JPS5989792A - 金属層をストリツプメタルの一側又は両側に連続的に電着する方法 - Google Patents
金属層をストリツプメタルの一側又は両側に連続的に電着する方法Info
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- JPS5989792A JPS5989792A JP14043583A JP14043583A JPS5989792A JP S5989792 A JPS5989792 A JP S5989792A JP 14043583 A JP14043583 A JP 14043583A JP 14043583 A JP14043583 A JP 14043583A JP S5989792 A JPS5989792 A JP S5989792A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
- C25D7/0614—Strips or foils
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- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、非水平方向に維持されながら移動されるス
トリップメタルの一側又は両側に金属層を連続的に電着
する方法に関する。電解液は少なくとも1つのプレート
状のアノード及びカソードを構成するストリップメタル
間を流れる・この様な方法は亜鉛、錫、黄銅等からなる
金属をストリップメタルの一側に被着するのに使用する
ことができる。又、この方法は、1回の通過でストリッ
プメタルの両側に被着を適用でき、そしてこの様な被着
をその厚さが異なるように発展させることもできる。
トリップメタルの一側又は両側に金属層を連続的に電着
する方法に関する。電解液は少なくとも1つのプレート
状のアノード及びカソードを構成するストリップメタル
間を流れる・この様な方法は亜鉛、錫、黄銅等からなる
金属をストリップメタルの一側に被着するのに使用する
ことができる。又、この方法は、1回の通過でストリッ
プメタルの両側に被着を適用でき、そしてこの様な被着
をその厚さが異なるように発展させることもできる。
背景技術とその問題点
この様な目的のために使用されている周知の方法では通
常ストリップメタルが電解液に浸され、これが特殊な予
防手段によって保護されるまでストリップメタルの両側
に電解液が接触される。このために、特殊に設計された
アノードアレー及びマスクを使用している場合でも、金
属の一側にのみ被着するには、大きな問題がある。満足
すべき方法で、メタルストリップの裏側に小さな境界の
領域のメタルの電着を防止することは不可能であり、そ
の得られた被着は端部の近くが厚くなって望ましくない
。これらの欠点は、ストリ・ノブがローラの周辺に接触
させられている場合でも全く避けることができず、この
際のローラは電解液に浸され、そしてストリップをアノ
ードを通り越すように移動せしめ電着を行なうものであ
る。これは、ストリップのローリングに起因した応力の
傾きのためにストップがしばしばその端部に成る波状を
呈し、その結果ストリップが他の領域にあるローラとき
ちんと接触している場合でも電解液がストリップの背後
に上記波状の端部を回り込んで流れることができるよう
になり、電解液のスローイングパワーのために、電着が
ストリ・ノブの背後のより大きな領域になされるからで
ある。
常ストリップメタルが電解液に浸され、これが特殊な予
防手段によって保護されるまでストリップメタルの両側
に電解液が接触される。このために、特殊に設計された
アノードアレー及びマスクを使用している場合でも、金
属の一側にのみ被着するには、大きな問題がある。満足
すべき方法で、メタルストリップの裏側に小さな境界の
領域のメタルの電着を防止することは不可能であり、そ
の得られた被着は端部の近くが厚くなって望ましくない
。これらの欠点は、ストリ・ノブがローラの周辺に接触
させられている場合でも全く避けることができず、この
際のローラは電解液に浸され、そしてストリップをアノ
ードを通り越すように移動せしめ電着を行なうものであ
る。これは、ストリップのローリングに起因した応力の
傾きのためにストップがしばしばその端部に成る波状を
呈し、その結果ストリップが他の領域にあるローラとき
ちんと接触している場合でも電解液がストリップの背後
に上記波状の端部を回り込んで流れることができるよう
になり、電解液のスローイングパワーのために、電着が
ストリ・ノブの背後のより大きな領域になされるからで
ある。
発明の目的
この発明の概念は通常の方法と異なり、ストリップ及び
アノードがもはや電解液に浸されることなく、一方で電
解液、他方でストリ・ノブ及びアノード間の流体力学的
接触が付加電解液を連続的に供給することによって維持
される金属層をストリップメタルの一例又は両側に連続
的に電着する方法を提供するものである。
アノードがもはや電解液に浸されることなく、一方で電
解液、他方でストリ・ノブ及びアノード間の流体力学的
接触が付加電解液を連続的に供給することによって維持
される金属層をストリップメタルの一例又は両側に連続
的に電着する方法を提供するものである。
発明の概要
この発明では非水平方向に維持されながら移動されるス
トリップメタルの一側又は両側に金属層が連続的に電着
される。電界液は少なくとも1個のプレート状のアノー
ド及びカソードを構成するストリップメタル間を流れる
。電解液はアノードの上側領域の容器からアノード及び
ストリップメタル間の空間に自由に流れ、そして流体の
ひっついた固まりとしてその重力により下方向へ流れる
。
トリップメタルの一側又は両側に金属層が連続的に電着
される。電界液は少なくとも1個のプレート状のアノー
ド及びカソードを構成するストリップメタル間を流れる
。電解液はアノードの上側領域の容器からアノード及び
ストリップメタル間の空間に自由に流れ、そして流体の
ひっついた固まりとしてその重力により下方向へ流れる
。
実施例
以下、この発明の諸実施例を説明する。
この発明によれば電解液が自由にアノードの上側領域に
流し込まれ、重力の作用により下方向に流れてアノード
及びストリップメタル間の空間に流体のくっついた固ま
りを形成し、そして付加電解液がその空間に連続的に供
給される。この動作により電解液がほとんど自由な落下
で下方に流れるので、電極の表面に溶液が激しく当たる
ようになる。
流し込まれ、重力の作用により下方向に流れてアノード
及びストリップメタル間の空間に流体のくっついた固ま
りを形成し、そして付加電解液がその空間に連続的に供
給される。この動作により電解液がほとんど自由な落下
で下方に流れるので、電極の表面に溶液が激しく当たる
ようになる。
この発明のその他の特徴によれば、メタルストリップが
アノード及びメタルストリップ間の空間に下方向に流れ
ている電解液を構成する流体のくっついた固まりが維持
されるような角度に曲げられ、そしてアノード及びメタ
ルストリップ間の距離が2〜20mm、好ましくは10
mmとなる。例えば電流密度が大きい場合には、アノー
ドに沿った小さな電圧隆下(端子からの方向で)を補償
