@は、所定の
源により放射されたビームを下流に配置された光学シス
テムの光軸と整列させろことが可能であるように2つの
直交軸(orthogonal awes )の捷わり
に回転する( 5w1vel )ことができる。
源により放射されたビームを下流に配置された光学シス
テムの光軸と整列させろことが可能であるように2つの
直交軸(orthogonal awes )の捷わり
に回転する( 5w1vel )ことができる。
参照番号23け、ユニット16を去る反射されたビーム
の伝搬の方向に配置されているところの、線24.25
.26により表わされた3つの人力チャンネルを具備す
る方向づけユニツ) (direc−1ing uri
it )を全体として示す。
の伝搬の方向に配置されているところの、線24.25
.26により表わされた3つの人力チャンネルを具備す
る方向づけユニツ) (direc−1ing uri
it )を全体として示す。
ユニット23は3つの円形平面鏡(flat circ
−ular m1rrors ) 27.28.29を
具備し、その各々は可動性であり、そして予め選ばれた
入射角、たとえは45°において作用位置に配置される
ことができる。
−ular m1rrors ) 27.28.29を
具備し、その各々は可動性であり、そして予め選ばれた
入射角、たとえは45°において作用位置に配置される
ことができる。
図において上記鏡は非作用位置においては点線で示され
、そして作用位置においては実線で示され、それらの中
心にチャンネル24から発するビーム13の軸線と一致
している。
、そして作用位置においては実線で示され、それらの中
心にチャンネル24から発するビーム13の軸線と一致
している。
ユニット23は30及び31により示された更に他の2
つの円形平面鏡を具備して成る。これらはやはり可動で
あり、そして予め選ばれた入射角(やはり45° )で
、入力チャンネル25及び26と整列されることができ
、ビーム14及び15は人カチャンネ)1./25及び
26から伝搬する。
つの円形平面鏡を具備して成る。これらはやはり可動で
あり、そして予め選ばれた入射角(やはり45° )で
、入力チャンネル25及び26と整列されることができ
、ビーム14及び15は人カチャンネ)1./25及び
26から伝搬する。
参照番号32は全体として構成ユニットを示し、これは
第2図にもつと詳細に示されている。ユニット32はそ
の光学入力軸(optical 1nputaハ8)を
、作用位置VCあるときの鐘27により反射されたビー
ムが伝搬せしめられるところの線34で示された方向に
なるようにして配置された公知型の縮少器(rechb
cer ) 33を具備する。第2図に示された如く、
共通の焦点を有する2つのコIJ メータレンズ35及
び36によ!2構成されている縮小器33の目的は、予
め選ばれた縮少係数(reduction facto
r )だけ相似的にビーム13の断面を縮少させること
である。
第2図にもつと詳細に示されている。ユニット32はそ
の光学入力軸(optical 1nputaハ8)を
、作用位置VCあるときの鐘27により反射されたビー
ムが伝搬せしめられるところの線34で示された方向に
なるようにして配置された公知型の縮少器(rechb
cer ) 33を具備する。第2図に示された如く、
共通の焦点を有する2つのコIJ メータレンズ35及
び36によ!2構成されている縮小器33の目的は、予
め選ばれた縮少係数(reduction facto
r )だけ相似的にビーム13の断面を縮少させること
である。
縮小器33の下流には平面鏡37がその中心を該縮小器
33の光軸上にして配置されている。
33の光軸上にして配置されている。
参照番号38は、鏡37に同軸に配置されそしてその中
心が鏡28(ビーム13)又は鏡30(ビーム14)に
より反射されたビームの線39により表わされ/ζ軸線
と一致している穴つき平面鏡を示す。
心が鏡28(ビーム13)又は鏡30(ビーム14)に
より反射されたビームの線39により表わされ/ζ軸線
と一致している穴つき平面鏡を示す。
鏡38の穴の内側寸法は鏡28又は鏡30により反射さ
れたビームの内側寸法に実質的に等しくそして鏡37に
より反射されたビームの外側寸法にも実質的に等しい。
れたビームの内側寸法に実質的に等しくそして鏡37に
より反射されたビームの外側寸法にも実質的に等しい。
ユニット32ばその光軸(optical axis
)が作用位置にあるときの鏡29により反射されたビー
ム13又は鏡31により反射されたビーム15が伝搬せ
しめられるところの線41により表わされた方向に配置
されている公知型の拡大器(expa−nder)40
も具備する。
)が作用位置にあるときの鏡29により反射されたビー
ム13又は鏡31により反射されたビーム15が伝搬せ
しめられるところの線41により表わされた方向に配置
されている公知型の拡大器(expa−nder)40
も具備する。
