JPS6011106A - 形状検出装置 - Google Patents
形状検出装置Info
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- JPS6011106A JPS6011106A JP11972383A JP11972383A JPS6011106A JP S6011106 A JPS6011106 A JP S6011106A JP 11972383 A JP11972383 A JP 11972383A JP 11972383 A JP11972383 A JP 11972383A JP S6011106 A JPS6011106 A JP S6011106A
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- G—PHYSICS
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- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は物体の凸凹形状を干渉縞を使って検出する装置
に関するものである。
に関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来の形状認識装置の具体構成を第１図に示す。
１は試料で表面は円筒形状をしている、２は試料を照明
する光源、３は参照光ミラー、４はビームスプリッタ−
であり、光源２から出だ光はビームスプリッタ−４によ
り２光束に分けられ、試料１表面で反射した光と参照光
ミラー３で反射した光が干渉し干渉縞を発生する。５は
対物レンズ、６は試料１を走査するガルバノミラ−１７
は試ｆ４１の実像面上に設けられたスリット、８はス’
、ｌソｈ７を通過する光を検出する光電子増倍管である
。
する光源、３は参照光ミラー、４はビームスプリッタ−
であり、光源２から出だ光はビームスプリッタ−４によ
り２光束に分けられ、試料１表面で反射した光と参照光
ミラー３で反射した光が干渉し干渉縞を発生する。５は
対物レンズ、６は試料１を走査するガルバノミラ−１７
は試ｆ４１の実像面上に設けられたスリット、８はス’
、ｌソｈ７を通過する光を検出する光電子増倍管である
。
９は特定の周波数の光のみを通すフィルターである。ガ
ルバノミラ−６に試料１を走査した時に光電子増倍管８
によシ検出される干渉縞の波形は第２図に示すようにな
る。第２図に示す波形の干渉縞の１次の波、２次の波・
・・・・をそれぞれ認識すれば照明の波長とから試料の
表面形状を知ることができるが、データ数が膨大になり
信号処理か複雑なうえに、表面形状が複雑な試料の表面
凹凸形状を認識することは困難である。
ルバノミラ−６に試料１を走査した時に光電子増倍管８
によシ検出される干渉縞の波形は第２図に示すようにな
る。第２図に示す波形の干渉縞の１次の波、２次の波・
・・・・をそれぞれ認識すれば照明の波長とから試料の
表面形状を知ることができるが、データ数が膨大になり
信号処理か複雑なうえに、表面形状が複雑な試料の表面
凹凸形状を認識することは困難である。
発明の目的
本発明は上記欠点に鑑み、簡単な信号処理で試料の凹凸
形状を検出する形状検出装置を提供することを、目的と
する。
形状を検出する形状検出装置を提供することを、目的と
する。
発明の構成
干渉縞発生手段を有する顕微鏡と、前記顕微鏡の実像面
近傍に設けた撮像装置あるいは光電変換装置と、前記撮
像装置あるいは光電変換装置より得られる干渉縞濃淡レ
ベルを判定する判定手段と、試料と前記顕微鏡との相対
位置を検出する検出手段よりなり、前記試料表面の複数
箇所で干渉縞濃淡レベル値を判定し、前記判定手段の信
号に基づき各々の箇所での前記試料と前記顕微鏡との相
対位置を検出することにより １１巣な信号処理で試料
の凹凸形状を検出することができる。
近傍に設けた撮像装置あるいは光電変換装置と、前記撮
像装置あるいは光電変換装置より得られる干渉縞濃淡レ
ベルを判定する判定手段と、試料と前記顕微鏡との相対
位置を検出する検出手段よりなり、前記試料表面の複数
箇所で干渉縞濃淡レベル値を判定し、前記判定手段の信
号に基づき各々の箇所での前記試料と前記顕微鏡との相
