JPS60145614A - 回転微動機構 - Google Patents

回転微動機構

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JPS60145614A
JPS60145614A JP59001275A JP127584A JPS60145614A JP S60145614 A JPS60145614 A JP S60145614A JP 59001275 A JP59001275 A JP 59001275A JP 127584 A JP127584 A JP 127584A JP S60145614 A JPS60145614 A JP S60145614A
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JP
Japan
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drive
members
moving
fine movement
movement mechanism
Prior art date
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Pending
Application number
JP59001275A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuyoshi Sugihara
和佳 杉原
Toru Tojo
東条 徹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP59001275A priority Critical patent/JPS60145614A/ja
Publication of JPS60145614A publication Critical patent/JPS60145614A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は、物体を高精度に位置決めできる微動機構の改
良に関する。
〔従来技術とその問題点〕
近年、半導体ウェハやマスク基板等の試料に微細パタン
を形成するものとして電子ビーム描u1.+i装置、縮
小投影形転写装置およびX線転写装置等が開発されてい
るが、この種の装置ではサブミクロン単位の精度を保持
するために、微小に駆動する駆動機構が必要となる。ま
・た」二記装置に限らず、測定器で精密な測定を行なう
分野等においても、高精度を有する微動駆動機構が必要
である。
このような微動駆動機構として最近発明者等は第1図(
a) 、 (b)に示す如き回転微動機構を考案した(
特願昭57−19328号)。この方式では、微小0 
ステップが0.005μm程度の微動可能な素子を用い
て、1回転以上の回転ができる。この回転機構について
説明する。第1図(、)は平面図で(blは同図(a)
の矢視A−A断面図を示している。図中1は回転板であ
り、この回転板1は半円板状の第1および第2の移動部
材2,3を弾性ヒンジ4で接続して構成されている。な
お実際には円板の中心軸を対称とする該円板の外周部2
ケ所をそれぞれ一部切欠くとともに、該切欠部から中心
軸に向ってそれぞれ切欠みを設けることによって上記移
動部材2゜3および弾性ヒンジ4からなる回転円板1が
形成される。そして回転円板1は基台5上に移動自在に
載置されるると共にその中心である弾性ヒンジ4の下面
に設けたビン6によって回転中心が規定されている。
回転板1の前記切欠部には、第1および第2の駆動部材
7,8がそれぞれ設けられている。これらの駆動部材7
,8はそれぞれの印加電圧に応じて伸縮する圧電素子か
らなるもので、その伸縮方向(図中に示す矢印方向)の
両端に前記第1および第2の移動部材2,3がそれぞれ
固定されている。なお、この固定は、接着、ねじ止め、
圧入等のいずれであっても良い。また第1の駆動部材7
にはスイッチ9aを介して可変電圧電源10aが接続さ
れ第2の駆動部材8にはスイッチ9bを介して可変電圧
電源10bが接続されるものとなっている。
一方、前記第1の移動部材2の下部(=は、゛屯11a
および絶縁物11b、llcからなる静電チャック11
が設けられており、上記電極11aと前記基台5との間
にスイッチ13aを介して電源14aを接続することに
より第1の移動部材2が基台5」二に吸着固定されるも
のとなっている。また第2の移動部材3の下部には、上
記静電チャック11と同様な第2の静電チャック12が
設けられ”Cおり、このチャック12により第2の移動
部材3がジ&台5上に吸着固定されるものとなっている
このように構成された回転微動機構では、まず前記第2
の静電チャック12により第2の移動部材3を基台5上
に吸着固定する。この状態で第1の駆動部材7を伸長さ
せると共に、第2の駆動部材8を縮長させる。これによ
り第1の移動部材は、第2図(、)に示す如く弾性ヒン
ジ4を中心として矢印方向P方向に微小回転する。次に
前記第1の静電チャック11により第1の移動部材2を
基台5上に固定し、その徒弟2の静電チャック12によ
る第2の移動部材3の固定を解除する。この状態で第1
の駆動部材7を縮長させると共に第2の駆動部材8を伸
長させると第2の移動部材3が第2図(b)に示す如く
弾性ヒンジな中心にして回転することになる。
かくして回転板1を微動駆動し得ると共にこの繰返し動
作によって回転ストロークを長くとることができる。さ
らに駆動部材7,8に印加する電圧を調整することによ
って、回転数の粗動および超微動を容易に行なうことが
できる。ところで、このような機構(二あっては、次の
ような問題点があった。すなわち部品の加工誤差あるい
は組立誤差から移動部材2,3と固定部材11,12と
の隙間を同一にすることができない。このため、11を
伸ばすと同時に12を締めると、これと同時(=、駆動
部材7,8を駆動しても移動部材2が確実に固定されて
いる(あるいは移動部材3が確実にフリーになる)こと
が不十分で駆動部材7,8の伸縮に伴なって、移動部材
2が動いてしまう(あるいは移動部材3が動かない)こ
とがあり、回転板1が正常に動かないあるいはガタつく
ことがあった。また固定部材と回転板との固有振動数が
5゛モなるため、固定部材の伸縮と回転板の駆動部例の
伸縮とを同時に行なうと固定部材あるいは回転板が印加
電圧に対して追従しないことがある。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、微動駆動が可能で回転ストロークを十
分長くすることができ、さらに駆動時に伴うガ!夕の7
・発生をも未然に防止することができ、かつ信頼性の極