するために、ストリップメタル及びアノード間の距離を
電流供給端子から離れている端部において、やや小さく
することが望ましい。
アノード及びメタルストリップ間の空間に下方向に流れ
ている電解液を構成する流体のくっついた固まりが維持
されるような角度に曲げられ、そしてアノード及びメタ
ルストリップ間の距離が2〜20mm、好ましくは10
mmとなる。例えば電流密度が大きい場合には、アノー
ドに沿った小さな電圧隆下(端子からの方向で)を補償
するために、ストリップメタル及びアノード間の距離を
電流供給端子から離れている端部において、やや小さく
することが望ましい。
ストリップメタル及び垂直線間の角度は最高30”でよ
いことが解った。
いことが解った。
付加電解液をアノード及びストリップメタル間の空間に
供給する方法に関連して、この発明に係わる方法の好ま
しい実施例では、アノード及びストリップメタル間の空
間に供給される付加電解液の一部を、アノードの頂部で
、例えば越流ぜきを横断するか又はスロットを有する容
器或いは同様の手段から、上述した空間にいれてもよく
、その結果電解液はそこからアノードに至るまで集合容
器に流れる。
供給する方法に関連して、この発明に係わる方法の好ま
しい実施例では、アノード及びストリップメタル間の空
間に供給される付加電解液の一部を、アノードの頂部で
、例えば越流ぜきを横断するか又はスロットを有する容
器或いは同様の手段から、上述した空間にいれてもよく
、その結果電解液はそこからアノードに至るまで集合容
器に流れる。
この発明のその他の実施例では、アノード及びストリッ
プメタル間の空間に供給される付加電解液の少なくとも
一部が、アノードを解して延在している複数個の孔又は
スロットを解して上述の空間に入る。最後に述べた2つ
の実施例は組合せてよいことも理解できよう。
プメタル間の空間に供給される付加電解液の少なくとも
一部が、アノードを解して延在している複数個の孔又は
スロットを解して上述の空間に入る。最後に述べた2つ
の実施例は組合せてよいことも理解できよう。
HDプラントで高速で動いているストリップに被着を行
う際に、非常におおきな電流密度を用いると、ある厄介
な問題がおきる。機械的及び電気化学的理由のために、
そしてジュール効果によって発生された熱を消散するた
めに、電解液が供給される速度及びストリップメタル及
びアノード間の距離は、相対的に増大しなければならな
い。結果として、金属表面への電解液の粘着及び電解液
の粘度の影響が減少し、電解の降流が自由な落下となる
。
う際に、非常におおきな電流密度を用いると、ある厄介
な問題がおきる。機械的及び電気化学的理由のために、
そしてジュール効果によって発生された熱を消散するた
めに、電解液が供給される速度及びストリップメタル及
びアノード間の距離は、相対的に増大しなければならな
い。結果として、金属表面への電解液の粘着及び電解液
の粘度の影響が減少し、電解の降流が自由な落下となる
。
これは電解液がセルを通して流れる速度を急上昇させる
だけでなく、セルの上側部分及び下側部分における電解
液の流速の差を増大させ、この結果、電解液に必要で且
つ平均速度に相互的な横断面積がアノードに沿って変化
することになる。
だけでなく、セルの上側部分及び下側部分における電解
液の流速の差を増大させ、この結果、電解液に必要で且
つ平均速度に相互的な横断面積がアノードに沿って変化
することになる。
この問題はアノード及びストリップメタル間の距離を電
解液の流れる方向に一定又は減少するこの発明によって
解決される。
解液の流れる方向に一定又は減少するこの発明によって
解決される。
この発明では、流れ落ちる方向に連続的に減少する距離
を、ストリップメタル及びアノード間に設けることが好
ましいことが解った。
を、ストリップメタル及びアノード間に設けることが好
ましいことが解った。
ストリップメタル及びアノード間の距離が下方に減少す
るならば、流体力学の概念から所望される構成は式d−
に、rvにより得られる。たヌ′シ、ここでdは距離、
Sは電解液の降流路長及びkは定数である。
るならば、流体力学の概念から所望される構成は式d−
に、rvにより得られる。たヌ′シ、ここでdは距離、
Sは電解液の降流路長及びkは定数である。
この発明によって提供される更に別な改良された点は、
アノード及びストリップメタルの頂端間の距離及びアノ
ード及びストリップメタルの底端間の距離が互いに相互
に関係なく調整されることである。
アノード及びストリップメタルの頂端間の距離及びアノ
ード及びストリップメタルの底端間の距離が互いに相互
に関係なく調整されることである。
その他の要件として、床面積が非常に小さい場合でもプ
ラントの容量を増大し、そしてこれを達成するためにそ
んなにたくさんの費用をかけないで達成することができ
ることである。
ラントの容量を増大し、そしてこれを達成するためにそ
んなにたくさんの費用をかけないで達成することができ
ることである。
アノードは、ストリップが移動される方向にその長さを
大きくしてもよい。しかし、その大きくする程度は以下
の如き、種々の理由から制限される。即ち、アノードは
或制限された電流移送能力しかもたず、アノードの一点
に電流を供給する端子は非常にかさばって大きく、しか
も熱を消散するための複雑な構成を成し、その重いアノ
ードはそれらの重い重量等のために構造的な問題を呈し
、そして非常に長いアノードは付加的に流体力学的な問
題を呈するからである。一方、ストリップは10〜20
m或いはそれ以上の長さ内で上下に動かしてもよい。少
なくとも2つのアノードをストリップメタルの近くで一
方が他方の上になるようにして配列し、そして最上のア
ノードに流れ込む電解液を各アノードに基づいて制御し
、それから次の゛ド側のアノードに自由に流すことで、
簡単で所望の構成がこの発明によって得られることが解
った。
大きくしてもよい。しかし、その大きくする程度は以下
の如き、種々の理由から制限される。即ち、アノードは
或制限された電流移送能力しかもたず、アノードの一点
に電流を供給する端子は非常にかさばって大きく、しか
も熱を消散するための複雑な構成を成し、その重いアノ
ードはそれらの重い重量等のために構造的な問題を呈し
、そして非常に長いアノードは付加的に流体力学的な問
題を呈するからである。一方、ストリップは10〜20
m或いはそれ以上の長さ内で上下に動かしてもよい。少
なくとも2つのアノードをストリップメタルの近くで一
方が他方の上になるようにして配列し、そして最上のア
ノードに流れ込む電解液を各アノードに基づいて制御し
、それから次の゛ド側のアノードに自由に流すことで、
簡単で所望の構成がこの発明によって得られることが解
った。
上述した実施例において、電解液は、−側又は両側の被
着のために、ストリップメタルの両側に、周知の方法で
設けてもよい。
着のために、ストリップメタルの両側に、周知の方法で
設けてもよい。
ストリップメタルの両側に設けられた電極を有する構成
では、極性、電圧及び電流を個別に選折することが最っ
とも好ましいということが解った。
では、極性、電圧及び電流を個別に選折することが最っ
とも好ましいということが解った。
これにより、ストリップの両側を異なった厚さで被着し