対位置を検出することにより １１巣な信号処理で試料
の凹凸形状を検出することができる。
実施例の説明
以下本発明の第１の実施例について図面を参照にしなが
ら説明する。第３図は本発明の第１の実施例を示す正面
図である。第３図において２１は試料、２２は顕微鏡で
あり、顕微鏡２２は光源２３゜ビームスプリッタ−２４
，参照光ミラー２５．対物レンズ２６．ガルバノミラ−
２７，スリット２８゜光電子増倍管２９で構成されてい
る。ビームスプリッタ−２２は光源２３から出た光を２
光束に分け、試料２１で反射した光と、参照光ミラー２
５で反射した光により干渉縞が発生する。スリット２８
は試料２１の実像面上に設けられ、光電子増倍管２９は
スリット２８の後方に設けられており、スリット２８を
通過する光を電気信号に変換する。
ら説明する。第３図は本発明の第１の実施例を示す正面
図である。第３図において２１は試料、２２は顕微鏡で
あり、顕微鏡２２は光源２３゜ビームスプリッタ−２４
，参照光ミラー２５．対物レンズ２６．ガルバノミラ−
２７，スリット２８゜光電子増倍管２９で構成されてい
る。ビームスプリッタ−２２は光源２３から出た光を２
光束に分け、試料２１で反射した光と、参照光ミラー２
５で反射した光により干渉縞が発生する。スリット２８
は試料２１の実像面上に設けられ、光電子増倍管２９は
スリット２８の後方に設けられており、スリット２８を
通過する光を電気信号に変換する。
ガルバノミラ−２７は力える電圧値によって複数箇所で
静止し、試料２１Ｘ方向の干渉縞検出位置を決定する。
静止し、試料２１Ｘ方向の干渉縞検出位置を決定する。
３０は顕微鏡２２を載置し、試料２１Ｙ方向に移動する
テーブルである。３１はモータで、出力軸には送りねじ
３２が連結され、顕微鏡２２を試料２１Ｙ方向に移動さ
せる。モータ３１はスライドテーブル（図示せず）に載
っており、送りねじ３２とともにＹ方向に移動する。３
３は顕微鏡の位置を検出する位置検出センサーで、位置
検出センサー３３の位置検出信号にょ９、試料２１と顕
微鏡２２の相対位置変化を知ることにより、試料２１の
凹凸を知ることができる。３４は制御装置であり、干渉
縞検出信号、位置検出信号が入力され、ガルバノ駆動信
号、モータ駆動信号が出力されている。
テーブルである。３１はモータで、出力軸には送りねじ
３２が連結され、顕微鏡２２を試料２１Ｙ方向に移動さ
せる。モータ３１はスライドテーブル（図示せず）に載
っており、送りねじ３２とともにＹ方向に移動する。３
３は顕微鏡の位置を検出する位置検出センサーで、位置
検出センサー３３の位置検出信号にょ９、試料２１と顕
微鏡２２の相対位置変化を知ることにより、試料２１の
凹凸を知ることができる。３４は制御装置であり、干渉
縞検出信号、位置検出信号が入力され、ガルバノ駆動信
号、モータ駆動信号が出力されている。
制御装置３４の構成の一例を第４図によって説明する。
３５は第６図に示す干渉縞１周期の濃淡レベルのピーク
値Ｐ１．Ｐ２．Ｐ３を検出するピーク値検出回路である
。ピーク値検出回路３５がらは保持回路３６と比較回路
３７に濃淡レベルのピーク値を出力している。保持回路
３６はピーク値検出回路３６から入力される濃淡レベル
のピーク値を保持し、−周期前のピーク値を比較回路３
７に出力する。比較回路３７はピーク値検出回路３５か
ら入力される濃淡レベルピーク値と保持回路３６より入
力される一周期前の濃淡レベルピーク値とを比較する。
値Ｐ１．Ｐ２．Ｐ３を検出するピーク値検出回路である
。ピーク値検出回路３５がらは保持回路３６と比較回路
３７に濃淡レベルのピーク値を出力している。保持回路
３６はピーク値検出回路３６から入力される濃淡レベル
のピーク値を保持し、−周期前のピーク値を比較回路３
７に出力する。比較回路３７はピーク値検出回路３５か
ら入力される濃淡レベルピーク値と保持回路３６より入
力される一周期前の濃淡レベルピーク値とを比較する。
３８は比較回路３７にピーク値検出回路３５から入力さ
れる濃淡レベルのピーク値が保持回路３６から入力され
る濃淡レベルのピーク値より大きくなる方向にモータ３
１の回転方向を制御するモータ制御回路であり、３９は
モータ３１を駆動するモータ、駆動回路である。４ｏは
ガルバノミラ−２７を複数箇所に静止させるガルバノ駆
動回路である。４１はサンプリング回路であり、−周期
前の濃淡レベルのピーク値が最大となった時に比較回路
３７からサンプリング信号が入力され、その時ガルバノ
駆動回路４０からガルバノ駆動信号を読みとり、位置検
出センサー３３から位置検出信号を読み取り、両者の値
から試料２１の凹凸形状を検出する。
れる濃淡レベルのピーク値が保持回路３６から入力され
る濃淡レベルのピーク値より大きくなる方向にモータ３
１の回転方向を制御するモータ制御回路であり、３９は
モータ３１を駆動するモータ、駆動回路である。４ｏは
ガルバノミラ−２７を複数箇所に静止させるガルバノ駆
動回路である。４１はサンプリング回路であり、−周期
前の濃淡レベルのピーク値が最大となった時に比較回路
３７からサンプリング信号が入力され、その時ガルバノ
駆動回路４０からガルバノ駆動信号を読みとり、位置検
出センサー３３から位置検出信号を読み取り、両者の値
から試料２１の凹凸形状を検出する。
次に第３図、第４図のように構成された凸凹形状検出装
置において、第６図を参照にしながら試料２１表面のＹ
方向の位置検出原理について説明する。
置において、第６図を参照にしながら試料２１表面のＹ
方向の位置検出原理について説明する。
第３図に示す光源２３がハロゲン電球のようなインコヒ
ーレント光の場合には可干渉範囲はレーザー光のような
コヒーレント光に比べせまく、干渉縞の濃淡レベルは光
源２３から試料２１までの距離と、光源２３から参照光
ミラー２５までの距離が等しい時、すなわち光源を同時
に出だ光が干渉する時に最大となる。よって試料２１と
顕微鏡２２の相対距離を変化させると、第６図ａに示す
ように干渉縞は徐々に鮮明になり、光源２３から参照光
ミラー２５までの距離と、光源２３から試料２１までの
距離が等しくなる位置Ｂで干渉縞は最も鮮明となり、位
置Ｂを通過すると干渉縞は徐々に不鮮明となってゆく。
ーレント光の場合には可干渉範囲はレーザー光のような
コヒーレント光に比べせまく、干渉縞の濃淡レベルは光
源２３から試料２１までの距離と、光源２３から参照光
ミラー２５までの距離が等しい時、すなわち光源を同時
に出だ光が干渉する時に最大となる。よって試料２１と
顕微鏡２２の相対距離を変化させると、第６図ａに示す
ように干渉縞は徐々に鮮明になり、光源２３から参照光
ミラー２５までの距離と、光源２３から試料２１までの
距離が等しくなる位置Ｂで干渉縞は最も鮮明となり、位
置Ｂを通過すると干渉縞は徐々に不鮮明となってゆく。
この干渉縞の濃淡レベルの変化を、スリット２８を通過
する光量の変化により光電子増倍管２９で検出するとそ
の検出信号は第６図すに示すような波形となる。よって
この干渉縞の濃淡レベルが最大となる時の試料２１と顕
微鏡２２との相対距離を試料２１Ｘ方向の複数箇所につ
いて検出すれば試料２１のＸ方向の凸凹形状を知ること
ができる。
する光量の変化により光電子増倍管２９で検出するとそ
の検出信号は第６図すに示すような波形となる。よって
この干渉縞の濃淡レベルが最大となる時の試料２１と顕
微鏡２２との相対距離を試料２１Ｘ方向の複数箇所につ
いて検出すれば試料２１のＸ方向の凸凹形状を知ること
ができる。
次に本実施例の動作について説明する。
ガルバノミラ−２７にはガルバノ駆動信号が与えられ、
所定の角度だけ振れて静止しており、モータ制御回路３
８はモータ駆動回路３９を介してモータ３１を一方向に
駆動する。この時試料２１を反射する光と参照光ミラー
２５を反射する光によって生ずる干渉縞の濃淡レベルを
光電子増倍管２９により光電変換し、ピーク値検出回路
３６で干渉縞−周期の濃淡レベルピーク値を検出する。
所定の角度だけ振れて静止しており、モータ制御回路３
８はモータ駆動回路３９を介してモータ３１を一方向に
駆動する。この時試料２１を反射する光と参照光ミラー
２５を反射する光によって生ずる干渉縞の濃淡レベルを
光電子増倍管２９により光電変換し、ピーク値検出回路
３６で干渉縞−周期の濃淡レベルピーク値を検出する。
ピーク値検出回路３５から濃淡レベルピーク値が保持回
路３６と比較回路３７に出力される。保持回路３６から
は比較回路３７に一周期前の濃淡レベルのピーク値が出
力され、比較回路３７で両者の値を比較する。保持回路
３６の濃淡レベルピーク値は比較回路３７での比較が終
了すれば更新される。比較回路３７にピーク値検出回路
３５より入力される濃淡レベルピーク値が保持回路３６
より入力される干渉縞−周期前の濃淡レベルピーク値よ
り大きい時にはモータ制御回路３８はモータ３１を同方
向に回転させ続ける。次に保持回路３６より入力される
干渉縞−周期前のピーク値の方が、ピーク値検出回路３
６より入力される濃淡レベルピーク値よシ大きくなった
時、すなわち保持回路３６に干渉縞濃淡レベルピーク値
の最大値が保持されている時、比較回路３６はサンプリ
ング回路４１にサンプリング信号を出力する。サンプリ
ング回路４１にサンプリング信号が入力されると、ガル
バノ駆動回路４ｏからガルバノ駆動信号を読み取り試料
２１のＸ方向の位置を検出し、さらに位置検出センサー
３３の位置検出信号を読み取り、試料２．１表面のＹ方
向の顕微鏡−２−２との相対位置を検出する。以上の動
作をガルバノミラ−２７へ与えるガルバノ駆動信号すな
わちガルバノの駆動電圧を変えることによシ試料２１Ｘ
方向の複数箇所で繰シ返し、試料２１表面の凹凸形状を
検出する。
路３６と比較回路３７に出力される。保持回路３６から
は比較回路３７に一周期前の濃淡レベルのピーク値が出
力され、比較回路３７で両者の値を比較する。保持回路
３６の濃淡レベルピーク値は比較回路３７での比較が終
了すれば更新される。比較回路３７にピーク値検出回路
３５より入力される濃淡レベルピーク値が保持回路３６
より入力される干渉縞−周期前の濃淡レベルピーク値よ
り大きい時にはモータ制御回路３８はモータ３１を同方
向に回転させ続ける。次に保持回路３６より入力される
干渉縞−周期前のピーク値の方が、ピーク値検出回路３
６より入力される濃淡レベルピーク値よシ大きくなった
時、すなわち保持回路３６に干渉縞濃淡レベルピーク値
の最大値が保持されている時、比較回路３６はサンプリ
ング回路４１にサンプリング信号を出力する。サンプリ
ング回路４１にサンプリング信号が入力されると、ガル
バノ駆動回路４ｏからガルバノ駆動信号を読み取り試料
２１のＸ方向の位置を検出し、さらに位置検出センサー
３３の位置検出信号を読み取り、試料２．１表面のＹ方
向の顕微鏡−２−２との相対位置を検出する。以上の動
作をガルバノミラ−２７へ与えるガルバノ駆動信号すな
わちガルバノの駆動電圧を変えることによシ試料２１Ｘ
方向の複数箇所で繰シ返し、試料２１表面の凹凸形状を
検出する。
以上のように干渉縞発生手段を有する顕微鏡と、光電変
換器と、干渉縞の濃淡レベルピーク値検出回路と、濃淡
レベルピーク値を保持し一周期前のピーク値を出力する
保持回路と、ピーク値検出回路の出力と保持回路の出力
を比較する比較回路と、試料と顕微鏡との相゛対位置を
検出する位置検出手段を設け、干渉縞濃淡レベル周期毎
のピーク値の最大値近傍での試別と顕微鏡との相対位置
を試料表面の複数箇所で検出することにより、簡単な信
号処理で試別の凹凸形状を精度良く知ることができる。
換器と、干渉縞の濃淡レベルピーク値検出回路と、濃淡
レベルピーク値を保持し一周期前のピーク値を出力する
保持回路と、ピーク値検出回路の出力と保持回路の出力
を比較する比較回路と、試料と顕微鏡との相゛対位置を
検出する位置検出手段を設け、干渉縞濃淡レベル周期毎
のピーク値の最大値近傍での試別と顕微鏡との相対位置
を試料表面の複数箇所で検出することにより、簡単な信
号処理で試別の凹凸形状を精度良く知ることができる。
以下本発明第２の実施例について説明する。
第７図は第２の実施例における制御装置の一例を示すブ
ロック図である。Ｗ７１Ｊ御装置以外の構成ｌ′Ｊ、第
１の実施例第３図と同様である。第７図において４２は
干渉縞濃淡レベルを検出する検出回路であり、４３は検
出回路４２の出力値とあらかじめ定められた干渉縞濃淡
レベルの所定値とを比１ｖする比較回路である。４４は
モータ制御回路であり、４６はモータ駆動回路である。
ロック図である。Ｗ７１Ｊ御装置以外の構成ｌ′Ｊ、第
１の実施例第３図と同様である。第７図において４２は
干渉縞濃淡レベルを検出する検出回路であり、４３は検
出回路４２の出力値とあらかじめ定められた干渉縞濃淡
レベルの所定値とを比１ｖする比較回路である。４４は
