JPS6012733A - 位置合わせ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は２つの物体の位置合わせ装置に関し、特にマス
クあるいはレチクル上の半導体集積回路パターンをウェ
ハー上の所定の位置に位置合わせ（以下アライメントと
いう）するに先立って、マスクあるいはレチクル上のア
ライメントマークの位置とウェハー上のアライメントマ
ークの位置を検出する位置検知回路に関する。

半導体製造工程には幾つかのパターンをウェハー上に順
次転写し、半導体集積回路を形成する工程が含まれてい
る。その場合、既に前工程のパターンが転写されたウェ
ハー上に更に別のパターンを正確に位置合わせするため
に、パターンを具えたマスクとウェハーを高精度でアラ
イメントする必要がある。そしてこのアライメントは、
まずマスクとウェハー上にそれぞれ書込まれたアライメ
ントマークな光電検知することによりそれらのマークの
相対的位置関係を知り、その後この位置関係に基づいた
所定量の移動によって達成される。

ところで、アライメントマークの検知は、その検知信号
のピークレベルが所定の基準レベル以上であることを識
別す−ることにより行われる。しかし、従来、この基準
レベルは固定的なものであり、アライメントマークの基
板であるウエノ１−やマスクの種類によっては高すぎた
り、あるいは低すぎたり検知に失敗することがあった。

また失敗したときには手動により改めて基準レベルを調
整するものもあった。

本発明は上記の欠点（＝鑑み提案されたものであり、基
準レベルの調整を自動的（二行い、マスクとウェハーの
アライメントマークの位置を確実（二検知する位置検知
回路を有する位置合わせ装置の提供を目的とする。

以下、図面（＝従って本発明の詳細な説明するが、第１
図は本発明の実施例に係る位置検知回路を有するパター
ン焼付装置の外観を示している。

１は集積回路パターンを具えたマスクで、マスクアライ
メントマークやマスク・ウェハ−アライメントマークを
具えるものとする。２はマスク・ステージで、マスク１
を保持してマスク１を平面内並びに回転方向に移動させ
る。３は縮小投影レンズ、４は感光層を具えるウェハー
で、マスク・ウェハーアライメントマークとウェハーア
ライメントマークを具えるものとする。５はウェハ−・
ステージである。ウェハー・ステージ５はウェハー４を
保持してそれを平面内並びに回転方向に移動させるもの
であり、またウェハー焼付位置（投影野内）とテレビ・
クエハーアライメント位置間を移動する。６は、テレビ
ウェハーアライメント用検知装置の対物レンズ、７は撮
像管又は固体撮像素子、８は映像観察用のテレビ受像器
である。９は双眼ユニットで、投影レンズ３を介してウ
ェハー４の表面を観察するために役立つ。１０は、光源
１０ａを発したマスク照明光を収束させるための照明光
学系並びにマスク・ウェハーアライメント用の検知装置
を収容する上部ユニットである。ウェハー・ステージ５
は、図示しないウェハー搬送手段により搬送されたウェ
ハーを所定の位置で保持し、まずテレビ・ウェハーアラ
イメント用対物しレズ６の視野内にウェーハー上のアラ
イメントマークが入る位置まで移動する。この時の位置
精度は機械的なアライメント精度によるものであり、対
物レンズ６の視野はおよそ直径１＋ｎｍ〜２ｍｍ程度で
ある。この視野内のアライメント・マークは撮像管７で
検知され、テレビ・ウェハーアライメント用の光学系内
に設けられたテレビ・ウェハーアライメント用基準マー
ク（後述）を基準として、そこからのウェハーのアライ
メント・マークの座標位置が検出される。一方、投影光
学系のオートアライメント用検知位置と前述のテレビ・
ウェハ−アライメント用基準マークの位置はあらかじめ
設定されているので、この２点の位置とテレビ・ウェハ
ーアライメントマークの座標位置からオートアライメン
ト位置へのウェハー・ステージ５の送り込み量が決めら
れる。

テレビ・ウェハーアライメントの位置検出精度は±５μ
以下であり、テレビ・ウェハーアライメント位置からマ
スク・ウェハーアライメント位置までのウェハーステー
ジの移動で発生する誤差を考慮に入れても、±１０μ程
度である。従ってファインアライメントは約±１０μの
範囲で行えばよく、これは従来のアライメントの視野範
囲の１７１００以下の範囲であり、アライメントが従来
より高速で行えることになる。

