JPS5989792A - 金属層をストリツプメタルの一側又は両側に連続的に電着する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、非水平方向に維持されながら移動されるス
トリップメタルの一側又は両側に金属層を連続的に電着
する方法に関する。電解液は少なくとも１つのプレート
状のアノード及びカソードを構成するストリップメタル
間を流れる・この様な方法は亜鉛、錫、黄銅等からなる
金属をストリップメタルの一側に被着するのに使用する
ことができる。又、この方法は、１回の通過でストリッ
プメタルの両側に被着を適用でき、そしてこの様な被着
をその厚さが異なるように発展させることもできる。

背景技術とその問題点 この様な目的のために使用されている周知の方法では通
常ストリップメタルが電解液に浸され、これが特殊な予
防手段によって保護されるまでストリップメタルの両側
に電解液が接触される。このために、特殊に設計された
アノードアレー及びマスクを使用している場合でも、金
属の一側にのみ被着するには、大きな問題がある。満足
すべき方法で、メタルストリップの裏側に小さな境界の
領域のメタルの電着を防止することは不可能であり、そ
の得られた被着は端部の近くが厚くなって望ましくない
。これらの欠点は、ストリ・ノブがローラの周辺に接触
させられている場合でも全く避けることができず、この
際のローラは電解液に浸され、そしてストリップをアノ
ードを通り越すように移動せしめ電着を行なうものであ
る。これは、ストリップのローリングに起因した応力の
傾きのためにストップがしばしばその端部に成る波状を
呈し、その結果ストリップが他の領域にあるローラとき
ちんと接触している場合でも電解液がストリップの背後
に上記波状の端部を回り込んで流れることができるよう
になり、電解液のスローイングパワーのために、電着が
ストリ・ノブの背後のより大きな領域になされるからで
ある。

発明の目的 この発明の概念は通常の方法と異なり、ストリップ及び
アノードがもはや電解液に浸されることなく、一方で電
解液、他方でストリ・ノブ及びアノード間の流体力学的
接触が付加電解液を連続的に供給することによって維持
される金属層をストリップメタルの一例又は両側に連続
的に電着する方法を提供するものである。

発明の概要 この発明では非水平方向に維持されながら移動されるス
トリップメタルの一側又は両側に金属層が連続的に電着
される。電界液は少なくとも１個のプレート状のアノー
ド及びカソードを構成するストリップメタル間を流れる
。電解液はアノードの上側領域の容器からアノード及び
ストリップメタル間の空間に自由に流れ、そして流体の
ひっついた固まりとしてその重力により下方向へ流れる
。

実施例 以下、この発明の諸実施例を説明する。

この発明によれば電解液が自由にアノードの上側領域に
流し込まれ、重力の作用により下方向に流れてアノード
及びストリップメタル間の空間に流体のくっついた固ま
りを形成し、そして付加電解液がその空間に連続的に供
給される。この動作により電解液がほとんど自由な落下
で下方に流れるので、電極の表面に溶液が激しく当たる
ようになる。

この発明のその他の特徴によれば、メタルストリップが
アノード及びメタルストリップ間の空間に下方向に流れ
ている電解液を構成する流体のくっついた固まりが維持
されるような角度に曲げられ、そしてアノード及びメタ
ルストリップ間の距離が２〜２０ｍｍ、好ましくは１０
ｍｍとなる。例えば電流密度が大きい場合には、アノー
ドに沿った小さな電圧隆下（端子からの方向で）を補償
するために、ストリップメタル及びアノード間の距離を
電流供給端子から離れている端部において、やや小さく
することが望ましい。

ストリップメタル及び垂直線間の角度は最高３０”でよ
いことが解った。

付加電解液をアノード及びストリップメタル間の空間に
供給する方法に関連して、この発明に係わる方法の好ま
しい実施例では、アノード及びストリップメタル間の空
間に供給される付加電解液の一部を、アノードの頂部で
、例えば越流ぜきを横断するか又はスロットを有する容
器或いは同様の手段から、上述した空間にいれてもよく
、その結果電解液はそこからアノードに至るまで集合容
器に流れる。