、そしてストリップの一例に陰極の電極を接続すること
ができる。これにより、金属が被着されてない側のスト
リップを洗浄したり或いは荒くすることができるように
なる。この様な作用は、更にストリップを処理する、例
えばペンキを塗ったり、半田付は等を行うためには望ま
しいとわがっている。最後にストリップの、例えば−側
を陽極酸化し、そして他側を陰極電着によって金属をコ
ーティングするようにしてもよい。
、そしてストリップの一例に陰極の電極を接続すること
ができる。これにより、金属が被着されてない側のスト
リップを洗浄したり或いは荒くすることができるように
なる。この様な作用は、更にストリップを処理する、例
えばペンキを塗ったり、半田付は等を行うためには望ま
しいとわがっている。最後にストリップの、例えば−側
を陽極酸化し、そして他側を陰極電着によって金属をコ
ーティングするようにしてもよい。
別な実施例では電極がストリップメタルの両側に設けら
れ、電圧がアノードを構成する電極の一方にのみ供給さ
れ、そのアノード及びストリップ間の空間にのみ電解液
が供給される。
れ、電圧がアノードを構成する電極の一方にのみ供給さ
れ、そのアノード及びストリップ間の空間にのみ電解液
が供給される。
更に他の実施例ではストリップメタルがその一側又は両
側をコーティングされ、そのストリップメタルは、連続
的なアノードに隣接して、電解液の流れ方向に対して交
互す方向に移動され、従って、ストリップメタルは電解
液に対して同じ方向にそして逆な方向に交互に移動され
る。これによって、ストリップの表面上に溶液の急速な
運動が生じ、電着が促進される。
側をコーティングされ、そのストリップメタルは、連続
的なアノードに隣接して、電解液の流れ方向に対して交
互す方向に移動され、従って、ストリップメタルは電解
液に対して同じ方向にそして逆な方向に交互に移動され
る。これによって、ストリップの表面上に溶液の急速な
運動が生じ、電着が促進される。
他の実施例では、電流を流さない状態でストリップメタ
ルが電解液で湿され、好ましくは電解液を粉霧されたり
、或いはこれに湿されて、核心の成長を増進する。
ルが電解液で湿され、好ましくは電解液を粉霧されたり
、或いはこれに湿されて、核心の成長を増進する。
この発明の特殊な実施例では亜鉛−ニッケルの合金がス
トリップメタル上に・被着され、電解液の流れ方向に対
してスチールの移動の方向が1回又は数回変化し、電着
が20〜150A/ 6m2.好ましくは40〜100
A/ 6m2の電流密度でもって電解により行なわれ、
この電解は40〜70”Cの温度、好ましくは45〜6
0℃の温度において適当な溶液からなり、且つこの溶液
中で各々の各溶解度までの濃度の少なくとも80g/β
NiSO4,7H20、少なくとも150g/ j!
ZnSO4,7H20及び2g/ j7 H3B
O3を含む。
トリップメタル上に・被着され、電解液の流れ方向に対
してスチールの移動の方向が1回又は数回変化し、電着
が20〜150A/ 6m2.好ましくは40〜100
A/ 6m2の電流密度でもって電解により行なわれ、
この電解は40〜70”Cの温度、好ましくは45〜6
0℃の温度において適当な溶液からなり、且つこの溶液
中で各々の各溶解度までの濃度の少なくとも80g/β
NiSO4,7H20、少なくとも150g/ j!
ZnSO4,7H20及び2g/ j7 H3B
O3を含む。
この方法では、4:10及び10:10好ましくは5:
10及び8:10のニッケルー亜鉛比が電解液中で維持
され、その結果電着された層は、8〜15wt、%ニッ
ケル、好ましくは9〜13tvt、%ニッケルを含む。
10及び8:10のニッケルー亜鉛比が電解液中で維持
され、その結果電着された層は、8〜15wt、%ニッ
ケル、好ましくは9〜13tvt、%ニッケルを含む。
この発明においては、不溶のアノードを用いる場合には
塩素を遊離した非塩化物イオンを含む硫酸電解液を使用
した方法としてもよい。硫酸電解液を用い、そのコーテ
ィングの腐蝕に対する抵抗を減少するように、亜鉛及び
ニッケルの層或いは低及び高ニツケル含有物を有する層
を交互に電着することは周知である。例えば米国特許第
4313802号には、電流密度を5〜40^/dn1
2に制限して、工0:15及び10;40間の比の亜鉛
及びニッケルを含む純粋な硫酸電解液にストリップメタ
ルを横方向に移動させる方法が開示されている。ニッケ
ルの高状態は、結果として移動されるニッケルに非常に
大きな損失を生ずる。又、0.05〜lOg/7!の量
の硫酸ストロンチュームを光沢剤として付加することが
提案されているが、しかしこの場合種々の欠点があり、
これは硫酸ストロンチュームが極めて低溶解度で、しか
も比較的高価であることによる。
塩素を遊離した非塩化物イオンを含む硫酸電解液を使用
した方法としてもよい。硫酸電解液を用い、そのコーテ
ィングの腐蝕に対する抵抗を減少するように、亜鉛及び
ニッケルの層或いは低及び高ニツケル含有物を有する層
を交互に電着することは周知である。例えば米国特許第
4313802号には、電流密度を5〜40^/dn1
2に制限して、工0:15及び10;40間の比の亜鉛
及びニッケルを含む純粋な硫酸電解液にストリップメタ
ルを横方向に移動させる方法が開示されている。ニッケ
ルの高状態は、結果として移動されるニッケルに非常に
大きな損失を生ずる。又、0.05〜lOg/7!の量
の硫酸ストロンチュームを光沢剤として付加することが
提案されているが、しかしこの場合種々の欠点があり、
これは硫酸ストロンチュームが極めて低溶解度で、しか
も比較的高価であることによる。
この発明に係わる上述した方法では、硫酸を間欠的に或
いは連続的に付加することによって溶液のpHの値を1
〜2.好ましくは1.3〜1.8に維持し、例えば銅−
銀からなる不溶のアノード又は電極カーボンを周知の方
法で使用し、酸化メタル。
いは連続的に付加することによって溶液のpHの値を1
〜2.好ましくは1.3〜1.8に維持し、例えば銅−
銀からなる不溶のアノード又は電極カーボンを周知の方
法で使用し、酸化メタル。
水酸化メタル又は炭酸メタルの熔解中に或いはメタル又
はメタル合金自身が化学的に又は陽極溶解されている間
にメタルの抽出を行うことが望ましいことが解った。
はメタル合金自身が化学的に又は陽極溶解されている間
にメタルの抽出を行うことが望ましいことが解った。
硫酸塩、硼酸塩、硼酸(HsB(h ) 、アミノ硫酸
(NH2S0J) 、蟻酸(HCOOI() 、酢酸(
CH3CO0H)並びにグルコース及びそれらの塩類は
硫酸に付加して混合するようにしてもよい。
(NH2S0J) 、蟻酸(HCOOI() 、酢酸(
CH3CO0H)並びにグルコース及びそれらの塩類は
硫酸に付加して混合するようにしてもよい。
この方法で使用される装置は、本質的には周知の方法で
一方が他方の上になるように配された少なくとも2個の
偏向ローラと、水平方向より偏倚し、実質的にストリッ
プメタルと平行にある少なくとも1(!Iの不溶アノー
ドと、アノード及びローラに巻き付けられたストリップ
メタルからなるカソードに電流を供給する端子と、スト
リップを駆動する駆動手段と、電解液を制御する少な(
とも1個の容器と、電解液を巡回する少なくとも1個の
