JPS60129750A - 感光性平版印刷版の現像液 - Google Patents

感光性平版印刷版の現像液

Info

Publication number
JPS60129750A
JPS60129750A JP23770183A JP23770183A JPS60129750A JP S60129750 A JPS60129750 A JP S60129750A JP 23770183 A JP23770183 A JP 23770183A JP 23770183 A JP23770183 A JP 23770183A JP S60129750 A JPS60129750 A JP S60129750A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
developing
photosensitive
same
soln
photosensitive layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP23770183A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0354340B2 (ja
Inventor
Hiroshi Matsumoto
博 松本
Hitoshi Hagiwara
均 萩原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP23770183A priority Critical patent/JPS60129750A/ja
Publication of JPS60129750A publication Critical patent/JPS60129750A/ja
Publication of JPH0354340B2 publication Critical patent/JPH0354340B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は0−キノンジアジド化合物を感光性成分とする
感光性平版印刷版の改良された現像液に関するものであ
る。
〔従来技術〕
0−キノ/ジアジド化合物は活性光線の照射によりジア
ゾ基が分解し、カルボキシ基を有する化合物となること
が知られている。従って0−キノンジアジド化合物を含
む感光層は、画像露光後にアルカリ性現像液によシ処理
されると露光部分が除去され未露光部が画像となるので
、所謂ポジーポジ型感光性成分として特に近年感光性平
版印刷版の感光層あるいはエツチング用フォトレジスト
組成物として極めて重用されている。特に0−キノンジ
アジド化合物にアルカリ可溶性シ旨を混合した組成物が
経済性、実用性から有利に使用され、中でもノボラック
型のフェノールホルムアルデヒド縮合樹脂、又はクレゾ
ールホルムアルデヒド縮合樹脂と混合されたものが一般
に用いられている。
これら0−キノンジアジド感光層の現像液としては第三
燐酸ソーダ、苛性ソーダ、珪酸ソーダ、珪酸カリウム、
珪酸アンモニウム等の単独あるいは混合された水溶液が
用いられている。しかし苛性ソーダ、第三燐酸ソーダ水
溶液などはアルミニウムなどの金属へのエツチング作用
が強く現像時間によって金属支持体を使用した感光性平
版印刷版の現像液としては不都合である。また現像結果
が極めて変動し易く、甚だしい場合は、現像時間の僅か
の超過で画像が欠落してしまうことがあった。
また反復使用による現像能力の低下が激しく一定容量に
おける感光性平版印刷版の処理可能な量(処理能力)は
非常に少ない。そこで近年珪酸ソーダ水溶液又は珪酸カ
リウム水溶液が比較的有利に使用されている。それ杜金
縞に対するエツチング作用が乏しいこと\同時に、珪酸
ソーダ又は珪酸カリウムの成分である酸化珪素($10
.) と酸化ナトリウム(Na2O) 又は酸化カリウ
ム(K2O)の含有環率(一般に8102/ Na2O
又は5102/に20のモル比で表わす)と濃度によっ
である程度現像性の調整が可能とされるためである。す
なわち5102 が多くなるに従い現像力が抑制され現
像安定性が高まp、Na2O又はに20 が多くなると
現像力が高まり現像安定性が低下する。こ\で言う現像
安定性゛とは、現像時間に対する画像の安定性のことで
Na2O又はに20 のみが多くなると短時間で画像の
欠落が起シ烏くなる。
一定容量での処理能力はNa2O又はに2O含有量の高
い方が良い。従って810./Na、O比又はS to
/ K2O比を現像力、現像安定性の面で調整しながら
全濃度を高めていくことによっである程度の現像力、安
定性と共に処理能力を得ることができる。
しかし乍ら、いずれの点をも満たすには不充分で現偉力
を基準におけば安定性に欠け、安定性に基準をおけば現
像力、処理能力に欠ける傾向があった。また比較的高濃
度とするために沈殿が生成し易く、使用後の廃液処理に
際し中和用の酸の使用量が多くなるなどの欠点があった
。以上述べた苛性ソーダ、第三燐酸ソーダ、珪酸ソーダ
、珪酸カリウム等の現像液の問題点を要約すれば、アル
カリ強度を高めれば現像力、処理能力に秀れるが現像安
定性に欠け、現像安定性を得るためにはアルカリ濃度を
低くしなければならず、従って処理能力に欠けることに
なる。従ってアルカリ強度の高い状態で現像安定性を得
ることができれば現像力、処理能力いずれにも秀れた現
像液を得ることができる。
アルカリ強度の高い状態で現像安定性を得る方法として
現像液にアニオン界面活性剤又は両性界面活性剤を添加
する方法が特開昭30−!;/32グ号公報に、また水
溶性カチオニツクポリマーを添加する方法が特開昭に!