第２図は本発明の実施例に係るパターン焼付装置の光学
系を示す図であり、位置検知回路にマスクおよびウェハ
ー上のアライメントマーク検知信号を送出する状態を示
している。図中、マスク１、縮小投影レンズ３、ウェハ
ー４、ウェハーステージ５は第１図の通りである。投影
レンズ３は便宜上模式的に描いている。１１と１１′は
マスクアライメントマークで、レンズ鏡筒あるいは装置
の一部といった不動の箇所に刻まれている。

他方、マスク１上の２０．２０’で示した位置には第３
（Ａ）図で付番７５．７６で示す如き、走査線６０に対
し４５°傾むいて配設された線もしくはスリット状のア
ラ”イメント・マー・りが設けられている。又、ウェハ
ー４上の２１．２１’で示した位置には第３図（Ａ）付
番７１，７２，７３，７４で示す如き走査線６０に対し
て４５°傾いて配設された線もしくはスリット状のアラ
イメントマークが設けられている。そして通常は左右両
観察系の信号によって位置合わせが行われる。

なお、マスク１上のアライメントマークとウェハー上の
アライメントマークは、等倍投影系以外の系を介在させ
た時には投影もしくは逆投影しても両方のアライメント
マークの寸法が変わらない様に、アライメントマークの
寸法を変えておくものとし、ここではマスクのアライメ
ントマークの寸法でウェハーのアライメントマークの寸
法を除すると縮小倍率になる様に設定する。

第２図へ戻って、２２はレーザー光源、２３は音響光学
素子等の光偏向器である。光偏向器２３は外部からの切
換信号に応じて光の射出方向を上方、水平、下方に切換
える。２４と２５はそれぞれ収束性のシリンドリカルレ
ンズで、その母線が直交する様に配置され、レーザービ
ームの断面形状を線状に変換する機能を持つ。２６と２
７は台形プリズムで、光偏向器２３で上方と下方に偏向
された光を逆方向へ屈折させる機能を持つ。２８は回転
軸２９を中心として回転する回転多面鏡（ポリゴン）で
ある。

レーザ光源２２から射出したレーザ光線３０は光偏向器
２３の状態により、シリンドリカル・レンズ２４とプリ
ズム２６を経由するスリット状光線３０ａ、シリンドリ
カル・レンズ２５とプリズム２７を経由するスリット状
光線３０ｂ、或は直進するスポット状光１３０ｃのいず
れかの光路をとるが、どの場合にも回転多面鏡２８上の
面の一点３１へ収束する。

３２．３３．３４は中間レンズ、３５は光路分割ミラー
、３６は目視観察系３７．３８を形成するノ・−フ・ミ
ラー、３７はレンズ、３８は接眼レンズでウェハー面の
像を結像する。３９は目視観察系用照明系４０．４１を
形成するハーフ・ミラー、４０はコンデンサ・レンズ、
４１はランプである。４２は光電検出系４３，４４゜４
５．４６を形成するハーフミラ−で、４３はミラー、４
４はレンズ、４５は空間フィルタであり、４６はコンデ
ンサ・レンズ、４７はアライメントバタン信号検出のた
めの光検出器、５７はレンズ、５８は同期信号検出のた
めの光検知器である。また４８，４９゜５０．５１は全
反射ミラー、５２はプリズム、５３はｆ−θ対物レンズ
である。５４はマスク１上に設けられたマスクアライメ
ントパターンの位置である。

第２図かられかる様に信号検出系は全く対称な左右の系
から成っており、オペレータ側を紙面の手前側とすると
ダッシュで示した系は右、ダッシュなしの系は左の信号
検出系と呼ぶことにする。

中間レンズ３２，３３．３４は回転多面鏡２８からの振
れ原点を対物レンズ５３の絞り位置５５の中の瞳５６に
形成する。従ってレーザービームは回転多面鏡２８の回
転によりマスク及びウェハー上を走紅る。

また対物レンズ系において、対物レンズ５３、絞り５５
、ミラー５１及びプリズム５２はｘＹ方向に図示しない
移動手段により移動可能であり、マスク１及びウェハー
４の観察及び測定位置は任意に変えることができる。、
例えば、Ｘ方向の移動はミラー５１が図中矢印Ａで示し
た方向に移動すると対物レンズ５３及び絞り５５も同時
にＡ方向に移動すると共に光路長を常に一定に保つため
プリズム５２も入方向にミラー５１の移動量の１／２の
量移動する。

