JPS5955888A - アゼチジノン化合物 - Google Patents
アゼチジノン化合物Info
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- JPS5955888A JPS5955888A JP57167051A JP16705182A JPS5955888A JP S5955888 A JPS5955888 A JP S5955888A JP 57167051 A JP57167051 A JP 57167051A JP 16705182 A JP16705182 A JP 16705182A JP S5955888 A JPS5955888 A JP S5955888A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D513/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00
- C07D513/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D513/04—Ortho-condensed systems
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規なアゼチジノン化合物に関する。
本発明のアゼチジノン化合物は、文献未載の新規化合物
であり、下記一般式で表わされる。
であり、下記一般式で表わされる。
〔式中、R1は置換もしくは非置換のフェニル基を示す
。R2はカルボキシル保護基を示す。Xは、水素原子又
は塩素原子を示す。Yは、−I、−ONO2、−OH、
基、、又は−SR4 を示し、各基においてR3は低級アルキル基、又は−O
R5(R5は含ハロゲン低級アルキル基を示す)を、R
4は置換もしくは非置換のイオウ及び/又はチッ素原子
を含む5員環芳香族複素環残基を示す。〕上記一般式(
I)で表わされるアゼチジノン化合物は、セファロスポ
リン系抗生物質を合成するための中間体として有用であ
る。例えば、下記反応式に従い、本発明化合物から抗菌
剤として有用なセファロスポリン化合物(VII)を合
成できる。
。R2はカルボキシル保護基を示す。Xは、水素原子又
は塩素原子を示す。Yは、−I、−ONO2、−OH、
基、、又は−SR4 を示し、各基においてR3は低級アルキル基、又は−O
R5(R5は含ハロゲン低級アルキル基を示す)を、R
4は置換もしくは非置換のイオウ及び/又はチッ素原子
を含む5員環芳香族複素環残基を示す。〕上記一般式(
I)で表わされるアゼチジノン化合物は、セファロスポ
リン系抗生物質を合成するための中間体として有用であ
る。例えば、下記反応式に従い、本発明化合物から抗菌
剤として有用なセファロスポリン化合物(VII)を合
成できる。
〔式中、R1、R2及びYは前記に同じ。〕上記一般式
(I)において、R1で示される置換もしくは非置換の
フェニル基としては、フェニル基、トリル基、キシリル
基、P−クロロフェニル基、P−ブロモフェニル基、P
−ニトロフエニル基、保護されたヒドロキシ基を持つフ
ェニル基、例えば、P−メトキシフェニル等を挙げるこ
とができる。R2で示されるカルボキシル基の保護基と
しては、例えばメチル、ベシジル、ジフェニルメチル、
P−ニトロフェニル、トリクロロエチル等を例示できる
。またR3で示される低級アルキル基としては、例えば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等の
炭素数1〜4程度のものが例示できる。R4で示される
置換もしくは非置換のイ才つ及び/又はチツ素原子を含
む5員環芳香族複素環残基としては、例えば5−メチル
−1,3,4−チアジアゾール−2−イル、1−メチル
−1,2,3,4−テトラゾール−5−イル、1−フェ
ニル−1,2,3.4−テトラゾール−5−イル、1,
3.4−チアジアゾール−2−イル、1.3−チアゾー
ル−2−イル等を挙げることができる。また、R5で示
される含ハロゲン低級アルキル基としては、2−クロロ
エチル、2−ブロモエチル、2,2−ジクロロエチル、
2.2′−ジブロモエチル、2.2.2−トリクロロエ
チル、2,2.2−トリブロモエチル等を挙げることが
できる。
(I)において、R1で示される置換もしくは非置換の
フェニル基としては、フェニル基、トリル基、キシリル
基、P−クロロフェニル基、P−ブロモフェニル基、P
−ニトロフエニル基、保護されたヒドロキシ基を持つフ
ェニル基、例えば、P−メトキシフェニル等を挙げるこ
とができる。R2で示されるカルボキシル基の保護基と
しては、例えばメチル、ベシジル、ジフェニルメチル、
P−ニトロフェニル、トリクロロエチル等を例示できる
。またR3で示される低級アルキル基としては、例えば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等の
炭素数1〜4程度のものが例示できる。R4で示される
置換もしくは非置換のイ才つ及び/又はチツ素原子を含
む5員環芳香族複素環残基としては、例えば5−メチル
−1,3,4−チアジアゾール−2−イル、1−メチル
−1,2,3,4−テトラゾール−5−イル、1−フェ
ニル−1,2,3.4−テトラゾール−5−イル、1,
3.4−チアジアゾール−2−イル、1.3−チアゾー
ル−2−イル等を挙げることができる。また、R5で示
される含ハロゲン低級アルキル基としては、2−クロロ
エチル、2−ブロモエチル、2,2−ジクロロエチル、
2.2′−ジブロモエチル、2.2.2−トリクロロエ
チル、2,2.2−トリブロモエチル等を挙げることが
できる。
本発明の上記一般式(I)の化合物は、一般式〔式中、
R1及びR2は上記に同じ。〕で表わされる化合物を出
発物質として、以下に記載する如く各種の方法で製造し
得る。
R1及びR2は上記に同じ。〕で表わされる化合物を出
発物質として、以下に記載する如く各種の方法で製造し
得る。
尚、上記一般式(IV)の化合物は、例えばTetra
hedron Lett.22,3193(1981)
記載の方法等の既報の製法に従い製造できる。
hedron Lett.22,3193(1981)
記載の方法等の既報の製法に従い製造できる。
(1)一般式
〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Yは−I又
はを示し、R3は前記に同じである。〕で表わされる本
発明化合物は、前記一般式(IV)の出発原料と一般式 M−Y 〔式中、Yは−I又はを示す。R3は上記に同じ。Mは
ナトリウム又はカリウム原子を示す。〕で表わされる求
核剤とを、有機溶媒中で反応させることにより製造でき
る。該有機溶媒としては、一般式(IV)の原料化合物
及び上記求核剤を溶解するものであればよく、特にアセ
トン、ジメチルスルホキシド等が好ましい。一般式(I
V)の化合物と求核剤との使用割合は適宜選択できるが
、通常前者に対し後者を等モル〜5倍モル程度用いるの
がよい。反応は、通常−10〜70℃程度、好ましくは
10〜55℃にて行なわれ、一般に0.5〜4時間程で
終了する。
はを示し、R3は前記に同じである。〕で表わされる本
発明化合物は、前記一般式(IV)の出発原料と一般式 M−Y 〔式中、Yは−I又はを示す。R3は上記に同じ。Mは
ナトリウム又はカリウム原子を示す。〕で表わされる求
核剤とを、有機溶媒中で反応させることにより製造でき
る。該有機溶媒としては、一般式(IV)の原料化合物
及び上記求核剤を溶解するものであればよく、特にアセ
トン、ジメチルスルホキシド等が好ましい。一般式(I
V)の化合物と求核剤との使用割合は適宜選択できるが
、通常前者に対し後者を等モル〜5倍モル程度用いるの
がよい。反応は、通常−10〜70℃程度、好ましくは
10〜55℃にて行なわれ、一般に0.5〜4時間程で
終了する。
(2)一般式
〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Yは、、又
は−SR4を示し、R3及び R4は前記に同じ。〕で表わされる本発明化合物は、上
記(1)の方法で得られる一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされるチ
アゾリノアゼチジノン化合物と、一般式M−Y 〔式中、Mはナトリウム又はカリウム原子を示す。
は−SR4を示し、R3及び R4は前記に同じ。〕で表わされる本発明化合物は、上
記(1)の方法で得られる一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされるチ
アゾリノアゼチジノン化合物と、一般式M−Y 〔式中、Mはナトリウム又はカリウム原子を示す。
Yは、又は−SR4を示し、R3
及びR4は前記に同じ。〕で表わされる求核剤とを、有
機溶媒中で反応させて、沃素原子のみを選択的に求核置
換して得ることができる。上記有機溶媒としては、一般
式(VI)の化合物及び上記求核剤を溶解するものであ
ればよく、アセトシ、ジメチルスルホキシド、ジメチル
ホルムアミド等の非プロトン性溶媒が好ましい。特にア
セトンが好適である。一般式(VI)の化合物と上記求
核剤との使用割合は、広範囲から適宜選択できるが、一
般に前者に対し後者を等モル〜3倍モル、好ましくは等
モル〜1.5倍モル用いるのがよい。反応は通常−10
〜40℃程度、好ましくは室温付近にて行なわれ、一般
に0.1〜2時間程で完結する。
機溶媒中で反応させて、沃素原子のみを選択的に求核置
換して得ることができる。上記有機溶媒としては、一般
式(VI)の化合物及び上記求核剤を溶解するものであ
ればよく、アセトシ、ジメチルスルホキシド、ジメチル
ホルムアミド等の非プロトン性溶媒が好ましい。特にア
セトンが好適である。一般式(VI)の化合物と上記求
核剤との使用割合は、広範囲から適宜選択できるが、一
般に前者に対し後者を等モル〜3倍モル、好ましくは等
モル〜1.5倍モル用いるのがよい。反応は通常−10
〜40℃程度、好ましくは室温付近にて行なわれ、一般
に0.1〜2時間程で完結する。
(3)一般式
〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされる本
発明化合物は、前記(1)の方法で得られる一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされる化
合物と、NaNO3又はKNO3とを、ジメチルスルホ
キシド等の有機溶媒中で反応させることにより得られる
。一般式(VI)の化合物とNaNO3又はKNO3と
の使用割合も広範囲から適宜選択できるが、通常前者に
対し後者を等モル〜10倍モル程度、好ましくは等モル
〜5倍モル程度用いればよい。反応は、通常0〜100
℃程度、好ましくは40〜60℃程度で行なわれる。反
応の進行と共にNaI又はKIが副生するが、これを除
去すべく反応は、メタンスルホン酸メチル又はトルエン
スルホン酸メチルの存在下、30〜80mmHg程度の
減圧下で行なうのが好ましい。本反応は通常2〜6時間
程度で終了する。
発明化合物は、前記(1)の方法で得られる一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされる化
合物と、NaNO3又はKNO3とを、ジメチルスルホ
キシド等の有機溶媒中で反応させることにより得られる
。一般式(VI)の化合物とNaNO3又はKNO3と
の使用割合も広範囲から適宜選択できるが、通常前者に
対し後者を等モル〜10倍モル程度、好ましくは等モル
〜5倍モル程度用いればよい。反応は、通常0〜100
℃程度、好ましくは40〜60℃程度で行なわれる。反
応の進行と共にNaI又はKIが副生するが、これを除
去すべく反応は、メタンスルホン酸メチル又はトルエン
スルホン酸メチルの存在下、30〜80mmHg程度の
減圧下で行なうのが好ましい。本反応は通常2〜6時間
程度で終了する。
また、一般式(VI)の化合物を含水ジメチルスルホキ
シド中で、酸触媒を作用させると、沃素原子のみが選択
的に−OHで置換され、一般式〔式中、R1及びR2は