;−939’lA号公報に、水溶性の両性高分子電解質
を添加する方法が特開昭!;/、−/’12!;2g号
公報に記載されている。
しかしこれらの現像液はいずれも自動現像機を用いて現
像すると現像途中で発泡するという欠点を有していた。
また特開昭S!−コ!;100号公報には周期律表11
A、IIIAおよび■Bの還移元素のイオン性化合物を
添加することが記載されている。
この場合陽極酸化したアルミニウム支持体の強アルカリ
によるエツチングを抑える効果はあるが、現像安定性は
十分でなかった。
〔発明の目的〕
従って、本発明の目的は現像力、現像安定性、処理能力
、発泡性等いずれにも優れた匪像液を提供することにあ
る。
〔発明の構成〕
本発明者らはこれらの点を鋭意研究の結果、珪酸アルカ
リ水溶液中に後述の水溶性ジアミン化合物を含有させる
ことによって、0−キノンジアジド感光層の改良された
現像液が得られることを見出した。
すなわち本発明は、珪酸アルカリ水溶液に下記の一般式
で表わされる水溶性化合物を000/〜70重量%含有
させたことを特徴とする、0−キノンジアジド感光層を
有する感光性平版印刷版の現像液である。
式中、R0〜R8は同一でも異なっていてもよく、Hま
たはCH,を示し、R0〜R72は同一でも異なってい
てもよく、H、CH5,COR13またはC0NR14
を示し、R43およびR4,は、アルキル基、アリール
基、アルケニル基またはアルキニル基を示し、aけa〜
/2の整数、b、C,d、e、f。
g、hおよび1は同一でも異なっていてもよく、θ〜3
OOの整数を示し、(b+f)(CH6)(d+h)(
CH1)+(7である。
上記一般式で表わされる化合物のうち特に好ましいもの
は、R□= R2= R,= R,= CH3、R5=
 R,= R。
=R8=HN R9=R10” R11=R12” H
まだはCOR,3、R13−アルキルであり、エチレン
オキサイドが総分子中lI0〜go東量チ含まれ、プロ
ピレンオキサイドの分子量範囲が2.000−左、θ0
θであり、aが、2〜乙の整数であるような化合物であ
る。
以下本発明を更に詳細に説明する。
本発明に用いられる珪酸アルカリとしては珪酸ナトリウ
ム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウム等
があり、単独又は組合せて用いることが出来る。珪酸ア
ルカリの5102/M20 モル比(Mはアルカリ金属
をあられす。)は05〜.3.0が好ましく、lθ〜2
.0が特に好ましい。上記のモル比が3.0を越えるに
つれて現像性が低下する傾向がある。また上記モル比が
θ左より小さくなるにつれてアルカリ強度が高くなって
いくので、感光性平版印刷版の支持体として汎用されて
いるアルミニウム板等の金属をエツチングする弊害が出
てくるようになる。現像液中の珪酸アルカリの濃度は/
〜10重瞳チが好ましく、/、3〜7重j・チが特に好
ましい。/θ重貴チより高くなると沈殿や結晶が生成し
やすくなり、まだ廃液時の中和に際してゲル化しや丁く
なるので廃液処理がめんどうとなる。また、/重量%よ
り低くなると現像力、処理能力が低くなる。
本発明に用いられる最も特徴的な成分である水溶性化合
物は、前記一般式で示されるジアミン化合物である。
前記一般式においてR13およびR14によって表わさ
れるアルキル基としては、例えばCH3゜CH3CH2
,CH3(CH2)21 CH,!(CH2)3. C
H3(CH2)41CH3(CH2)7 * CH3(
CH2)81 CH3(CH2)101CH3(CH2
)、2. CH3(CH2)、4. CH3(CH2)
16゜CH3(CH2)181 CH3(CH2)2o
、CH3(CH2) 。
2 CH5(CH2)24 等の炭素数/−2左の直鎖また
は分校のアルギル基が好ましい。また、R工、およびR
14によって表わされるアリール基としては例えば、フ
ェニル。
CH3 基およびこれらに直鎖または分枝のアルキル基で置換基
を有するものが含まれる。
また、R03およびR14によって表わされるアルケニ
ル基またはアルキニル基としては、例えばCH,= C
H(CH2)ツ − 、CH3CH2CH=CH(CH
2)7− 。
CH,3(CH2)5CH=CH−、CH3(CH2)
、CH=CH−。
CH3(CH2)、C)l(OH)CH2CH2CH=
CH(CH2)、、−。
CH3(CH2)1゜CH=CH(CH2)4− 、 
CH3(CH2)5CH=CH(CH2)、−。
CH3(CH2)4 CH2CH2H2CH=CH(C
H2)? −。
CH3CH2CH=CHCH2CH=CHCH2CH=
CH(CH3)、−。
CH,!(CHz)3(CH=CH)3(CH8)、 
−。
CH3(CH2)8 (CH=CH)3 (CH2)a