ポンプと、アノード及びストリップメタル間の空間に電
解液を供給するパイプラインとからなる。
一方が他方の上になるように配された少なくとも2個の
偏向ローラと、水平方向より偏倚し、実質的にストリッ
プメタルと平行にある少なくとも1(!Iの不溶アノー
ドと、アノード及びローラに巻き付けられたストリップ
メタルからなるカソードに電流を供給する端子と、スト
リップを駆動する駆動手段と、電解液を制御する少な(
とも1個の容器と、電解液を巡回する少なくとも1個の
ポンプと、アノード及びストリップメタル間の空間に電
解液を供給するパイプラインとからなる。
この装置における一例では、電解液を供給するデバイス
は、細長く伸びた容器を備え、この容器はアノードの頂
部に設けられ、例えば電解液を巡回するポンプによって
連続的に電解液を供給され且つアノード及びストリップ
メタル間の空間上に設けられ、しかも1個以上のスロッ
トを有し、このスロットを介してアノード及びストリッ
プメタル間の空間に上側から連続的に電解液が供給され
る。
は、細長く伸びた容器を備え、この容器はアノードの頂
部に設けられ、例えば電解液を巡回するポンプによって
連続的に電解液を供給され且つアノード及びストリップ
メタル間の空間上に設けられ、しかも1個以上のスロッ
トを有し、このスロットを介してアノード及びストリッ
プメタル間の空間に上側から連続的に電解液が供給され
る。
他の実施例では、アノードは複数個の貫通孔又は貫通ス
ロットで形成され、容器を設け、この容器の一方の壁が
開口されたアノードの壁によって構成され、そして、パ
イプラインがポンプから上記容器に導かれ、その容器に
電解液を連続的に供給するように働く。
ロットで形成され、容器を設け、この容器の一方の壁が
開口されたアノードの壁によって構成され、そして、パ
イプラインがポンプから上記容器に導かれ、その容器に
電解液を連続的に供給するように働く。
最後に述べた2つの実施例における装置は、互いに組合
せるようにしてもよい。又、アノードの頂部に電解液を
供給する手段は、その頂端の近くのアノードに形成され
た単一の開孔と、アノードの裏側に接続され電解液を供
給するi<イブとを備えてもよい。
せるようにしてもよい。又、アノードの頂部に電解液を
供給する手段は、その頂端の近くのアノードに形成され
た単一の開孔と、アノードの裏側に接続され電解液を供
給するi<イブとを備えてもよい。
次に、この発明に係る方法及び装置を図面を参照し乍ら
説明する。
説明する。
第1図において、ストリップメタル(1)が偏向ローラ
(2)及び(3)のまわりに上方向又は下方向にアノー
ド(5)を通過して傾斜した方位で連続的に引張られる
。また、アノード(5)も傾斜するようになされている
。アノード(5)及びストリ・ンプメタル(1)間の所
定電圧又は所定電流が電流供給端子(4)及び(6)か
らの電流によって維持される。電流を流し、ストリップ
メタル(1)のアノード(5)と面している側に金属層
の電着を行なうために、電解液がポンプ1B)によって
電解液集合容器(7)からくみ上げられて、ノ々イブラ
インを介して容器(9)に連続的に供給される。
(2)及び(3)のまわりに上方向又は下方向にアノー
ド(5)を通過して傾斜した方位で連続的に引張られる
。また、アノード(5)も傾斜するようになされている
。アノード(5)及びストリ・ンプメタル(1)間の所
定電圧又は所定電流が電流供給端子(4)及び(6)か
らの電流によって維持される。電流を流し、ストリップ
メタル(1)のアノード(5)と面している側に金属層
の電着を行なうために、電解液がポンプ1B)によって
電解液集合容器(7)からくみ上げられて、ノ々イブラ
インを介して容器(9)に連続的に供給される。
容器(9)は縦のスロットを有し、このスロットを介し
て電解液がストリップメタル(1)及びアノード(5)
間の空間に連続的に流れる。電解液はその空間を満し、
そしてその空間で下方向に流れ、次いで集合容器(7)
に入れられる。
て電解液がストリップメタル(1)及びアノード(5)
間の空間に連続的に流れる。電解液はその空間を満し、
そしてその空間で下方向に流れ、次いで集合容器(7)
に入れられる。
第2図において、ストリップメタル(1)及びアノード
(5′)は垂直方位を有し、アノード(5′)は或区分
(11)を有するボックスからなり、これに電解液がポ
ンプ(8)によって供給される。電解液がボックスの頂
部位置まで均一に上昇し、ストリップメタル(1)と面
している壁に設けられた貫通スロット(12)及び排水
口(13)を介してアノード(5′)及びストリップメ
タル(1)間の空間に異なったレベルで流れる。その空
間から電解液が集合容器(7)に戻される。第3図はア
ノード(5′)を示し、これはその頂部が閉成され、且
つ複数個の孔(14)を有し、これ等は異なる静水力学
上の圧力に従って、アノード(5′)の上部に、より大
きく且つ接近して隔置されると共にアノード(5′)の
下部に、より小さく且つ離れて隔置される。孔(14)
の上に設けられた広いスロット(15)によって排水口
が構成される。
(5′)は垂直方位を有し、アノード(5′)は或区分
(11)を有するボックスからなり、これに電解液がポ
ンプ(8)によって供給される。電解液がボックスの頂
部位置まで均一に上昇し、ストリップメタル(1)と面
している壁に設けられた貫通スロット(12)及び排水
口(13)を介してアノード(5′)及びストリップメ
タル(1)間の空間に異なったレベルで流れる。その空
間から電解液が集合容器(7)に戻される。第3図はア
ノード(5′)を示し、これはその頂部が閉成され、且
つ複数個の孔(14)を有し、これ等は異なる静水力学
上の圧力に従って、アノード(5′)の上部に、より大
きく且つ接近して隔置されると共にアノード(5′)の
下部に、より小さく且つ離れて隔置される。孔(14)
の上に設けられた広いスロット(15)によって排水口
が構成される。
ストリップの両側における電着をできるだけ異なった厚
さとなし且つ適当な容量のプラントの設計を行なうため
に、単一のストリップが通路に沿ってプラント中を引張
られるこの通路に隣接して、上述したような複数個の電
解液セルを一方が他方のそばになるように又は一方が他
方の上側になるようにして設けることが望ましい。
さとなし且つ適当な容量のプラントの設計を行なうため
に、単一のストリップが通路に沿ってプラント中を引張
られるこの通路に隣接して、上述したような複数個の電
解液セルを一方が他方のそばになるように又は一方が他
方の上側になるようにして設けることが望ましい。
この概念に基づくいくつかの実施例が第4図a〜第4図
す及び第5図a〜第5図dに示されており、第4図では
ストリップ及びアノードが垂直方位に配され、第5図で
はストリップ及びアノードが傾斜した方位に配されてい
る場合である。第4図aに示す実施例では、ボックス状
のアノードを使用している。又、第4図すでは、ストリ
ップの一面で且つ同一の側が同じアノードボックスのそ
ばを(上方向及び下方向に)2回移動され、その結果ボ
ックスが相互に対向する2つの壁に孔又はスロット及び
排気口を備えていれば、上述したボックスの有効なアノ
ード表面領域を二重にすることができる。第4図Cによ