前記に同じ〕で表わされる本発明化合物を得ることがで
きる。含水ジメチルスルホキシド中の水の量は、通常一
般式(VI)の化合物に対し約1〜50倍モル程度とす
ればよい。
シド中で、酸触媒を作用させると、沃素原子のみが選択
的に−OHで置換され、一般式〔式中、R1及びR2は
前記に同じ〕で表わされる本発明化合物を得ることがで
きる。含水ジメチルスルホキシド中の水の量は、通常一
般式(VI)の化合物に対し約1〜50倍モル程度とす
ればよい。
また、酸触媒としては、P−トルエンスルホン酸、メタ
ジスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、ジ
クロロ酢酸等を挙げることができ、これらは通常一般式
(VI)の化合物に対し約0.1〜3倍モル使用すれば
よい。反応温度としては20〜80℃が採用でき1反応
は通常1〜5時間程度で終了する。
ジスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、ジ
クロロ酢酸等を挙げることができ、これらは通常一般式
(VI)の化合物に対し約0.1〜3倍モル使用すれば
よい。反応温度としては20〜80℃が採用でき1反応
は通常1〜5時間程度で終了する。
こうして得られる上記化合物(Y=−OH)と、炭素数
1〜5の低級カルボン酸無水物もしくは低級カルボン酸
ハライド又は一般式 〔式中R5は含ハロゲン低級アルキル基を示す。〕で表
わされる化合物とを、ピリジン、ポリビニルピリジン、
分子ふるい等の酸捕捉剤の存在下で反応させることによ
り、一般式 〔式中、R1、R2及びR3は前記に同じ。〕で表わさ
れる本発明化合物を収得できる。該反応は、反応に不活
性な有機溶媒、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、塩化メチレン、ベンゼン等を用いて行なわれる
。上記化合物(Y=−OH)と上記低級カルボン酸無水
物又は低級カルボン酸ハライド又は一般式(XI)の化
合物との使用割合は、広い範囲で適宜選択できるが、一
般に前者に対し後者を等モル〜10倍モル程度、好まし
くは等モル〜5倍モル程度とするのがよい。反応は、比
較的低温下に行なうのが好ましく、−50〜10℃程度
が好適である。反応は、一般に1〜10時間程度で完了
する。
1〜5の低級カルボン酸無水物もしくは低級カルボン酸
ハライド又は一般式 〔式中R5は含ハロゲン低級アルキル基を示す。〕で表
わされる化合物とを、ピリジン、ポリビニルピリジン、
分子ふるい等の酸捕捉剤の存在下で反応させることによ
り、一般式 〔式中、R1、R2及びR3は前記に同じ。〕で表わさ
れる本発明化合物を収得できる。該反応は、反応に不活
性な有機溶媒、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、塩化メチレン、ベンゼン等を用いて行なわれる
。上記化合物(Y=−OH)と上記低級カルボン酸無水
物又は低級カルボン酸ハライド又は一般式(XI)の化
合物との使用割合は、広い範囲で適宜選択できるが、一
般に前者に対し後者を等モル〜10倍モル程度、好まし
くは等モル〜5倍モル程度とするのがよい。反応は、比
較的低温下に行なうのが好ましく、−50〜10℃程度
が好適である。反応は、一般に1〜10時間程度で完了
する。
(4)一般式
〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Yは、−O
H、、、又は−SR4 を示し、R3及びR4は前記に同じ。〕で表わされる本
発明化合物は、上記(1)〜(3)の方法で得られる一
般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Yは−OH
、、、又は−SR4 を示し、R3及びR4は前記に同じ。〕で表わされる化
合物を、有様溶媒中、酢酸の存在下、亜鉛と反応させる
ことにより製造できる。上記有機溶媒としては、下記反
応条件下で酢酸及び亜鉛に不活性なものがいずれも使用
でき、例えば酢酸エチル、テトラヒドロフラン、塩化メ
チレン、アセトン、ベンゼン等が例示できる。酢酸の使
用量としては、広い範囲で適宜選択できるが、一般式(
Ia)の化合物に対し、通常2〜100倍モル程度、好
ましくは2〜30倍モル程度の酢酸を反応系内に存在さ
せるのがよい。また、亜鉛の使用量も広範囲から適宜選
択できるが、通常一般式(Ia)の化合物に対し2〜1
0倍モル程度、好ましくは2〜4倍モル程度とするのが
よい。反応は、通常0.5〜2時間程度で完結する。
H、、、又は−SR4 を示し、R3及びR4は前記に同じ。〕で表わされる本
発明化合物は、上記(1)〜(3)の方法で得られる一
般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Yは−OH
、、、又は−SR4 を示し、R3及びR4は前記に同じ。〕で表わされる化
合物を、有様溶媒中、酢酸の存在下、亜鉛と反応させる
ことにより製造できる。上記有機溶媒としては、下記反
応条件下で酢酸及び亜鉛に不活性なものがいずれも使用
でき、例えば酢酸エチル、テトラヒドロフラン、塩化メ
チレン、アセトン、ベンゼン等が例示できる。酢酸の使
用量としては、広い範囲で適宜選択できるが、一般式(
Ia)の化合物に対し、通常2〜100倍モル程度、好
ましくは2〜30倍モル程度の酢酸を反応系内に存在さ
せるのがよい。また、亜鉛の使用量も広範囲から適宜選
択できるが、通常一般式(Ia)の化合物に対し2〜1
0倍モル程度、好ましくは2〜4倍モル程度とするのが
よい。反応は、通常0.5〜2時間程度で完結する。
(6)一般式
〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされる本
発明化合物は、上記(3)の方法で得られる一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされる化
合物を、酢酸の存在下で亜鉛と反応させることによって
も製造できる。酢酸の使用量としては特に制限がないが
、通常酢酸を反応溶媒として用いるか、特に好ましくは
他の有機溶媒と酢酸との混合溶媒として用いる。一般式
(Ia)に対する亜鉛の使用量は、広い範囲で適宜選択
できるが、通常前者に対し後者を5〜20倍モル、好ま
しくは5〜10倍モル用いるのがよい。混合溶媒として
用いられる有機溶媒は反応に不活性なものであればよく
、例えば酢酸エチル、テトラヒドロフラン、塩化メチレ
ン、アセトン、ベンゼン等を例示できる。反応は、一般
に−20〜30℃程度で行われ、一般に0.5〜2時間
程度で終了する。
発明化合物は、上記(3)の方法で得られる一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされる化
合物を、酢酸の存在下で亜鉛と反応させることによって
も製造できる。酢酸の使用量としては特に制限がないが
、通常酢酸を反応溶媒として用いるか、特に好ましくは
他の有機溶媒と酢酸との混合溶媒として用いる。一般式
(Ia)に対する亜鉛の使用量は、広い範囲で適宜選択
できるが、通常前者に対し後者を5〜20倍モル、好ま
しくは5〜10倍モル用いるのがよい。混合溶媒として
用いられる有機溶媒は反応に不活性なものであればよく
、例えば酢酸エチル、テトラヒドロフラン、塩化メチレ
ン、アセトン、ベンゼン等を例示できる。反応は、一般
に−20〜30℃程度で行われ、一般に0.5〜2時間
程度で終了する。
(6)一般式
〔式中、R1、R2及びR3は前記に同じ。〕で表ゎさ
れる本発明化合物は、上記(5)の方法で得られる一般
式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされる化
合物と、低級カルボン酸無水物又は低級カルボン酸ハラ
イドとを、ヒリジン、ポリビニルピリジル、分子ふるい
等の酸捕捉剤の存在下で反応さぜることにより得られる
。上記化合物(Y=OH)と上記低級カルボン酸無水物
又は低級カルポジ酸ハライドとの使用割合は、広い範囲
で適宜選択できるが、一般に前者に対し後者を等モル〜
10倍モル程度、好ましくは等モル〜5倍モル程度とす
るのがよい。反応は、比較的低温下に行なうのが好まし
く、−50〜10℃程度が好適である。反応は、一般に
1〜10時間程度で完了する。
れる本発明化合物は、上記(5)の方法で得られる一般
式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされる化
合物と、低級カルボン酸無水物又は低級カルボン酸ハラ
イドとを、ヒリジン、ポリビニルピリジル、分子ふるい
等の酸捕捉剤の存在下で反応さぜることにより得られる
。上記化合物(Y=OH)と上記低級カルボン酸無水物
又は低級カルポジ酸ハライドとの使用割合は、広い範囲
で適宜選択できるが、一般に前者に対し後者を等モル〜
10倍モル程度、好ましくは等モル〜5倍モル程度とす
るのがよい。反応は、比較的低温下に行なうのが好まし
く、−50〜10℃程度が好適である。反応は、一般に
1〜10時間程度で完了する。
(7)一般式
〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされる本
発明化合物は、Tetrahedron Letter
s,22,3193(1981)の方法で得られる一般
式〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされる
化合物とNaI又はKIとを前記(1)と同様にして反
応さぜることにより製造できる。
発明化合物は、Tetrahedron Letter
s,22,3193(1981)の方法で得られる一般
式〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされる
化合物とNaI又はKIとを前記(1)と同様にして反
応さぜることにより製造できる。
(8)一般式
〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされる本
発明化合物は、上記(7)の方法で得られる一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされる化
合物と、NaNO3又はKNO3とを、前記(3)の方
法と同様に反応させて製造することができる。
発明化合物は、上記(7)の方法で得られる一般式 〔式中、R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされる化
合物と、NaNO3又はKNO3とを、前記(3)の方
法と同様に反応させて製造することができる。
以上の方法で製造される一般式
〔式中、R1及びR2は前記に同じ。Yは一〇NO2、
、、又は−SR4で表わ される基を示し、各基において、R3は低級アルキル基
又は−〇R5(R5は含ハロゲン低級アルキル基)を、
R4はイオウ及び/又はチッ素原子を含む5員環芳香族
複素環残基を示す。〕で表わされるチアゾリノアゼチジ
ノン化合物を含水ジオキサン中と反応させると、一般式 〔式中、R1、R2及びYは一般式(II)の場合と同
じ。〕で表わされる化合物を得ることができる。
、、又は−SR4で表わ される基を示し、各基において、R3は低級アルキル基
又は−〇R5(R5は含ハロゲン低級アルキル基)を、
R4はイオウ及び/又はチッ素原子を含む5員環芳香族
複素環残基を示す。〕で表わされるチアゾリノアゼチジ
ノン化合物を含水ジオキサン中と反応させると、一般式 〔式中、R1、R2及びYは一般式(II)の場合と同
じ。〕で表わされる化合物を得ることができる。
この反応において、含水ジオキサン中に占める水の量と
しては、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(
II)の化合物に対して1〜500倍モル、好ましくは
10〜100倍モル程度用いるのがよい。一般式(II
)の化合物ととの使用割合も広範囲にわたるが、通常前
者に対して後者を等モル〜10倍モル、好ましくは等モ
ル〜4倍モル用いるのがよい。該反応は、通常−10〜
60℃程度、好ましくは室温付近にて行われ、通常0.