一方、Ｙ方向の移動は観察・位置検出用の光学系全体が
Ｙ方向（紙面に垂直な方向）に移動する。

シリンドリカルレンズ２４を経由する光路３０ａの走査
ビーム６１は走査軸６０に対し角度θ−４５°をなし、
第３図＋Ａ）においてほぼマーク？１，７２．７５と平
行をなす。この状態で走査した時に光検出器４７．４７
’には第３図ＣＢ＋に示すようなＳ７０．Ｓ７６．Ｓ７
２の信号が得られる。Ｓ７□ｌ　Ｓ７５　＋　Ｓ７２は
位置合わせマーク７１゜７５．７２にそれぞれ対応した
信号である。また、走査面上に微小なゴミがあってもス
ポット状ビームの場合とは異なり、平均化され出力とし
て実用上検知されない。

一方、シリンドリカルレンズ２５を通過する光路３０ｂ
の走査ビーム６２は走査軸６０に対してθニー４５゜傾
斜しマーク７３，７４．７６と平行しているので検出信
号は第３図（ｂ）のＳ７３．Ｓ７６、Ｓ７４とｒｆる。

従って検出信号Ｓ７□ｒ　Ｓ７５　＋　ｓ７□＋　ｓ７
３＋　Ｓ７６　ｒ　Ｓ７４の間隔を計測すればマスクと
ウェハーのズレ量が検出でき、両者が整合した場合には
検出信号の間隔が等しくなる。

なお、本出願人は特開昭５３−９０８７２号あるいは特
開昭５３−９１７５４号等でオート・アライメントにつ
いて提案している。

以上、第２図と第３図を用いて、マスク１上のアライメ
ントマーク２０とクエハー面上のアライメントマーク２
１の整合即ちマスク・ウェハーアライメントの概略につ
いて説明を行った。

次に本発明の実施例に係るパターン焼付装置のアライメ
ントマークの位置検知回路の構成について説明する。第
４図は本発明の実施例に係る位置検知回路のブロック図
である。４７．４７’は既に説明したアライメントマー
クの光信号を電気信号に変換する光検知器であり、５８
．５８’はマスクおよびウェハー上を走査するレーザー
光を電気信号に変換して走査タイミングを検出する光検
知器である。

１００は光検知器５８．５８’の出力信号を二値化・波
形整形して、第３図（ｃ）に示すような同期信号１０１
やコントロール信号１０３を出力する同期検出回路であ
る。１０２はアナログスイッチであり、コントロール信
号１０３によりスイッチング動作を行い、光検出器４７
．４７’からの出力信号を合成する（第３図（Ｂ）は光
検出器４７の出力信号を示している）。１０４はＡＤ変
換器であり、アナログスイッチ１０２のアナログ信号レ
ベルを一定のタイミングにより８ビツト長のデジタル信
号に変換する。１０５はＡＤ変換器１０４のデジタル信
号を一時記憶するラッチである。ＡＤ変換器１０４およ
びラッチ１０５を制御するタイミング信号（不図示）は
後述のコントロール・タイミング発生回路１１４から出
力される。

１０７はデータ・セレクタであり、コントロール・タイ
ミング発生回路１１４より出力されるセレクト信号１０
８によりバッファ１１２の出力またはラッ、チ１０５の
出力のいずれか一つを選択して出力する。

ここでバッファ１１２は不図示のマイクロプロセッサの
データ・パス１２２に接続している。１０９は８ビツト
構成２４バイトのランダム・アクセス・メモリであり、
データ・セレクタ１１０の出力するリード・ライト信号
（以下Ｒ／Ｗ信号という）およびアドレス信号（以下Ａ
ＤＨ信号という）により制御され、データセレクタ１０
７の出力データを所定の番地に書き込んだり、あるいは
書き込まれた所定の番地内のデータが読み出される。こ
こでデータ・セレクタ１１０の出力信号（Ｒ／Ｗ信号、
ＡＤＲ信号）は、コントロール・タイミング発生回路１
１４の出力信号（Ｒ／Ｗ信号、ＡＤＲ信号）か、または
アドレスおよび制御パス１２３を介して出力されるマイ
クロプロセッサの出力信号（Ｒ／Ｗ信号、ＡＤＲ信号）
のいずれかであり、その選択はコントロール・タイミン
グ発生回路１１４の出力するセレクト信号１１１によっ
て制御される。