拡大器40l−1t2つの鏡、即ち第2図に示された如
く、球形キャップ形状の凸面鏡42及び球形セグメント
の形態にある凹面鏡43により構成されている。上記拡
大器の目的は鏡29により反射されたビーム13又は鏡
31により反射されたビーム15の断面を予め選ばれた
拡大係数だけ相似的に拡大することである。
く、球形キャップ形状の凸面鏡42及び球形セグメント
の形態にある凹面鏡43により構成されている。上記拡
大器の目的は鏡29により反射されたビーム13又は鏡
31により反射されたビーム15の断面を予め選ばれた
拡大係数だけ相似的に拡大することである。
或いは、拡大器40idビーム15の軸線に対して所定
の角度傾斜したその光軸を有することができる。この場
合に、第4図に示された如く、拡大器は2つの鏡、即ち
、両方共球形キャッグ形状(5pherical ca
p 5hape )の凸面伎442及び凹面鏡443に
より構成することができる。2つの鏡はそれらの軸線を
平行ならしめ、そして鏡442の光軸はビーム15の軸
線に対して傾斜している。
の角度傾斜したその光軸を有することができる。この場
合に、第4図に示された如く、拡大器は2つの鏡、即ち
、両方共球形キャッグ形状(5pherical ca
p 5hape )の凸面伎442及び凹面鏡443に
より構成することができる。2つの鏡はそれらの軸線を
平行ならしめ、そして鏡442の光軸はビーム15の軸
線に対して傾斜している。
拡大器40の下流には鏡37及び38に同軸でありそし
て拡大器40の光軸と一致しているその中心を有する穴
つき平面鏡44が配置されている。
て拡大器40の光軸と一致しているその中心を有する穴
つき平面鏡44が配置されている。
*44の内径は拡大器40により反射されたビームの内
径に実質的に等しくそして鏡38により反射れたビーム
の外径にも実質的に等【7い。
径に実質的に等しくそして鏡38により反射れたビーム
の外径にも実質的に等【7い。
ユニット23及び32は4つの出力チャンネル45.4
6.47.48を具備する。これらの内:、初めの3つ
はそれぞれ入力チャンネル24.25.26に同軸であ
り、それらの目的は個々のレーザビーム(13又Ir1
14又は15)を放出することである。第4番目のもの
は鏡37.38.44に同軸であり、その目的は2つの
個々のビームの和f13+15又#″tl 4+15又
は13+14)又は3つの個々のビームの和[13+1
4+15)であるビームを放出することである。
6.47.48を具備する。これらの内:、初めの3つ
はそれぞれ入力チャンネル24.25.26に同軸であ
り、それらの目的は個々のレーザビーム(13又Ir1
14又は15)を放出することである。第4番目のもの
は鏡37.38.44に同軸であり、その目的は2つの
個々のビームの和f13+15又#″tl 4+15又
は13+14)又は3つの個々のビームの和[13+1
4+15)であるビームを放出することである。
第1図において、参照番号49ば、ユニット23及び3
2の出力チャンネルの数と作業ステーションの数との積
に等しい数の可動鏡のマ) IJソクスの形態にある方
向づけユニットを示す。
2の出力チャンネルの数と作業ステーションの数との積
に等しい数の可動鏡のマ) IJソクスの形態にある方
向づけユニットを示す。
この特定の場合には、5つの作業ステーションがあり、
従ってユニット49は5つの可動平面鏡50−54.5
5−59.60−64及び65−69の4つの列(co
llLmn)を具備する。各列の各鏡はその非作用位置
(点線により示された)からその作用位置(実線により
示された)まで動かすことができ、作用位置においては
、それはユニット23及び32の出力チャンネルと同心
に且つユニット49の出力チャンネル70−74の1つ
に同軸に配置されている。
従ってユニット49は5つの可動平面鏡50−54.5
5−59.60−64及び65−69の4つの列(co
llLmn)を具備する。各列の各鏡はその非作用位置
(点線により示された)からその作用位置(実線により
示された)まで動かすことができ、作用位置においては
、それはユニット23及び32の出力チャンネルと同心
に且つユニット49の出力チャンネル70−74の1つ
に同軸に配置されている。
ブロック75.76.77.78.79により表わされ
ている作業ステーションは溶接及び熱処理の如き種々の
機械的操作を行なうために設けられている。
ている作業ステーションは溶接及び熱処理の如き種々の
機械的操作を行なうために設けられている。
レーザ源to、11,12により放出された3つのレー
ザビーム13.14.15は、5つの作業ステーション
の何れかの3つに個々に供給することができ、そしてこ
の場合に方向づけユニット23の鏡にすべてそれらの非
作用位置にあり、これに対して方向づけユニット49に
おいては3つの鐘、即ちチャンネル45.46.47と
整列した列と出力チャンネル70.71,72.73.