1〜1時間程度で終了する。尚、該反応で用いられるは
、不活性溶媒、例え ば、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等中で又はを分子状塩素と 反応させることにより製造される。上記反応においては
、斯くして製造されるを反応 混合物から単離して一般式(II)の化合物との反応に
供してもよいし、反応混合物をそのまま該反応に供して
もよい。該一般式(II)の化合物との反応は、無機酸
又は有機酸の存在下反応を行なうと収率が向上すること
がある。無機酸としては、硫酸、塩酸等が、有機酸とし
てはトリフルオロ酢酸、P−トルエンスルホン酸等が好
ましい。該酸の使用量としては一般式(II)の化合物
に対して0.1〜10倍モル程度を使用すればよい。
しては、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(
II)の化合物に対して1〜500倍モル、好ましくは
10〜100倍モル程度用いるのがよい。一般式(II
)の化合物ととの使用割合も広範囲にわたるが、通常前
者に対して後者を等モル〜10倍モル、好ましくは等モ
ル〜4倍モル用いるのがよい。該反応は、通常−10〜
60℃程度、好ましくは室温付近にて行われ、通常0.
1〜1時間程度で終了する。尚、該反応で用いられるは
、不活性溶媒、例え ば、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等中で又はを分子状塩素と 反応させることにより製造される。上記反応においては
、斯くして製造されるを反応 混合物から単離して一般式(II)の化合物との反応に
供してもよいし、反応混合物をそのまま該反応に供して
もよい。該一般式(II)の化合物との反応は、無機酸
又は有機酸の存在下反応を行なうと収率が向上すること
がある。無機酸としては、硫酸、塩酸等が、有機酸とし
てはトリフルオロ酢酸、P−トルエンスルホン酸等が好
ましい。該酸の使用量としては一般式(II)の化合物
に対して0.1〜10倍モル程度を使用すればよい。
また、上記により製造される一般式
〔式中、R1及びR2は前記に同じであり、Yは−ON
O2、、、又は −SR4を示し、各基において、R3は低級アルキル基
又は−OR5(R5は含ハロゲン低級アルキル基)を、
R4は置換もしくは非置換のイオウ及び/又はチッ素原
子を含む5員環芳香族複素環残基を示す。〕で表わされ
るアゼチジノシ化合物を、ジメチルホルムアミド中、ア
ンモニアと反応させて一般式〔式中、R1、R2及びY
は一般式(III)の場合に同じ。〕で表わされるセフ
ァロスポリン化合物を製造することができる。一般式(
III)の化合物とアンモニアの使用割合は、前者に対
し後者を等モル〜10倍モル、好ましくは等モル〜3倍
モル程度とすればよい。該反応は通常−78〜20℃程
度、好ましくは一40〜5℃程度にて行なわれ、通常0
.1〜1時間程で完了する。
O2、、、又は −SR4を示し、各基において、R3は低級アルキル基
又は−OR5(R5は含ハロゲン低級アルキル基)を、
R4は置換もしくは非置換のイオウ及び/又はチッ素原
子を含む5員環芳香族複素環残基を示す。〕で表わされ
るアゼチジノシ化合物を、ジメチルホルムアミド中、ア
ンモニアと反応させて一般式〔式中、R1、R2及びY
は一般式(III)の場合に同じ。〕で表わされるセフ
ァロスポリン化合物を製造することができる。一般式(
III)の化合物とアンモニアの使用割合は、前者に対
し後者を等モル〜10倍モル、好ましくは等モル〜3倍
モル程度とすればよい。該反応は通常−78〜20℃程
度、好ましくは一40〜5℃程度にて行なわれ、通常0
.1〜1時間程で完了する。
以上詳述した各製法により得られる各化合物は、反応終
了後常法によシ抽出単離し、カラムクロマドグラフイー
又は再結晶法により精製することができる。
了後常法によシ抽出単離し、カラムクロマドグラフイー
又は再結晶法により精製することができる。
実施例1
2−(3−フェニルジクロロメチルー7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘペト−
2−エン−6−イル−3−クロロメチル−3−ブテン酸
メチル249.2mgにアセトン4mlを加え均一溶液
とする。これに248.5mgを加え、室温で1時間反
応させる。次にジエチルエーテル20mlを加え希釈し
、これを飽和食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥した
のち減圧上溶媒を留去する。得られた淡黄色油状残渣を
シリカゲルカラム上で、ベシゼン−酢酸エチル(10:
1)を用いてクロマトグラフィーを行ない、2−(3−
フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−チア−2,
6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−
6−イル)−3−エトキシチオカルボニルチオメチル−
3−ブテン酸メチルを得る。
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘペト−
2−エン−6−イル−3−クロロメチル−3−ブテン酸
メチル249.2mgにアセトン4mlを加え均一溶液
とする。これに248.5mgを加え、室温で1時間反
応させる。次にジエチルエーテル20mlを加え希釈し
、これを飽和食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥した
のち減圧上溶媒を留去する。得られた淡黄色油状残渣を
シリカゲルカラム上で、ベシゼン−酢酸エチル(10:
1)を用いてクロマトグラフィーを行ない、2−(3−
フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−チア−2,
6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−
6−イル)−3−エトキシチオカルボニルチオメチル−
3−ブテン酸メチルを得る。
(268,5mg、90%)
NMR(δ CDCl3) 1.39(t、3H、7H
z) 3.70(s、3H)
4.63(q、2H、7H
z) 5.04(s、1H)
5.11(s、1H)
5.39(s、1H)
6.02(s、2H)
7.20〜7.55(m、3H)
7.55〜7.85(m、2H)
実施例2 出発原料として2−(3−フェニルジクロロメチル−7
−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2
,0〕ヘプト−2−エン−6−イル)−3−クロロメチ
ル−3−ブテン酸ベンジル50.0mg用いて実施例1
と同様にして反応して、同様の処理を行ない2−(3−
フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−チア−2,
6−ジアザヒシクロ〔3,2,0)ヘプト−2−エン−
6−イル)−3−エトキシチオカルボニルチオメチル−
3−ブテン酸ベンジルを得る。(49.5mg、85%
)IR(neat) 1775、1735cm−1NM
R(δ CDCl3) 1.35(t、3H、7Hz)
3.70(s、2H)
4.59(q、2H、7Hz)
5.00(s、1H)
5.09(s、1H)
5.15(s、2H)
5.32(s、1H)
6.00(s、2H)
7.25〜7.60(m、8H)
7.60〜7.85(m、2H)実施例3 2−(3−フェニルジクロロメチル−7一オキソ−4−
チアー2.6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘペト−
2−エン−6−イル)−3−クロロメチル−3−ブテン
酸メチル30.7mgにアセトン1mlを加え均一溶液
とする。これにNaI22.0mgを加え、55℃に加
熱しながら3時間反応させる。次に室温まで冷却したの
ち、酢酸エチルを加えて希釈し、これをNa2S2O3
水溶液で洗浄、次いで飽和食塩水で洗浄し、Na2SO
4で乾燥したのち減圧上溶媒を留去する。得られた淡黄
色油状残渣をシリカゲルカラム上でベシゼン−酢酸エチ
ル(10:1)を用いてクロマトグラフィーを行ない、
2−(3−フェニルジクロロメチルー7ーオキソー4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプトー
2−エン−6−イル)−3−ヨードメチル−3−ブテン
酸メチルを得る。(30,0mg、81%)IR(CH
Cl3) 1780、1745cm−1NMR(δ C
DCl3) 3.55及び3.69(ABq、2H、
10Hz)、3.75(s、
3H) 5.05(s、1H
) 5.24(s、1H)
5.46(s、1H)
6.04及び6.09(ABq、
2H、 4Hz)、7.20
〜7.60(m、 3H)、
7.60〜7.90(m、
2H) 実施例4 2−(3−フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−クロロメチル−3−ブテン
酸ベシジル450.0mgにアセトン5mlを加え均一
溶液とする。これにNaI264.6mgを加え、55
℃に加熱しながら1.5時間反応させる。
z) 3.70(s、3H)
4.63(q、2H、7H
z) 5.04(s、1H)
5.11(s、1H)
5.39(s、1H)
6.02(s、2H)