１０６は、ラッチ１０５の出力データとメモリ１０９の
読み出しデータの大小関係を比較し、その結果をコント
ロール・タイミング発生回路１１４に出力するデジタル
祷コンパレータである。コントロール・タイミング発生
回路１１４は、デジタル・コンパレータ１０６の出力信
号１１６、同期検出口ｉｇｔｏ。

の同期信号１０１およびデータバス１２１を介して与え
られるマイクロコンピュータの出力データ信号に基づい
て既述のデータセレクタ１０７，１１０および後述のデ
ータ・セレクタ１１７、計数回路１１９をコントロール
する。計数回路１１９は１６ビツトカウンタであり、コ
ントロール・タイミング発生回路１１４から信号線１２
０を介して与えられるクリア信号およびカウントイネー
ブル信号によりカウント動作が制御される。１２１は１
６ビツト×２４ワードのランダム・アクセス・メモリで
あり、データ・セレクタ１１７の出力信号（Ｒ／Ｗ信号
、ＡＤＲ信号）により制御され、計数回路１１９の計数
値を所定の番地に書き込んだり、あるいは書き込まれた
所定の番地内のデータが読み出される。ここでデータ・
セレクタ１１７の出力信号（Ｒ／Ｗ信号、ＡＤＨ信号）
はコントロール・タイミング発生回路１１４の出力信号
（Ｒ／Ｗ信号、ＡＤＨ信号）か、またはアドレスおよび
制御バス１２３を介して出力されるマイクロプロセッサ
の出力信号（Ｒ／Ｗ信号、ＡＤＨ信号）のいずれかであ
り、その選択はコントロール・タイミング発生回路１１
４の出力するセレクト信号１１８によって制御される。

また、メモリ１０９および１２１の出力はそれぞれバッ
ファ１１３およｒｇｌ１５を介してデータノシス１２２
に出力され、マイクロプロセッサがメモリのデータを読
み出しうるように構成されている。

次に図を参照しながら本発明の実施例に係る位置検知回
路の動作について説明する。第５図（Ａ）は第４図の位
置検知回路を制御するマイクロプロセッサの制御シーケ
ンスを示すフローチャート図である。また第５図（Ｂ）
は、第５図（３）で示す第１計測の実行状態を更に詳し
く説明するためのフローチャート図であり、この実行は
マイクロプロセッサの制御下になく、ハード的に行われ
る。同様に第５図（Ｃ）は、第５図（Ａ）で示す第２計
測の実行状態を更に詳しく説明するためのフローチャー
ト図であり、この実行もマイクロプロセッサの制御下に
なく、ハード的に行われるものであ“る。ここで、第１
計測とはアライメントマークの検知信号のピーク値を検
出する計測をいい、第２計測とは第１計測によって得ら
れたピーク値からめた基準スライスレベルによりアライ
メントマークの検知信号のパルス間隔の計測をいう。以
下、詳細に説明する。

まずメモリ１０９をクリアする（ステップ５０１）。

すなわちマイクロプロセッサは、コントロール・タイミ
ング発生回路がセレクト信号１１１をデータ・セレクタ
１１０に、およびセレクト信号１０８をデータ・セレク
タ１１１に出力するように制御する。

これによりデータ・セレクタ１１０は７〜１２口プロセ
ッサのアドレスおよび制御バス１２３を、またデータ・
セレクタ１０７はバッファを介してマイクロプロセッサ
のデータバス１２２を選択する。メモリ１０９はマイク
ロプロセッサに直接アクセスされ、メモリ１０９の全記
憶領域にゼロが書き込まれてクリアされる。

次に第１の計測モードを設定する（ステップ５ｏ２）。

この設定はマイクロプロセッサと接続されたメモリ１０
９をマイクロプロセッサの制御下から切り離し、コント
ロール・タイミング発生回路１１４の制御下で動作する
ようにするものである。即ち、マイクロプロセッサは、
データ・セレクタ１０７がラッチ１０５の出力を選択す
るように、またデータ・セレクタ１１０がコントロール
・タイミング発生回路１１４の出力するＲ／Ｗ信号およ
びＡＤＨ信号を選択するようにコントロール・タイミン
グ発生回路１１４を制御する。

設定が終了するとマイクロプロセッサはコントロール・
タイミング発生回路１１４に第１計測命令を指令し計測
が開始される（ステップ５ｏ３）。計測はすべてマイク
ロプロセッサが介在せず、コントロール・タイミング発
生回路１１４の下でハード的に動作し、計測が終了する
とコントロール・タイミング発生回路１１４が自動的に
マイクロプロセッサに終了を知らせる。