この発明のその他の実施例では、アノード及びストリッ
プメタル間の空間に供給される付加電解液の少なくとも
一部が、アノードを解して延在している複数個の孔又は
スロットを解して上述の空間に入る。最後に述べた２つ
の実施例は組合せてよいことも理解できよう。

ＨＤプラントで高速で動いているストリップに被着を行
う際に、非常におおきな電流密度を用いると、ある厄介
な問題がおきる。機械的及び電気化学的理由のために、
そしてジュール効果によって発生された熱を消散するた
めに、電解液が供給される速度及びストリップメタル及
びアノード間の距離は、相対的に増大しなければならな
い。結果として、金属表面への電解液の粘着及び電解液
の粘度の影響が減少し、電解の降流が自由な落下となる
。

これは電解液がセルを通して流れる速度を急上昇させる
だけでなく、セルの上側部分及び下側部分における電解
液の流速の差を増大させ、この結果、電解液に必要で且
つ平均速度に相互的な横断面積がアノードに沿って変化
することになる。

この問題はアノード及びストリップメタル間の距離を電
解液の流れる方向に一定又は減少するこの発明によって
解決される。

この発明では、流れ落ちる方向に連続的に減少する距離
を、ストリップメタル及びアノード間に設けることが好
ましいことが解った。

ストリップメタル及びアノード間の距離が下方に減少す
るならば、流体力学の概念から所望される構成は式ｄ−
に、ｒｖにより得られる。たヌ′シ、ここでｄは距離、
Ｓは電解液の降流路長及びｋは定数である。

この発明によって提供される更に別な改良された点は、
アノード及びストリップメタルの頂端間の距離及びアノ
ード及びストリップメタルの底端間の距離が互いに相互
に関係なく調整されることである。

その他の要件として、床面積が非常に小さい場合でもプ
ラントの容量を増大し、そしてこれを達成するためにそ
んなにたくさんの費用をかけないで達成することができ
ることである。

アノードは、ストリップが移動される方向にその長さを
大きくしてもよい。しかし、その大きくする程度は以下
の如き、種々の理由から制限される。即ち、アノードは
或制限された電流移送能力しかもたず、アノードの一点
に電流を供給する端子は非常にかさばって大きく、しか
も熱を消散するための複雑な構成を成し、その重いアノ
ードはそれらの重い重量等のために構造的な問題を呈し
、そして非常に長いアノードは付加的に流体力学的な問
題を呈するからである。一方、ストリップは１０〜２０
ｍ或いはそれ以上の長さ内で上下に動かしてもよい。少
なくとも２つのアノードをストリップメタルの近くで一
方が他方の上になるようにして配列し、そして最上のア
ノードに流れ込む電解液を各アノードに基づいて制御し
、それから次の゛ド側のアノードに自由に流すことで、
簡単で所望の構成がこの発明によって得られることが解
った。

上述した実施例において、電解液は、−側又は両側の被
着のために、ストリップメタルの両側に、周知の方法で
設けてもよい。

ストリップメタルの両側に設けられた電極を有する構成
では、極性、電圧及び電流を個別に選折することが最っ
とも好ましいということが解った。

これにより、ストリップの両側を異なった厚さで被着し
、そしてストリップの一例に陰極の電極を接続すること
ができる。これにより、金属が被着されてない側のスト
リップを洗浄したり或いは荒くすることができるように
なる。この様な作用は、更にストリップを処理する、例
えばペンキを塗ったり、半田付は等を行うためには望ま
しいとわがっている。最後にストリップの、例えば−側
を陽極酸化し、そして他側を陰極電着によって金属をコ
ーティングするようにしてもよい。

別な実施例では電極がストリップメタルの両側に設けら
れ、電圧がアノードを構成する電極の一方にのみ供給さ
れ、そのアノード及びストリップ間の空間にのみ電解液
が供給される。