74のうちの3つと整列した行との交点に位置した鏡が
その作用位置にある。
ザビーム13.14.15は、5つの作業ステーション
の何れかの3つに個々に供給することができ、そしてこ
の場合に方向づけユニット23の鏡にすべてそれらの非
作用位置にあり、これに対して方向づけユニット49に
おいては3つの鐘、即ちチャンネル45.46.47と
整列した列と出力チャンネル70.71,72.73.
74のうちの3つと整列した行との交点に位置した鏡が
その作用位置にある。
3つのレーザビーム13.14.15のすべて又はそれ
らの2つの和から得られるビームを作業ステーションに
供給することもできる。第1の場合においては、鏡27
.30.31はユニット23においてその作用位置に配
置されそして3つのレーザビーム13.14.15が構
成ユニット32に向けて反射される。
らの2つの和から得られるビームを作業ステーションに
供給することもできる。第1の場合においては、鏡27
.30.31はユニット23においてその作用位置に配
置されそして3つのレーザビーム13.14.15が構
成ユニット32に向けて反射される。
縮小器33のレンズ35及び36を通過すると、ビーム
13I/′i第2図に示された如く、相似形の断面縮小
を受けそしてこの縮小した状態において、鏡37によっ
て出力チャンネル48の方向に反射される。ビーム■4
は穴つき鏡38にぶつかりそして出力チャンネル48の
方向においてビーム13と同軸に反射される。ビーム1
5I″i拡大器40を通過し、その際凸面鏡42にぶつ
かり、それから該ビームは凹面鏡43に向けて相似形に
拡大されて反射される。凹面鏡43からビームは穴つき
平面鏡44に向けて反射され、平面鏡44はそれ自体、
ビームを出力チャンネル48の方向にビーム13及び1
4に同軸に反射する。
13I/′i第2図に示された如く、相似形の断面縮小
を受けそしてこの縮小した状態において、鏡37によっ
て出力チャンネル48の方向に反射される。ビーム■4
は穴つき鏡38にぶつかりそして出力チャンネル48の
方向においてビーム13と同軸に反射される。ビーム1
5I″i拡大器40を通過し、その際凸面鏡42にぶつ
かり、それから該ビームは凹面鏡43に向けて相似形に
拡大されて反射される。凹面鏡43からビームは穴つき
平面鏡44に向けて反射され、平面鏡44はそれ自体、
ビームを出力チャンネル48の方向にビーム13及び1
4に同軸に反射する。
かくしてこのチャンネルにおいてはその断面が成分ビー
ムの同心断面により構成されている複合ビームが入手可
能である。
ムの同心断面により構成されている複合ビームが入手可
能である。
この複合ビームは、チャンネル48と整列(〜だ列と、
関連した作業ステーションに接続さnている出力チャン
ネル70乃至74と整列した行との交点でその作業位置
に配置されたユニット49の鈍vCよって作業ステーシ
ョンの何れか1つに向けて方向づけられる。
関連した作業ステーションに接続さnている出力チャン
ネル70乃至74と整列した行との交点でその作業位置
に配置されたユニット49の鈍vCよって作業ステーシ
ョンの何れか1つに向けて方向づけられる。
2つのみのビームの和で6.Rビームは類似した方法に
より得ることができる。この場合には、3つのビームの
内2つのみが構成ユニット32に向けて反射される。
より得ることができる。この場合には、3つのビームの
内2つのみが構成ユニット32に向けて反射される。
このようにして形成されたシステムは非常に融通自在で
ある。何故ならば、レーザ源により放出された3つのレ
ーザビームの何れか1つ又は上記入手可能なビームの2
つの和もしくは3つの和であるビームを5つの作業ステ
ーションの何の工つにも供給することができるからであ
る。