co(CH2)z −1CH3(CH2)7C三C(C
H2)、−1CH3(CH2)、CH=CH(CH2)
、−等の炭素数9〜2ダのものが挙げられる。
これらの水溶性化合物の例としては、地竜化工業(株ン
の商品名テトロニックの商品カタログ等に記載されてい
る化合物を挙げることができる。
これらの水溶性化合物の添加量は現像液に対して0、0
0 /〜10重量%が適しており、より好ましい添加量
の範囲は0.ρO3〜5重量%である。
本発明の現像液が適用される0−キノンジアジド感光層
とは、活性光照射によりアルカリ可溶性を増す0−キノ
ンジアジド化合物を感光性成分として含有する感光性複
写層である。
か\る感光材料についてはJ・コーサー著「ライトーセ
ンシテイブシステムズJ (John wlley &
5ons、Inc、) あるいは「感光性樹脂データ集
」(綜合化学研究新編)などに詳細に記されている。
特に芳香族ポリヒドロキシ化合物の0−キノンジアジド
スルホン酸エステルとアルカリ可溶性樹脂、例、tばフ
ェノール樹脂、クレゾール樹脂、スチレン/無水マレイ
ン酸共重合体など、とを混合したものが一般に良く使わ
れ、平版印刷用感光板(プレセンシタイズド版)、フォ
トエツチング用レジストなどに用いられている。これら
の内でも本発明の現像液は0−キノンジアジド感光層を
有するポジ型感光性印刷版(以下、ポジ型88版と称も
)の現像液として特にすぐれている。かかるポジ型88
版は、基本的には支持体としてのアルミニウム板上に、
0−キノンジアジド化合物からなる感光層を有するもの
である。好適なアルミニウム板には、純アルミニウム板
およびアルミニウム合金板が含まれ、更にアルミニウム
がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルム
も含まれる。
アルミニウム板の表面は砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗
化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬
処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされて
いることが好ましい。また、砂目立てしたのちに米国特
許第、2,7/’l、066号明細書に記載されている
如く、珪酸ナトリウム水溶液に浸漬されたアルミニウム
板、特公昭47−、t/、2&号公報に記載されている
ようにアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アル
カリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使
用される。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム
酸、硫酸、硼酸節の体墳層 =12叶蓚酸、スルファミ
ノ酸等の有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液
の単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニ
ウム板を陽極として電流を流すことにより実施される。
また、米国特許第3.6!;g、 662号明細書に記
載されているようなシリケート電着も有効である。
更には米国特許第’1.Og7.311/号明細書、特
公昭’76−27グg/号公報、特開昭32−30S0
3号公報に開示されているような電解グレインを施した
支持体を上記のように陽極酸化処理したものも有用であ
る。更に、米国特許第3.ざ31I、99g号明細書に
記されているような砂目立てしたのちに化学的にエツチ
ングし、しかるのちに陽極酸化処理したアルミニウム板
も好ましい。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられる感光性組成物
との有害な反応を防ぐため、更には感光層との密着性を
向上させる為などの種々の目的をもって施されるもので
ある。
支持体の親水性表面の上に設けられる感光層は0−キノ
ンジアジド化合物からなる。特に好ましいO−キノンジ
アジド化合物は0−ナフトキノンジアジド化合物であシ
、例えば米国特許第3.0グ6,170号、同第3゜θ
lIt、iii号、同第3,0グA、//、2号、同第
、?、01It6.//S号、同第、7.0’ll、、
118号、同第3.O’11、、 779号、同第3.
θ’It、720号、同、第、?、o4tt、/、2/
号、同第3.0弘6.722号、同第3.O’l−1,
、/、2,7号、同第3,01./。
1I30号、同第3,102.g09−号、同第3゜7
06.965号、同第、?、A、?、t、709号、同