更に他の実施例ではストリップメタルがその一側又は両
側をコーティングされ、そのストリップメタルは、連続
的なアノードに隣接して、電解液の流れ方向に対して交
互す方向に移動され、従って、ストリップメタルは電解
液に対して同じ方向にそして逆な方向に交互に移動され
る。これによって、ストリップの表面上に溶液の急速な
運動が生じ、電着が促進される。

他の実施例では、電流を流さない状態でストリップメタ
ルが電解液で湿され、好ましくは電解液を粉霧されたり
、或いはこれに湿されて、核心の成長を増進する。

この発明の特殊な実施例では亜鉛−ニッケルの合金がス
トリップメタル上に・被着され、電解液の流れ方向に対
してスチールの移動の方向が１回又は数回変化し、電着
が２０〜１５０Ａ／　６ｍ２．好ましくは４０〜１００
Ａ／　６ｍ２の電流密度でもって電解により行なわれ、
この電解は４０〜７０”Ｃの温度、好ましくは４５〜６
０℃の温度において適当な溶液からなり、且つこの溶液
中で各々の各溶解度までの濃度の少なくとも８０ｇ／β
　ＮｉＳＯ４，７Ｈ２０、少なくとも１５０ｇ／　ｊ！
　　ＺｎＳＯ４，７Ｈ２０及び２ｇ／　ｊ７　　Ｈ３Ｂ
Ｏ３を含む。

この方法では、４：１０及び１０：１０好ましくは５：
１０及び８：１０のニッケルー亜鉛比が電解液中で維持
され、その結果電着された層は、８〜１５ｗｔ、％ニッ
ケル、好ましくは９〜１３ｔｖｔ、％ニッケルを含む。

この発明においては、不溶のアノードを用いる場合には
塩素を遊離した非塩化物イオンを含む硫酸電解液を使用
した方法としてもよい。硫酸電解液を用い、そのコーテ
ィングの腐蝕に対する抵抗を減少するように、亜鉛及び
ニッケルの層或いは低及び高ニツケル含有物を有する層
を交互に電着することは周知である。例えば米国特許第
４３１３８０２号には、電流密度を５〜４０＾／ｄｎ１
２に制限して、工０：１５及び１０；４０間の比の亜鉛
及びニッケルを含む純粋な硫酸電解液にストリップメタ
ルを横方向に移動させる方法が開示されている。ニッケ
ルの高状態は、結果として移動されるニッケルに非常に
大きな損失を生ずる。又、０．０５〜ｌＯｇ／７！の量
の硫酸ストロンチュームを光沢剤として付加することが
提案されているが、しかしこの場合種々の欠点があり、
これは硫酸ストロンチュームが極めて低溶解度で、しか
も比較的高価であることによる。

この発明に係わる上述した方法では、硫酸を間欠的に或
いは連続的に付加することによって溶液のｐＨの値を１
〜２．好ましくは１．３〜１．８に維持し、例えば銅−
銀からなる不溶のアノード又は電極カーボンを周知の方
法で使用し、酸化メタル。

水酸化メタル又は炭酸メタルの熔解中に或いはメタル又
はメタル合金自身が化学的に又は陽極溶解されている間
にメタルの抽出を行うことが望ましいことが解った。

硫酸塩、硼酸塩、硼酸（ＨｓＢ（ｈ　）　、アミノ硫酸
（ＮＨ２Ｓ０Ｊ）　、蟻酸（ＨＣＯＯＩ（）　、酢酸（
ＣＨ３ＣＯ０Ｈ）並びにグルコース及びそれらの塩類は
硫酸に付加して混合するようにしてもよい。

この方法で使用される装置は、本質的には周知の方法で
一方が他方の上になるように配された少なくとも２個の
偏向ローラと、水平方向より偏倚し、実質的にストリッ
プメタルと平行にある少なくとも１（！Ｉの不溶アノー
ドと、アノード及びローラに巻き付けられたストリップ
メタルからなるカソードに電流を供給する端子と、スト
リップを駆動する駆動手段と、電解液を制御する少な（
とも１個の容器と、電解液を巡回する少なくとも１個の
ポンプと、アノード及びストリップメタル間の空間に電
解液を供給するパイプラインとからなる。