ある。何故ならば、レーザ源により放出された3つのレ
ーザビームの何れか1つ又は上記入手可能なビームの2
つの和もしくは3つの和であるビームを5つの作業ステ
ーションの何の工つにも供給することができるからであ
る。
本システムの他の利点は、特定の構成部品を必要とする
ことなく、商業的に入手可能な構成部品からそれが構成
され得ることである。
ことなく、商業的に入手可能な構成部品からそれが構成
され得ることである。
第3図は第1図のシステムの修正を示す。いくらかの部
品は同じ参照番号により示されており、これに対して方
向づけユニット23及び49は修正されており、そして
ここでは参照番号343及び349により示されている
。
品は同じ参照番号により示されており、これに対して方
向づけユニット23及び49は修正されており、そして
ここでは参照番号343及び349により示されている
。
ユニット343は310.311. 312により示さ
れた3つの可動@會具備し、これらは矢印313.31
4.315の方向において並進運動(tran、s 1
atary motion)を受けることができろ。
れた3つの可動@會具備し、これらは矢印313.31
4.315の方向において並進運動(tran、s 1
atary motion)を受けることができろ。
これらの鏡はかぐしてそれらの非作用位置の他に種々の
異なる作用位置をとることができろ。
異なる作用位置をとることができろ。
ユニツl−349は、矢印321.322.323.3
24.325の方向において、即ちチャンネル45.4
6.47.48から入ろことができろビームの伝搬方向
に対して90°以外であることがでさろ角度だけ傾斜し
た方向において並進運動を受けろことができる5つの可
動鏡316.317.318.319.320を具備す
る。
24.325の方向において、即ちチャンネル45.4
6.47.48から入ろことができろビームの伝搬方向
に対して90°以外であることがでさろ角度だけ傾斜し
た方向において並進運動を受けろことができる5つの可
動鏡316.317.318.319.320を具備す
る。
やはりこの場合においても、並進せしめられることによ
って、鏡1−i非作用位置の他に種々の異なった作用位
%°、をとろことができろ。
って、鏡1−i非作用位置の他に種々の異なった作用位
%°、をとろことができろ。
第1図の態様ど比較して、この態様は実質的により少な
い数の光学要素を使用するという利点及び作業ステーシ
ョンの種々の異なる位置を許容するという利点を有する
。
い数の光学要素を使用するという利点及び作業ステーシ
ョンの種々の異なる位置を許容するという利点を有する
。
第1図は本発明の融通自在な構成システムの1つの態様
の線図である。 第之−図ビ第1図のシステムの一部を詳細に示す図であ
る。 第3図は第1図のシステムの修正した態様を示す。 第4図は第2図の態様の修正を示す。 図において 10、II、12・・・・・−7ぐワーレーザビーム源
、16・・・・・・デカップリングユニット、17.1
8:19,20:21,22;・・・・・・鏡の対、2
3・・・・・・方向づけユニット、24.25.26・
・・・・・入力チャンネル、27.28.29.30.
31・・・・・・円形平面鏡、32・・・・・・構成ユ
ニット、33・・・・・・縮小器、35.36・・・・
・・コリメータレンズ、37・・・・・・平面鏡、38
・・・・・・穴付き平面鏡、40・・・・・・拡大器、
42・・・・・・凸面鏡、43・・・・・・凹面鏡、4
4・・・・・・穴付き平面鏡、45.46.47.48
・・・・・・出力チャンネル、49・・・−二・・方向
づけユニツ上−,50〜5−、、J 、55〜59.6
0〜64.65〜69・・・・・・可動平面鏡、70〜
74・・・・・・出力チャンネル、75.76.77.