第3.Al17.1IlIj号の各明細書をはじめ、多
数の刊行物に記されておシ、これらは好適に使用するこ
とができる。これらの内でも、特に芳香族ヒドロキシ化
合物の0−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルま
たは0−ナフトキノンジアジドカルボン酸エステル、お
よび芳香族アミノ化合物の0−ナフトキノンジアジドス
ルホン酸アミドまたはO−ナフトキノンジアジドカルボ
ン酸アミドが好ましく、特に米国特許第3.l、3.!
−,り09号明細書に記されているピロガロールとアセ
トンとの縮合物にO−ナフトキノンジアジドスルホン酸
をエステル反応させたもの、米国特許第ダ。
01g、111号明細書に記されている末端にヒドロキ
シ基を有するポリエステルに0−ナフトキノンジアジド
スルホン酸、または0−ナフトキノンジアジドカルボン
酸をエステル反応させたもの、英国特許第1. II?
4t、0グ3号明細書に記されているようなp−ヒドロ
キシスチレンのホモポリマーまたはこれと他の共重合し
得るモノマーとの共重合体に0−ナフトキノンジアジド
スルホン酸または0−ナフトキノンジアジドカルボン酸
をエステル反応させたもの、米国特許第j、’1!;9
゜7//号明細書に記されているようなp−アミノスチ
レンと他の共重合しうるモノマーとの共重合体に0−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸または0−ナフトキノン
ジアジドカルボン酸をアミド反応させたものは非常にす
ぐれている。
これらの0−キノンジアジド化合物は1.単独で使用す
ることができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合し、この
混合物を感光層として設けた方が好ましい。好適なアル
カリ可溶性樹脂には、ノボラック型フェノール樹脂が含
まれ、具体的には、フェノールホルムアルデヒド樹脂、
0−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂などが含まれる。更に特開昭Sθ
−/2!;gθ6号公報に記されている様に上記のよう
なフェノール樹脂と共に、t−ブチルフェノールホルム
アルデヒド樹脂のような炭素数3〜gのアルキル基で置
換されたフェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒ
ドとの縮合物とを併用すると、より一層好ましい。アル
カリ可溶性樹脂は、感光層中に約3θ〜約ざS重量、よ
り好ましくは60〜g0重ffi: % 、含有させら
れる。
0−キノンジアジド化合物からなる感光層には、必要に
応じて更に染料、可塑剤、プリントアウト性能を与える
成分などの添加剤を加えることができる。
一番11汁 OCU鍔 ム譬1嘉卆+ l” yt: 
頻l餉太畝1j−石l餉立I+ 詰・非画像部(支持体
表面)とコントラストを与えるようにする為に用いられ
るものであり、例えばC0+、2A、/θ3(オイルレ
ッドRR)、C,I。
、2/、260Cオイルス力−レツト#130g )、
C01,グコ、!;9!;Cオイルブルー)、C,l。
左コ、θ15(メチレンブルー)、C,1,+、2゜、
5−!f、t (クリスタルバイオレット)などのアル
コール可溶性染料が好ましい。かかる染料は、感光性印
刷版の露光および現像によシ露出された支持体の親水性
表面の色と、感光層の残存する部分とが明確なコントラ
ストを与えるに十分な量だけ添加すれば良く、一般的に
は感光性組成物全量に対して約7重量−以下の範囲で含
有させるのが適当である。
可塑剤は支持体に設けられた感光層が所望の可撓性を有
するようにするために有効であシ、例えば、ジメチルフ
タレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、
シイノブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オク
チルカブリールフタレート、ジシクロへキシルフタレー
ト、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレー
ト、ジイソデシルフタレート、ジ−アリールフタレート
などのフタル酸エステル類、ジメチルグリコールフタレ
ート、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフ
タリールエチルグリコレート、ブチルフタリールブチル
グリコレート、トリエチレングリコールシカプリル酸エ
ステルなどのグリコールエステル類、トリクレジールホ
スフェート、トリフェニルホスフェートなどの燐酸エス
テル類、シイノブチルアジペート、ジオクチルアジペー