この装置における一例では、電解液を供給するデバイス
は、細長く伸びた容器を備え、この容器はアノードの頂
部に設けられ、例えば電解液を巡回するポンプによって
連続的に電解液を供給され且つアノード及びストリップ
メタル間の空間上に設けられ、しかも１個以上のスロッ
トを有し、このスロットを介してアノード及びストリッ
プメタル間の空間に上側から連続的に電解液が供給され
る。

他の実施例では、アノードは複数個の貫通孔又は貫通ス
ロットで形成され、容器を設け、この容器の一方の壁が
開口されたアノードの壁によって構成され、そして、パ
イプラインがポンプから上記容器に導かれ、その容器に
電解液を連続的に供給するように働く。

最後に述べた２つの実施例における装置は、互いに組合
せるようにしてもよい。又、アノードの頂部に電解液を
供給する手段は、その頂端の近くのアノードに形成され
た単一の開孔と、アノードの裏側に接続され電解液を供
給するｉ＜イブとを備えてもよい。

次に、この発明に係る方法及び装置を図面を参照し乍ら
説明する。

第１図において、ストリップメタル（１）が偏向ローラ
（２）及び（３）のまわりに上方向又は下方向にアノー
ド（５）を通過して傾斜した方位で連続的に引張られる
。また、アノード（５）も傾斜するようになされている
。アノード（５）及びストリ・ンプメタル（１）間の所
定電圧又は所定電流が電流供給端子（４）及び（６）か
らの電流によって維持される。電流を流し、ストリップ
メタル（１）のアノード（５）と面している側に金属層
の電着を行なうために、電解液がポンプ１Ｂ）によって
電解液集合容器（７）からくみ上げられて、ノ々イブラ
インを介して容器（９）に連続的に供給される。

容器（９）は縦のスロットを有し、このスロットを介し
て電解液がストリップメタル（１）及びアノード（５）
間の空間に連続的に流れる。電解液はその空間を満し、
そしてその空間で下方向に流れ、次いで集合容器（７）
に入れられる。

第２図において、ストリップメタル（１）及びアノード
（５′）は垂直方位を有し、アノード（５′）は或区分
（１１）を有するボックスからなり、これに電解液がポ
ンプ（８）によって供給される。電解液がボックスの頂
部位置まで均一に上昇し、ストリップメタル（１）と面
している壁に設けられた貫通スロット（１２）及び排水
口（１３）を介してアノード（５′）及びストリップメ
タル（１）間の空間に異なったレベルで流れる。その空
間から電解液が集合容器（７）に戻される。第３図はア
ノード（５′）を示し、これはその頂部が閉成され、且
つ複数個の孔（１４）を有し、これ等は異なる静水力学
上の圧力に従って、アノード（５′）の上部に、より大
きく且つ接近して隔置されると共にアノード（５′）の
下部に、より小さく且つ離れて隔置される。孔（１４）
の上に設けられた広いスロット（１５）によって排水口
が構成される。

ストリップの両側における電着をできるだけ異なった厚
さとなし且つ適当な容量のプラントの設計を行なうため
に、単一のストリップが通路に沿ってプラント中を引張
られるこの通路に隣接して、上述したような複数個の電
解液セルを一方が他方のそばになるように又は一方が他
方の上側になるようにして設けることが望ましい。