78.79・・・・・・作業ステーション、310.3
11,312・・・・・・可動鏡、316.317.3
18.319.320・・・・・・可動鏡、343.3
49・・・・・・方向づけユニツl−1442・・・・
・・凸面鏡、443・・・・・・凹面鏡、である。 第1頁の続き 0発 明 者 リノ ・グリソニ イタリア国コモ@発
明 者 ピンチェンソオ・ファ イタリア国ミランテ
イーニ ンッオー二53 @発明者 ジョバンニ・インチェ イタリア国ミラルテ
イ 0発 明 者 ルチアー7・ガリフオ イタリア国ミラ
0出 願 人 シーアイエスイー−チ イタリア国ミラ
エントロ串インフオル マツイオニ・ステユデ イ・エスペリエンツ エ・ソチェタ拳ペル・ アチオニ ・カンドウ′ ・ビア11フエブライ第14ノ・セスト
サンジョバンニ・ビアドン ノ・ビアパ下バ276 ノ・ビアアジャッチョ13 ノ・ビアカルドウッチ14
の線図である。 第之−図ビ第1図のシステムの一部を詳細に示す図であ
る。 第3図は第1図のシステムの修正した態様を示す。 第4図は第2図の態様の修正を示す。 図において 10、II、12・・・・・−7ぐワーレーザビーム源
、16・・・・・・デカップリングユニット、17.1
8:19,20:21,22;・・・・・・鏡の対、2
3・・・・・・方向づけユニット、24.25.26・
・・・・・入力チャンネル、27.28.29.30.
31・・・・・・円形平面鏡、32・・・・・・構成ユ
ニット、33・・・・・・縮小器、35.36・・・・
・・コリメータレンズ、37・・・・・・平面鏡、38
・・・・・・穴付き平面鏡、40・・・・・・拡大器、
42・・・・・・凸面鏡、43・・・・・・凹面鏡、4
4・・・・・・穴付き平面鏡、45.46.47.48
・・・・・・出力チャンネル、49・・・−二・・方向
づけユニツ上−,50〜5−、、J 、55〜59.6
0〜64.65〜69・・・・・・可動平面鏡、70〜
74・・・・・・出力チャンネル、75.76.77.
78.79・・・・・・作業ステーション、310.3
11,312・・・・・・可動鏡、316.317.3
18.319.320・・・・・・可動鏡、343.3
49・・・・・・方向づけユニツl−1442・・・・
・・凸面鏡、443・・・・・・凹面鏡、である。 第1頁の続き 0発 明 者 リノ ・グリソニ イタリア国コモ@発
明 者 ピンチェンソオ・ファ イタリア国ミランテ
イーニ ンッオー二53 @発明者 ジョバンニ・インチェ イタリア国ミラルテ
イ 0発 明 者 ルチアー7・ガリフオ イタリア国ミラ
0出 願 人 シーアイエスイー−チ イタリア国ミラ
エントロ串インフオル マツイオニ・ステユデ イ・エスペリエンツ エ・ソチェタ拳ペル・ アチオニ ・カンドウ′ ・ビア11フエブライ第14ノ・セスト
サンジョバンニ・ビアドン ノ・ビアパ下バ276 ノ・ビアアジャッチョ13 ノ・ビアカルドウッチ14
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 レーザビームを放出することかで@る少なくとも
2つのレーザ源と、作業ステーションと、予め選ばれた
入射角で配置された適当な鏡の対により構成されたデカ
ップリングユニットと、構成ユニットと、予め選ばれた
入射角で配置された可動鏡のマトリックスにより構成さ
れた方向づけユニットを具備し、該方向づけユニットハ
相互に、該レーザ源に及び該作業ステーションに作用的
に接続されているようにしたレーザビームの融通自在な
構成のためのシステムにおいて、 該レーザ源の少なくとも1つは実質的に環状断面のビー
ムを放出することができることと、該構成ユニラードが
所定の伝搬方向において第1ビームを供給することがで
きる伝搬手段と、実質的に環状断面の該ビームを反射す
るだめの少なくとも1つの穴付き鏡を具備し、眼鏡の穴
は該第1ビームの外側寸法に実質的に等しい寸法を有し
、眼鏡は該第1ビームの前記伝搬方向に同軸に配置され
ておりそして予め選ばれた角度だけ前記伝搬方向に対し
て傾斜(−でおり、眼鏡の下流で成分ビームの同心断面
により構成された断面を有する複合ビームを入手するこ
とができることを特徴とするシステム。 2 該構成ユニットは該レーザビームの少なくとも1つ
の断面の寸法を変えるだめの手段も具備することを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載のシステム。 3 前記変動手段が該第ル−ザビームの軸線と整列した
その光軸を有する縮小器により構成されていることを特
徴とする特許請求の範囲第2項記載のシステム。 4、 該縮小器は2つのコリメータレンズにより構成さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の
システム。 5、該変動手段は実質的に環状断面の該ビームの軸線と
整列したその光軸を有する拡大器により構成されている
ことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載のシステム
。 6、該拡大器は2つの鏡、即ち球形カップ形状の凸面鏡
及び球形セグメント形状の凹面鏡により構成されている
ことを特徴とする特許請求の範囲第5項記載のシステム
。 7 該変動手段は、その入口要素の光軸が実質的に環状
断面の該ビームの軸線に対して予め選ばれた角度傾斜せ
しめられている拡大器により構成されていることを特徴
とする特許請求の範囲第2項記載のシステム。 8、該拡大器は2つの鏡、即ち両方共球状キャップ形状
の凸面鏡及び凹面鏡により構成され、該2つの鏡はそれ
らの軸線を平行にして且つ凸面鏡の光軸は入力ビームの
軸線に対して所定の角度傾斜しているようにして配置さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第7項記載の
システム。 9、該構成ユニットは実質的に環状断面の更に他のビー
ムの軸線と整列したその光軸を有する拡大器及び該更に
他のビームを反射するための更に他の穴付き鏡も具備し
、該拡大器の下流に配置されている眼鏡は前記第2のビ
ームの外側寸法に等しいその穴の内側寸法を有しており
、そして該第エピームの該伝搬方向に同軸に配置されセ
して該伝搬方向に対して予め選ばれた角度傾斜している
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のシステム
。 lO該構盛ユニットは、実質的に環状断面の更に他のビ
ームの軸線に対して所定の角度その入口要素の光軸が傾
斜せしめられている拡大器及び該更に他のビームを反射
するための更に他の穴付き鏡も具備し、該拡大器の下流
に配置されている眼鏡は前記第2のビームの外側寸法に
等しいその穴の内側寸法を有し、そして該第1ビームの
前記伝搬方向に同軸に配置されそして該伝搬方向に対し