れば、片側だけのアノードボックスをストリップの他方
に設けてもよく、これによってストリップの2つの側に
非常に厚さの異なる金属層を被着するのに特に適当なプ
ラントを得ることができる。そのプラントは第4図dに
示すように、別なアノードを準備して拡大してもよく、
これによって同じアノード表面領域をストリップの各側
に利用することができる。第4図Cでは上下に重なった
アノードを示す。又第4図[は隙間なく収納されたアノ
ードホックスの構成を示し、そのほとんどの両側がHD
プラント内で有効に利用されている。
す及び第5図a〜第5図dに示されており、第4図では
ストリップ及びアノードが垂直方位に配され、第5図で
はストリップ及びアノードが傾斜した方位に配されてい
る場合である。第4図aに示す実施例では、ボックス状
のアノードを使用している。又、第4図すでは、ストリ
ップの一面で且つ同一の側が同じアノードボックスのそ
ばを(上方向及び下方向に)2回移動され、その結果ボ
ックスが相互に対向する2つの壁に孔又はスロット及び
排気口を備えていれば、上述したボックスの有効なアノ
ード表面領域を二重にすることができる。第4図Cによ
れば、片側だけのアノードボックスをストリップの他方
に設けてもよく、これによってストリップの2つの側に
非常に厚さの異なる金属層を被着するのに特に適当なプ
ラントを得ることができる。そのプラントは第4図dに
示すように、別なアノードを準備して拡大してもよく、
これによって同じアノード表面領域をストリップの各側
に利用することができる。第4図Cでは上下に重なった
アノードを示す。又第4図[は隙間なく収納されたアノ
ードホックスの構成を示し、そのほとんどの両側がHD
プラント内で有効に利用されている。
第5図a〜第5図dに示すような傾斜した電極を使用す
ると、プラントの高さを低くすることができる。その上
に、傾斜した位置に関連して静水力学及び流体力学の効
果を利用することができる。
ると、プラントの高さを低くすることができる。その上
に、傾斜した位置に関連して静水力学及び流体力学の効
果を利用することができる。
第5図a及び第5図すの構成は、−側に電着を行なうた
めのものである。第5図C及び第5図dに示すような構
成は両側に電着を行なう際に使用するようにしてもよい
。
めのものである。第5図C及び第5図dに示すような構
成は両側に電着を行なう際に使用するようにしてもよい
。
第6図はストリップメタル(11を示し、これは2つの
上側にある2個の偏向ローラ(3)及び下側にある一個
の偏向ローラ(2)に巻き付けられる。上側の偏向ロー
ラ(3)には電流供給端子(図示せず)が設けられる。
上側にある2個の偏向ローラ(3)及び下側にある一個
の偏向ローラ(2)に巻き付けられる。上側の偏向ロー
ラ(3)には電流供給端子(図示せず)が設けられる。
アノード(5)はストリップメタル(1)の両側に設け
られ、それらの各々はキャリア(5”)に接続される。
られ、それらの各々はキャリア(5”)に接続される。
矢印A及びBで示すように、キャリア(5”)は水平軸
(矢印A)の回わりに、そのストリップメタル(1)か
らの距111(矢印B)と関連して調整可能にマウント
される。−例として示す本実施例では、キャリア(5”
)はアノード(5)、好ましくはアノード(5)の中央
で接続される。アノード(5)を示す点線から、各アノ
ード(5)からストリ・ノブメタル(1)までの距離及
びストリップメタル(1)に対する各アノード(5)の
傾斜が所望に調整できることが解る。この発明の好まし
い実施例では、キャリア(5”)は電気的に導通され、
且つ絶縁されるようにマウントされ、しかも電流供給端
子(図示せず)を備えている。アノード(5)及び偏向
ローラ(2)はセルケース(16)内に設けられる。ア
ノード(5)から流れる電解液は、セルの底部で制御さ
れ、ポンプ(8)によってアノード(5)の上部又は端
部まで上昇し、サイクルを完了する。第6図及び第7図
からも解るように、ストリップメタルは一側のみメッキ
される。このために電解液が、ストリップメタル(1)
及びセルケース(16)の壁との間に設けられた外側の
アノード(5)にだけ供給される。
(矢印A)の回わりに、そのストリップメタル(1)か
らの距111(矢印B)と関連して調整可能にマウント
される。−例として示す本実施例では、キャリア(5”
)はアノード(5)、好ましくはアノード(5)の中央
で接続される。アノード(5)を示す点線から、各アノ
ード(5)からストリ・ノブメタル(1)までの距離及
びストリップメタル(1)に対する各アノード(5)の
傾斜が所望に調整できることが解る。この発明の好まし
い実施例では、キャリア(5”)は電気的に導通され、
且つ絶縁されるようにマウントされ、しかも電流供給端
子(図示せず)を備えている。アノード(5)及び偏向
ローラ(2)はセルケース(16)内に設けられる。ア
ノード(5)から流れる電解液は、セルの底部で制御さ
れ、ポンプ(8)によってアノード(5)の上部又は端
部まで上昇し、サイクルを完了する。第6図及び第7図
からも解るように、ストリップメタルは一側のみメッキ
される。このために電解液が、ストリップメタル(1)
及びセルケース(16)の壁との間に設けられた外側の
アノード(5)にだけ供給される。
第8図及び第9図に示す実施例においては、ストリップ
メタル(1)の両側がメッキされる。このために、電解
液が総てのアノード(5)に供給される。
メタル(1)の両側がメッキされる。このために、電解
液が総てのアノード(5)に供給される。
第7図及び第9図からも明らかなように、内側のアノー
ド(5)には、第8図及び第9図に示す実施例では、ス
トリップメタル(1)がアノードによって全体に囲まれ
て、電解液が横方向に流れ出すことができないように、
横方向に延在する端部が設けられる。
ド(5)には、第8図及び第9図に示す実施例では、ス
トリップメタル(1)がアノードによって全体に囲まれ
て、電解液が横方向に流れ出すことができないように、
横方向に延在する端部が設けられる。
この発明の他の実施例(図示せず)において、アノード
がキャリアの頂端及び底端に接続される。
がキャリアの頂端及び底端に接続される。
これらのキャリアは相互に個別にストリップメタル+I
Jとアノード(5)の距離に関連して調整可能である。
Jとアノード(5)の距離に関連して調整可能である。
少なくとも一方のキャリアは、電気的に導通されており
且つ絶縁されるようにマウントされ、しかも電流供給端
子を備えている。
且つ絶縁されるようにマウントされ、しかも電流供給端
子を備えている。
またこの発明によれば、ストリップメタル(1)と而す
る各アノード(5)の表面は、ストリップメタルの方向
に対して平らが又は凸状に湾曲されている。
る各アノード(5)の表面は、ストリップメタルの方向
に対して平らが又は凸状に湾曲されている。
その曲率ば式d=に7 rv により求めることができ
、ここでdはストリップメタル(1)及びアノード(5
)間の距離、Sは電解液の降流路長、kは定数である。
、ここでdはストリップメタル(1)及びアノード(5
)間の距離、Sは電解液の降流路長、kは定数である。
第10図に示すこの発明の実施例では、2個のアノード