この概念に基づくいくつかの実施例が第４図ａ〜第４図
す及び第５図ａ〜第５図ｄに示されており、第４図では
ストリップ及びアノードが垂直方位に配され、第５図で
はストリップ及びアノードが傾斜した方位に配されてい
る場合である。第４図ａに示す実施例では、ボックス状
のアノードを使用している。又、第４図すでは、ストリ
ップの一面で且つ同一の側が同じアノードボックスのそ
ばを（上方向及び下方向に）２回移動され、その結果ボ
ックスが相互に対向する２つの壁に孔又はスロット及び
排気口を備えていれば、上述したボックスの有効なアノ
ード表面領域を二重にすることができる。第４図Ｃによ
れば、片側だけのアノードボックスをストリップの他方
に設けてもよく、これによってストリップの２つの側に
非常に厚さの異なる金属層を被着するのに特に適当なプ
ラントを得ることができる。そのプラントは第４図ｄに
示すように、別なアノードを準備して拡大してもよく、
これによって同じアノード表面領域をストリップの各側
に利用することができる。第４図Ｃでは上下に重なった
アノードを示す。又第４図［は隙間なく収納されたアノ
ードホックスの構成を示し、そのほとんどの両側がＨＤ
プラント内で有効に利用されている。

第５図ａ〜第５図ｄに示すような傾斜した電極を使用す
ると、プラントの高さを低くすることができる。その上
に、傾斜した位置に関連して静水力学及び流体力学の効
果を利用することができる。

第５図ａ及び第５図すの構成は、−側に電着を行なうた
めのものである。第５図Ｃ及び第５図ｄに示すような構
成は両側に電着を行なう際に使用するようにしてもよい
。

第６図はストリップメタル（１１を示し、これは２つの
上側にある２個の偏向ローラ（３）及び下側にある一個
の偏向ローラ（２）に巻き付けられる。上側の偏向ロー
ラ（３）には電流供給端子（図示せず）が設けられる。

アノード（５）はストリップメタル（１）の両側に設け
られ、それらの各々はキャリア（５”）に接続される。

矢印Ａ及びＢで示すように、キャリア（５”）は水平軸
（矢印Ａ）の回わりに、そのストリップメタル（１）か
らの距１１１（矢印Ｂ）と関連して調整可能にマウント
される。−例として示す本実施例では、キャリア（５”
）はアノード（５）、好ましくはアノード（５）の中央
で接続される。アノード（５）を示す点線から、各アノ
ード（５）からストリ・ノブメタル（１）までの距離及
びストリップメタル（１）に対する各アノード（５）の
傾斜が所望に調整できることが解る。この発明の好まし
い実施例では、キャリア（５”）は電気的に導通され、
且つ絶縁されるようにマウントされ、しかも電流供給端
子（図示せず）を備えている。アノード（５）及び偏向
ローラ（２）はセルケース（１６）内に設けられる。ア
ノード（５）から流れる電解液は、セルの底部で制御さ
れ、ポンプ（８）によってアノード（５）の上部又は端
部まで上昇し、サイクルを完了する。第６図及び第７図
からも解るように、ストリップメタルは一側のみメッキ
される。このために電解液が、ストリップメタル（１）
及びセルケース（１６）の壁との間に設けられた外側の
アノード（５）にだけ供給される。

第８図及び第９図に示す実施例においては、ストリップ
メタル（１）の両側がメッキされる。このために、電解
液が総てのアノード（５）に供給される。

第７図及び第９図からも明らかなように、内側のアノー
ド（５）には、第８図及び第９図に示す実施例では、ス
トリップメタル（１）がアノードによって全体に囲まれ
て、電解液が横方向に流れ出すことができないように、
横方向に延在する端部が設けられる。