て予め選ばれた角度傾斜(〜ていることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載のシステム。 11、前記伝搬手段が、前記伝搬方向にお−で配置され
たその軸線を有する千面競により構成されていることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載のシステム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT24272/83A IT1165499B (it) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | Sisteam per la composizione flessibile di fasci laser |
IT24272A/83 | 1983-12-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60153024A true JPS60153024A (ja) | 1985-08-12 |
Family
ID=11212863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59196931A Pending JPS60153024A (ja) | 1983-12-20 | 1984-09-21 | レ−ザビ−ムを融通自在に構成するためのシステム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4613206A (ja) |
JP (1) | JPS60153024A (ja) |
DE (1) | DE3432655A1 (ja) |
GB (1) | GB2151808B (ja) |
IT (1) | IT1165499B (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61293694A (ja) * | 1985-06-20 | 1986-12-24 | Toshiba Corp | レ−ザ加工機 |
JPS6347714A (ja) * | 1986-08-14 | 1988-02-29 | Yoshiaki Arata | レ−ザビ−ム重畳方法 |
JPH03106585A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-05-07 | Amada Co Ltd | ビームスイッチング装置 |
JPH0875947A (ja) * | 1994-07-06 | 1996-03-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 光ファイバの結合方法及びその結合系 |
JPH0943537A (ja) * | 1995-07-31 | 1997-02-14 | Nec Corp | レーザビーム合成装置 |
JP2009049311A (ja) * | 2007-08-22 | 2009-03-05 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
KR101278425B1 (ko) * | 2008-12-27 | 2013-06-24 | 에너제틱 테크놀로지 아이엔씨. | 광원 장치 |
JP5603992B1 (ja) * | 2013-10-29 | 2014-10-08 | 川崎重工業株式会社 | レーザビーム合成装置 |
JP2016075786A (ja) * | 2014-10-06 | 2016-05-12 | 川崎重工業株式会社 | レーザビーム合成装置 |
RU2760443C1 (ru) * | 2020-12-07 | 2021-11-25 | Общество с Ограниченной Ответственностью Научно Исследовательский Центр «Астрофизика» | Устройство фокусировки для лазерной обработки |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3743902A1 (de) * | 1986-12-26 | 1988-07-07 | Mitsubishi Electric Corp | Laserbearbeitungsvorrichtung |
US4820899A (en) * | 1987-03-03 | 1989-04-11 | Nikon Corporation | Laser beam working system |
JPH02193637A (ja) * | 1989-01-23 | 1990-07-31 | Kowa Co | 眼科測定装置 |
US5579166A (en) * | 1992-08-05 | 1996-11-26 | Beiting; Edward J. | Precision optical pulse train generator |
US6259560B1 (en) | 1999-04-16 | 2001-07-10 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Continuously variable beam combiner |
US6542304B2 (en) * | 1999-05-17 | 2003-04-01 | Toolz, Ltd. | Laser beam device with apertured reflective element |
GB0619943D0 (en) | 2006-10-09 | 2006-11-15 | Digital Projection Ltd | Light source |
DE102013218483A1 (de) * | 2013-09-16 | 2015-03-19 | Homag Holzbearbeitungssysteme Gmbh | Verfahren zur Laserbearbeitung sowie Bearbeitungsmaschine |
FR3021762B1 (fr) * | 2014-06-02 | 2017-09-15 | Schneider Electric Ind Sas | Systeme de detection |
GB2539252B (en) * | 2015-06-12 | 2017-08-23 | Thales Holdings Uk Plc | Optical apparatus |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4934214A (ja) * | 1972-07-28 | 1974-03-29 | ||