モータ制御回路であり、４６はモータ駆動回路である。
４７はサンプリング回路であり、検出回路４２の出力値
が干渉縞濃淡レベルの所定値以上になった時、比較回路
４３よりサンプリング信号が入力され、ガルバノ駆動回
路４６よりガルバノ駆動信号を読みとシ、位置恨 検出センサーから位置検出信号を読みとり、試料２１の
形状信号を出力する。
が干渉縞濃淡レベルの所定値以上になった時、比較回路
４３よりサンプリング信号が入力され、ガルバノ駆動回
路４６よりガルバノ駆動信号を読みとシ、位置恨 検出センサーから位置検出信号を読みとり、試料２１の
形状信号を出力する。
以上のように構成され／と形状検出装置について以下そ
の動作を説明する。
の動作を説明する。
ガルバノミラ−２７にはガルバノ駆動信号が勾えられ、
所定の角度だけ振れて静止し、モータ制御回路４４はモ
ータ３１を一方向に回転させ５．顕微鏡２２を一方向に
移動する。この時干渉縞濃淡レベルを光電子増倍管２９
により光電変換し、検Ｕ」回路４２により検出する。比
較回路４３にｄ：検出回路４２より干渉縞濃淡レベルの
値が入力され、あらかじめ定められた値を超えれば、比
較回路４３よりサンプリング信号がサンプリング回路４
７に出力される。サンプリング回路４７にサンプリング
信号か入力されると、ガルバノ駆動回路４６からガルバ
ノ駆動信号を読み取り試料２１のＸ方向の位置を検出し
、位置検出センサー３３より位置検出信号を読み取り試
料２１のＹ方向の顕微鏡との相対位置を検出する。
所定の角度だけ振れて静止し、モータ制御回路４４はモ
ータ３１を一方向に回転させ５．顕微鏡２２を一方向に
移動する。この時干渉縞濃淡レベルを光電子増倍管２９
により光電変換し、検Ｕ」回路４２により検出する。比
較回路４３にｄ：検出回路４２より干渉縞濃淡レベルの
値が入力され、あらかじめ定められた値を超えれば、比
較回路４３よりサンプリング信号がサンプリング回路４
７に出力される。サンプリング回路４７にサンプリング
信号か入力されると、ガルバノ駆動回路４６からガルバ
ノ駆動信号を読み取り試料２１のＸ方向の位置を検出し
、位置検出センサー３３より位置検出信号を読み取り試
料２１のＹ方向の顕微鏡との相対位置を検出する。
十
以上の動作をガルバノミラ−２７に与えるガルバノ駆動
信号を変えることにより試料２１Ｘ方向の複数箇所で繰
り返し、試料２１表面の凹凸形状を検出する。
信号を変えることにより試料２１Ｘ方向の複数箇所で繰
り返し、試料２１表面の凹凸形状を検出する。
以上のように干渉縞の濃淡レベルを検出する検出回路と
検出回路で検出した干渉縞濃淡レベルを所定の値と比較
する比較回路を設け、干渉縞濃淡レベルが所定の値を超
えた時の試料と顕微鏡の相対位置を試ポ」表面の複数箇
所で検出することにより、簡単な信号処理でしかも高速
に試料の凹凸形状を知ることができる。
検出回路で検出した干渉縞濃淡レベルを所定の値と比較
する比較回路を設け、干渉縞濃淡レベルが所定の値を超
えた時の試料と顕微鏡の相対位置を試ポ」表面の複数箇
所で検出することにより、簡単な信号処理でしかも高速
に試料の凹凸形状を知ることができる。
なお第１の実施例、第２の実施例では光電子増倍管を干
渉縞の検出手段として使用しているが、ＩＴＶカメラを
使用しても、あるいはダイオードアレイの光電変換素子
を使用しても本発明に含−止れるものである。
渉縞の検出手段として使用しているが、ＩＴＶカメラを
使用しても、あるいはダイオードアレイの光電変換素子
を使用しても本発明に含−止れるものである。
丑１を第１．第２の実施例において、カルバノミラーに
よって試料を走査しているが、試別を移動させても、あ
るいはヌリソトを移動させても効果は同じである。
よって試料を走査しているが、試別を移動させても、あ
るいはヌリソトを移動させても効果は同じである。
発明の効果
干渉縞発生手段を有する顕微鏡と、前記顕微鏡の実像面
近傍に設けだ撮像装置あるいは光電変換装置と、前記撮
像装置あるいは光電変換装置より得られる干渉縞濃淡レ
ベル値を判定する判定手段と、試別と前記顕微鏡との相
対位置を検出する位置検出手段よりなり、前記試別表面
の複数箇所で、干渉縞濃淡レベル値を判定し、前記判定
手段の信号に基つき前記試料２１表面と前記顕微鏡との