この発明の他の実施例（図示せず）において、アノード
がキャリアの頂端及び底端に接続される。

これらのキャリアは相互に個別にストリップメタル＋Ｉ
Ｊとアノード（５）の距離に関連して調整可能である。

少なくとも一方のキャリアは、電気的に導通されており
且つ絶縁されるようにマウントされ、しかも電流供給端
子を備えている。

またこの発明によれば、ストリップメタル（１）と而す
る各アノード（５）の表面は、ストリップメタルの方向
に対して平らが又は凸状に湾曲されている。

その曲率ば式ｄ＝に７　ｒｖ　により求めることができ
、ここでｄはストリップメタル（１）及びアノード（５
）間の距離、Ｓは電解液の降流路長、ｋは定数である。

第１０図に示すこの発明の実施例では、２個のアノード
（５）が一方が他方の上側になるようにして設げられる
。２個以上のアノードを一方が他方の上側になるように
して設けてもよいことが理解できよう。電解液は供給ラ
イン（１８）のスロットから上側のアノード（５）に自
由に流れ、そしてこれから出て集合槽（１９）に流れる
。この集合槽（１９）が電解液で満されると、この電解
液は集合槽（１９）の縁からあふれて流れ出し、方向を
換える桶ＱＯ）で制御されて、連続的に下側のアノード
（５）に供給され、これに自由に流れる。下側のアノー
ド（５）から流れ出た電解液は排水路（２２）の設けら
れた集合容器（７）で制御される。集合容器（７）を離
れた電解液は・図示せずもポンプによって供給ライン（
１８）まで汲上げられる。ストリップメタル（１）に付
着されて残っている電解液は、絞り出しローラ（２３）
によって除去され、それがら又集合容器（７）に流れ出
ず。

配電を改善するために、電流供給用の複数個の付加ロー
ラ（２４）が設けられる。これらローラ（２４）の各々
は２つの隣接したアノード（５）間に設けられる。

第１１図に示す実施例では、上側のアノード（５）がら
取り出された電解液は、方向を変える桶（１０’）によ
って集合槽（１９’）へ偏向され、それがら電解液が集
合槽（１９’）の縁をあふれて下側のアノード（５）及
びストリップメタル（１）間の空間に流れる。

第１２図に示す実施例では、電解液を制御及びその方向
を変えるための構成を示している。この構成は狭い集合
ファンネル（２５）を有し、その大きな開口（２６）が
上側のアノード（５）の電解液を受け、そしてその小さ
な開口（２７）から電解液がバイブを解して下側のアノ
ード（５）へ流れる。集合ファンネル（２５）は、第１
３図に示すように、案内織布（２８）及びハソフル織布
（２９）を有する。これらの織布により、電解液が小さ
な開口の方向へ流れ、その流れが減速される。

第１４図に示す変形された集合ファンネル（２５’）は
円形状とされ、又、案内織布（２８’）及びファンネル
織布（２９’）を有する。

第１５図〜第１７図に示すこの発明の実際的な実施例に
おいては、ポンプ（８）がセルケース（１６）と構造上
一体化されている。これらの各部品は、第６図に示すも
のと同一であるので、こ＼では夫々同じ参照符号を付し
て示す。第６図に示す例におけるように、上側の２個の
偏向ローラ（３）及び下側の１個の偏向ローラ（２）が
設けられる。アノード（５）が鮮び上側の偏向ローラ（
３）及び下側の偏向ローラ（２）間の空間に設けられる
。ストリップメタル（１）の−例又は両側上のアノード
（５）及び下側の偏向ローラ（２）が頂部の開口された
セルケース（１６）によって囲まれ、その底部で電解液
が制御される。電解液はポンプ（８）によりセルケース
（１６）に設けられた横方向の通路を介してアノード（
５）まで連続的に汲上げられる。ポンプ（８）はセルケ
ースαωの側面に、そのケースの底部のレベルで設けら
れる。ケース（１６）の側壁は、二重の壁とされ、これ
により横方向の通路（２０）が決められる。セルケース
（１６）の底部は、電解液を熔解するために、図示しな
いがステーションにラインによって接続されている。

発明の効果 この発明に係わる方法及びこの方法を実施するための装
置により、多数の利益を得ることができる。即ち、例え
ばストリップメタルの湿りを、電解液が高い酸性度を有
する場合でも、電解液ボンプのｆｌｌ？ｉ車な消勢によ
って阻止することができる。

