JPS6013960U - プラズマ処理装置 - Google Patents

プラズマ処理装置

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JPS6013960U
JPS6013960U JP10605883U JP10605883U JPS6013960U JP S6013960 U JPS6013960 U JP S6013960U JP 10605883 U JP10605883 U JP 10605883U JP 10605883 U JP10605883 U JP 10605883U JP S6013960 U JPS6013960 U JP S6013960U
Authority
JP
Japan
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plasma processing
processing equipment
ring
metal
processing apparatus
Prior art date
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Granted
Application number
JP10605883U
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English (en)
Other versions
JPS6233014Y2 (ja
Inventor
敦弘 筑根
喜美 塩谷
幹夫 高木
Original Assignee
富士通株式会社
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Publication date
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  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来のプラズマ処理装置の模式的概略構成図、
第２図は本考案の一実施例のプラズマ処理装置の模式的
概略構成図、第３図は同じくプラズマ処理装置のゲート
の平面図、第４図は同じくゲートシニル部の要部拡大断
面図である。 図において３はチャンバー、６は試料、２０は試料送入
用ゲート、２１は外側の０１Ｊング、２２は内側のＯリ
ングを示す。 第３図 第４図

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 試料送入用ゲートのＯリングを二重にシール構成とし、
    内側のＯリングに金属、或は金属コートコムを用いた構
    造を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
JP10605883U 1983-07-07 1983-07-07 プラズマ処理装置 Granted JPS6013960U (ja)

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JP10605883U JPS6013960U (ja) 1983-07-07 1983-07-07 プラズマ処理装置

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JP10605883U JPS6013960U (ja) 1983-07-07 1983-07-07 プラズマ処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6013960U true JPS6013960U (ja) 1985-01-30
JPS6233014Y2 JPS6233014Y2 (ja) 1987-08-24

Family

ID=30248351

Family Applications (1)

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JP10605883U Granted JPS6013960U (ja) 1983-07-07 1983-07-07 プラズマ処理装置

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62102827A (ja) * 1985-10-29 1987-05-13 Natl Res Inst For Metals 金属窒化物微粒子の製造法
JP2009252635A (ja) * 2008-04-09 2009-10-29 Tokyo Electron Ltd プラズマ処理装置のシール構造、シール方法およびプラズマ処理装置
WO2010113891A1 (ja) * 2009-03-31 2010-10-07 東京エレクトロン株式会社 ゲートバルブ装置およびこれを備える基板処理装置
JP2020028826A (ja) * 2018-08-21 2020-02-27 株式会社荏原製作所 希ガス回収装置および希ガス回収方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62102827A (ja) * 1985-10-29 1987-05-13 Natl Res Inst For Metals 金属窒化物微粒子の製造法
JP2009252635A (ja) * 2008-04-09 2009-10-29 Tokyo Electron Ltd プラズマ処理装置のシール構造、シール方法およびプラズマ処理装置
WO2010113891A1 (ja) * 2009-03-31 2010-10-07 東京エレクトロン株式会社 ゲートバルブ装置およびこれを備える基板処理装置
JP2010236661A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Tokyo Electron Ltd ゲートバルブ装置
JP2020028826A (ja) * 2018-08-21 2020-02-27 株式会社荏原製作所 希ガス回収装置および希ガス回収方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6233014Y2 (ja) 1987-08-24

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