(5)が一方が他方の上側になるようにして設げられる
。2個以上のアノードを一方が他方の上側になるように
して設けてもよいことが理解できよう。電解液は供給ラ
イン(18)のスロットから上側のアノード(5)に自
由に流れ、そしてこれから出て集合槽(19)に流れる
。この集合槽(19)が電解液で満されると、この電解
液は集合槽(19)の縁からあふれて流れ出し、方向を
換える桶QO)で制御されて、連続的に下側のアノード
(5)に供給され、これに自由に流れる。下側のアノー
ド(5)から流れ出た電解液は排水路(22)の設けら
れた集合容器(7)で制御される。集合容器(7)を離
れた電解液は・図示せずもポンプによって供給ライン(
18)まで汲上げられる。ストリップメタル(1)に付
着されて残っている電解液は、絞り出しローラ(23)
によって除去され、それがら又集合容器(7)に流れ出
ず。
(5)が一方が他方の上側になるようにして設げられる
。2個以上のアノードを一方が他方の上側になるように
して設けてもよいことが理解できよう。電解液は供給ラ
イン(18)のスロットから上側のアノード(5)に自
由に流れ、そしてこれから出て集合槽(19)に流れる
。この集合槽(19)が電解液で満されると、この電解
液は集合槽(19)の縁からあふれて流れ出し、方向を
換える桶QO)で制御されて、連続的に下側のアノード
(5)に供給され、これに自由に流れる。下側のアノー
ド(5)から流れ出た電解液は排水路(22)の設けら
れた集合容器(7)で制御される。集合容器(7)を離
れた電解液は・図示せずもポンプによって供給ライン(
18)まで汲上げられる。ストリップメタル(1)に付
着されて残っている電解液は、絞り出しローラ(23)
によって除去され、それがら又集合容器(7)に流れ出
ず。
配電を改善するために、電流供給用の複数個の付加ロー
ラ(24)が設けられる。これらローラ(24)の各々
は2つの隣接したアノード(5)間に設けられる。
ラ(24)が設けられる。これらローラ(24)の各々
は2つの隣接したアノード(5)間に設けられる。
第11図に示す実施例では、上側のアノード(5)がら
取り出された電解液は、方向を変える桶(10’)によ
って集合槽(19’)へ偏向され、それがら電解液が集
合槽(19’)の縁をあふれて下側のアノード(5)及
びストリップメタル(1)間の空間に流れる。
取り出された電解液は、方向を変える桶(10’)によ
って集合槽(19’)へ偏向され、それがら電解液が集
合槽(19’)の縁をあふれて下側のアノード(5)及
びストリップメタル(1)間の空間に流れる。
第12図に示す実施例では、電解液を制御及びその方向
を変えるための構成を示している。この構成は狭い集合
ファンネル(25)を有し、その大きな開口(26)が
上側のアノード(5)の電解液を受け、そしてその小さ
な開口(27)から電解液がバイブを解して下側のアノ
ード(5)へ流れる。集合ファンネル(25)は、第1
3図に示すように、案内織布(28)及びハソフル織布
(29)を有する。これらの織布により、電解液が小さ
な開口の方向へ流れ、その流れが減速される。
を変えるための構成を示している。この構成は狭い集合
ファンネル(25)を有し、その大きな開口(26)が
上側のアノード(5)の電解液を受け、そしてその小さ
な開口(27)から電解液がバイブを解して下側のアノ
ード(5)へ流れる。集合ファンネル(25)は、第1
3図に示すように、案内織布(28)及びハソフル織布
(29)を有する。これらの織布により、電解液が小さ
な開口の方向へ流れ、その流れが減速される。
第14図に示す変形された集合ファンネル(25’)は
円形状とされ、又、案内織布(28’)及びファンネル
織布(29’)を有する。
円形状とされ、又、案内織布(28’)及びファンネル
織布(29’)を有する。
第15図〜第17図に示すこの発明の実際的な実施例に
おいては、ポンプ(8)がセルケース(16)と構造上
一体化されている。これらの各部品は、第6図に示すも
のと同一であるので、こ\では夫々同じ参照符号を付し
て示す。第6図に示す例におけるように、上側の2個の
偏向ローラ(3)及び下側の1個の偏向ローラ(2)が
設けられる。アノード(5)が鮮び上側の偏向ローラ(
3)及び下側の偏向ローラ(2)間の空間に設けられる
。ストリップメタル(1)の−例又は両側上のアノード
(5)及び下側の偏向ローラ(2)が頂部の開口された
セルケース(16)によって囲まれ、その底部で電解液
が制御される。電解液はポンプ(8)によりセルケース
(16)に設けられた横方向の通路を介してアノード(
5)まで連続的に汲上げられる。ポンプ(8)はセルケ
ースαωの側面に、そのケースの底部のレベルで設けら
れる。ケース(16)の側壁は、二重の壁とされ、これ
により横方向の通路(20)が決められる。セルケース
(16)の底部は、電解液を熔解するために、図示しな
いがステーションにラインによって接続されている。
おいては、ポンプ(8)がセルケース(16)と構造上
一体化されている。これらの各部品は、第6図に示すも
のと同一であるので、こ\では夫々同じ参照符号を付し
て示す。第6図に示す例におけるように、上側の2個の
偏向ローラ(3)及び下側の1個の偏向ローラ(2)が
設けられる。アノード(5)が鮮び上側の偏向ローラ(
3)及び下側の偏向ローラ(2)間の空間に設けられる
。ストリップメタル(1)の−例又は両側上のアノード
(5)及び下側の偏向ローラ(2)が頂部の開口された
セルケース(16)によって囲まれ、その底部で電解液
が制御される。電解液はポンプ(8)によりセルケース
(16)に設けられた横方向の通路を介してアノード(
5)まで連続的に汲上げられる。ポンプ(8)はセルケ
ースαωの側面に、そのケースの底部のレベルで設けら
れる。ケース(16)の側壁は、二重の壁とされ、これ
により横方向の通路(20)が決められる。セルケース
(16)の底部は、電解液を熔解するために、図示しな
いがステーションにラインによって接続されている。
発明の効果
この発明に係わる方法及びこの方法を実施するための装
置により、多数の利益を得ることができる。即ち、例え
ばストリップメタルの湿りを、電解液が高い酸性度を有
する場合でも、電解液ボンプのfll?i車な消勢によ
って阻止することができる。
置により、多数の利益を得ることができる。即ち、例え
ばストリップメタルの湿りを、電解液が高い酸性度を有
する場合でも、電解液ボンプのfll?i車な消勢によ
って阻止することができる。
それにより、ストリップメタルが長い時間停止されてい
る場合でも、ストリップメタルのエツチング及びその地
間様の影響を阻止することができる。
る場合でも、ストリップメタルのエツチング及びその地
間様の影響を阻止することができる。
更に、ストリップメタル及びアノード間の距離を極端に
小さくしてもよく、はとんどの場合、限度として言われ
ている20mmよりかなり小さいものとしてもよい。こ
れは、重力の作用で電解液の急速な降流が境界層で電解
液の流れを急速にし、境界層が常に薄く且つ非常に低い
濃度の成極のみが電極に発生されるようになるからであ
る。高い電流密度の場合に発生された熱は急速に消散さ
れ、そして形成され且つ減少され得る任意のガスがI!
