JPS60122748A - アルミノシリケ−トガラス - Google Patents
アルミノシリケ−トガラスInfo
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- JPS60122748A JPS60122748A JP23027983A JP23027983A JPS60122748A JP S60122748 A JPS60122748 A JP S60122748A JP 23027983 A JP23027983 A JP 23027983A JP 23027983 A JP23027983 A JP 23027983A JP S60122748 A JPS60122748 A JP S60122748A
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- JP
- Japan
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- glass
- alkali
- substrate
- elution
- na2o
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
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- Glass Compositions (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は連続製板可能な電子機材基板ガラスに適したア
ルミノシリケートガラスに関する。
ルミノシリケートガラスに関する。
液晶用等の基板ガラスは0.3〜1.Omm の薄板が
使用されているが、これらの厚味の板ガラスをガラス溶
解室から連続的に生産性よく製造するには、フルパーン
法、フルコール法、フロート法ニヨル製板方式が採用さ
れている。上記方式による製板法に最も適したガラス組
成は、従来から建築用、車輌用等に用いられてきたソー
ダライムシリカガ材の基板ガラスとして用いる時には、
基板ガラスからのアルカリの溶出が性能を劣化させると
いう欠点があった。この欠点を改善するためにソーダラ
イムシリカガラス基板表面にエチルシリケートを用いて
5i02の膜を生成させて、基板ガラスからのアルカリ
溶出を防止する方法がとられている。
使用されているが、これらの厚味の板ガラスをガラス溶
解室から連続的に生産性よく製造するには、フルパーン
法、フルコール法、フロート法ニヨル製板方式が採用さ
れている。上記方式による製板法に最も適したガラス組
成は、従来から建築用、車輌用等に用いられてきたソー
ダライムシリカガ材の基板ガラスとして用いる時には、
基板ガラスからのアルカリの溶出が性能を劣化させると
いう欠点があった。この欠点を改善するためにソーダラ
イムシリカガラス基板表面にエチルシリケートを用いて
5i02の膜を生成させて、基板ガラスからのアルカリ
溶出を防止する方法がとられている。
一方アルカリ含有量が少なく、アルカリ溶出の少ない5
j−02膜のコーティングが不要なガラス組成もあるが
、前記3方式による製板は困難であり、ロールアウト法
で製板した後、表面を研磨して基板ガラスとなすか、ロ
ールアウト法で製板した後研磨した厚板ガラスを再加熱
して引伸ばし、0.3〜/mm厚のガラスを作り基板ガ
ラスとなすか、或いは非常に特殊な、しかも大量生産向
きでない製板法(例えば特公昭Il≦−2’190りの
流下法)を採用して0.3〜/、Omm厚のガラスを作
るとかしている。
j−02膜のコーティングが不要なガラス組成もあるが
、前記3方式による製板は困難であり、ロールアウト法
で製板した後、表面を研磨して基板ガラスとなすか、ロ
ールアウト法で製板した後研磨した厚板ガラスを再加熱
して引伸ばし、0.3〜/mm厚のガラスを作り基板ガ
ラスとなすか、或いは非常に特殊な、しかも大量生産向
きでない製板法(例えば特公昭Il≦−2’190りの
流下法)を採用して0.3〜/、Omm厚のガラスを作
るとかしている。
し
しかもこれらの場合、5i02 膜のフーティングが!
不要であるにしても、基板ガラスの生産性の低さにより
そのメリットは半減する。
そのメリットは半減する。
本発明はかかる不都合を解消してフルコール法、コルバ
ーン法、フロート法による大量連続生産が可能で、かつ
アルカリ溶出防止コーティングを不要とするアルミノシ
リケートガラスを提供するものである。
ーン法、フロート法による大量連続生産が可能で、かつ
アルカリ溶出防止コーティングを不要とするアルミノシ
リケートガラスを提供するものである。
本発明に係るアルミノシリケートガラスは重量、%で表
示して 5i02 j ON62% B2O32〜5% A7203 lO〜11r% MgOO,!r〜 7% CaQ II−13% BaOO〜 7% zno 3〜lo% Li、20 0〜2% Na2O0N10% に、20 0〜10% 但し、Li2O+Na2O+に20 wJ 〜/ /%
を基本成分として有するものである。
示して 5i02 j ON62% B2O32〜5% A7203 lO〜11r% MgOO,!r〜 7% CaQ II−13% BaOO〜 7% zno 3〜lo% Li、20 0〜2% Na2O0N10% に、20 0〜10% 但し、Li2O+Na2O+に20 wJ 〜/ /%
を基本成分として有するものである。
本発明に於ける組成限定理由は次の通りである。
Sio2は本発明のガラスに於て主たるガラス形成酸化
物であるが、42%をこえるとガラスの粘度が高くなり
、溶解性が悪くなる。又、50%より少ない場合はガラ
スの化学的耐久性を著しくそこなうので50%を下限と
する。好ましい範囲は5lI−s、r%である。
物であるが、42%をこえるとガラスの粘度が高くなり
、溶解性が悪くなる。又、50%より少ない場合はガラ
スの化学的耐久性を著しくそこなうので50%を下限と
する。好ましい範囲は5lI−s、r%である。
B2O3はガラスの高温粘度を下げて溶解を容易にする
が、B2O3単独で、或いはアルカリ成分と結合してガ
ラス素地から容易に揮発してガラスを成形した時に脈理
、フシなどの欠点を生じることがある。B2O3の含有
量が増大する程、ガラス素地がらの揮発も激しくなるの
で、B2O3の上限は3%とtル、 B2O3が2%未
満ではガラスの溶解が困難となるので、2%を下限とす
る。好ましい範囲は1l−5%である。
が、B2O3単独で、或いはアルカリ成分と結合してガ
ラス素地から容易に揮発してガラスを成形した時に脈理
、フシなどの欠点を生じることがある。B2O3の含有
量が増大する程、ガラス素地がらの揮発も激しくなるの
で、B2O3の上限は3%とtル、 B2O3が2%未
満ではガラスの溶解が困難となるので、2%を下限とす
る。好ましい範囲は1l−5%である。
Al2O3はアルミノシリケートガラスの場合1ガラス
の安定性と化学的耐久性を良化する。itr%をこえる
と、ガラスの粘度が高くなり溶解性が悪くなり、70%
未満では化学的耐久性が悪くなる。
の安定性と化学的耐久性を良化する。itr%をこえる
と、ガラスの粘度が高くなり溶解性が悪くなり、70%
未満では化学的耐久性が悪くなる。
ガラスが安定化するためのAl2O3の好ましい範囲は
3/=j−′4j%である。MgOはガラスの化学的耐
久性を向上させ、熱膨張率を低下させるが、 MgOが
7%をこえるとガラスの失透温度が上昇し、かつ溶解性
が悪くなる。
3/=j−′4j%である。MgOはガラスの化学的耐
久性を向上させ、熱膨張率を低下させるが、 MgOが
7%をこえるとガラスの失透温度が上昇し、かつ溶解性
が悪くなる。
又、03%未満ではガラスの化学的耐久性が低下する。
好ましくはo3−p%である。caoはガラスの高温粘
度を低下させ、ガラスの溶解を容易にするが、CaOが
13%をこえるとガラスの失透温度が上昇し、t%未満
ではガラスの溶解が困難になる。
度を低下させ、ガラスの溶解を容易にするが、CaOが
13%をこえるとガラスの失透温度が上昇し、t%未満
ではガラスの溶解が困難になる。
BaOは必須成分ではないが、BaOをS%程度入れる
とガラスの失透温度が著しく低下し、成形を容易にする
。但し7%をこえるとガラスの化学的耐久性を悪くする
。ZnOはガラスの高温粘度を低下させ、ガラスの溶解
を容易にするが、70%をこえるとガラスの濡粘曲線勾
配がきつくなり、微小湿度変化で大きく粘度が変り、成
形を困難にする。
とガラスの失透温度が著しく低下し、成形を容易にする
。但し7%をこえるとガラスの化学的耐久性を悪くする
。ZnOはガラスの高温粘度を低下させ、ガラスの溶解
を容易にするが、70%をこえるとガラスの濡粘曲線勾
配がきつくなり、微小湿度変化で大きく粘度が変り、成
形を困難にする。
又、3%未満では高温粘度の低下が十分でなく、溶解が
困難になる。好ましく範囲は5〜7%である。
困難になる。好ましく範囲は5〜7%である。
I、i20 s Na2O、K2Oはいずれもガラスの
溶解を促進するが、Ld20 は原料が高価であること
も考え合せ、2%を上限とする。Na2Oとに20はそ
れぞれ70%をこえるとガラスの化学的耐久性を低下さ
せ、かつアルカリ溶出量が増えるので各々10%を上限
とする。但し、Li2O+Na2O+に20が3%未満
ではガラスの溶解が悪くなるので3%を下限とする。又
、3者の合計量が11%をこえると化学的耐久性を悪く
シ、アルカリ溶出量が多くなるので、l1%を上限とす
る。3〜9%が好ましい。
溶解を促進するが、Ld20 は原料が高価であること
も考え合せ、2%を上限とする。Na2Oとに20はそ
れぞれ70%をこえるとガラスの化学的耐久性を低下さ
せ、かつアルカリ溶出量が増えるので各々10%を上限
とする。但し、Li2O+Na2O+に20が3%未満
ではガラスの溶解が悪くなるので3%を下限とする。又
、3者の合計量が11%をこえると化学的耐久性を悪く
シ、アルカリ溶出量が多くなるので、l1%を上限とす
る。3〜9%が好ましい。
以上の基本成分の他に、ガラス原171からイク呵趙的
に混入してくる、不純物、例えばTiO2,Fe2O2
などは0.5%以以下型れていても差しつかえない。
に混入してくる、不純物、例えばTiO2,Fe2O2
などは0.5%以以下型れていても差しつかえない。
又通常の清澄剤としT 5b2o31 Ag2O3t
SOs z F2 tC12などが各々1%以下入って
も良い。更にガラスを着色する目的で通常使用される酸
化物、例えばMnO2、Qr 、、o 3 g Coo
t NIOy G uQなどが少量入っていても良い
。
SOs z F2 tC12などが各々1%以下入って
も良い。更にガラスを着色する目的で通常使用される酸
化物、例えばMnO2、Qr 、、o 3 g Coo
t NIOy G uQなどが少量入っていても良い
。
以上各成分の限定理由について述べたが、本発明による
アルミノシリケートガラスは、フルコール法、コルバー
ン法、フロート法による連続製板に適したガラスであり
、そのためには失透温度(TL)ト作業温度(TW)関
係カTw−TL5フo″cが必要で、TW≧TLである
ことが好ましい。
アルミノシリケートガラスは、フルコール法、コルバー
ン法、フロート法による連続製板に適したガラスであり
、そのためには失透温度(TL)ト作業温度(TW)関
係カTw−TL5フo″cが必要で、TW≧TLである
ことが好ましい。
次に実施例にもとづいて本発明の詳細な説明する。第1
表に示すA/ないしA/2及び比較例1゜2の各目標組
成のガラスを得るに必要な調合割合のバッチを造り、白
金ルツボで/ ’A!;0″Cで溶解し1、ステンレス
鋳型に流し込み、成型した後徐冷した。
表に示すA/ないしA/2及び比較例1゜2の各目標組
成のガラスを得るに必要な調合割合のバッチを造り、白
金ルツボで/ ’A!;0″Cで溶解し1、ステンレス
鋳型に流し込み、成型した後徐冷した。
」二記各種ガラスの失透温度(T、r、) 、作業温度
(TV)及びTV−Tl、の値は表に示した通りであり
、本発明による実施例はいずれも耐アルカリ溶出性に優
れ、かつ温度特性としてもTV−TL>−JOoCであ
るのに対し、従来の代表的な耐アルカリ溶出ガラスは比
較例/、2に示されるようにTV−TL<−30℃であ
り、大量連続製板には不向きな温度特性であり、比較例
3の市販のフロートガラス組成はアルカリ溶出量が約7
0倍に達する。よって本発明のガラスが大量に連続製板
されうるもので、かつ耐アルカリ溶出性に優れたもので
あり、電子機材の基板用ガラスとして優れたものである
ことが明らかとなった。
(TV)及びTV−Tl、の値は表に示した通りであり
、本発明による実施例はいずれも耐アルカリ溶出性に優
れ、かつ温度特性としてもTV−TL>−JOoCであ
るのに対し、従来の代表的な耐アルカリ溶出ガラスは比
較例/、2に示されるようにTV−TL<−30℃であ
り、大量連続製板には不向きな温度特性であり、比較例
3の市販のフロートガラス組成はアルカリ溶出量が約7
0倍に達する。よって本発明のガラスが大量に連続製板
されうるもので、かつ耐アルカリ溶出性に優れたもので
あり、電子機材の基板用ガラスとして優れたものである
ことが明らかとなった。
尚、以上の説明に用いた失透温度(TL)は次のように
してめた。
してめた。
ガラスを粉砕して16ざ08mのフルイを通り1190
μmのフルイ上にとどまったガラス粒を、白金ボート上
に1列にあけた7mm径の多数の穴の上におき、ボート
長さ方向に適当なWllt度勾配全勾配ように1JIA
た白金ボートを、自然放冷させた後、顕微鏡によって白
金ボート上のガラス粒を観察し、失透が発生している最
高温度をもって失透温度とした。又、作業温度(Tw)
はガラスの粘度が/(74ボイスになる温度である。
μmのフルイ上にとどまったガラス粒を、白金ボート上
に1列にあけた7mm径の多数の穴の上におき、ボート
長さ方向に適当なWllt度勾配全勾配ように1JIA
た白金ボートを、自然放冷させた後、顕微鏡によって白
金ボート上のガラス粒を観察し、失透が発生している最
高温度をもって失透温度とした。又、作業温度(Tw)
はガラスの粘度が/(74ボイスになる温度である。
ioo℃、!;0m1lの水中でto分煮沸して、水中
に溶出したアルカリ量を分析した値である。
に溶出したアルカリ量を分析した値である。
第1表
Claims (2)
- (1)重量%で表示して 5102 jOA−4−?%yB203 2〜S%、A
A’203 io〜/I%、MgOO,!r 〜7%、
Ca0II〜73%、BaQO〜7%、zno 3〜I
O%+ L 120 ON2 % + N a 20
0〜10%、に20 0−10%+Li2O+Na2O
+に20−3〜//% の基本的成分を有することを特徴とするアルミノシリケ
ートガラス。 - (2)重量%で表示して 5i02 !;す〜Sざ%p B 203 グ〜j%v
A1203/3〜is%、MgOO,!r〜lI%、C