それにより、ストリップメタルが長い時間停止されてい
る場合でも、ストリップメタルのエツチング及びその地
間様の影響を阻止することができる。

更に、ストリップメタル及びアノード間の距離を極端に
小さくしてもよく、はとんどの場合、限度として言われ
ている２０ｍｍよりかなり小さいものとしてもよい。こ
れは、重力の作用で電解液の急速な降流が境界層で電解
液の流れを急速にし、境界層が常に薄く且つ非常に低い
濃度の成極のみが電極に発生されるようになるからであ
る。高い電流密度の場合に発生された熱は急速に消散さ
れ、そして形成され且つ減少され得る任意のガスがＩ！
１ｌＸＩｔ！し、またその湿った電極の表面が即座に除
去される。このために、端子電圧及び電力は低くてもよ
く、この結果、ジュール効果による溶液の過熱に起因し
た電力損失は極端に低くなり、しかも可能な最高の電力
密度が非常に高くなる。これは特に経済的でコンパクト
なデザインを可能とする。ストリップメタルは電解液に
よりその進む方向側のみが湿され、その結果ストリップ
メタルの後側の少しの電着でさえ阻止されると云う重要
な利益を呈することができる。電極間の空間に満された
流体の固まりは急激に圧縮され、そしてストリップの端
部で動的作用によって引き裂かれ、その結果事実上スト
リップの端部における電流密度の増加は目に付くほど大
したものでなく、結果としてマスクを必要としないこと
になる。このために、アノードが充分に広ければ、スト
リップが反っても、即ちそれらがセルを貫通する際に横
方向に偏向されても、容易に使用することができる。

メタルを電解液で熔解し、メタルイオンの濃度を維持す
る必要がある場合は、これは、本質的には周知である化
学的或いは陽極熔解セルによって達成することができる
。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は夫々この発明に適用される装置の２
つの実施例を示す斜視図、第３図はその装置の詳細を示
す斜視図、第４図ａ〜第４図ｆ及び第５図ａ〜第５図ｄ
はこの発明に係わる複数個の電解液セルを１１ｌＩＩＩ
の同じストリップメッキプラント内に配列され得る異な
った方法を簡略的に示す倒立面図、第６図はストリップ
メタルの一例にメッキをするためのこの発明に係わる装
置を簡略的に示す横断面図、第７図は第６図の装置を示
す平面図、第８図はストリップメタルの両側にメッキす
るために使用される第６図の装置を示す横断面図、第９
図は第８図の装置を示す平面図、第１０図は２　（＋ｌ
＋１のアノードが一方が他方の上側になるように配列さ
れた装置内において、ストリップメタルの両側にコーテ
ィングするためのこの発明に係わる装置を示す横断面図
、第１１図及び第１２図は電解液を集合し且つその方向
を変えるようにするための手段の２つの例を示す平面図
、第１３図は第１２図における線ｘｍ−ｘｍで切断した
場合を示す断面図、第１４図は第１３図と同様であるが
、異なった集合及び方向を変える手段の一例を示す断面
図、第１５図はこの発明に係わる装置の更に他の実施例
を示す横断面図、第１６図は第１５図における線ＸＶＩ
−ＸＶＩで切断した場合を示す断面図、第１７図は第１
５図における線Ｘ■−Ｘ■で切断した場合を示す断面図
である。 （１）はストリップメタル、（２１，＋３１は偏向ロー
ラ、（４，）、　（６１は電流供給端子、（５）はアノ
ード、（７）は電解液集合容器、（８）はポンプ、（９
）は容器、（１２）はスロット、（１３）は排水口、（
１４）は孔、（１５）は広いスロットである。 ＦＩＧ、５ａ　　　　　　　　　　　ＦＩＧ、５ｂＦＩ
Ｇ、５ｃ　　　　　　　　　　ＦＩＧ、５ｄＦｉｇ、　
６ ５ Ｆｉｇ、　８ ５　　　コ 〜・７２ Ｆｉｇ、　）３ ＦｊＱ、　１４ Ｆｉｇ、１７

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、非水平方向に維持されながら移動されるストリップ
   メタルの少なくとも一側に金属層を連続的に電着する方
   法であって、少なくとも１個のプレート状のアノード及
   びカソードを構成する上記ストリップメタル間に電解液
   を流し、上記アノードの上部に隣接して電極を遊嵌せし
   め、電解液が上記アノード及び上記ストリップメタル間
   の空間で流体のくっついた固まりを構成するように重力
   によって下側方向に流し、上記空間に付加電解液を連続
   的に供給し、上記空間を電解液で満し続けるようにした
   金属層をストリップメタルの一側又は両側に連続的に電
   着する方法。 ２、　ストリップメタル及び垂直線間の角度が最高３０
   ゛であり、アノード及びストリップメタル間の距離が２
   〜２０ｍｍである特許請求の範囲第１項記載の金属層を
   ストリップメタルの一側又は両側に連続的に電着する方
   法。 ３、　アノード及びストリップメタルの間の距離を電解
   液の流れる方向に増大させない特許請求の範囲第１項記
   載の金属層をストリップメタルの一例又は両側に連続的
   に電着する方法。 ４、　ストリップメタル及びアノード間の距離が式ｄ＝
   に／ｒｒ（ｄ＝ニストリップメタルびアノード間の距離
   、Ｓは電解液の降流路長及びｋは定数）に従って下がる
   方向に減少する特許請求の範囲第３項記載の金属層をス
   トリップメタルの一側又は両側に連続的に電着する方法
   。 ５、複数個の電極がストリップメタルの両側に設けられ
   且つ上記電極に供給される電圧及びその極性が個別に選
   択されることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   金属層をストリップメタルの一例又は両側に連続的に電
   着する方法。 ６、　スチールストリップ上に亜鉛−ニッケル合金を電
   着するため電解液の流れる方向に対するスチールストリ
   ップの移動方向の関係が少なくとも１回反転され、上記
   電着が電解液により２０〜１５０Ａ／　ｄｉ２の電流密
   度で行なわれ、電解液が４０〜７０℃で適当な溶液から
   なり、そして該溶液でそれらの各溶解度までの濃度の少
   なくともＢｏｇ　　／　ｌ！　　　Ｎｉ５０４．　７８
   ２０　、　１５０ｇ／　ｉｔ　　　Ｚｎ５Ｑ＋　、　　
   １ｋｈＯ及び２ｇ／β　Ｈ３ＢＯ３を含む特許請求の範
   囲第１項記載の金属層をストリップメタルの一例又は両
   側に連続的に電着する方法。 ？、４：１０及び１０：１０の間のニッケルー亜鉛比が
   上記電解液で維持されて８〜１５ｗｔ、％ニッケル、好
   ましくは９〜１３ｗｔ、％ニッケルを含む層を被着する
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の金属層を
   ストリップメタルの一例又は両側に連続的に電着する方
   法。 ８．１〜２のｐｕの値が浴槽中に少量の硫酸を付加して
   維持される特許請求の範囲第１項記載の金属層をストリ
   ップメタルの一側又は両側に連続的に電着する方法。 ９゜　アノード及びストリップメタル間の空間に供給さ
   れる付加電解液の少なくとも一部が、上記空間にアノー
   ドを介して広がる開孔を通して挿入させられることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載の金属層をストリッ
   プメタルの一側又は両側に連続的に電着する方法。 １０、少なくとも２個の重ねられたアノードがストリッ
   プメタルに隣接して設けられ、上側のアノードに入る電
   解液が上記アノードに基づいて制御され、そして次の低
   い方のアノードに自由に流し込まれる特許請求の範囲第
   １項記載の金属層をストリップメタルの一側又は両側に
   連続的に電着する方法。 １１、下側の反射口ごう及び電極の少なくとも一部が、
   頂部を開口されたセル内に設けられ、それからポンプが
   電解液を吸い上げてセルケースの外側にある通路を介し
   てアノードへ導くことを特徴とする特許請求の範囲第１
   項記載の金属層をストリップメタルの一側又は両側に連
   続的に電着する方法。