ト、ジメチルセバケート、ジメチルセバケート、ジオク
チルアゼレート、ジブチルマレエートなどの脂肪族二塩
基酸エステル類、ポリグリシジルメタクリレート、クエ
ン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラ
ウリン酸ブチル等が有効である。
可塑剤は、感光性組成物全員に対して約5重量−以下含
有させられる。
プリントアウト材料は、18版の感光層を画像露光する
ことにより、直ちに可視画像が観察できるようにする為
のものである。例えば英国特許第1、O’l/、Ill
、3号明細書に記されているようなpu指示薬、米国特
許第3.949.118号明細書に記されている様な。
−ナフトキノンジアジドーケースルホニルクロライドと
染料との組合せ、特公昭11’l−1,1713号公報
に記されているフォトクロミック化合物などがある。更
に、特開昭!t2−g002−号公報に記されているよ
うに感光層中に環状酸無水物を加えることにより感度を
、。
上昇させることができる。
かかる0−ナフトキノンジアジドからなる感光性組成物
は適当な溶剤の溶液から支持体上に塗布される。適当な
る溶剤としてはエチレングリコールモノメチルエーテル
、エチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸コーメ
トキシエチルなどのグリコールエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類
、エチレンジクロライド等の塩素化炭化水素類等が含ま
れる。
支持体上に設けられる。−キノンジアジド化合物からな
る感光層の塗布量は約03〜約7 f / m’であり
、より好ましくは15〜J P / m ”である。
かくして得られるポジ型P s)&は透明原図を通して
カーボンアーク灯、水銀灯、メタルノ・ライドランプ、
キセノンランプ、タングステンランプなどの活性光線の
豊富な光線により露光されると、その部分はアルカリ可
溶性に変る。従って、本発明の現像液で処理すると、感
光層の露光部分は溶出され、支持体の親水性表面が露出
される。
〔発明の効果〕
これらの感光材料に本発明の現像液を用いることにより
第一に現像安定性が高まり現像条件の管理が極めて容易
となる。第二に処理能力が高まり少量で多くの感光材料
を現像できる。第三に、使用済液の排出が少なくて済み
廃液処理が容易でおる等の利点をもたらす。
〔実施例〕
以下実施例をもって本発明の詳細な説明する。
実施例/−1 特公昭1I3−−gllo、y号公報実施例/に記載者
J’l イL+ z −’F 1−L −/ L 17
’ m Jf T−1n、^爵ΔMm1f (り得られ
るポリヒドロキシフェニルのナフトキノy−/、2−ジ
アジ)’ −jt−スルホン酸エステルθgM量部とノ
ボラック型メタバラ混合クレシルホルムアルデヒド樹脂
、2.2重量部、ノボラック型オクチルフェノールホル
ムアルデヒド樹脂θ02重量部、無水フタル酸θ0gM
量部、コートリクロルメチルー&−(p−メトキシスチ
リル)−ム3、ダーオキサジアゾールθ01Lt重量部
およびクリスタルバイオレットのパラトルエンスルホン
酸塩003重量部を20重量部のメチルセロソルブアセ
テートとざ重量部のメチルエチルケトンに溶解して感光
液を調製した。厚さ03咽のナイロンブラシで砂目立さ
れたアルミニウム版をアルカリでエツチングした後、硝
酸水溶液中で更に電解エツチングし、続いて硫酸水溶液
中で陽極酸化しく陽極酸化皮膜量2.7f/m”)、そ
の後70℃の酢酸亜鉛水溶液で処理し良く洗浄した後に
乾燥し、その上に上記感光液を回転塗布機によって塗布
乾燥して約2.0 f / m ”の感光層を有する感
光板を君今−どの威を胛π潟麿苫θ7ケのステップウエ
ツジと網点ウェッジを通して富士写真フィルム(株)製
PSライト(2kw メタルハライドランプ)を用いて
露光した。一方現像液として5I02/Na2Oモル比
的/、lの珪酸ソーダコ重景チ水溶液/lに表1の化合
物を添加した現像液を作製した。
露光焼付された感光版を2枚づつ、23cに保たれたそ
れぞれの現像液に浸漬し、7枚は7分後、他の7枚は3
分後に取シ出し水洗した。表コには溶出した、ステップ
ウェッジの段数と網点ウェッジのハイライト部の網点再
現性の結果を示す。
表 2 表コよシ、比較例/の珪酸ナトリウム水溶液単独にくら
べ実施例/−1の現像液は現像性が極めて安定であるこ
とが判る。更に実施例/と−の現像液について現像処理
能力を調べたがいずれもlt当り3m”の感光版を現像
した後も充分な現像力を維持していた。
実施例S〜g 実施例/の感光版を用いて現像液として310□7に2
0モル比7.2の珪酸カリウムの2S重i%の水溶液i