JPS52102697A (en) * | 1976-02-23 | 1977-08-29 | Jersey Nuclear Avco Isotopes | Device for enhancing laser pulse rate |
JPS5843420A (ja) * | 1981-09-08 | 1983-03-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レ−ザ用外部光学装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1662693A (en) * | 1925-01-26 | 1928-03-13 | Astafiev Michael | Optical system |
US1812765A (en) * | 1928-09-07 | 1931-06-30 | Art Photogravure Company Ltd | Optical system |
FR2296288A1 (fr) * | 1974-12-23 | 1976-07-23 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif d'amplification d'impulsions laser |
US4266854A (en) * | 1976-02-23 | 1981-05-12 | Jersey Nuclear-Avco Isotopes, Inc. | System for increasing laser pulse rate |
IL50516A (en) * | 1976-02-23 | 1978-09-29 | Jersey Nuclear Avco Isotopes | System for combining laser beams of diverse frequencies |
GB1553582A (en) * | 1977-04-14 | 1979-09-26 | Boc Ltd | Laser beam splitting apparatus |
US4170405A (en) * | 1977-11-04 | 1979-10-09 | United Technologies Corporation | Resonator having coupled cavities with intercavity beam expansion elements |
US4164366A (en) * | 1977-11-04 | 1979-08-14 | United Technologies Corporation | Variable output coupled resonator |
US4190814A (en) * | 1978-03-01 | 1980-02-26 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Single axis resonator for laser |
US4194813A (en) * | 1978-10-13 | 1980-03-25 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Vacuum aperture isolator for retroreflection from laser-irradiated target |
US4265510A (en) * | 1979-05-16 | 1981-05-05 | Hughes Aircraft Company | Three mirror anastigmatic optical system |
IE53138B1 (en) * | 1981-03-06 | 1988-07-20 | Perkin Elmer Corp | Optical beam splitter |
JPS5969979A (ja) * | 1982-10-15 | 1984-04-20 | Hitachi Ltd | レ−ザ光源装置 |
-
1983
- 1983-12-20 IT IT24272/83A patent/IT1165499B/it active
-
1984
- 1984-09-03 GB GB08422215A patent/GB2151808B/en not_active Expired
- 1984-09-05 DE DE19843432655 patent/DE3432655A1/de not_active Withdrawn
- 1984-09-07 US US06/648,260 patent/US4613206A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-09-21 JP JP59196931A patent/JPS60153024A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4934214A (ja) * | 1972-07-28 | 1974-03-29 | ||
JPS52102697A (en) * | 1976-02-23 | 1977-08-29 | Jersey Nuclear Avco Isotopes | Device for enhancing laser pulse rate |
JPS5843420A (ja) * | 1981-09-08 | 1983-03-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レ−ザ用外部光学装置 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61293694A (ja) * | 1985-06-20 | 1986-12-24 | Toshiba Corp | レ−ザ加工機 |
JPS6347714A (ja) * | 1986-08-14 | 1988-02-29 | Yoshiaki Arata | レ−ザビ−ム重畳方法 |
JPH03106585A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-05-07 | Amada Co Ltd | ビームスイッチング装置 |
JPH0875947A (ja) * | 1994-07-06 | 1996-03-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 光ファイバの結合方法及びその結合系 |
JPH0943537A (ja) * | 1995-07-31 | 1997-02-14 | Nec Corp | レーザビーム合成装置 |
