JPS5999402A - 反射鏡 - Google Patents

反射鏡

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Publication number
JPS5999402A
JPS5999402A JP57209811A JP20981182A JPS5999402A JP S5999402 A JPS5999402 A JP S5999402A JP 57209811 A JP57209811 A JP 57209811A JP 20981182 A JP20981182 A JP 20981182A JP S5999402 A JPS5999402 A JP S5999402A
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JP
Japan
Prior art keywords
resistant resin
heat
base layer
heat resistant
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP57209811A
Other languages
English (en)
Inventor
Kansho Maikuma
毎熊 干城
Keimei Kitamura
啓明 北村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
Priority to JP57209811A priority Critical patent/JPS5999402A/ja
Publication of JPS5999402A publication Critical patent/JPS5999402A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/08Mirrors
    • G02B5/0816Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
    • G02B5/085Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
    • G02B5/0858Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/08Mirrors
    • G02B5/0808Mirrors having a single reflecting layer

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、照明器具の反射鏡に関するものである。
一般に、屋外スポーツ照明、工場照明、道路照明、広場
照明等のHID光源の照明器具の反射鏡には、高い鏡面
性(反射率)および200℃近くの高温(ランプの輻射
熱による)に耐え得ることならびに湿気、腐食性ガスに
対する耐性のよいことが求められる。このような要求を
満たすために、金属基材の7表面に耐熱樹脂を焼付け、
その上にA1およびSiO2を順次蒸着した反射鏡が考
えられた。
しかしながら、この反射鏡は、下地となる耐熱樹脂の膨
張係数が大きいため、特に150〜200℃の高温にな
るとその耐熱樹脂の膨張により表面のSiO□保護膜に
クラックが発生するという欠点を有していた。
発明者らは、このような欠点を解消するために研究を重
ねた結果、下地となる耐熱樹脂の膨張係数を1.5 X
l0−’/’C未満に設定するとともに、そのヤング率
を20〜50kg/mrrrに設定すると、所期の目的
を達成しうるようになることを見いだしこの発明に到達
した。
すなわち、この発明は、基材上に耐熱樹脂下地層が密着
形成され、この耐熱樹脂下地層の上に光輝性金属膜が密
着形成され、さらにその上に酸化物保護被膜が密着形成
されている反射鏡であって、耐熱樹脂下地層の耐熱樹脂
のヤング率が20〜50kg/ m gで、膨張係数が
1.5 x 10−’ / ”c未満に設定されている
反射鏡をその要旨とするものである。
つぎに、この発明の詳細な説明する。
この発明の反射鏡に用いる基材としては、ΔI。
AI合金、Fe 、Fe合金からなる板状材をプレス成
形。
へら絞り成形等の成形法によって所定の反射鏡形状に仕
上げたものが用いられる。
下地層に用いる耐熱樹脂(塗料)としては、アクリル樹
脂、シリコーン樹脂、アルキドメラミン樹脂、フェノー
ル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテ
ルサルフオン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレン
スルフィド樹脂等の180℃以上の耐熱性をもつ耐熱樹
脂であって、ヤング率が20〜5Qkg/mmでかつ膨
張係数が1.5×10−4/”C未満のものが用いられ
る。このようなりフグ率および膨張係数をもつ耐熱樹脂
は、例えば炭酸カルシウム、タルク、ケイ砂、アルミナ
等の体質顔料や酸化チタン等の白色顔料を単独でもしく
は併せて5〜35重量%(以下「%」と略す)含有させ
ることにより得ることができる。上記顔料の含有量が5
%未満では膨張係数1.5 x104/’c未満になら
ない。また、35%を超えると鏡面性が悪くなる。した
がって、顔料の含有量は5〜35%に設定する必要があ
る。上記のようなりフグ率お′よび膨張係数の範囲を外
れた耐熱性樹脂を用いると、150〜200℃の高温時
に、Si02等からなる酸化物保護被膜にクラックが生
じるようになる。
したがって、耐熱性樹脂としては、上記のようなりフグ