tに表3の化合物を添加したものを用いて実施例/と同
様の方法で現像した。その結果を表1に示す。
表ダ 表グより比較例コの珪酸カリウム水溶液単独にくらべ実
施例5〜gの現像液は現像性が極めて安定であることが
判る。更に実施例乙の現像液について現像処理能力を調
べたが、いずれもit当クシ3mの感光版を現像した後
も充分な現像力を維持していた。
又、実施例S〜gの各現像液の処理後の廃液を水に/:
lで希釈して塩酸で中和したが、いずれもゲルの発生は
見られず簡単に中和処理を施すことができた。
実施例デ 実施例/において、そこで用いたナフトキノンジアジド
化合物の替りにビスフェノールへのナフトキノン−/、
2−ジアジド−3−スルホン酸エステルを用いた感光版
を用いて同様に現像処理しだが、実施例1の場合と同様
の結果が得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 珪酸アルカリ水溶液に、下記の一般式で表わされる水溶
    性化合物を、0001〜70重量%含有させたことを特
    徴とする、0−キノンシアーシト感光層を有する感光性
    平版印刷版の現像液。 式中、R工〜R8は同一でも異なっていてもよく、Hま
    たはCH3を示し、R0〜R工、は同一でも異なってい
    てもよく、H、CH!I−COR1!IまたはC0N)
    (R工。を示し、RljllおよびR14は、アルキル
    基、アリール基、アルケニル基またはアルキニル基を示
    し、aはa〜/2の整数、b’l C@ d 1e、f
    、 g、hおよびIは同一でも異なっていてもよく、θ
    〜300の整数を示し、(b+f)(cog)(d+h
    )(θ+1)Noである。
JP23770183A 1983-12-16 1983-12-16 感光性平版印刷版の現像液 Granted JPS60129750A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23770183A JPS60129750A (ja) 1983-12-16 1983-12-16 感光性平版印刷版の現像液

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23770183A JPS60129750A (ja) 1983-12-16 1983-12-16 感光性平版印刷版の現像液

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60129750A true JPS60129750A (ja) 1985-07-11
JPH0354340B2 JPH0354340B2 (ja) 1991-08-19

Family

ID=17019223

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23770183A Granted JPS60129750A (ja) 1983-12-16 1983-12-16 感光性平版印刷版の現像液

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60129750A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62175738A (ja) * 1986-01-30 1987-08-01 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 現像液
JPH01223449A (ja) * 1988-03-03 1989-09-06 Konica Corp 0−キノンジアジド化合物を含有する感光材料の現像液
EP1314552A2 (en) 1998-04-06 2003-05-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive resin composition
EP1457836A2 (en) 2003-03-10 2004-09-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Developing solution for lithographic printing plate precursor and method for preparing lithographic printing plate
US7442493B2 (en) * 2004-10-08 2008-10-28 Fujifilm Corporation Lithographic printing method