相対位ｊ催を検出して試別の凹凸形状を検出することに
より簡単な信号処理で、精度よ〈試別の凹凸形状を知る
ことができる。
近傍に設けだ撮像装置あるいは光電変換装置と、前記撮
像装置あるいは光電変換装置より得られる干渉縞濃淡レ
ベル値を判定する判定手段と、試別と前記顕微鏡との相
対位置を検出する位置検出手段よりなり、前記試別表面
の複数箇所で、干渉縞濃淡レベル値を判定し、前記判定
手段の信号に基つき前記試料２１表面と前記顕微鏡との
相対位ｊ催を検出して試別の凹凸形状を検出することに
より簡単な信号処理で、精度よ〈試別の凹凸形状を知る
ことができる。
第１図は従来例の構成を示す説明図、第２図に１、干渉
縞の波形を示す説明図、第３図は本発明の形状検出装置
の実施例を示す説明図、第４図は本発明の第１の実施例
における制御装置を示すブロック図、第５図は干渉縞の
濃淡レベルを示す説明図、第６図ａ、ｂは干渉縞の濃淡
レベルの変化を示す説明〉ｊ１第７図は本発明の第２の
実施例の制御ｊ装置を示寸ブロック図である。 ２１・・・・試別、２２・・・・・顕微鏡、２３−・・
５’ｅｌ、２４・−・−ビームスプリッタ、２５・・・
・参照光ミラ−、２６・・・・・・対物レンズ、２７・
・−・・ガルバノミラ−１２８・・・・・スリット、２
９・・・・・・光電子増倍管。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はが１名第１
図 第２図 第４図 第５図 第６図
縞の波形を示す説明図、第３図は本発明の形状検出装置
の実施例を示す説明図、第４図は本発明の第１の実施例
における制御装置を示すブロック図、第５図は干渉縞の
濃淡レベルを示す説明図、第６図ａ、ｂは干渉縞の濃淡
レベルの変化を示す説明〉ｊ１第７図は本発明の第２の
実施例の制御ｊ装置を示寸ブロック図である。 ２１・・・・試別、２２・・・・・顕微鏡、２３−・・
５’ｅｌ、２４・−・−ビームスプリッタ、２５・・・
・参照光ミラ−、２６・・・・・・対物レンズ、２７・
・−・・ガルバノミラ−１２８・・・・・スリット、２
９・・・・・・光電子増倍管。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はが１名第１
図 第２図 第４図 第５図 第６図
Claims (5)
- （１）干渉縞発生手段を有する顕微鏡と、前記顕微鏡の
実像面近傍に設けた裸像装置あるいは光電変換装置と、
前記撮像装置あるいは光電変換装置より得られる干渉縞
濃淡レベル値を判定する判定手段と、試料と前記顕微鏡
との相対位置を検出する位置検出手段よりなり、前記試
料表面の複数箇所で、干渉縞ａ淡しベル値を判定し、前
記判定手段の信号に基づき前記試料と前記顕微鏡との相
対位置を検出する形状検出装置。 - （２）前記判定手段が、干渉縞濃淡レベル値の周期毎の
ピーク値を検出し、前記濃淡レベル値の周期毎のピーク
値が最大値となる周期近傍での前記試料と前記顕微鏡と
の相対位置を検出する特許請求の範囲第１項記載の形状
検出装置。 - （３）前記判定手段が、前記干渉縞濃淡レベル値の周期
毎のピーク値を検出するピーク値検出回路と前記ピーク
値検出回路によって検出されたピーク値を保持し、−周
期前のピーク値を出力する保持回路と、前記ピーク値検
出回路より出力される濃淡レベルピーク値と前記保持回
路よシ出力される一周期前のピークとを比較する比較回
路よりなり、前記ピーク値検出回路から出力されるピー
ク値が前記保持回路から出力される一周期前のピーク値
より小さくなった時の前記試別と前記顕微鏡どの相対位
置を検出する特許請求の範囲第１項記載の形状検出装置
。 - （４）前記判定手段か、前記干渉縞濃淡レベル値がＤテ
定のレベル値以上になった時の前記試料と前記顕微鏡と
の相対位置を検出する特許請求の範囲第１項記載の形状
検出装置。 - （５）前記判定手段か前記干渉縞濃淡レベル値を検出す
る検出回路と、前記検出回路の出力値と所定の値とを比
較する比較回路よりなり、前記干渉縞濃淡レベル値が所
定の値以上になったことを示す前記比較回路の信号によ
り前記試料と前記顕微鏡との相対位置を検出する特許請