1lXIt!し、またその湿った電極の表面が即座に除
去される。このために、端子電圧及び電力は低くてもよ
く、この結果、ジュール効果による溶液の過熱に起因し
た電力損失は極端に低くなり、しかも可能な最高の電力
密度が非常に高くなる。これは特に経済的でコンパクト
なデザインを可能とする。ストリップメタルは電解液に
よりその進む方向側のみが湿され、その結果ストリップ
メタルの後側の少しの電着でさえ阻止されると云う重要
な利益を呈することができる。電極間の空間に満された
流体の固まりは急激に圧縮され、そしてストリップの端
部で動的作用によって引き裂かれ、その結果事実上スト
リップの端部における電流密度の増加は目に付くほど大
したものでなく、結果としてマスクを必要としないこと
になる。このために、アノードが充分に広ければ、スト
リップが反っても、即ちそれらがセルを貫通する際に横
方向に偏向されても、容易に使用することができる。
小さくしてもよく、はとんどの場合、限度として言われ
ている20mmよりかなり小さいものとしてもよい。こ
れは、重力の作用で電解液の急速な降流が境界層で電解
液の流れを急速にし、境界層が常に薄く且つ非常に低い
濃度の成極のみが電極に発生されるようになるからであ
る。高い電流密度の場合に発生された熱は急速に消散さ
れ、そして形成され且つ減少され得る任意のガスがI!
1lXIt!し、またその湿った電極の表面が即座に除
去される。このために、端子電圧及び電力は低くてもよ
く、この結果、ジュール効果による溶液の過熱に起因し
た電力損失は極端に低くなり、しかも可能な最高の電力
密度が非常に高くなる。これは特に経済的でコンパクト
なデザインを可能とする。ストリップメタルは電解液に
よりその進む方向側のみが湿され、その結果ストリップ
メタルの後側の少しの電着でさえ阻止されると云う重要
な利益を呈することができる。電極間の空間に満された
流体の固まりは急激に圧縮され、そしてストリップの端
部で動的作用によって引き裂かれ、その結果事実上スト
リップの端部における電流密度の増加は目に付くほど大
したものでなく、結果としてマスクを必要としないこと
になる。このために、アノードが充分に広ければ、スト
リップが反っても、即ちそれらがセルを貫通する際に横
方向に偏向されても、容易に使用することができる。
メタルを電解液で熔解し、メタルイオンの濃度を維持す
る必要がある場合は、これは、本質的には周知である化
学的或いは陽極熔解セルによって達成することができる
。
る必要がある場合は、これは、本質的には周知である化
学的或いは陽極熔解セルによって達成することができる
。
第1図及び第2図は夫々この発明に適用される装置の2
つの実施例を示す斜視図、第3図はその装置の詳細を示
す斜視図、第4図a〜第4図f及び第5図a〜第5図d
はこの発明に係わる複数個の電解液セルを11lIII
の同じストリップメッキプラント内に配列され得る異な
った方法を簡略的に示す倒立面図、第6図はストリップ
メタルの一例にメッキをするためのこの発明に係わる装
置を簡略的に示す横断面図、第7図は第6図の装置を示
す平面図、第8図はストリップメタルの両側にメッキす
るために使用される第6図の装置を示す横断面図、第9
図は第8図の装置を示す平面図、第10図は2 (+l
+1のアノードが一方が他方の上側になるように配列さ
れた装置内において、ストリップメタルの両側にコーテ
ィングするためのこの発明に係わる装置を示す横断面図
、第11図及び第12図は電解液を集合し且つその方向
を変えるようにするための手段の2つの例を示す平面図
、第13図は第12図における線xm−xmで切断した
場合を示す断面図、第14図は第13図と同様であるが
、異なった集合及び方向を変える手段の一例を示す断面
図、第15図はこの発明に係わる装置の更に他の実施例
を示す横断面図、第16図は第15図における線XVI
−XVIで切断した場合を示す断面図、第17図は第1
5図における線X■−X■で切断した場合を示す断面図
である。 (1)はストリップメタル、(21,+31は偏向ロー
ラ、(4,)、 (61は電流供給端子、(5)はアノ
ード、(7)は電解液集合容器、(8)はポンプ、(9
)は容器、(12)はスロット、(13)は排水口、(
14)は孔、(15)は広いスロットである。 FIG、5a FIG、5bFI
G、5c FIG、5dFig、
6 5 Fig、 8 5 コ 〜・72 Fig、 )3 FjQ、 14 Fig、17
つの実施例を示す斜視図、第3図はその装置の詳細を示
す斜視図、第4図a〜第4図f及び第5図a〜第5図d
はこの発明に係わる複数個の電解液セルを11lIII
の同じストリップメッキプラント内に配列され得る異な
った方法を簡略的に示す倒立面図、第6図はストリップ
メタルの一例にメッキをするためのこの発明に係わる装
置を簡略的に示す横断面図、第7図は第6図の装置を示
す平面図、第8図はストリップメタルの両側にメッキす
るために使用される第6図の装置を示す横断面図、第9
図は第8図の装置を示す平面図、第10図は2 (+l
+1のアノードが一方が他方の上側になるように配列さ
れた装置内において、ストリップメタルの両側にコーテ
ィングするためのこの発明に係わる装置を示す横断面図
、第11図及び第12図は電解液を集合し且つその方向
を変えるようにするための手段の2つの例を示す平面図
、第13図は第12図における線xm−xmで切断した
場合を示す断面図、第14図は第13図と同様であるが
、異なった集合及び方向を変える手段の一例を示す断面
図、第15図はこの発明に係わる装置の更に他の実施例
を示す横断面図、第16図は第15図における線XVI
−XVIで切断した場合を示す断面図、第17図は第1
5図における線X■−X■で切断した場合を示す断面図
である。 (1)はストリップメタル、(21,+31は偏向ロー
ラ、(4,)、 (61は電流供給端子、(5)はアノ
ード、(7)は電解液集合容器、(8)はポンプ、(9
)は容器、(12)はスロット、(13)は排水口、(
14)は孔、(15)は広いスロットである。 FIG、5a FIG、5bFI
G、5c FIG、5dFig、
6 5 Fig、 8 5 コ 〜・72 Fig、 )3 FjQ、 14 Fig、17
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、非水平方向に維持されながら移動されるストリップ
メタルの少なくとも一側に金属層を連続的に電着する方
法であって、少なくとも1個のプレート状のアノード及
びカソードを構成する上記ストリップメタル間に電解液
を流し、上記アノードの上部に隣接して電極を遊嵌せし
め、電解液が上記アノード及び上記ストリップメタル間
の空間で流体のくっついた固まりを構成するように重力
によって下側方向に流し、上記空間に付加電解液を連続
的に供給し、上記空間を電解液で満し続けるようにした
金属層をストリップメタルの一側又は両側に連続的に電
着する方法。 2、 ストリップメタル及び垂直線間の角度が最高30
゛であり、アノード及びストリップメタル間の距離が2
〜20mmである特許請求の範囲第1項記載の金属層を
ストリップメタルの一側又は両側に連続的に電着する方
法。 3、 アノード及びストリップメタルの間の距離を電解
液の流れる方向に増大させない特許請求の範囲第1項記
載の金属層をストリップメタルの一例又は両側に連続的
に電着する方法。 4、 ストリップメタル及びアノード間の距離が式d=
に/rr(d=ニストリップメタルびアノード間の距離
、Sは電解液の降流路長及びkは定数)に従って下がる
方向に減少する特許請求の範囲第3項記載の金属層をス
トリップメタルの一側又は両側に連続的に電着する方法
。 5、複数個の電極がストリップメタルの両側に設けられ
且つ上記電極に供給される電圧及びその極性が個別に選
択されることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
金属層をストリップメタルの一例又は両側に連続的に電
着する方法。 6、 スチールストリップ上に亜鉛−ニッケル合金を電
着するため電解液の流れる方向に対するスチールストリ
ップの移動方向の関係が少なくとも1回反転され、上記
電着が電解液により20〜150A/ di2の電流密
度で行なわれ、電解液が40〜70℃で適当な溶液から
なり、そして該溶液でそれらの各溶解度までの濃度の少
なくともBog / l! Ni504. 78
20 、 150g/ it Zn5Q+ 、
1khO及び2g/β H3BO3を含む特許請求の範
囲第1項記載の金属層をストリップメタルの一例又は両
側に連続的に電着する方法。 ?、4:10及び10:10の間のニッケルー亜鉛比が
上記電解液で維持されて8〜15wt、%ニッケル、好
ましくは9〜13wt、%ニッケルを含む層を被着する
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の金属層を
ストリップメタルの一例又は両側に連続的に電着する方
法。 8.1〜2のpuの値が浴槽中に少量の硫酸を付加して
維持される特許請求の範囲第1項記載の金属層をストリ
ップメタルの一側又は両側に連続的に電着する方法。 9゜ アノード及びストリップメタル間の空間に供給さ
れる付加電解液の少なくとも一部が、上記空間にアノー
ドを介して広がる開孔を通して挿入させられることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の金属層をストリッ
プメタルの一側又は両側に連続的に電着する方法。 10、少なくとも2個の重ねられたアノードがストリッ
プメタルに隣接して設けられ、上側のアノードに入る電
解液が上記アノードに基づいて制御され、そして次の低
い方のアノードに自由に流し込まれる特許請求の範囲第
1項記載の金属層をストリップメタルの一側又は両側に
連続的に電着する方法。 11、下側の反射口ごう及び電極の少なくとも一部が、
頂部を開口されたセル内に設けられ、それからポンプが
電解液を吸い上げてセルケースの外側にある通路を介し
てアノードへ導くことを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の金属層をストリップメタルの一側又は両側に連
続的に電着する方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
AT0301482A AT373922B (de) | 1982-08-05 | 1982-08-05 | Verfahren und vorrichtung zur ein- oder beidseitigen kontinuierlichen beschichtung eines metallbandes |
AT3014/82 | 1982-08-05 | ||
AT2438/83 | 1983-07-04 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5989792A true JPS5989792A (ja) | 1984-05-24 |
JPS6215638B2 JPS6215638B2 (ja) | 1987-04-08 |
Family
ID=3543971
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14043583A Granted JPS5989792A (ja) | 1982-08-05 | 1983-07-30 | 金属層をストリツプメタルの一側又は両側に連続的に電着する方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5989792A (ja) |
AT (1) | AT373922B (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62240793A (ja) * | 1986-04-11 | 1987-10-21 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 電気メツキ方法及び装置 |
JPS63255393A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-21 | Nkk Corp | 電気メツキ方法 |
JP2002220690A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-09 | Dowa Mining Co Ltd | 電気メッキ方法および装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT405194B (de) * | 1996-04-15 | 1999-06-25 | Andritz Patentverwaltung | Vorrichtung zum galvanischen abscheiden eines ein- oder beidseitigen metall- oder legierungsüberzuges auf einem metallband |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS56127789A (en) * | 1980-03-07 | 1981-10-06 | Nippon Steel Corp | Electrolyzing device for strip |
JPS56155891A (en) * | 1980-05-02 | 1981-12-02 | Nec Corp | Time display device |
-
1982
- 1982-08-05 AT AT0301482A patent/AT373922B/de not_active IP Right Cessation
-
1983
- 1983-07-30 JP JP14043583A patent/JPS5989792A/ja active Granted
Patent Citations (2)
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JPS56127789A (en) * | 1980-03-07 | 1981-10-06 | Nippon Steel Corp | Electrolyzing device for strip |
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JPH049876B2 (ja) * | 1986-04-11 | 1992-02-21 | ||
JPS63255393A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-21 | Nkk Corp | 電気メツキ方法 |
JP2002220690A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-09 | Dowa Mining Co Ltd | 電気メッキ方法および装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATA301482A (de) | 1983-07-15 |
AT373922B (de) | 1984-03-12 |
JPS6215638B2 (ja) | 1987-04-08 |
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