率および膨張係数をもつものを用いる必要がある。
光輝性金属膜に用いる光輝性金属としては、AI。
Δg、Cr、Ni等があげられる。しかし、反射率、コ
スト、蒸着の容易さ等の点から八1を用いることが最も
実用的である。
酸化物保護被膜に用いる酸化物としては、SiO。
5iO7,TiO□、 Al□03等があげられる。し
かしながら、透明性、安定性、経済性の点からSi02
を用いることが最も実用的である。
この発明の反射鏡は、上記のような原材料を用い例えば
つぎのようにして製造される。すなわち、金属基材を予
め脱脂乾燥し、これに耐熱樹脂をスプレー法、静電塗装
法、浸漬法等の方法によって塗布する。この場合、塗膜
厚を5〜15μに設定することが好ましい。塗膜厚が5
μ未満になると、基材の表面が粗い場合には鏡面性が不
充分になる。
また、15μを超えると後工程における塗膜の焼付けの
際、焼付けの程度により塗膜中にガスが残り、次工程の
蒸着に不都合(くもり発生)を生じ、またコスト面でも
不利になる。つぎに、耐熱樹脂塗膜を焼付は耐熱樹脂下
地層化する。そして、この耐熱樹脂下地層の上に光輝性
金属を蒸着する。蒸着は通常の方法で行えばよい。すな
わち、10−4〜1O−5T’orrの真空下で光輝性
金属を抵抗加熱又は電子線加熱により蒸発させて下地層
の上に金属膜を形成する。この膜厚は300〜1000
人の範囲に設定することが好ましい。膜厚が300人未
満になると下地層が透けて見えるようになり反射率が低
くなる。逆に1000人を超えても効果の増大がそれ以
上望めずコストの点で不経済になる。なお、必要な場合
には、下地層と金属膜との密着性を向上させるために、
蒸着の直前にボンバード処理を行うようにしてもよい。
つぎに、上記金属膜の上に酸化物を蒸着する。すなわち
、■叶4〜10’Torrの真空下で電子線加熱により
酸化物を蒸発させて所定の膜を形成する。この膜厚は0
.3〜2μの範囲に設定することが好ましい。膜厚が0
.3μ未満になると酸化物保護、被膜にピンホールが多
くなり耐食性が悪くなる。逆に2μを超えても効果の増
大がそれ以上望めず蒸着に時間がかかり不経済になる。
なお、この酸化物保護被膜の形成の際にも、必要に応じ
て酸化物の蒸着前にボンバード処理を行って酸化物保護
被膜と金属膜との密着性を向上させるよδにしてもよい
このようにして反射鏡が製造される。この反射鏡の構成
を第1図に示す。図において、1は金属基材、2は下地
層、3は金属膜、4は酸化物保護被膜である。この反射
鏡は、高温(150〜200℃)でも酸化物保護被膜に
クラックが発生せず、したがってHID光源の屋外スポ
ーツ照明、工場照明、道路照明等の反射鏡として最適で
ある。
つぎに実施例について比較例と併せて説明する。
〔実施例1〕 厚み1111のアルミ基材(15cm X 15c+n
 )に耐熱シリコーン塗料(硫酸バリウム20%を含む
)を10μの厚みにスプレー塗布し180 tで20分
焼付けて下地層を形成した。これとは別にこの耐熱シリ
コーン塗料のフィルムを炸裂してヤング率、膨張率を測
定したところヤング率25kg / m m 、膨張係
数1゜2 x 10−4 / ℃であった。この下地層
を施したアルミ板を蒸着装置にセットレ、5×1叶5T
orrの真空中で高純度アルミニウム(99,99%)
を抵抗加熱により蒸着して100OA膜厚のアルミニウ
ム膜を形成した。つぎに蒸着装置を5 X 1O−5T
orrに保ったまま石英(SiO□)を電子線加熱によ
り蒸着して5000人の5i02保護膜を形成した。こ
のようにして得られた反射鏡は全反射率89%、拡散反
射率1゜8%の優れた鏡面性を有し、200 ℃の雰囲
気中で48時間放置しても変色やクラックなど何らの変
化も認められなかった。また、J I S  H−86
17に基づく塩水噴霧試験を10サイクル(1サイクル
=8Hr噴霧+16Hr休止)施した後も特に変化は認
められなかった。さらに、−10℃〜+60℃、90〜
98%R)lの雰囲気で10日間の耐湿試験を施しても
何ら変化は認められなかった。そのうえ、テープ剥離に
よる密着性も、初期だけでなく、上記耐熱試験後、塩水
噴霧試験後ならびに耐湿試験後も良好であった。
〔実施例2〕 実施例1と同様にしてアルミ基材(15QIIX15C
IIl×IN)に耐熱性のアクリル系塗料(硫酸バリウ
ム20%含む)を10μの厚みにスプレー塗布し200
℃で40分焼付けて下地層を形成した。この耐熱性アク
リル系樹脂のヤング率は23 kg / m m 、膨
張係数1.3 xlQ”/”Cであった。これ以降は実
施例1と同様にしてAIを900人、  5i02を5
000人蒸着して反射鏡を得た。このものは、全反射率
88%、拡散反射率2.0%であり、耐熱試験(200
℃X 4811r)において外観変化なし、クラック発
生なしであり、塩水噴霧試験(10サイクル)において
異常なしであった。また、耐湿試験(−10”c〜+6
0”C。
90〜98%R)l、 10日間)において異常なしで
あり、密着性(テープ剥離試験)において初期および各
試験共に良好であった。
〔実施例3〕 実施例1と同様にしてアルミ基材(15cmX15cm
×1m)に、実施例2で用いた耐熱性のアクリル系塗料
(硫酸バリウム20%含む)にさらに酸化チタンを樹脂
100部に対し20部添加して得られた塗料をlOμの
厚みにスプレー塗装し20(1”cで40分焼付けて下
地層(ヤング率30に+r/mm、膨張係数1゜1 X
l0−4/”C)を形成した。これ以降は実施例1と同
様にし7AIを1000人、  5i02を550OA
蒸着して反射鏡を得た。このものは、全反射率87%、
拡散反射率3.2%であり、耐熱性(200℃x48H
