JPS5989345A - 電気絶縁組成物 - Google Patents

電気絶縁組成物

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Publication number
JPS5989345A
JPS5989345A JP19953982A JP19953982A JPS5989345A JP S5989345 A JPS5989345 A JP S5989345A JP 19953982 A JP19953982 A JP 19953982A JP 19953982 A JP19953982 A JP 19953982A JP S5989345 A JPS5989345 A JP S5989345A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymer
aromatic vinyl
crosslinking
ethylene
vinyl monomer
Prior art date
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Pending
Application number
JP19953982A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideki Yagyu
柳生 秀樹
Yasuaki Yamamoto
康彰 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS5989345A publication Critical patent/JPS5989345A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電気絶縁組成物、特に耐放射線性ならびに高電
圧特性に優れた電気絶縁組成物に関するものである。
リ エチレン系ポマーは電気特性、耐熱性、機械強度、低温
特性などにおいてバランスのとれた材料であり、電気絶
縁物として多用されている。
しかしながら、エチレン系ポリマーを原子力発電所など
の放射線環境下において使用すると劣化により脆くなっ
たり、表面がべとついたりするという問題がある。
また、電気絶縁物は高電圧下での使用が多くなってきて
おり、高い絶縁破壊電圧が要求されてきている。
本発明は上記に基いてなされたもので、エチレン系ポリ
マーの有する本来の特性を損うことなく耐放射線性およ
び高電圧特性を改善した電気絶縁組成物の提供を目的と
するものである。
この目的を達成するため本発明者はエチレン系ポリマー
の改質を種々試みた結果、エチレン系ポリマー(ニー期
a− 1 1 (式中R1は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基
、R2−R6はそれぞれ水素原子、塩素原子またはFA
素数1〜4のアルキル基である。) で示される芳香族ビニルモノマーをグラフトしてなり、
該芳香族ビニルモノマーの含有割合が10〜70重M%
であるポリマーを主体とした混和物を架橋してなる組成
物が耐放射線性に優れ、しかも高電圧特性に優れている
ことを見出し、本発明に到った。
本発明におけるエチレン系ポリマーとしては、ポリエチ
レン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・エチ
ルアクリレート共重合体、エチレン・プロピレン共重合
体、エチレン・ブデン共重合体といったものがあげられ
る。
芳香族ビニルモノマーとしては、スチレン、メチルスチ
レン、イソプロピルスチレン、クロルスチレン、α−メ
チルスチレン、α−エチルスチレンといったものがあげ
られる。
芳香族ビニル千ツマ−のエチレン系ポリマーへのグラフ
トは一般のグラフ(・重合法、例えばジクミルパーオキ
サイド、t−ブチルパーオキサイドなどの有機過酸化物
やアゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物のよう
なラジカル重合開始剤を用いる水性懸濁重合法などによ
り行われる。
エチレン系ポリマーに芳香族ビニルモノマーをグラフト
したポリマーに1おける芳香族ビニルモノマーの含有割
合は10〜70重量%の範囲とする必要があり、10重
量%未満では耐放射線性や高電圧特性を十分に改善でき
ず、70重量%を越えると脆くなって伸び特性や加工性
が低下する。
グラフトしたポリマーは単独でも使用可能であるが、ケ
イ酸塩を主体とするタルク、クレーなどの充填剤、ある
いは炭酸塩、サーマルカーボンなどの充填剤を加えて使
用してもよい。また加工性を良くするために石油系のプ
ロセス油を加えてもJ:い。
更に、酸化防止剤を一種または二種以上組合せて加えて
もよく、酸化防止剤としては、アミン系のN−N−−ジ
フェニル−P−フェニレンジアミン、フェニル−α−ナ
フチルアミン、N−フェニル−N−−イソプロピル−P
−フェニレンジアミン、ポリ(2,2,4−1−ツメチ
ル−1,2ジヒドロキノリン)など、フェノール系の2
,2−−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブ
チルフェノール)、2.6−シーtert−ブチル−4
−メチルフェノール)4.4′−チオビス< 6− t
ert−フ゛チルー3−メチルフェノール)など、イミ
ダゾール系の2−メルカプトベンゾイミダゾール−メル
カプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩などがあげられる。
架橋方法としては、有機過酸化物による化学架橋、電離
性放射線による架橋、シラン化合物をポリマーにグラフ
トした後シラノール縮合触媒の存在下で水により架橋す
るシラン水架橋といったものがある。
化学架橋の場合に使用される架橋剤としてはジクミルパ
ーオキサイド、1・3−ビス(t−ブチル・パーオキシ
・インプロピル)ベンゼンに代表される有機過酸化物が
最も適切であり、これを単独あるいは助剤としてイオウ
、エチレンジメタアクリレート、シアlノルフタレート
、P−キノンジオキシムなどを併用して使用してもよい
以下、本発明の実施例について説明する。
第1表に示す通り、各種成分を所定量配合した混合物を
150#φミキシングロールを用い、温度80〜120
℃で均一に混練した後ゲージ圧力80Kg/ mA 、
温度180℃の条件で10分間プレス加硫し、厚さ0.
5#の絶縁シートを作成した。
また、実施例1〜4、比較例1,2については絶縁電線
を作成した。
ジクミルパーオキサイドを除いた各種成分を容量200
1のパンバリミキサを用いて混練し、550#φミキシ
ングロールを用いジクミルパーオキサイドを加え混練し
た。得られた混合物を断面積2−の導体上に厚さ0.5
層に押出被覆し、17気圧の水蒸気中を5分間で通過さ
せることにより連続加硫して絶縁電線を得た。
かくして得られた絶縁シートの耐放射線性、および絶縁
電線の耐放射線性と絶縁破壊電圧を試験したところ、第
1表の下欄に示すような結果が得られた。
ポリエチレンやエチレン酢酸ビニル共重合体は、γ線照
射により硬化が優先する劣化を起こし、クラックが生じ
るが、スチレンモノマーをグラフトすることにより防止
されている。エチレン・プロピレン共重合体やエチレン
・ブテン共重合体は、γ線照射により分子が切断する劣
化を示し、表面がベトついてくる。しかしスチレンモノ
マーをグラフトすることによりベトッキが生じなくなる
また、絶縁電線の絶縁破壊電圧もスチレ〕ノモノマーを
グラフトすることにより大幅に向上している。
以上説明してきた通り、本発明によればエチレン系ポリ
マーの耐放射線性および高電圧特性が大幅に改善された
電気絶縁組成物が得られることになり、その工業的価値
は極めて大きいといえる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 エチレン系ポリマーに一般式: (式中R1は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基
    、R2−R6はそれぞれ水素原子、塩素原子または炭素
    数1〜4のアルキル基である。) で示される芳香族ビニルモノマーをグラフトしてなり、
    該芳香族ビニルモノマーの含有割合が10〜70重量%
    であるポリマーを主体とした混和物を架橋してなること
    を特徴とする電気絶縁組成物。
JP19953982A 1982-11-12 1982-11-12 電気絶縁組成物 Pending JPS5989345A (ja)

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