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62175738A (ja) * 1986-01-30 1987-08-01 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 現像液
JPH0573228B2 (ja) * 1986-01-30 1993-10-13 Japan Synthetic Rubber Co Ltd
JPH01223449A (ja) * 1988-03-03 1989-09-06 Konica Corp 0−キノンジアジド化合物を含有する感光材料の現像液
EP1314552A2 (en) 1998-04-06 2003-05-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive resin composition
EP1457836A2 (en) 2003-03-10 2004-09-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Developing solution for lithographic printing plate precursor and method for preparing lithographic printing plate
US7442493B2 (en) * 2004-10-08 2008-10-28 Fujifilm Corporation Lithographic printing method

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0354340B2 (ja) 1991-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH029337B2 (ja)
US4696891A (en) Process for the production of negative relief copies using photosensitive composition having 1,2-quinone diazide and quaternary ammonium compound
JPH0256653B2 (ja)
US4606995A (en) Process for developing light-sensitive o-quinonediazide lithographic plates with developing solution having cobalt or nickel compound
EP0109796B1 (en) Developer for light-sensitive lithographic printing plate precursor
JPH09160233A (ja) 平版印刷板製造用感放射線記録材料
JPS60129750A (ja) 感光性平版印刷版の現像液
JPH01282549A (ja) 感光性平版印刷版用現像液組成物及び現像方法
JPH0354339B2 (ja)
US4539285A (en) Photosensitive negative diazo composition with two acrylic polymers for photolithography
JP2652010B2 (ja) ポジ型感光性組成物
JPS62159148A (ja) 感光性平版印刷版用現像液組成物および現像方法
JP2579189B2 (ja) 感光性平版印刷版の現像液組成物
JP2538793B2 (ja) 感光性平版印刷版の現像液
JPS61215554A (ja) 感光性平版印刷版の現像液
EP0110214A1 (en) Photosensitive composition
JPS59114100A (ja) 感光性平版印刷版の製造方法
JPS62163055A (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JPS63304246A (ja) 感光性組成物及び感光性平版印刷版
JPS6225761A (ja) 感光性平版印刷版用現像液組成物及び現像方法
JPS6320326B2 (ja)
JPS6271958A (ja) 感光性平版印刷版の現像液組成物及び現像方法
JPH02220062A (ja) ジアゾ樹脂含有感光材料の現像方法
JPH0743533B2 (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JPS62175757A (ja) 感光性平版印刷版の現像液及び現像方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees