JPS60116451A - 液体噴射記録ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、液体を噴射し、飛翔液滴を形成して記録を行
なう液体噴射記録ヘッドに関する。

インクジェット記録法（液体噴射記録法）は、記録時に
おける騒音の発生が無視し得る程度に極めて小さいとい
う点、高速記録が可能でありしかも所謂普通紙に定着と
いう特別な処理を必要とせずに記録の行なえる点におい
て、最近関心を集めている。

その中で、例えば特開昭５４−５１８３７号公報、ドイ
ツ公開（ＤＯＬＳ）第２８４８０６４　号公報に記載さ
れている液体噴射記録法は、熱エネルギーを液体に作用
させて、液滴吐出の原動力を得るという点において、他
の液体噴射記録法とは、異なる特徴を有している。

即ち、上記の公報に開示された記録法は、熱エネルギー
の作用を受けた液体が急峻な体積の増大を伴う状態変化
を起し、該状態変化に基づ（作用力によって、記録ヘッ
ド部先端のオリフィスより液体が吐出されて、飛翔的液
滴が形成され、該液滴が被記録部材に付着し記録が行な
われる。

殊に、ＤＯＬ８　２８４３０６４　号公報に開示されて
いる液体噴射記録法は、所謂ｄｒｏｐ−ａｎ　ｄｅｍａ
ｎｄ　記録法に極めて有効に適用されるばかりではなく
、記録ヘッド部をｆｕｌｌ　１ｉｎｅタイプで高密度マ
ルチオリフィス化された記録ヘッドが容易に具現化でき
るので、高解像度、高品質の画像を高速で得られるとい
う特徴を有している。

」二記の記録法に適用される装置の記録ヘッド部は、液
体を吐出するために設けられたオリフィスと、該オリフ
ィスに連通し、液滴を吐出するための熱エネルギーが液
体に作用する部分である熱作用部を構成の一部とする液
流路とを有する液吐出部と、熱エネルギーを発生する手
段としての電気熱変換体とを具備している。

そして、この電気熱変換体は、一対の電極と、これ等の
電極に接続しこれ等の電極の間に発熱する領域（熱発生
部）を有する発熱抵抗層とを具備している。

このような液体噴射記録ヘッドの構造を示す典型的な例
が、第１図（ａ）、及び第１図（ｂ）に示される。

第１図（ａ）は、液体噴射記録・＼ラドのオリフィス側
から見た正面部分図であり、第１図（ｂ）は、第１図（
ａ）に一点鎖線ＸＹで示す部分で切断した場合の切断面
部分図である。

記録ヘッド１００は、その表面に電気熱変換体１０１が
設げられている基板１０２の表面を、所定の線密度で所
定の巾と深さの溝が所定数設けられている溝付板１０Ｂ
で覆うように接合することによって、オリフィス１０４
と液吐出部１０５が形成された構造を有している。図に
示す記録ヘッドの場合には、オリフィス１０４を複数有
するものとして示されているが、勿論本発明においては
、このようなものに限定されるものではな（、単一オリ
フィスの記録ヘッドも本発明の範噴にはいるものである
。

液吐出部１０５は、その終端に液体を吐出させるための
オリフィス１０４と、電気熱変換体１０１より発生され
る熱エネルギーが液体に作用して気泡を発生し、その体
積の膨張と収縮に依る急激な状態変化を引き起す箇所で
ある熱作用部１０６とを有する。

熱作用部１０６は、電気熱変換体１０１の熱発生部１０
７の上部に位置し、熱発生部１０７の液体と接触する面
としての熱作用面１０８をその低面としている。

熱発生部１０７は、基板１０２上に設けられた下部層■
０９．該下部層１０９上に設けられた共通電極１１８．
該共通電極１１８上に設げられた絶縁層１１４．該絶縁
層１１４上に設けられた発熱抵抗層１１０．該発熱抵抗
層１１０上に設けられた上部層１１１とで構成される。

発熱抵抗層１１０には、熱を発生させるために該層１１
０に通電するための電極１１２．１１３が絶縁層１１４
をはさんで設けられである。電極１１２は、各液吐出部
の熱発生部を選択して発熱させるための選択電極であり
、電極１１８は、各液吐出部の熱発生部に共通の電極で
あって、液吐出部の液流路に沿って設けられている。

上部層１１１は、熱発生部１０７に於いては発熱抵抗＠
１１０を、使用する液体から化学的、物理的に保護する
ために発熱抵抗層１１０と液吐出部１０５の液流路を満
たしている液体とを隔絶する発熱抵抗層１１０の保護的
機能を有している。

また、上部層１１１は、隣接する電極間に於ける電気的
リークを防止する役目も荷っている。殊に、各選択電極
間に於ける電気的リークの防止、或いは各液流路下にあ
る電極が何等かの理由で電極と液体とが接触し、これに
通電することによって起る電極の電蝕の防止は重要であ
って、このためにこのような保護層的機能を有する上部
層１１１が少なくとも液流路下に存在する電極上には設
けられている。

更に、各液吐出部に設けられている液流路は、その、上
流に於いて、該液流路に供給する液体を貯える共通液室
（不図示）に連通しているが、各液吐出部に設けられた
電気熱変換体に接続されている電極は、その設計上の都
合により、熱作用部の上流側に於いて前記共通液室下を
通るように設けられるのが一般的である。従って、この
部分に於いても電極が液体と接触するのを防止すべく前
記した上部層が設けられるのが一般的である。

しかし、従来の構成の記録ヘッドでは電極が熱発生部の
下を通るために電極の材質が耐熱性の優れたものに限定
される上、絶縁層が蓄熱層を兼ねるためスルホールの歩
留りが悪い等の欠点がある。

また、従来の熱発生部は、前述した例でも明らかなよう
に数層からなり、それぞれの層の材質が異なるため、そ
れぞれの熱膨張係数が異なり、頻繁に熱がかかると内部
歪が蓄積され、ひいてはクラックが発生し、耐久性の点
でも問題があった。

本発明は、上記の諸点に鑑み成されたものであって、頻
繁なる繰返し使用や長時間の連続使用に於いて総合的な
耐久性に優れ、初期の良好な液滴形成特性を長期に亘っ
て安定的に維持し得る液体噴射記録ヘッドを提供するこ
とを主たる目的とする。

また、本発明の別の目的は、製造加工上に於ける信頼性
の高い液体噴射記録ヘッドを提供することでもある。

本発明の液体噴射記録ヘッドは、液体を吐出して飛翔的
液滴を形成するために設けられたオリフィスと、該オリ
フィスに連通し、前記液滴を形成するための熱エネルギ
ーが液体に作用する部分である熱作用部を構成の一部と
する液流路とを有する液吐出部と、該流路に供給する前
記液体を貯える共通液室と、基板上に設けられた発熱抵
抗層に電気的に接続して、少なくとも一対の対置する電
極、即ち、各液吐出部の熱発生部に共通の共通電極と、
各液吐出部の熱発生部を選択して発熱させる選択電極と
が絶縁層をはさんで設けられ、電極の間に熱発生部が形
成されている電気熱変換体とを具備する液体噴射記録ヘ
ッドに於いて、共通電極と絶縁層が前記熱発生部の下に
は設けられないことを特徴とするものである。

以下に本発明を第２図（ａ）〜第２図（ｅ）に従って具
体的に説明する。

第２図（ａ）には、本発明の液体噴射記録ヘッドの好適
な実施態様例の構造の主要部を説明するためのオリフィ
ス側から見た正面部分図が、第２図（ｂ）には、第２図
（ａ）に一点鎖線ＡＡ′で示した部分で切断した場合の
切断面部分図が示されており、第２図（ａ）は、先に説
明した第１図（ａｌに相当し、第２図（ｂ）は第１図（
ｂ）に相当するものである。

図に示される液体噴射記録ヘッド２００は、所望数の電
気熱変換体２０１が設けられた熱を液吐出に利用する液
体噴射記録（サーマルインクジェット二ＴＪと略記する
）用の基板２０２と、前記電気熱変換体２０１に対応し
て設けられた溝を所望数有する溝付板２０８とでその主
要部が構成されている。

ＴＪ基板２０２と溝付板２０３とは、所定個所で接着剤
等で接合されることでＴＪ基板２０２の電気熱変換体２
０１の設けられている部分と、溝付板２０８の溝の部分
とによって液流路２０４を形成しており、該液流路２０
４は、その構成の一部に熱作用部２０５を有する。

ＴＪ基板２０２は、シリコン、ガラス、セラミックス等
で構成されている支持体２０６と、該支持体２０６上に
５ｉ０２　等で構成される下部層２０７と、共通電極２
０８．絶縁＠２０９を設けた後、熱発生部２１５に該当
する部分の共通電極２０８゜絶縁層２０９をパターニン
グによって除去し、次いで発熱抵抗層２１０と、発熱抵
抗層の上面の熱発生部の両側には液流路２０４に沿って
選択電極２１１．２１２と、発熱抵抗層２１０の上面の
電極で被覆されてない部分及び選択電極２１１゜２１２
の部分を覆う様に第１の保護層２１８と、第１の保護層
の上面の熱発生部を除く部分に第２の保護層２１４とを
具備している。なお、絶縁層２０９にオリフィス先端付
近でスルホール穴を設け、選択電極と共通電極とは接続
されている。

電気熱変換体２０１は、その主要部として熱発生部２１
５を有し、熱発生部２１５は、支持体２０６上に支持体
２０６側から順次、下部層２０７゜発熱抵抗層２１０．
第１の保護層２１８で構成されており、第１の保護＠２
■８の表面（熱作用面２１６）は、液流路２０４を満た
している液体と直接接触している。

一方、選択電極２１１．２１２の表面は、第１の保護層
２１８で覆われ、熱発生部２１５を除く第１の保護層の
上は第２の保護層２１４が設けられている。

第２図（Ｃ１は、第２図（ｂ）に一点鎖線Ｂ　Ｂ’で示
した部分で切断した場合の切断面部分図であり、第２図
（ｄ）は、第２図（ｂ）に一点鎖線ｃ　ｃ’の位置にお
ける基板平面図、第２図（ｅ）は、第１の保護層２１２
１と第２の保護層２１４．を除いた基板平面参与≠要因
である。

第２図に示されろ液体噴射記録ヘッド２００の場合には
、選択電極２１１の上層にも第２の保護層２１４が設げ
られた構造を有するが、本発明に於いては、これに限定
されることはなく、選択電極２１１の上層には第２の保
護層２１４を設けなくてもよい。第２の保護層２１４を
設けなければ、各液吐出部における液流路２０４の熱作
用面２１６よりオリフィス側と熱作用面２１６との表面
位置の゛段差が少な（てすむため、第２図に示したよう
な構造の熱作用面２１６よりオリフィス側にも第２の保
護層を設けた場合に比べて、液流路の底面が比較的滑ら
かであるので、液体の流れが円滑であって液滴の形成が
安定的に行なわれる。しかしながら、熱作用面２１６よ
りオリフィス側の表面位置と、熱作用面２１６の表面位
置との段差が、液流路２０４の上面と熱作用面２１６の
距離に比べて実質的に無視し得る程に小さければ液滴形
成の安定性にはそれ程影響がない。従ってこの範囲内で
あれば、熱作用面２１６よりオリフィス側に、第２の保
護層を設けることも、設けないことも可能である。

第１の保護層２１８を構成する材料としては、比較的熱
伝導性及び耐熱性に優れた無機質絶縁材料が適している
。例えば、５ｉ０２　等の無機酸化物や酸化チタン、酸
化バナジウム、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化タン
タル、酸化タングステン。

酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム。

酸化ランタン、酸化イツトリウム、酸化マンガン。

等の遷移金属酸化物、更に酸化アルミニウム、酸化カル
シウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化シリ
コン、等の金属酸化物及びそれらの複合体、窒化シリコ
ン、窒化アルミニウム、窒化ボロン、窒化タンタル等高
抵抗窒化物及びこれら酸化物、窒化物の複合体、更にア
モルファスシリコン、アモルファスセレン等の半導体な
どバルクでは低抵抗であってもスパッタリング法、ＣＶ
Ｄ法。

蒸着法、気相反応法、液体コーティング法等の製造過程
で高抵抗化し得る薄膜材料を挙げることができる。

第２の保護層２１４は、液浸透防止と耐液作用に優れた
有機質絶縁材料で構成され、更には、■成膜性が良いこ
と、■緻密な構造でかつピンホールが少ないこと、■使
用インクに対し膨潤、溶解しないこと、■成膜したとき
絶縁性が良いこと、■耐熱性が高いこと等の物性を具備
していることが望ましい。そのような有機質材料として
は以下の樹脂、例えばシリコーン樹脂、フッ素樹脂、芳
香族ポリアミド、付加重合型ポリイミド、ポリベンズイ
ミダゾール、金属キレート重合体、チタン酸エステル、
エポキシ樹脂、フタル酸樹脂、熱硬化性フェノール樹脂
、Ｐ−ビニルフェノール樹脂。

ザイロツク樹脂、トリアジン樹脂、ＢＴ樹脂（トリアジ
ン樹脂とビスマレイミド付加重合樹脂）等が挙げられる
。又、この他に、ポリキシリレン樹脂及びその誘導体を
蒸着して第２の保護層２１４を形成することもできる。

更に、種々の有機化合物モノマー、例えばチオウレア、
チオアセトアミド、ビニルフェロセン。

１．８．５−ト’！Ｊクロロベンゼン、クロロベンゼン
。

スチレン、フェロセン、ピロリン、ナフタレン。

ペンタメチルベンゼン、ニトロトルエン、アクリロニト
リル、ジフェニルセレナイド、Ｐ−）ルイジン、Ｐ−キ
シレン、　Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｐ−）シイジン。トルエ
ン、アニリン、ジフェニルマーキｊ、ｌＪ、ヘキサメチ
ルベンゼン、マロノニトリル。

テトランアノエチレン、チオフェン、ベンゼンセレノ−
ルウテトラフルオロエチレン、エチレン。

Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、アセチレン、■。

２．４−ト＋）’）ロロベンゼン、フロパン等ヲ使用シ
てプラズマ重合法によって成膜させて、第２の保護層２
１４を形成することもできる。

しかしながら、高密度マルチオリフイスタイプの記録−
・ラドな作成するのであれば、上記した有機質材料とは
別に微細フォトリソグラフィー加工が極めて容易とされ
る有機質材料を第２の保護層２１．４を形成する材料と
して使用するのが望ましい。そのような有機質材料とし
ては具体的には、例えば、ポリイミドイソインドロキナ
ゾリンジオン（商品名：ＰＩＱ、日立化成製）、ポリイ
ミド樹脂（商品名：　ＰＹＲＡＬＩＮ　、デュポン製）
、環化ポリブタジェン（商品名：　ＪＳＲ−ＣＢＲ，Ｃ
ＢＲ−Ｍ２Ｏ３゜日本合成ゴム製）、フォトニース（商
品名二乗し製）、その他の感光性ポリイミド樹脂等が好
ましいものとして挙げられる。

更に第８の保護層を最表層に設けることもできる。第３
の保護層の役割は、主に耐液性と機械的強度の補強の付
与にある。この第８の保護層は、液流路２０４及び共通
液室のような液体と接触する可能性のあるＴＪ基板のほ
ぼ全面に最表層として設けられ、粘りがあって、比較的
機械的強度に優れ、かつ第１の層２１８及び第２の層２
１４に対して密着性と接着性のある、例えば層２１８が
５ｉ０２　で形成されている場合には’ｒａ等の金属材
料で構成される。このように基板の表面層に金属等の比
較的粘りがあって機械的強度のある無機材料で構成され
る第８の保護層を配設することによって、特に熱作用面
２１６に於いて、液体吐出の際に生ずるキャビテーショ
ン作用からのショックを充分吸収することができ、電気
熱変換体２０１の寿命を格段に延ばす効果がある。

第８の保護層を形成することのできる材料としては、上
記のＴａの他に、Ｓｃ、Ｙなどの周期律表第ｍａ族の元
素、Ｔ　＋　＋　Ｚ　ｒ　＋　Ｈｆ　などの第１Ｖａ族
の元素、Ｖ、Ｎｂなとの第Ｖａ族の元素、Ｃｒ　＋　Ｍ
　ｏ　＊　Ｗなどの第Ｖｉａ族の元素、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉなどの第■族の元素；　Ｔｉ−Ｎｉ　、Ｔａ−Ｗ、Ｔ
ａ−Ｍｏ−Ｎｉ　、Ｎｉ−Ｃｒ　、Ｆｅ−Ｃｏ　、　Ｔ
　ｉ　−Ｗ、　Ｆｅ　−Ｔ　ｉ　、　Ｆｅ−Ｎｉ　、　
Ｆｅ−Ｃｒ　、　Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｒなどの上記金属の合
金；　Ｔ　ｉ　−Ｂ　、　Ｔａ　−Ｂ　、　Ｈｆ−Ｂ　
、Ｗ−Ｂなトノ上記金属の硼化物；　Ｔ　ｉ　−Ｃ、Ｚ
　ｒ　−Ｃ、Ｖ−Ｃ。

Ｔａ　ｃ、ＭＯＣ，Ｎ＋　Ｃなどの上記金属の炭化物；
Ｍ。

−８ｉ　、Ｗ−８ｉ　、　Ｔａ　−８ｉなどの上記金属
のケイ化物；Ｔ　ｉ−Ｎ、　Ｎｂ−Ｎ、Ｔａ−Ｎなどの
上記金属の窒化物が挙げられる。第８の保護層は、これ
らの材料を用いて蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法
等の手法により形成することができる。第８の保護層は
、上記の層単独であってもよいが、もちろんこれらの幾
つかを組合わせることもできる。また、第８の保護層を
上記のもの単独ではなく、第１の保護層の材質と組み合
わせて使用することも可能である。

下部層２０７は、主に熱発生部２１５より発生する熱の
支持体２０６側への流れを制御する層として設けられる
もので、熱作用部２０５に於いて液体に熱エネルギーを
作用させる場合には、熱発生部２１５より発生する熱が
熱作用部２０５側により多く流れるようにし、電気熱変
換体２０１への通電がＯＦＦされた際には、熱発生部２
１５に残存している熱が、支持体２０６側に速やかに流
れるように構成材料の選択と、その層厚の設計が成され
る。下部層２０７を構成する材料としては、先に挙げた
８４０２　の他に酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸
化マグネシウム、酸化アルミニウム等の金属酸化物に代
表される無機質材料が挙げられる。

発熱抵抗層２１０を構成する材料は、通電されることに
よって、所望通りの熱が発生するものであれば大概のも
のが採用され得る。

そのような材料としては、具体的には例えば窒化タンタ
ル、ニクロム、銀−パラジウム合金、シリコン半導体、
或いは、ハフニウム、ランタン。

ジルコニウム、チタン、タンタル、タングステン。

モリブデン、ニオブ、クロム、バナジウム等の金属及び
その合金並びにそれらの硼化物等が好ましいものとして
挙げられる。

これ等の発熱抵抗層２１０を構成する材料の中、殊に金
属硼化物が優れたものとして挙げることができ、その中
でも最も特性の優れているのが硼化ハフニウムであり、
次いで硼化ジルコニウム、硼化ランタン、硼化タンタル
、硼化バナジウム、硼化ニオブの順となっている。

発熱抵抗層２１０は、上記した材料を使用して、電子ビ
ーム蒸着やスパッタリング等の手法を用いて形成するこ
とができる。

電極２０９，２１１及び２１２を構成する材料としては
、通常使用されている電極側斜の多くのものが有効に使
用され、具体的には例えば、ＡＩ。

Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｃｕ等の金属が挙げられ、これ等を
使用して、蒸着等の手法で所定位置に、所定の大きさ、
形状、厚さで設けられる。

絶縁層２０９を構成する材料としては、電極２０９上に
所定のパターニング形成が容易で、電極２０９と電極２
１１．２１２間でショートを発生しないようピンホール
レスの有機及び無機絶縁材料が使用できる。具体的には
例えばＳ　＋　０２　＋　””ｓＮ４等でリフト−オフ
形成されたもの、ポリイミドイソインドロキナゾリンジ
オン（商品名：　ＰＩＱ、日立化成製）、ポリイミド樹
脂（商品名：　ＰＹＲＡＬＩＮデュポン製）、環化ポリ
ブタジェン（商品名：ＪＳＲ−ＣＢＲ，ＣＢＲ−Ｍ２Ｏ
３，日本合成ゴム製）、フォトニース（商品名：東し製
）、その他の感光性ポリイミド樹脂等が挙げられる。

溝付板２０８並びに熱作用部２０５の上流側に設けられ
る共通液室の構成部材を構成する材料としては、記録ヘ
ッドの工作時の、或いは使用時の環境下に於いて形状に
熱的影響を受けないか或いは殆んど受けないものであっ
て微細精密加工が容易に適用され得ると共に、面精度を
所望通りに容易に出すことができ、更には、それ等によ
って形成される流路中を液体がスムーズに流れ得るよう
に加工し得るものであれば、大概のものが有効である。

そのような材料として代表的なものを挙げれば、セラミ
ックス１．ガラス、金属、プラスチック或いハシＩＪ　
：Ｉンウエハー等が好適なものとして例示される。殊に
、ガラス、シリコンウェーハーバ加工上容易であること
、適度の耐熱性、熱膨張係数、熱伝導性を有しているの
で好適な材料の１つである。オリフィス２１７の周りの
外表面は液体で漏れて、液体がオリフィス２１７の外側
に回り込まないように、液体が水系の場合には撥水処理
を、液体が非水系の場合には撥油処理を施した方が良い
。

オリフィス２１７の形成は、感光性樹脂を基板２０２に
貼付け、フォトリソグラフィーでパターン形成しさらに
天板を貼付けることによって行なっても良い。

第８図、第４図に本発明の他の実施態様を示す。

第８図、第４図は、共に第２図（ｂｌに相当するもので
ある。

＄８図に示す実施態様では、支持体２０６の上に下部層
２０７を設け、該下部層２０７の上に下部層側から順に
発熱抵抗層２１Ｏ９選択電極２１１゜２１２、絶縁層２
０９．共通電極２０８を設け、熱発生部２１５に該当す
る部分の電極、絶縁層をパターニングにより除去した後
、電極１発熱抵抗層、絶縁層を覆う様に第１の保護層２
１８を設け、液流路２０４に沿って熱発生部２１５より
共通液室側にのみ第２の保護層２１４を設けている。

第４図に示す実施態様では、熱発生部２１５よりオリフ
ィス２１７側には、選択電極、第２の保護層を設けず、
液吐出部における熱発生部２１５よりオリフィス側と熱
作用面２１６との表面段差を小さくしたものである。

以下に実施例を示して本発明の液体噴射記録ヘッドを具
体的に説明する。

実施例 第２図に示した液体噴射記録ヘッドを以下のようにして
製造した。

Ｓｉ　ウニ八−の熱酸化により５μｍ厚の５ｉｎ２膜を
形成し基板とした。基板に電子ビーム蒸着によりＴｊ　
層５０Ａ、ＡＩ　層５０００Ａ厚を連続的に堆積し、共
通電極２０８を形成した。次にフォトリソ工程により共
通電極２０８を第２図（ｄ）に示したパターンに形成し
、熱作用面周辺部の窓抜きを行った。窓抜きサイズは、
８０μｍ巾、１５０μｍ長さである。・次に絶縁層２０
９としてフォトニース（商品名：東し製）を１．５μｍ
厚に、熱作用面周辺部（２５μｍ巾、１４０μｍ長さ）
と、共通電極２０８と選択電極２１１のコンタクトホー
ル（８０μｍ巾、２０μｍ長さ）を除く部分に形成した
。次にスパッタにより発熱抵抗層２１０としてＨｆＢ２
　を１５０ＯＡ厚に形成し、続いて電子ビーム蒸着によ
りＴｉ　層５０Ａ、ＡＩ層５０００Ａを連続的に堆積し
た。フォトリソ工程により第２図（ｅ）に示したパター
ンの選択電極２１１．２１２を形成、熱作用面のサイズ
は２５μｍ　ｒｌ］、１４０μｍ長さで、ＡＩ　電極の
抵抗を含めて１５０オームであった。

次に第１の保護層２１８として５ｉ０２　を２．０μｍ
厚にマグネトロン型ハイレートスパッタ法によって基板
の全面上に積層した。続いて第２の保護層２１４として
フォトニース（商品名：東し製）を１、５μｍ厚に熱作
用面周辺部を除く部分にフォトリソグラフィーにより形
成し、ＴＪ基板を製造した。

このＴＪ基板上に溝付ガラス板を所定通りに接着した。

即ち、第２図（ｂ）に示しであるのと同様にＴＪ基板に
インク導入流路と熱作用部を形成する為の溝付ガラス板
（溝サイズ中５０μｍ×深さ５０μｍ×長さ２■）が接
着されている。

上記のようにして２５　ＰｅｔＯ高密度マルチノズル記
録ヘッドを製造した。

製造した記録ヘッドは、従来のものより高密度である上
、頻繁なる繰返し使用や長時間の連続使用に於いて総合
的な耐久性に優れ、初期の良好な液滴形成特性を長期に
亘って安定的に維持することができた。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）　、　（ｂ）は夫々、従来の液体噴射記録
ヘッドの構成を説明するためのもので、第１図（ａ）は
模式的正面部分図、第１図（ｂ）は第１図（ａ）の一点
鎖線ＸＹ′での切断面部分図、第２図（ａ）　、　（ｂ
）　、　（ｃ）　、　（ｄ）　。 （ｅ）は夫々本発明の液体噴射記録ヘッドの構成を説明
するためのもので、第２図（ａ）は模式的正面部分図、
第２図（ｂ）は第２図（ａ）に示す一点鎖線Ａ　Ａ’で
の切断面部分図、第２図（Ｃ）は第２図（ｂ）に一点鎖
線ＢＢ’での切断面部分図、第２図（ｄ）は第２図（ｂ
）に一点鎖線ｃ　ｃ’の位置における基板平面図、第２
図（ｅ）は第１の保護層及び第２の保護層を除いた基板
の平面図である。第８図、第４図は夫々本発明の他の例
を示すための切断面部分図である。 １００．２００　：液体噴射記録ヘッド１０１．２０１
　：電気熱変換体 １０２．２０２　：基　板 １０８．２０８　：溝付板 １０４．２１７　ニオリフイス １０５　：液吐出部 １０６．２０５　：熱作用部 １０７．２１５　：熱発生部 １０８．２１６　：熱作用面 １０９．２０７　：下部層 １１０．２１０　：発熱抵抗層 １１１　：上部層 １１２．２１１．２１２　：　（選択）電極１１８．２
０８　：　（共通）電極 １１４．２０９　：絶縁層 ２０４　：液流路 ２０６　二支持体 ２１８　：第１の保護層 ２１４　：第２の保護層 特許出願人　キャノン株式会社 第　１　図（ａ） 第　１　図（ｂ） Ｘ 第　２　図（ａ） 第　２　図（Ｃ） 第　２　因　（ｄ） 第　２　図　（ｅ） 第　３　図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 液体を吐出して飛翔的液滴を形成するために設けられた
   オリフィスと、該オリフィスに連通し、前記液滴を形成
   するための熱エネルギーが液体に作用する部分である熱
   作用部を構成の一部とする液流路とを有する液吐出部と
   、該流路に供給する前記液体を貯える共通液室と、基板
   上に設けられた発熱抵抗層に電気的に接続して、少な（
   とも一対の対置する電極、即ち各液吐出部の熱発生部に
   共通の共通電極と、各液吐出部の熱発生部を選択して発
   熱させる選択電極とが絶縁層をはさんで設けられ、前記
   選択電極の間又は、選択電極と共通電極の間に熱発生部
   が形成されている電気熱変換体とを具備する液体噴射記
   録ヘッドに於いて、共通電極と絶縁層が前記熱発生部の
   下には設けられないことを特徴とする液体噴射記録ヘッ
   ド。