R)において外観異常なし、クラック発生なしであり、
塩水噴霧試験(10サイクル)において異常なしであっ
た。また、耐湿試験(−10℃〜+60℃、90〜98
%R)1,10日間)において異常なしであり、密着性
(テープ剥離試験)において初期および各試験後共に良
好であった。
〔実施例4〕 直径580fl深さ300flのパラボラ形状のアル(
基材の成形品を脱脂乾燥した後、実施例3と同し塗料を
15μの厚みに塗布し200℃で40分焼付けし、た。
これ以降は実施例1と同様にして八1を100OA。
Si02を5700人蒸着して反射鏡を得た。このもの
は、全反射率88%、拡散反射率3.5%であり、耐熱
性、塩水噴霧試験、耐湿試験、密着試験ともに実施例3
と同様に異常なかった。
〔比較例〕
実施例1と同様にしてヤング率23kg/mrl。
膨張係数2.Ox 10−4 / ”cのシリコン塗料
を10μの厚みにスプレー塗布し、下地層を形成した。
これ以降は実施例1と同様にしてAI 900人、 S
i025000人を蒸着して得た反射鏡は鏡面性、密着
性は良好であったが耐熱試験では200℃、30分で全
面にSiO□層にクラックが発生し1.耐熱性が悪く、
塩水噴霧試験、耐湿試験においても5サイクル後に部分
的に表面にくもりが生じ耐食性も劣っていた。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の構成図である。 I・・・金属基材 2・・・下地層 3・・・金属膜 
4・・・酸化物保護被膜 代理人 弁理士  松 本 武 彦 ] 第1図 手続補正書く自発) 昭和58年 1且22日 特許庁長官殿 1、1■牛の耘 昭和57羽舗犠慕209811号 2、発明の名称 反射鏡 36  補正をする者 事件との関係     特許出願人 件   所   大阪府門真市大字門真1048番地名
 称(583)松下電工株式会社 代表者  イ薇−役小 林 郁 4、代理人 な   し 7、補正の内容 (1)明細書第8頁第12行に[アルリル]とあるを「
アクリル」と訂正する。 (2)  明細書第8頁第12に「(硫酸バリウム20
%を含む)にさらに」とあるを「の硫酸バリウム20%
の代りに」と訂正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (11基材上に耐熱樹脂下地層が密着形成され、この耐
    熱樹脂下地層の上に光輝性金属膜が密着形成され、さら
    にその上に酸化物保護被膜が密着形成されている反射鏡
    であって、耐熱樹脂下地層の耐熱樹脂のヤング率が20
    〜50kg/mrrlで、膨張係数が1.5 Xl0−
    4/”C未満に設定されていることを特徴とする反射鏡
    。 (2)耐熱樹脂下地層が、顔料を5〜35重量%含む耐
    熱樹脂を基材上に塗布し焼付けることにより形成された
    ものである特許請求の範囲第1項記載の反射鏡。
JP57209811A 1982-11-29 1982-11-29 反射鏡 Pending JPS5999402A (ja)

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JP57209811A JPS5999402A (ja) 1982-11-29 1982-11-29 反射鏡

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JP57209811A JPS5999402A (ja) 1982-11-29 1982-11-29 反射鏡

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JPS5999402A true JPS5999402A (ja) 1984-06-08

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ID=16578990

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JP57209811A Pending JPS5999402A (ja) 1982-11-29 1982-11-29 反射鏡

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JP (1) JPS5999402A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61201202A (ja) * 1985-03-05 1986-09-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 反射ミラ−
JPS61231501A (ja) * 1985-04-05 1986-10-15 Toa Shinku Kogyo Kk 反射板
JP2002358810A (ja) * 2001-05-15 2002-12-13 General Electric Co <Ge> Ir反射コーティングを有するリフレクタを備える表示ランプ

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61201202A (ja) * 1985-03-05 1986-09-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 反射ミラ−
JPS61231501A (ja) * 1985-04-05 1986-10-15 Toa Shinku Kogyo Kk 反射板
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