7.20〜7.55(m、3H)
7.55〜7.85(m、2H)
実施例2 出発原料として2−(3−フェニルジクロロメチル−7
−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2
,0〕ヘプト−2−エン−6−イル)−3−クロロメチ
ル−3−ブテン酸ベンジル50.0mg用いて実施例1
と同様にして反応して、同様の処理を行ない2−(3−
フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−チア−2,
6−ジアザヒシクロ〔3,2,0)ヘプト−2−エン−
6−イル)−3−エトキシチオカルボニルチオメチル−
3−ブテン酸ベンジルを得る。(49.5mg、85%
)IR(neat) 1775、1735cm−1NM
R(δ CDCl3) 1.35(t、3H、7Hz)
3.70(s、2H)
4.59(q、2H、7Hz)
5.00(s、1H)
5.09(s、1H)
5.15(s、2H)
5.32(s、1H)
6.00(s、2H)
7.25〜7.60(m、8H)
7.60〜7.85(m、2H)実施例3 2−(3−フェニルジクロロメチル−7一オキソ−4−
チアー2.6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘペト−
2−エン−6−イル)−3−クロロメチル−3−ブテン
酸メチル30.7mgにアセトン1mlを加え均一溶液
とする。これにNaI22.0mgを加え、55℃に加
熱しながら3時間反応させる。次に室温まで冷却したの
ち、酢酸エチルを加えて希釈し、これをNa2S2O3
水溶液で洗浄、次いで飽和食塩水で洗浄し、Na2SO
4で乾燥したのち減圧上溶媒を留去する。得られた淡黄
色油状残渣をシリカゲルカラム上でベシゼン−酢酸エチ
ル(10:1)を用いてクロマトグラフィーを行ない、
2−(3−フェニルジクロロメチルー7ーオキソー4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプトー
2−エン−6−イル)−3−ヨードメチル−3−ブテン
酸メチルを得る。(30,0mg、81%)IR(CH
Cl3) 1780、1745cm−1NMR(δ C
DCl3) 3.55及び3.69(ABq、2H、
10Hz)、3.75(s、
3H) 5.05(s、1H
) 5.24(s、1H)
5.46(s、1H)
6.04及び6.09(ABq、
2H、 4Hz)、7.20
〜7.60(m、 3H)、
7.60〜7.90(m、
2H) 実施例4 2−(3−フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−クロロメチル−3−ブテン
酸ベシジル450.0mgにアセトン5mlを加え均一
溶液とする。これにNaI264.6mgを加え、55
℃に加熱しながら1.5時間反応させる。
次に室温まで冷却したのち、酢酸エチルを加えて希釈し
、これをNa2S2O3水溶液で洗浄、次いで飽和食塩
水で洗浄し、Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を
留去する。得られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム
上でベシゼン−酢酸エチル(80:1)を用いてクロマ
トグラフィーを行ない、2−(3−フェニルジクロロメ
チル−7−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ
(3,2,0)ヘプト−2−エン−6−イル)−3−ヨ
ードメチル−3−ブテン酸ベンジルを得る。
、これをNa2S2O3水溶液で洗浄、次いで飽和食塩
水で洗浄し、Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を
留去する。得られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム
上でベシゼン−酢酸エチル(80:1)を用いてクロマ
トグラフィーを行ない、2−(3−フェニルジクロロメ
チル−7−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ
(3,2,0)ヘプト−2−エン−6−イル)−3−ヨ
ードメチル−3−ブテン酸ベンジルを得る。
(492,0mg、93%)
NMR(δ CDCl3) 3.53及び3.67(A
Bq、2H、 10Hz)、
4.94(s、1H) 5.
18(s、2H) 5.30
(s、1H) 5.39(s
、1H) 6.03(s、2
H) 7.33(s、5H)
7.15〜7.60(m、
3H) 7.60〜7.90
(m、2H)実施例5 2−(3−フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−ヨードメチル−3−ブテン
酸ベンジル25.3mgにジメチルスルホキシド0.4
mlを加え均一溶液とする。これにNaNO314.3
mg、メタンスルホシ酸メチル7.0mgを加え溶解さ
せる。水流ポンプを用いて反応系を55mmHgの減圧
状態に保ちながら65℃に加熱して2時間40分反応さ
せる。次いで室温まで放冷したのちNa2S2O3水溶
液を加えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エチルで抽
出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾
燥したのち減圧下溶媒を留去する。得られた黄色油状残
渣をシリカゲルカラム上でベシゼン−酢酸エチル(80
:1)、続いてベシゼン−酢酸エチル(10:1)を用
いてクロマトグラフイーを行ない、2−(3−フェニル
ジクロロメチル−7−オキソ−4−チア−2,6−ジア
ザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−イル
)−3−ニトロキシメチル−3−ブテン酸ベンジルを得
る。
Bq、2H、 10Hz)、
4.94(s、1H) 5.
18(s、2H) 5.30
(s、1H) 5.39(s
、1H) 6.03(s、2
H) 7.33(s、5H)
7.15〜7.60(m、
3H) 7.60〜7.90
(m、2H)実施例5 2−(3−フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−ヨードメチル−3−ブテン
酸ベンジル25.3mgにジメチルスルホキシド0.4
mlを加え均一溶液とする。これにNaNO314.3
mg、メタンスルホシ酸メチル7.0mgを加え溶解さ
せる。水流ポンプを用いて反応系を55mmHgの減圧
状態に保ちながら65℃に加熱して2時間40分反応さ
せる。次いで室温まで放冷したのちNa2S2O3水溶
液を加えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エチルで抽
出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾
燥したのち減圧下溶媒を留去する。得られた黄色油状残
渣をシリカゲルカラム上でベシゼン−酢酸エチル(80
:1)、続いてベシゼン−酢酸エチル(10:1)を用
いてクロマトグラフイーを行ない、2−(3−フェニル
ジクロロメチル−7−オキソ−4−チア−2,6−ジア
ザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−イル
)−3−ニトロキシメチル−3−ブテン酸ベンジルを得
る。
(18.1mg、80%)
IR(neat)1775、1740,1635、12
75cm−1NMR(δ CDCl) 4.74(s、
2H) 5.04(s、1H)
5.18(s、2H)
5.23(s、1H)
5.44(s、1H)
6.02及び6.06(ABq、2H、
4Hz)、7.32(s、5H)
7.15〜7.55(m、3H)
7.55〜7.85(m、2
H)実施例6−A 2−(3−フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−ニトロキシメチル−3−ブ
テン酸ベシジル68.9mgに塩化メチレン0.6ml
を加え均一溶液とする。これに亜鉛粉末42.0mgを
加え0〜5℃に冷却する。これに酢酸0.6mlを加え
45分間かきまぜながら反応させる。次いで5mlの酢
酸エチルを加えて希釈し、飽和NaHCO3水溶液で洗
浄、続いて飽和食塩水で洗浄して、Na2SO4で乾燥
したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡黄色油状残
液をシリカゲル力ラム上でベンゼン−酢酸エチル(4:
1)を用いてクロマトグラフィーを行ない、2−(3−
ベシジル−7−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシ
クロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−イル−3−
ヒドロキシメチル−3−ブテン酸ベンジルを得る。(4
6,4mg、85%) IR(neat)3380、l770、1740.1I
50cm−1NMR(δ CDCl) 2.12(bs
、1H) 3.85(s、2H
) 3.97(s、2H)
5.00(s、1H)
5.08(s、1H)
5.20(s、2H)
5.29(s、1H) 5.
91(s、2H) 7.32(
s、5H) 7.37(s、5
H)実施例6−B 2−(3−フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−ヨードメチル−3−ブテン
酸ベンジル35.3mgにジメチルスルホキシド0.3
mlを加え均一溶液とする。これにp−トルエンスルホ
ン酸14.0mgを加え溶解させる。これを50℃に加
熱して2時間反応させる。
75cm−1NMR(δ CDCl) 4.74(s、
2H) 5.04(s、1H)
5.18(s、2H)
5.23(s、1H)
5.44(s、1H)
6.02及び6.06(ABq、2H、
4Hz)、7.32(s、5H)
7.15〜7.55(m、3H)
7.55〜7.85(m、2
H)実施例6−A 2−(3−フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−ニトロキシメチル−3−ブ
テン酸ベシジル68.9mgに塩化メチレン0.6ml
を加え均一溶液とする。これに亜鉛粉末42.0mgを
加え0〜5℃に冷却する。これに酢酸0.6mlを加え
45分間かきまぜながら反応させる。次いで5mlの酢
酸エチルを加えて希釈し、飽和NaHCO3水溶液で洗
浄、続いて飽和食塩水で洗浄して、Na2SO4で乾燥
したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡黄色油状残
液をシリカゲル力ラム上でベンゼン−酢酸エチル(4:
1)を用いてクロマトグラフィーを行ない、2−(3−
ベシジル−7−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシ
クロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−イル−3−
ヒドロキシメチル−3−ブテン酸ベンジルを得る。(4
6,4mg、85%) IR(neat)3380、l770、1740.1I
50cm−1NMR(δ CDCl) 2.12(bs
、1H) 3.85(s、2H
) 3.97(s、2H)
5.00(s、1H)
5.08(s、1H)
5.20(s、2H)
5.29(s、1H) 5.
91(s、2H) 7.32(
s、5H) 7.37(s、5
H)実施例6−B 2−(3−フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−ヨードメチル−3−ブテン
酸ベンジル35.3mgにジメチルスルホキシド0.3
mlを加え均一溶液とする。これにp−トルエンスルホ
ン酸14.0mgを加え溶解させる。これを50℃に加
熱して2時間反応させる。
次いで室温まで放冷したのちNa2S2O3水溶液を加
えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エチルで抽出し、
有機層を飽和食塩水で洗浄し、Ha2SO4で乾燥した
のち減圧下溶媒を留去する。得られた黄色油状残渣をシ
リカゲルカラム上でベンゼン−酢酸エチル(10:1)
を用いてクロマトグラフィーを行ない、2−(3−フェ
ニルジクロロメチル−7−オキソ−4−チア−2,6−
ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−
イル−3−ヒドロキシメチル−3−ブテン酸ベシジルを
得る。(22,6mg、78%) IR(neat)3440、1780、1745、11
60cm−1NMR(δ CDCl3)1.75(bs
、1H) 4.00(s、2H
) 5.01(s、1H)
5.11(s、1H)
5.19(s、2H)
5.30(s、1H)
6.05(s、2H) 7.
36(s、5H) 7.20〜
7.60(m、3H) 7.6
0〜7.90(m、2H)実施例7 出発原料として2−(3−フェニルジクロロメチル−7
−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2
,0〕ヘプト−2−エン−6−イル)−3−ヒドロキシ
メチル−3−ブテン酸ベンジル22.3mgを用いて、
塩化メチレン0.5ml中、亜鉛粉末6.5mg及び酢
酸30μlと実施例6の方法と同様に反応させて、同様
に処理し2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア−
2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エ
ン−6−イル−3−ヒドロキシメチル−3−ブテン酸ベ
ンジルを得る。(16.8mg、87%)得られた化合
物の分析値は実施例6の値と一致する。
えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エチルで抽出し、
有機層を飽和食塩水で洗浄し、Ha2SO4で乾燥した
のち減圧下溶媒を留去する。得られた黄色油状残渣をシ
リカゲルカラム上でベンゼン−酢酸エチル(10:1)
を用いてクロマトグラフィーを行ない、2−(3−フェ
ニルジクロロメチル−7−オキソ−4−チア−2,6−
ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−
イル−3−ヒドロキシメチル−3−ブテン酸ベシジルを
得る。(22,6mg、78%) IR(neat)3440、1780、1745、11
60cm−1NMR(δ CDCl3)1.75(bs
、1H) 4.00(s、2H
) 5.01(s、1H)
5.11(s、1H)
5.19(s、2H)
5.30(s、1H)
6.05(s、2H) 7.
36(s、5H) 7.20〜
7.60(m、3H) 7.6
0〜7.90(m、2H)実施例7 出発原料として2−(3−フェニルジクロロメチル−7
−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2
,0〕ヘプト−2−エン−6−イル)−3−ヒドロキシ
メチル−3−ブテン酸ベンジル22.3mgを用いて、
塩化メチレン0.5ml中、亜鉛粉末6.5mg及び酢
酸30μlと実施例6の方法と同様に反応させて、同様
に処理し2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア−
2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エ
ン−6−イル−3−ヒドロキシメチル−3−ブテン酸ベ
ンジルを得る。(16.8mg、87%)得られた化合
物の分析値は実施例6の値と一致する。
実施例8
2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア−2,6−
ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−
イル)−3−クロロメチル−3−ブテン酸ベンジル94
.6mgにアセトン1.2mlを加え均−溶液とする。
ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−
イル)−3−クロロメチル−3−ブテン酸ベンジル94
.6mgにアセトン1.2mlを加え均−溶液とする。
これにNaI 64.3mgを加え、55℃に加熱しな
がら1.5時間かきまぜる。次に室温まで冷却したのち
5mlの酢酸エチルを加えて希釈し、これをNa2S2
O3水溶液で洗浄、次いで飽和食塩水で洗浄し、Na2
SO4で乾燥したのち減圧下濃縮して、2−(3−ベシ
ジル−7−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ
〔3,2,0〕ヘプト−2エン−6−イル−3−ヨード
メチル−3−ブテン酸ベシジルを無色油状物質として得
る。
がら1.5時間かきまぜる。次に室温まで冷却したのち
5mlの酢酸エチルを加えて希釈し、これをNa2S2
O3水溶液で洗浄、次いで飽和食塩水で洗浄し、Na2
SO4で乾燥したのち減圧下濃縮して、2−(3−ベシ
ジル−7−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ
〔3,2,0〕ヘプト−2エン−6−イル−3−ヨード
メチル−3−ブテン酸ベシジルを無色油状物質として得
る。
(113.0mg、99%)
NMR(δ CDCl3)3.63(s、2H))
3.83(s、2H)
4.95(s、1H)
5.17(s、2H)
5.23(s、2H) 5.
38(s、1H) 5.87(
bs、2H) 7.26(s、
5H) 7.33(s、5H)
実施例9 2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チアー2.6−
ジアザヒシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−
イル)−3−ヨードメチル−3−ブテン酸ベシジル10
3.5mgにジメチルスルホキシド0.9mlを加え均
一溶液とする。これに1NaNO380mg、メタンス
ルホン酸メチル40mgを加え溶解させる。
3.83(s、2H)
4.95(s、1H)
5.17(s、2H)
5.23(s、2H) 5.
38(s、1H) 5.87(
bs、2H) 7.26(s、
5H) 7.33(s、5H)
実施例9 2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チアー2.6−
ジアザヒシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−
イル)−3−ヨードメチル−3−ブテン酸ベシジル10
3.5mgにジメチルスルホキシド0.9mlを加え均
一溶液とする。これに1NaNO380mg、メタンス
ルホン酸メチル40mgを加え溶解させる。
水流ポンプを用いて反応系を45〜50mmHgの減圧
状態に保ちながら48℃に加熱して4時間反応させる。
状態に保ちながら48℃に加熱して4時間反応させる。
次いで室温まで放冷したのちNa2S2O3水溶液を加
えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エチルで抽出し、
有機層を飽和食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥した
のち減圧下濃縮する。得られた黄色油状残渣をシリカゲ
ルカラム上でベンゼン−酢酸エチル(15:1)を用い
てクロマトグラフイーを行ない、2−(3−ベンジル−
7−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,
2,0〕ヘプト−2−エン−6−イル)−3−二トロキ
シメチル−3−ブテン酸ベンジルを得る。
えてはげしくかきまぜる。これを酢酸エチルで抽出し、
有機層を飽和食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥した
のち減圧下濃縮する。得られた黄色油状残渣をシリカゲ
ルカラム上でベンゼン−酢酸エチル(15:1)を用い
てクロマトグラフイーを行ない、2−(3−ベンジル−
7−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,
2,0〕ヘプト−2−エン−6−イル)−3−二トロキ
シメチル−3−ブテン酸ベンジルを得る。
(68,5mg、76%)
IR(neat)1780、1740.1640、l2
75cm−1NMR(δ CDCl3)3.85(s、
2H) 4.74(s、2H)
5.01(s、1H)
5.18(s、2H)
5.22(s、1H)
5.43(s、1H)
5.89及び5.93(ABq、2H、
4Hz)、7.28(s、5H)
7.34(s、5H)実施例10 2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア−2,6−
ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−
イル)−3−ヒドロキシメチル−3−ブテン酸ベシジル
23.8mgに塩化メチレン0.3mlを加え均一溶液
とする。これを0〜5℃に冷却し、無水酢酸22μlを
加え、続いてピリジン12μlを加えて12時間反応さ
せる。次いで真空ポンプを用いて減圧下溶媒等を留去す
る。得られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベ
ンゼン酢酸エチル(10:1)を用いてクロマトグラフ
ィーを行ない、2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−アセトキシメチル−3−ブ
テン酸ベシジルを得る。
75cm−1NMR(δ CDCl3)3.85(s、
2H) 4.74(s、2H)
5.01(s、1H)
5.18(s、2H)
5.22(s、1H)
5.43(s、1H)
5.89及び5.93(ABq、2H、
4Hz)、7.28(s、5H)
7.34(s、5H)実施例10 2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア−2,6−
ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−
イル)−3−ヒドロキシメチル−3−ブテン酸ベシジル
23.8mgに塩化メチレン0.3mlを加え均一溶液
とする。これを0〜5℃に冷却し、無水酢酸22μlを
加え、続いてピリジン12μlを加えて12時間反応さ
せる。次いで真空ポンプを用いて減圧下溶媒等を留去す
る。得られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベ
ンゼン酢酸エチル(10:1)を用いてクロマトグラフ
ィーを行ない、2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−アセトキシメチル−3−ブ
テン酸ベシジルを得る。
(24.7mg、94%)
IR(neat)1775、1745、1740(sh
)、 1230cm−1 NMR(δ CDCl3)2.00(s、3H)
3.84(s,2H)
4.49(s、2H)
5.05(s、2H)
5.15(s、2H) 5.2
9(s、1H) 5.88(s
、2H) 7.24(s、5H
) 7.32(s、5H)実施
例11 2−(3−ベシジル−7−オキソ−4−チア−2,6−
ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−
イル)−3−ヒドロキシメチル−3−ブテン酸ベンジル
28.3mgに塩化メチレン0.3mlを加え均一溶液
とする。これを0〜5℃に冷却し、14.4μlを加え
、続いてピリジン 15.6μlを加えて2.5時間反応させる。次いで5
%塩酸を加えて、これを酢酸エチルで抽出する。
)、 1230cm−1 NMR(δ CDCl3)2.00(s、3H)
3.84(s,2H)
4.49(s、2H)
5.05(s、2H)
5.15(s、2H) 5.2
9(s、1H) 5.88(s
、2H) 7.24(s、5H
) 7.32(s、5H)実施
例11 2−(3−ベシジル−7−オキソ−4−チア−2,6−
ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−
イル)−3−ヒドロキシメチル−3−ブテン酸ベンジル
28.3mgに塩化メチレン0.3mlを加え均一溶液
とする。これを0〜5℃に冷却し、14.4μlを加え
、続いてピリジン 15.6μlを加えて2.5時間反応させる。次いで5
%塩酸を加えて、これを酢酸エチルで抽出する。
得られた酢酸エチル溶液を飽和食塩水で洗浄し、Na2
SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。
SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。
得られた無色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン
−酢酸エチル(20:1)を用いてクロマトグラフィー
を行ない、2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア
−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0)ヘプト−2−
エン−6−イル)−3−(2,2,2−トリクロロエト
シキカルボニルオキシメチル)−3−ブテン酸ベンジル
を得る。
−酢酸エチル(20:1)を用いてクロマトグラフィー
を行ない、2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア
−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0)ヘプト−2−
エン−6−イル)−3−(2,2,2−トリクロロエト
シキカルボニルオキシメチル)−3−ブテン酸ベンジル
を得る。
(30mg、75%)
IR(neat)1770、1745(sh)、173
0(sh)、 1235cm−1 NMR(δ CDCl3)3.85(s、2H)
4、10(s、2H)
4.23(s、2H)
5.04(s、1H)
5.16(s、3H) 5.3
7(s、1H) 5.84及び
5.91(ABq、2H、 4
Hz)、7.25(s、5H)
7.34(s、5H)実施例12 出発原料として2−(3−フェニルジクロロメチル−7
−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2
,0)ヘプト−2−エン−6−イル)−3−ヒドロキシ
メチル−3−ラテン酸ベシジル26.0mgを用いて、
実施例10と同様反応させて、同様に処理し2−(3−
フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−チア−2,
6−ジアザビシクロ(3,2,0)ヘプト−2−エン−
6−イル)−3−アセトキシメチル−3−ブテン酸ベン
ジルを得る。
0(sh)、 1235cm−1 NMR(δ CDCl3)3.85(s、2H)
4、10(s、2H)
4.23(s、2H)
5.04(s、1H)
5.16(s、3H) 5.3
7(s、1H) 5.84及び
5.91(ABq、2H、 4
Hz)、7.25(s、5H)
7.34(s、5H)実施例12 出発原料として2−(3−フェニルジクロロメチル−7
−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2
,0)ヘプト−2−エン−6−イル)−3−ヒドロキシ
メチル−3−ラテン酸ベシジル26.0mgを用いて、
実施例10と同様反応させて、同様に処理し2−(3−
フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−チア−2,
6−ジアザビシクロ(3,2,0)ヘプト−2−エン−
6−イル)−3−アセトキシメチル−3−ブテン酸ベン
ジルを得る。
(27.0mg、96%)
IR(neat)1770.1740.1730.12
20cm−1NMR(δ、CDCl3)2.02(s、
3H) 4.47(s、2H)
5.09(s、2H)
5.16(s、2H)
5.30(s、1H)
6.01(s、2H)
7.31(s、5H) 7.2
0〜7.60(m、3H) 7
.60〜7.90(m、2H)実施例13 出発原料として2−(3−フェニルジクロロメチル−7
−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2
,0〕ヘプト−2−エン−6−イル)−3−アセトキシ
メチル−3−ブテン酸ベンジル32.0mgを用いて実
施例7と同様に反応させて、同様に処理し、2−(3−
ベンジル−7−オキソ−4−)チア−2,6−ジアザビ
シクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−イル)−
3−アセトキシメチル−3−ブテン酸ベンジルを得る。
20cm−1NMR(δ、CDCl3)2.02(s、
3H) 4.47(s、2H)
5.09(s、2H)
5.16(s、2H)
5.30(s、1H)
6.01(s、2H)
7.31(s、5H) 7.2
0〜7.60(m、3H) 7
.60〜7.90(m、2H)実施例13 出発原料として2−(3−フェニルジクロロメチル−7
−オキソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2
,0〕ヘプト−2−エン−6−イル)−3−アセトキシ
メチル−3−ブテン酸ベンジル32.0mgを用いて実
施例7と同様に反応させて、同様に処理し、2−(3−
ベンジル−7−オキソ−4−)チア−2,6−ジアザビ
シクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−イル)−
3−アセトキシメチル−3−ブテン酸ベンジルを得る。
(25.6mg、92%)得られた化合物の分析値は実
施例10の値と一致する。
施例10の値と一致する。
実施例14
2−(3−フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−クロロメチル−3−ブテン
酸ベンジル200.0mgにアセトン2.2mlを加え
均一溶液とする。これにNaI117.6mgを加え、
55℃に加熱しながら1.5時間反応させる。次に室温
まで冷却したのち、酢酸エチルを加えて希釈し、これを
Na2S2O3水溶液で洗浄し、次いで飽和食塩水で洗
浄して、No2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去
する。得られた淡黄色油状残渣にジメチルスルホキシド
1.6mlを加え均一溶液とする。これにNaNo31
50mg、メタンスルホン酸メチル75.6mgを加え
て溶解させる。次いで水流ポンプを用いて反応系を45
〜52mmHgの減圧状態に保ちながら50℃に加熱し
て4時間反応させる。次いで室温まで放冷したのちNa
2S2O3水溶液を加えてはげしくかきまぜる。これを
酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、N
a2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。得ら
れた黄色油状残渣に塩化メチレン1.5mlを加え均一
溶液とする。これに亜鉛粉末128.2mgを加え0〜
5℃に冷却する。これに酢酸1.5mlを加え2時間か
きまぜながら反応させる。
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−クロロメチル−3−ブテン
酸ベンジル200.0mgにアセトン2.2mlを加え
均一溶液とする。これにNaI117.6mgを加え、
55℃に加熱しながら1.5時間反応させる。次に室温
まで冷却したのち、酢酸エチルを加えて希釈し、これを
Na2S2O3水溶液で洗浄し、次いで飽和食塩水で洗
浄して、No2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去
する。得られた淡黄色油状残渣にジメチルスルホキシド
1.6mlを加え均一溶液とする。これにNaNo31
50mg、メタンスルホン酸メチル75.6mgを加え
て溶解させる。次いで水流ポンプを用いて反応系を45
〜52mmHgの減圧状態に保ちながら50℃に加熱し
て4時間反応させる。次いで室温まで放冷したのちNa
2S2O3水溶液を加えてはげしくかきまぜる。これを
酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、N
a2SO4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。得ら
れた黄色油状残渣に塩化メチレン1.5mlを加え均一
溶液とする。これに亜鉛粉末128.2mgを加え0〜
5℃に冷却する。これに酢酸1.5mlを加え2時間か
きまぜながら反応させる。
次いで酢酸エチルを加えて希釈し、飽和NaHCO3水
溶液で洗浄、続いて飽和食塩水で洗浄して、Na2SO
4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。
溶液で洗浄、続いて飽和食塩水で洗浄して、Na2SO
4で乾燥したのち減圧下溶媒を留去する。
得られた黄色油状残渣に塩化メチレン1.5mlを加え
均一溶液とする。これを0〜5℃に冷却し、無水酢酸0
.12mlを加え、続いてピリジン66μlを加えて1
6時間反応させる。次いで実施例10と同様の処理を行
ない、2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア−2
,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン
−6−イル)−3−アセトキシメチル−3−ブテン酸ベ
ンジルを得る。
均一溶液とする。これを0〜5℃に冷却し、無水酢酸0
.12mlを加え、続いてピリジン66μlを加えて1
6時間反応させる。次いで実施例10と同様の処理を行
ない、2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア−2
,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エン
−6−イル)−3−アセトキシメチル−3−ブテン酸ベ
ンジルを得る。
(137mg、75%)得られた化合物の分析値は実施
例10の値と一致する。
例10の値と一致する。
実施例15
2−(3−フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−クロロメチル−3−ブテン
酸ベンジル43.8mgにアセトン0.5mlを加え、
均一溶液とする。これに10.5mgを加え、室温で3
5分間がぎまぜながら反応させる。次いで酢酸エチル3
mlを加えて希釈し、これをNa2S2O3水溶液で洗
浄し、次いで飽和食塩水で洗浄して、Na2SO4で乾
燥したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡黄色油状
残渣をシリカゲルカラム上でベンセン−酢酸エチル(2
0:1)を用いてクロマトグラフィーを行ない、2−(
3−フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−チア−
2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エ
ン−6−イル)−3−(1−メチル−1,2,3,4−
テトラゾール−5−イルチオメチル)−3−ブテン酸ベ
ンジルを得る。(36.2mg、89%) IR(neat)1775、1740cm−1NMR(
δ、CDCl3)3.45及び3.98(ABq、2H
、14Hs) 3.73(s、
3H) 4.94(s、1H)
5.10(s、1H)
5.19(s、1H)
5.33(s、1H)
6.02及び6.09(ABq、2H、4Hs)
7.33(s、5H)
7.10〜7.60(m、3H)
7.60〜7.90(m、2H
)実施例16 2−(3−フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−クロロメチル−3−ブテン
酸ベンジル37.1mgにアセトン0.5mlを加え均
一溶液とする。これにNaI21.8mgを加え、53
℃に加熱しながら2時間反応させる。次いでこれを室温
まで放冷し、続いて11.1mgを加えて室温で20分
間かきまぜながら反応させる。これを実施例14と同様
に処理して2−(3−フェニルジクロロメチル−7−オ
キソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0
〕ヘプト−2−エン−6−イル)−3−(1−メチル−
1,2,3,4−テトラゾール−5−イルチオメチル)
−3−ブテン酸ベンジルを得る。
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−クロロメチル−3−ブテン
酸ベンジル43.8mgにアセトン0.5mlを加え、
均一溶液とする。これに10.5mgを加え、室温で3
5分間がぎまぜながら反応させる。次いで酢酸エチル3
mlを加えて希釈し、これをNa2S2O3水溶液で洗
浄し、次いで飽和食塩水で洗浄して、Na2SO4で乾
燥したのち減圧下溶媒を留去する。得られた淡黄色油状
残渣をシリカゲルカラム上でベンセン−酢酸エチル(2
0:1)を用いてクロマトグラフィーを行ない、2−(
3−フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−チア−
2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−エ
ン−6−イル)−3−(1−メチル−1,2,3,4−
テトラゾール−5−イルチオメチル)−3−ブテン酸ベ
ンジルを得る。(36.2mg、89%) IR(neat)1775、1740cm−1NMR(
δ、CDCl3)3.45及び3.98(ABq、2H
、14Hs) 3.73(s、
3H) 4.94(s、1H)
5.10(s、1H)
5.19(s、1H)
5.33(s、1H)
6.02及び6.09(ABq、2H、4Hs)
7.33(s、5H)
7.10〜7.60(m、3H)
7.60〜7.90(m、2H
)実施例16 2−(3−フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−クロロメチル−3−ブテン
酸ベンジル37.1mgにアセトン0.5mlを加え均
一溶液とする。これにNaI21.8mgを加え、53
℃に加熱しながら2時間反応させる。次いでこれを室温
まで放冷し、続いて11.1mgを加えて室温で20分
間かきまぜながら反応させる。これを実施例14と同様
に処理して2−(3−フェニルジクロロメチル−7−オ
キソ−4−チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0
〕ヘプト−2−エン−6−イル)−3−(1−メチル−
1,2,3,4−テトラゾール−5−イルチオメチル)
−3−ブテン酸ベンジルを得る。
(36.5mg、85%)得られた化合物の分析値は実
施例15の値と一致する。
施例15の値と一致する。
実施例17
実施例16と同様の方法で次の化合物を製造する。結果
を下表に示す。
を下表に示す。
実施例18
2−(3−フェニルジクロロメチル−7−オキソ−4−
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−クロロメチル−1,2,3
,4−テトラゾール−5−イルチオメチル)−3−ブテ
ン酸ベンジル27.0mgに塩化メチレン0.3mlを
加え均一溶液とする。これに亜鉛粉末7.5mgを加え
、続いて酢酸30μlを加え、室温で10分間かきまぜ
ながら反応させる。次いで3mlの酢酸エチルを加えて
希釈し、飽和NaHCO3水溶液で洗浄、続いて飽和食
塩水で洗浄して、Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶
媒を留去する。
チア−2,6−ジアザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−
2−エン−6−イル)−3−クロロメチル−1,2,3
,4−テトラゾール−5−イルチオメチル)−3−ブテ
ン酸ベンジル27.0mgに塩化メチレン0.3mlを
加え均一溶液とする。これに亜鉛粉末7.5mgを加え
、続いて酢酸30μlを加え、室温で10分間かきまぜ
ながら反応させる。次いで3mlの酢酸エチルを加えて
希釈し、飽和NaHCO3水溶液で洗浄、続いて飽和食
塩水で洗浄して、Na2SO4で乾燥したのち減圧下溶
媒を留去する。
得られた無色油状残渣をシリカゲルカラム上でベシゼン
−酢酸エチル(10:1)を用いてクロマトグラフィー
を行ない、2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア
−2,6−ジアザビシクル〔3,2,0〕ヘプト−2−
エン−6−イル)−3−(l−メチル−1,2,3,4
−テトラゾール−5−イルチオメチル)−3−ブテン酸
ベンセンを得る。
−酢酸エチル(10:1)を用いてクロマトグラフィー
を行ない、2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア
−2,6−ジアザビシクル〔3,2,0〕ヘプト−2−
エン−6−イル)−3−(l−メチル−1,2,3,4
−テトラゾール−5−イルチオメチル)−3−ブテン酸
ベンセンを得る。
(20.7mg、87%)
IR(neat)1775、1740cm−1NMR(
δ、CDCl3)3.45及び3.93(ABq、2H
、 14.5Hs)
3.71(s、3H)
3.85(s、2H)
4.91(s、1H) 5.
09(s、2H) 5.17(
s、1H) 5.29(s、1
H) 5.85及び5.93(
ABq、2H、 4Hs) 7.25(s、5H)
7.34(s、5H)実施例19 実施例18と同様の方法で次の化合物を製造する。結果
を下表に示す。
δ、CDCl3)3.45及び3.93(ABq、2H
、 14.5Hs)
3.71(s、3H)
3.85(s、2H)
4.91(s、1H) 5.
09(s、2H) 5.17(
s、1H) 5.29(s、1
H) 5.85及び5.93(
ABq、2H、 4Hs) 7.25(s、5H)
7.34(s、5H)実施例19 実施例18と同様の方法で次の化合物を製造する。結果
を下表に示す。
参考例1
2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア−2,6−
ジアザビシクル〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−
イル)−3−(l−メチル−1,2,3,4−テトラゾ
ール−5−イルチオメチル)−3−ブテン酸ベンセン2
9.7mgにジオキサン0.6mlを加えて均一溶液と
し、続いて5%塩酸60μlを加えて室温下15分間反
応させる。
ジアザビシクル〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−
イル)−3−(l−メチル−1,2,3,4−テトラゾ
ール−5−イルチオメチル)−3−ブテン酸ベンセン2
9.7mgにジオキサン0.6mlを加えて均一溶液と
し、続いて5%塩酸60μlを加えて室温下15分間反
応させる。
上記操作とは別に2−ベンゾチアゾリルジスルフイド3
7.9mgにジオキサン2mlを加え、湯浴で加熱しな
がら均一溶液とし、これに塩素の0.59M四塩化炭素
溶液0.14mlを加えて15分間反応させる。これを
上記ジオキサン溶液に加え室温で5分間攪拌下反応させ
る。次いでこの反応混合物を酢酸エチルを用いて短いシ
リカゲルカラムに通し、溶出液を減圧濃縮する。得られ
た残渣をベンゼンに溶解し、再びベンゼンを減圧下留去
する。このようにして得られた無色固体及び無色油状物
の混合の残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン続いてベ
ンゼン−酢酸エチル(4:1)を用いてクロマトグラフ
ィーを行ない2−〔3−フェニルアセトアミド−4−(
2−ベンゾチアゾリルジチオオキソ−2−アゼチジノン
−1−イル〕−3−(1−メチル−1,2,3,4−テ
トラゾール−5−イルチオメチル)−3−ブテン酸ベン
ジルを得る。(35.7mg、89%)IR(neat
)3280、1780、1740、1670cm−1N
MR(δ、CDCl3)3.69(s、2H)
3.74(s、3H)
4.19(s、2H)
5.10(s、3H) 5
.19(s、1H) 5.23
(dd、1H、4.5Hs、8Hs)
5.36(s、1H)
5.48(s、1H) 5.
57(d、1H、4.5Hs)
6.79(d、1H、8Hs)
7.1〜7.6(m、12H)
7.6〜7.9(m、2H)参考例2 参考例1と同様の方法で次の化合物を製造する。
7.9mgにジオキサン2mlを加え、湯浴で加熱しな
がら均一溶液とし、これに塩素の0.59M四塩化炭素
溶液0.14mlを加えて15分間反応させる。これを
上記ジオキサン溶液に加え室温で5分間攪拌下反応させ
る。次いでこの反応混合物を酢酸エチルを用いて短いシ
リカゲルカラムに通し、溶出液を減圧濃縮する。得られ
た残渣をベンゼンに溶解し、再びベンゼンを減圧下留去
する。このようにして得られた無色固体及び無色油状物
の混合の残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン続いてベ
ンゼン−酢酸エチル(4:1)を用いてクロマトグラフ
ィーを行ない2−〔3−フェニルアセトアミド−4−(
2−ベンゾチアゾリルジチオオキソ−2−アゼチジノン
−1−イル〕−3−(1−メチル−1,2,3,4−テ
トラゾール−5−イルチオメチル)−3−ブテン酸ベン
ジルを得る。(35.7mg、89%)IR(neat
)3280、1780、1740、1670cm−1N
MR(δ、CDCl3)3.69(s、2H)
3.74(s、3H)
4.19(s、2H)
5.10(s、3H) 5
.19(s、1H) 5.23
(dd、1H、4.5Hs、8Hs)
5.36(s、1H)
5.48(s、1H) 5.