めて閥い回転微動機構を提供するものである。
〔発明の4a要〕 本発明の骨子は、圧電効果を有する駆動部材に電圧を繰
り返し印加して回転板を長ストローク回転させる際(=
、前記各駆動部材に印加する電圧波形間の位相に任意の
遅延時間を設けることにある。
すなわち本発明は、基台上に移動自在に載置された第1
および第2の移動部材と、印す口電圧に応じて伸縮する
圧電素子からなりその伸縮方向両端に上記第1および第
2の移動部材がそれぞれ取着された駆動部材と、上記第
1および第2の移動部材な前記基台上に交互に固定する
と共にこれらの移動部材の少なくとも一方を常に固定す
る固定部材と、上記第1および第2の移動部材の回転中
心を決定する手段と、上記駆動部材に所定の電圧を印加
する手段とを具倫し、前記駆動部材の伸縮作用および前
記固定部材の固定作用により前記第1および第2の移動
部材を単一の軸心を中心として回転せしめる回転微動機
構において、前記各駆動部材に印加する電圧波形間の位
相に任意の遅延時間を設けて、前記駆動部材に風圧を印
加するようにしたものである。
〔発明の効果〕
本発明によれば、電圧を駆動部材に繰り返し印加して、
回転板を長ストローク回転させる際に移動部材を確実に
固定してから駆動部材を伸縮させ、他の移動部材を駆動
することができ、移動が確実に行なわれ、移動部材の固
定切り換えに伴なう不本意な移動部材の動きを抑えるこ
とができ、装置の信頼性を高めることができる。
回転微動機構が出しうる限界の角速度で駆動することが
h」能となる。摺動部の摩耗等による材料の変形に対応
した駆動をさせることができる。
〔発明の実施例〕
第3図は本発明の実施例の櫃1略構成を示すものである
。なお第1図(,1(blと同一部分には同一符号を付
して、その詳しい説明は省略する。
この実施例が前記第1図(a) (b)に示した機構と
異なる点は、KJ記スイッチ9a、9bと13aと13
bの投入タイミングをずらせるようにしたことによる。
すなわち@4図に示すようにφ、〜φ、までの遅延時間
を設け、駆動するものとなっている。尚図中、τはライ
ズタイムである。
本発明の構成であれば、nil記の残留振動が終了して
移動部IFA’ 3を固定部材12に確実(−固定して
から移動部材2を駆動部材7,8を)5μ動させて回転
させること電二なる。したがって移動部材の周定切り換
えに伴なう移動部材の不本意な動きを確実に抑えること
ができる。
ディレィタイムを適当に設定することによって回転微動
機構をその構造で出しうる限界の角速度で駆動すること
ができる。また摺接部の摩耗等によって材料が変形して
もディレィタイムを設定し直すことによって駆動できる
ように対応することができる。
なお、遅延時間の設定は、回転微動機構の仕様(f14
100追従速度)に応じて適宜変更すればよい。
それぞれ上記機構の作用を説明するための模式図、第3
図は本発明の一実施例に係わる回転微動機構の概略構成
を示す構成図、第4図は本発明の詳細な説明するための
特性図である。
l・・・回転板、2・・・第1の移動部材、3・・・第
2の移動部材、4・・・弾性ヒンジ、5・・・基台、6
・・・ビン、7 、8 ・・・駆動部材、9a、9b、
13a、13b −7,イッチ、10a、10b、14
a、14b−電源、11 、12 ・・・固定部材、2
0a、20b、20c、20d ・−・スイッチング回
路、21−・・ディレィタイム設定回路。
(7317)弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名) ttfl) tel) tM tb)(b) 第 3 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基台上に移動自在に載置された第1および第2の
    移動部材と印加電圧に応じて伸縮する圧霜素子からなり
    その伸縮方向両端に上記第1および第2の移動部材が収
    着された駆動部材と、上記第1および第2の移動部材を
    前記基台上に交互に固定するとともにこれらの移動部材
    の少なくとも一方を常に固定する固定部材と、上記第1
    および第2の移動部材の回転中心を決定する手段とを具
    備し、前記駆動部材の伸縮作用および前記固定部材の固
    定作用により前記第1および第2の移動部材を回転せし
    める回転微動機構において、前記駆動部材への印加電圧
    波形と前記各固定部材への印加電圧波形との位相を任意
    の遅延時間でずらして駆動するようにしたことを特徴と
    する回転微動機構(2)前記の任意の遅延時間は調整可
    能であることを特徴とする特許請求範囲第1項記載の回
    転微動機構。
JP59001275A 1984-01-10 1984-01-10 回転微動機構 Pending JPS60145614A (ja)

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JP59001275A JPS60145614A (ja) 1984-01-10 1984-01-10 回転微動機構

Applications Claiming Priority (1)

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JP59001275A JPS60145614A (ja) 1984-01-10 1984-01-10 回転微動機構

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JPS60145614A true JPS60145614A (ja) 1985-08-01

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ID=11496905

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59001275A Pending JPS60145614A (ja) 1984-01-10 1984-01-10 回転微動機構

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58139681A (ja) * 1982-02-09 1983-08-19 Toshiba Corp 回転微動機構

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58139681A (ja) * 1982-02-09 1983-08-19 Toshiba Corp 回転微動機構

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