求の範囲第１項記載の形状検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11972383A JPS6011106A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 形状検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11972383A JPS6011106A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 形状検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6011106A true JPS6011106A (ja) | 1985-01-21 |
| JPH0129401B2 JPH0129401B2 (ja) | 1989-06-09 |
Family
ID=14768523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11972383A Granted JPS6011106A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 形状検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6011106A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4485238A (en) * | 1981-12-16 | 1984-11-27 | The Dow Chemical Company | Preparation of ((6-substituted phenoxy-2-pyridinyl)-methyl)-3-(2,2-bis(trifluoromethyl)-1-ethenyl)-2,2-dimethylcyclopropane carboxylates |
| JPS62225904A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-10-03 | ポラロイド コ−ポレ−シヨン | 透明物体表面と他表面との微小間隔の画像を形成する方法および装置 |
| EP0342289A2 (en) * | 1988-05-17 | 1989-11-23 | Nkk Corporation | Method and apparatus for measuring a three-dimensional curved surface shape |
-
1983
- 1983-06-30 JP JP11972383A patent/JPS6011106A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4485238A (en) * | 1981-12-16 | 1984-11-27 | The Dow Chemical Company | Preparation of ((6-substituted phenoxy-2-pyridinyl)-methyl)-3-(2,2-bis(trifluoromethyl)-1-ethenyl)-2,2-dimethylcyclopropane carboxylates |
| JPS62225904A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-10-03 | ポラロイド コ−ポレ−シヨン | 透明物体表面と他表面との微小間隔の画像を形成する方法および装置 |
| EP0342289A2 (en) * | 1988-05-17 | 1989-11-23 | Nkk Corporation | Method and apparatus for measuring a three-dimensional curved surface shape |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0129401B2 (ja) | 1989-06-09 |
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