JPS6013960U - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPS6013960U JPS6013960U JP10605883U JP10605883U JPS6013960U JP S6013960 U JPS6013960 U JP S6013960U JP 10605883 U JP10605883 U JP 10605883U JP 10605883 U JP10605883 U JP 10605883U JP S6013960 U JPS6013960 U JP S6013960U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma processing
- processing equipment
- ring
- metal
- processing apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来のプラズマ処理装置の模式的概略構成図、
第2図は本考案の一実施例のプラズマ処理装置の模式的
概略構成図、第3図は同じくプラズマ処理装置のゲート
の平面図、第4図は同じくゲートシニル部の要部拡大断
面図である。 図において3はチャンバー、6は試料、20は試料送入
用ゲート、21は外側の01Jング、22は内側のOリ
ングを示す。 第3図 第4図
第2図は本考案の一実施例のプラズマ処理装置の模式的
概略構成図、第3図は同じくプラズマ処理装置のゲート
の平面図、第4図は同じくゲートシニル部の要部拡大断
面図である。 図において3はチャンバー、6は試料、20は試料送入
用ゲート、21は外側の01Jング、22は内側のOリ
ングを示す。 第3図 第4図
Claims (1)
- 試料送入用ゲートのOリングを二重にシール構成とし、
内側のOリングに金属、或は金属コートコムを用いた構
造を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10605883U JPS6013960U (ja) | 1983-07-07 | 1983-07-07 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10605883U JPS6013960U (ja) | 1983-07-07 | 1983-07-07 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6013960U true JPS6013960U (ja) | 1985-01-30 |
JPS6233014Y2 JPS6233014Y2 (ja) | 1987-08-24 |
Family
ID=30248351
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10605883U Granted JPS6013960U (ja) | 1983-07-07 | 1983-07-07 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6013960U (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62102827A (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-13 | Natl Res Inst For Metals | 金属窒化物微粒子の製造法 |
JP2009252635A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置のシール構造、シール方法およびプラズマ処理装置 |
WO2010113891A1 (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-07 | 東京エレクトロン株式会社 | ゲートバルブ装置およびこれを備える基板処理装置 |
JP2020028826A (ja) * | 2018-08-21 | 2020-02-27 | 株式会社荏原製作所 | 希ガス回収装置および希ガス回収方法 |
-
1983
- 1983-07-07 JP JP10605883U patent/JPS6013960U/ja active Granted
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62102827A (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-13 | Natl Res Inst For Metals | 金属窒化物微粒子の製造法 |
JP2009252635A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置のシール構造、シール方法およびプラズマ処理装置 |
WO2010113891A1 (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-07 | 東京エレクトロン株式会社 | ゲートバルブ装置およびこれを備える基板処理装置 |
JP2010236661A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Tokyo Electron Ltd | ゲートバルブ装置 |
JP2020028826A (ja) * | 2018-08-21 | 2020-02-27 | 株式会社荏原製作所 | 希ガス回収装置および希ガス回収方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6233014Y2 (ja) | 1987-08-24 |
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