コントロール・タイミング発生回路１１４の制御下に行
われる第１計測の動作を第５図（Ｂ）を用いて説明する
。

まず、第１計測開始指令が出ると、コントロール・タイ
ミング発生回路１１４内のメモリ１０９用アドレスカウ
ンタ（不図示）がクリアされ、カウンタはゼロ番地に設
定される（ステップ５２１）。次に同期信号１０１（第
３図（Ｃ））の出力を待ち（ステップ５２２）、同期信
号の立上りが検知されたｒｚらはコントロール・タイミ
ング発生回路１１４はデジタルコンパレータ１０６の出
力信号１１６の監視を開始する。ラッチ１０５の出力デ
ータ（以下Ａという）がメモリ１０９内の所定アドレス
の読出しデータ（以下Ｂという）より大きいとき、すな
わちＡ）Ｂのトキその結果を示すデジタルコンパレータ
１０６ノ出力信号１１６により、コントロール・タイミ
ング発生回路１１４は回路内のメモリ１０９用アドレス
カウンタを１つインクリメントする。同時にこのアドレ
ス番号のＡＤＨ信号とＲ／Ｗ信号（書込み信号）とをメ
モリ１０９に出力し、ラッチ１０５の出力データをメモ
リ１０９に書込む（ステップ５２４）。この大小比較（
ステップ５２３）およびメモリライト（ステップ５２４
）は、ラッチ１０５からデータが出力される毎に同期信
号１０１が終了するまで行われる（ステップ５２５）。

従ってスタート時にゼロであったメモリ１０９の内容は
、メモリ内のデータより大きい値のデータが検出される
毎にその値が書き込まれることになる。メモリ１０９用
アドレスカウンタ２３進のカウンタであり、アドレスカ
ウンタが指示しているメモリのデータより大きい値は次
々と書き換えられ、走査終了時にはメモリ１０９内に最
大値を含む、値の大きいデータ２４個がストアされるこ
とになる。

ステップ５２５で同期信号が終了（アライメントマーク
の走査が終了）すると、コントロール・タイミング発生
回路１１４はマイクロプロセッサに対し終了信号を発生
し、第１計測を終了する（ステップ５２６）。

再び第５図（８）に戻る。第１計測の終了信号によりマ
イクロプロセッサは次のステップ５０５に進む。

すなわちマイクロプロセッサはコントロール・タイミン
グ発生回路１１４をアクセスし、メモリ１０９をマイク
ロプロセッサの制御下におく。マイクロプロセッサは、
メモリ１０９から２４個のピークデータを読取って、そ
の平均値をめ、平均値からスライスレベルを計算する（
ステップ５０５，５０６．　）。

一般にスライスレベルはピークデータの平均値２０％〜
５０％が好ましい請求めたスライスレベルはメモリ１０
９内の所定アドレスに書込まれる（ステップ５０７）。

次に第２計測モードの設定が行われる（ステップ５０８
）。これは前述の第１計測モードの設定と同様、メモリ
１０９をマイクロプロセッサの制御下から切離し、コン
トロール・タイミング発生回路１１４の制御下で動作す
るようにするものである。

すなわち設定が終了するとマイクロプロセッサはコント
ロール・タイミング発生回路１１４に第２計測命令を指
令し、これにより計測が開始される（ステップ５０９）
。また、この指令によりコントロール・タイミング発生
回路１１４内のメモリ１２１用のアドレスカウンタ（不
図示）がクリアされる（ステップ５３０）。

第２計測の動作を第５図（ｃ）を用いて説明する。

計測スタート指令がステップ５０９にて出ると、コント
ロール・タイミング発生回路１１４はステップ５３１に
て同期信号の立上り検出にはいり、検出すると実際の計
測にはいる。

第２計測は、メモリ１０９に設定されたスライスレベル
とアライメントマークの検出信号のデータを比較し、ス
ライスレベルを通過したタイミングを計測するものであ
る。

ここでスライスレベルの通過とは、ラッチ１０５の出力
データ（以下Ｃという）とメモリ１０９から読゛出され
たスライスレベルのデータ（以下りという）とをデジタ
ルコンパレータ１０６で比較の結果、Ｃ≦Ｄ→Ｃ）Ｄに
変化した時、およびＣ）Ｄ４Ｃ≦Ｄに変化した時をいう
。これはハード的には、比較結果信号の立上りおよび立
下りのエッヂを検出することである。

また、スライス・レベルの通過タイミングは、コントロ
ール・タイミング発生回路１１４内で発生するタイミン
グクロックをカウントすることで計測できる。これは、
同期信号１０１の立上りをスタート点とし、計数回路１
１９にてタイミングクロックを計数することである。従
ってステップ５３２にて、Ｃ）Ｄの変化を検知したなら
ば、コントロール・タイミング発生回路１１４はステッ
プ５３３にてメモリ１２１に対しライト信号を発生する
。この時メモリ１２１に書き込まれる値は計数回路１１
９の出力であり、前述した様に同期信号開始時点からの
時間に相当するものである。これは第３図（ｅ）にて説
明すると、図中７７１で示した時間間隔データである。

このように本発明の実施例によれば、スライスレベルは
実際のアライメントマーク信号のピーク値に対応して自
動的に決定されるので、アライメントマーク信号の見落
しが防止されるとともに、手動によりスライスレベルを
設定し直すという手間も省けるという効果がある。

尚、第５図（Ｂ）（Ｃ）に示した第１及び第２の計測モ
ードは、前述した様に、マイクロコンピュータを介在さ
せずコントロール・タイミング発生回路１１４で行って
いるが、その主な理由はコンパレート動作、メモリのラ
イト動作等を高速で行う必要があるからである。しかし
ながら本発明はハード回路に限定されることはす＜、例
えば高速のバイポーラプロセッサを用いることも可能で
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例に係る位置検知回路を有するパ
ターン焼付装置の斜視図、第２図は本発明の実施例に係
るパターン焼付装置の光学系を示す図、第３図（５）は
マスクまたはウェハー上のアライメントマークの模式図
、第３図（Ｂ）は第３図（５）のアライメントマークに
対応する検知信号を示す図、第３図（Ｃ）は同期検出回
路１００の出力信号である同期信号、第４図は本発明の
実施例に係る位置検知回路のブロック図、第５図（５）
は第４図の位置検知回路を制御するマイクロプロセッサ
の制御シーケンスを示すフローチャート図、第５図（Ｂ
）は第５図（８）で示す第１計測の実行状態を更に詳し
く説明するためのフローチャート図、第５図（Ｃ）は第
５図（Ｎで示す第２計測の実行状態を更に詳しく説明す
るためのフローチャート図である。 ４７．４７’、５８．５８’・・・光検知器１００・・
・同期検出回路 １０２・・・アナログスイッチ １０４・・・ＡＤ変換器 １０５・・・ラッチ １０６・・・デジタルコンパレータ １０７．１１０，１１７・・・データ・セレクタ１０９
．１２１・・・メモリ １１２．１１３，１１５・・・バッファ１１４・・・コ
ントロール・タイミング発生回路１１９・・・計数回路 １２２・・・マイクロプロセッサのデータバス１２３・
・・マイクロプロセッサのアドレスバス、制御バス １０１・・・同期信号 １０３・・・アナログスイッチ制御用信号１０８．１１
１，１１８，１２０・・・コントロール・タイミング発
生回路の出力する制御信号 １１６・・・デジタルコンパレータ出力信号第５図（Ａ
） 電２ｔｔ；則 第５図（Ｃ） 手　続　補　正　書（方式） 昭和５８年１１月２日 特許庁長官　殿 １、事件の表示　昭和５８年　特許願　第１２０１１１
１２号２、発明の名称 位置合わせ装置 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 （１００）キャノン株式会社 ４、代　理　人 住所　東京都港区赤坂１丁目９番２０号５、補正命令の
日付 発送日：昭和５８年１０月２５日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 第１の物体上の第１の識別マークと第２の物体上の第２
   の識別マークとの間隔を測定し、この間隔に基づいてこ
   れら物体同士の適正な位置合わせを行う位置合わせ装置
   において、 前記識別マークの反射光を検知する光電変換手段と、 前記光電変換手段の出力信号レベルを逐次デジ、タル化
   するデジタル変換手段と、 前記デジタル変換手段によりデジタル化されたデータに
   基づき所定のスライスレベルを設定する手段と、 前記スライスレベルのデータと前記識別マークに対応す
   るデジタルデータの大小関係を逐次比較する手段とによ
   って構成され、前記比較手段の信号出力のタイミングに
   より前記識別マークの間隔を測定する位置検知回路を有
   することを特徴とする位置検知回路。