a07〜l1%、BaQ、(7〜5%、ZnO!r〜7
%、Li200〜1%、Na2O3〜9%載のアルミノ
シリケートガラス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23027983A JPS60122748A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | アルミノシリケ−トガラス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23027983A JPS60122748A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | アルミノシリケ−トガラス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60122748A true JPS60122748A (ja) | 1985-07-01 |
JPH0446908B2 JPH0446908B2 (ja) | 1992-07-31 |
Family
ID=16905310
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23027983A Granted JPS60122748A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | アルミノシリケ−トガラス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60122748A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4818648A (en) * | 1985-11-27 | 1989-04-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical memory element |
US5387560A (en) * | 1991-07-02 | 1995-02-07 | Saint Gobain Vitrage International | Glasses for substrates intended for electronics and resultant products |
JPH08133778A (ja) * | 1994-09-14 | 1996-05-28 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス組成物及びプラズマディスプレー用基板 |
EP0697378A3 (en) * | 1994-08-17 | 1996-09-18 | Corning Inc | Control of the migration of alkali metal ions |
EP1090888A1 (en) * | 1999-10-08 | 2001-04-11 | Kabushiki Kaisha Ohara | Transparent glass and a method for manufacturing the same |
JP2007128054A (ja) * | 2005-10-03 | 2007-05-24 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 携帯機器表示装置用保護板 |
WO2008050500A1 (fr) * | 2006-09-29 | 2008-05-02 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Plaque protectrice pour dispositif d'affichage d'équipement portable |
JP2011141568A (ja) * | 2005-10-03 | 2011-07-21 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 携帯機器表示装置用保護板 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS496012A (ja) * | 1972-05-10 | 1974-01-19 | ||
JPS6042247A (ja) * | 1983-08-16 | 1985-03-06 | Asahi Glass Co Ltd | 低膨張性ガラス |
-
1983
- 1983-12-06 JP JP23027983A patent/JPS60122748A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS496012A (ja) * | 1972-05-10 | 1974-01-19 | ||
JPS6042247A (ja) * | 1983-08-16 | 1985-03-06 | Asahi Glass Co Ltd | 低膨張性ガラス |
Cited By (9)
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0446908B2 (ja) | 1992-07-31 |
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