JP2009049311A (ja) * | 2007-08-22 | 2009-03-05 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
KR101278425B1 (ko) * | 2008-12-27 | 2013-06-24 | 에너제틱 테크놀로지 아이엔씨. | 광원 장치 |
JP5603992B1 (ja) * | 2013-10-29 | 2014-10-08 | 川崎重工業株式会社 | レーザビーム合成装置 |
WO2015064017A1 (ja) * | 2013-10-29 | 2015-05-07 | 川崎重工業株式会社 | レーザビーム合成装置 |
EP3064986A4 (en) * | 2013-10-29 | 2017-07-26 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Laser-beam synthesis device |
US9746681B2 (en) | 2013-10-29 | 2017-08-29 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Laser beam combining device |
EP3470910A1 (en) * | 2013-10-29 | 2019-04-17 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Laser-beam synthesis device |
JP2016075786A (ja) * | 2014-10-06 | 2016-05-12 | 川崎重工業株式会社 | レーザビーム合成装置 |
RU2760443C1 (ru) * | 2020-12-07 | 2021-11-25 | Общество с Ограниченной Ответственностью Научно Исследовательский Центр «Астрофизика» | Устройство фокусировки для лазерной обработки |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IT8324272A0 (it) | 1983-12-20 |
GB2151808B (en) | 1987-11-11 |
DE3432655A1 (de) | 1985-07-04 |
US4613206A (en) | 1986-09-23 |
IT8324272A1 (it) | 1985-06-20 |
GB2151808A (en) | 1985-07-24 |
IT1165499B (it) | 1987-04-22 |
GB8422215D0 (en) | 1984-10-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS60153024A (ja) | レ−ザビ−ムを融通自在に構成するためのシステム | |
US5523884A (en) | Optical beam delivery system | |
US4953950A (en) | Apparatus for producing ultra-high power ultra-high density laser beam | |
US6337873B1 (en) | Optical arrangement for balancing the beam of one or more high power diode lasers arranged one above another | |
US6102552A (en) | Laser-array based digital illuminator | |
AU8311791A (en) | High power light source | |
US3731992A (en) | Spiral grooved liquid cooled laser mirror | |
JPH10510933A (ja) | 複数のダイオードレーザアレイの放射光の集束及び整形のための装置 | |
GB1412955A (en) | Catoptric lens arrangement | |
EP1008212A4 (en) | DIRECT HIGH-PERFORMANCE LASER DIODE SYSTEM WITH HIGH EFFICIENCY AND RELATED PROCESSES | |
JPH10508122A (ja) | レーザダイオードシステム用の光学装置 | |
JP3989375B2 (ja) | 光線形成装置、光線を導光ファイバに結合するための構成ならびに前記光線形成装置または前記構成のための光線回転ユニット | |
CN107121781A (zh) | 光束整形装置 | |
US6324190B1 (en) | Device with at least one beam source and an arrangement for geometric reshaping of the radiation field emitted by the beam source | |
JP2007334350A (ja) | レーザ光線の均一な角度分布生成装置 | |
ES2175119T3 (es) | Dispositivo de lentes y aparato de captacion optica que utiliza el dispositivo de lentes. | |
WO2011043682A4 (en) | Method and device for coupling laser light derived from at least two laser sources into one optical fiber | |
JPH0557475A (ja) | レーザ光学装置 | |
CN114465075A (zh) | 一种产生一字线组的一字线激光器 | |
JPS5455184A (en) | Semiconductor laser light source unit | |
CN104577682B (zh) | 非稳成像谐振腔 | |
CN213437781U (zh) | 紧凑型高功率光隔离器 | |
GB1095078A (en) | Improvements relating to unit magnification catadioptric systems | |
CN218728351U (zh) | 一种基于直角棱镜的激光一字线效应切换装置 | |
CN117543320A (zh) | 紧凑化激光输出方法、激光输出头和激光器件 |