JPS60102248U - スパツタリング用タ−ゲツト装置 - Google Patents
スパツタリング用タ−ゲツト装置Info
- Publication number
- JPS60102248U JPS60102248U JP19216083U JP19216083U JPS60102248U JP S60102248 U JPS60102248 U JP S60102248U JP 19216083 U JP19216083 U JP 19216083U JP 19216083 U JP19216083 U JP 19216083U JP S60102248 U JPS60102248 U JP S60102248U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target
- sputtering
- target device
- front surface
- backing plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は本考案の実施例の平面図、第２図はその■−■
線截線側断側面図る。 １・・・ターゲット、２・・・テマッキングプレート、
３・・・・磁石、４・・・冷却装置、５・・・凹溝、２
ａ・・・前面、６・・・押え板。
線截線側断側面図る。 １・・・ターゲット、２・・・テマッキングプレート、
３・・・・磁石、４・・・冷却装置、５・・・凹溝、２
ａ・・・前面、６・・・押え板。
Claims (1)
- ターゲット１の背側にバッキングプレート２を介して磁
石３と冷却装置４とを設ける式のものに於て、エロージ
ョン領域に対応する該バッキングプレート２の前面２ａ
に、該ターゲラ５ト１を着脱白味に収容する凹溝５を形
成し、該ターゲット１、 の上方側縁を該前面２ａ
に着脱自在に設けた押え板６で押圧固定して成るスパッ
タリング用ターゲット装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19216083U JPS60102248U (ja) | 1983-12-15 | 1983-12-15 | スパツタリング用タ−ゲツト装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19216083U JPS60102248U (ja) | 1983-12-15 | 1983-12-15 | スパツタリング用タ−ゲツト装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60102248U true JPS60102248U (ja) | 1985-07-12 |
Family
ID=30413612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19216083U Pending JPS60102248U (ja) | 1983-12-15 | 1983-12-15 | スパツタリング用タ−ゲツト装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60102248U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013527315A (ja) * | 2010-04-14 | 2013-06-27 | プランゼー エスエー | コーティングソース及びその製法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS588768U (ja) * | 1981-07-10 | 1983-01-20 | セイコー精機株式会社 | 気体圧縮機 |
-
1983
- 1983-12-15 JP JP19216083U patent/JPS60102248U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS588768U (ja) * | 1981-07-10 | 1983-01-20 | セイコー精機株式会社 | 気体圧縮機 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013527315A (ja) * | 2010-04-14 | 2013-06-27 | プランゼー エスエー | コーティングソース及びその製法 |
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