57(d、1H、4.5Hs)
6.79(d、1H、8Hs)
7.1〜7.6(m、12H)
7.6〜7.9(m、2H)参考例2 参考例1と同様の方法で次の化合物を製造する。
結果を下表に示す。
参考例3
2−(3−ベンジル−7−オキソ−4−チア−2,6−
ジアザビシクル〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−
イル)−3−エトキシチカルボニルチオメチル)−3−
ブテン酸メチル25.1mgにジオキサン0.25ml
を加え均一溶液とし、続いて50μlの水を加える。
ジアザビシクル〔3,2,0〕ヘプト−2−エン−6−
イル)−3−エトキシチカルボニルチオメチル)−3−
ブテン酸メチル25.1mgにジオキサン0.25ml
を加え均一溶液とし、続いて50μlの水を加える。
上記操作とは別に2−メルカプトベンゾチアゾール9.
4mgと沃素14.2mgをジオキサン1mlに溶解す
る。これを上記ジオキサン溶液に加えて、室温で90分
間反応させる。次いでジエチルエーテル5mlを加えて
希釈し、これをNa2S2O3水溶液、飽和食塩水で洗
浄し、Na2SO4で乾燥したのち減圧下濃縮する。得
られた黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン−
酢酸エチル(8:1)を用いてクロマトグラフィーを行
ない、2−〔3−フェニルアセトアミド−4−(2−ベ
ンゾチアゾリルチオ)−2−アゼチジノン−1−イル)
−3−エトキシチオカルボニルチオメチル−3−ブテン
酸メチルを得る。(23.5mg、67%)得られた化
合物の分析値は参考例2の値と一致する。
4mgと沃素14.2mgをジオキサン1mlに溶解す
る。これを上記ジオキサン溶液に加えて、室温で90分
間反応させる。次いでジエチルエーテル5mlを加えて
希釈し、これをNa2S2O3水溶液、飽和食塩水で洗
浄し、Na2SO4で乾燥したのち減圧下濃縮する。得
られた黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン−
酢酸エチル(8:1)を用いてクロマトグラフィーを行
ない、2−〔3−フェニルアセトアミド−4−(2−ベ
ンゾチアゾリルチオ)−2−アゼチジノン−1−イル)
−3−エトキシチオカルボニルチオメチル−3−ブテン
酸メチルを得る。(23.5mg、67%)得られた化
合物の分析値は参考例2の値と一致する。
参考例4
2−〔3−フェニルアセドアミド−4−(2−ベンゾリ
アゾリルジチオ)−2−アゼチジノン−1−イル〕−3
−(1−メチル−1,2,3,4−テトラゾール−5−
イルチオメチル)−3−ブテン酸ベンジル35.7mg
にジメチルホルムアミド0.7mlを加え均一溶液とす
る。これを−30〜35℃に冷却し、アンモニアガスを
ジメチルホルムアミドに溶かして調製した溶液(約3.
3M)23μlを加えて15分間かきまぜながら反応さ
せる。これを−30℃に保ったまま、真空ポンプを用い
て減圧下過剰のアンモニアを留去する。次いで徐々に温
度を室温までもどしながら溶媒を留去する。
アゾリルジチオ)−2−アゼチジノン−1−イル〕−3
−(1−メチル−1,2,3,4−テトラゾール−5−
イルチオメチル)−3−ブテン酸ベンジル35.7mg
にジメチルホルムアミド0.7mlを加え均一溶液とす
る。これを−30〜35℃に冷却し、アンモニアガスを
ジメチルホルムアミドに溶かして調製した溶液(約3.
3M)23μlを加えて15分間かきまぜながら反応さ
せる。これを−30℃に保ったまま、真空ポンプを用い
て減圧下過剰のアンモニアを留去する。次いで徐々に温
度を室温までもどしながら溶媒を留去する。
得られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンセ
ン、続いてベンセン−酢酸エチル(4:1)を用いてク
ロマトグラフィーを行ない、7−フェニルアセトアミド
−3−(l−メチル−1,2,3,4−テトラゾール−
5−イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンジルを得る。
ン、続いてベンセン−酢酸エチル(4:1)を用いてク
ロマトグラフィーを行ない、7−フェニルアセトアミド
−3−(l−メチル−1,2,3,4−テトラゾール−
5−イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンジルを得る。
(24.6mg、90%)
NMR(δ、CDCl3)3.61(s、2H)
3.66(s、2H)
3.84(s、3H)
4.25及び4.45(ABq,2H、13Hs
) 5.27(s、2H)
5.79(dd、1H、4Hs,
7.5Hs) 6.35(d、
1H,7.5Hs) 7.30
(s、5H) 7.47(s、
5H)参考例5 参考例4と同様の方法で次の化合物を製造する。
3.66(s、2H)
3.84(s、3H)
4.25及び4.45(ABq,2H、13Hs
) 5.27(s、2H)
5.79(dd、1H、4Hs,
7.5Hs) 6.35(d、
1H,7.5Hs) 7.30
(s、5H) 7.47(s、
5H)参考例5 参考例4と同様の方法で次の化合物を製造する。
結果を下表に示す。
Claims (1)
- (1)一般式 〔式中、R1は置換もしくは非置換のフェニル基を示し
、R2はカルボキシル保護基を示す。Xは、水素原子又
は塩素原子を示し、Yは、−I、−ONO2、−OH、
一般式、、 又は−SR4を示し、各基において、 R3は低級アルキル基又は−OR5(R5は、含ハロゲ
ン低級アルキル基を示す)を、R4は置換もしくは非置
換のイオウ及び/又はチッ素原子を含む5員環芳香族複
素環残基を示す。〕 で表わされるアゼチジノン化合物。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57167051A JPS5955888A (ja) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | アゼチジノン化合物 |
US06/869,811 US4656264A (en) | 1982-09-24 | 1983-09-24 | Bicyclic azetidinone intermediates |
PCT/JP1983/000315 WO1984001152A1 (en) | 1982-09-24 | 1983-09-24 | Azetidinone compounds |
EP83903008A EP0120094B1 (en) | 1982-09-24 | 1983-09-24 | Azetidinone compounds |
DE8383903008T DE3379655D1 (de) | 1982-09-24 | 1983-09-24 | Azetidinone compounds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57167051A JPS5955888A (ja) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | アゼチジノン化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5955888A true JPS5955888A (ja) | 1984-03-31 |
JPS6343399B2 JPS6343399B2 (ja) | 1988-08-30 |
Family
ID=15842481
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57167051A Granted JPS5955888A (ja) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | アゼチジノン化合物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4656264A (ja) |
EP (1) | EP0120094B1 (ja) |
JP (1) | JPS5955888A (ja) |
DE (1) | DE3379655D1 (ja) |
WO (1) | WO1984001152A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3195371B2 (ja) * | 1991-03-11 | 2001-08-06 | 大塚化学株式会社 | セフエム誘導体の製造法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5143791A (ja) * | 1974-08-15 | 1976-04-14 | Farmaceutici Italia | |
JPS5759896A (en) * | 1980-09-30 | 1982-04-10 | Otsuka Chem Co Ltd | Production of thiazolineazetidinone derivative |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1472868A (en) * | 1975-08-11 | 1977-05-11 | Farmaceutici Italia | Intermediates for cephalosporin synthesis |
GB1576219A (en) * | 1976-12-31 | 1980-10-01 | Connlab Holdings Ltd | Thiazoleneazetidinone derivatives |
CA1145339A (en) | 1979-04-30 | 1983-04-26 | Eli Lilly And Company | Allylic chlorination process and compounds prepared thereby |
JPS5759897A (en) * | 1980-09-30 | 1982-04-10 | Otsuka Chem Co Ltd | Thiazolineazatidinone |
US4482491A (en) * | 1981-05-01 | 1984-11-13 | Otsuka Kagaku Yakuhin Kabushiki Kaisha | Thiazolinoazetidinone derivatives and process for the preparation of the same |
JPS5944356A (ja) * | 1982-09-06 | 1984-03-12 | Otsuka Chem Co Ltd | アゼチジノン誘導体の製造法 |
-
1982
- 1982-09-24 JP JP57167051A patent/JPS5955888A/ja active Granted
-
1983
- 1983-09-24 WO PCT/JP1983/000315 patent/WO1984001152A1/ja active IP Right Grant
- 1983-09-24 DE DE8383903008T patent/DE3379655D1/de not_active Expired
- 1983-09-24 US US06/869,811 patent/US4656264A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-09-24 EP EP83903008A patent/EP0120094B1/en not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5143791A (ja) * | 1974-08-15 | 1976-04-14 | Farmaceutici Italia | |
JPS5759896A (en) * | 1980-09-30 | 1982-04-10 | Otsuka Chem Co Ltd | Production of thiazolineazetidinone derivative |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0120094A4 (en) | 1985-02-18 |
WO1984001152A1 (en) | 1984-03-29 |
EP0120094B1 (en) | 1989-04-19 |
JPS6343399B2 (ja) | 1988-08-30 |
EP0120094A1 (en) | 1984-10-03 |
US4656264A (en) | 1987-04-07 |
DE3379655D1 (de) | 1989-05-24 |
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