JPS5953530B2 - 写真感光材料の製造装置 - Google Patents
写真感光材料の製造装置Info
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- JPS5953530B2 JPS5953530B2 JP51102265A JP10226576A JPS5953530B2 JP S5953530 B2 JPS5953530 B2 JP S5953530B2 JP 51102265 A JP51102265 A JP 51102265A JP 10226576 A JP10226576 A JP 10226576A JP S5953530 B2 JPS5953530 B2 JP S5953530B2
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- JP
- Japan
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- drying
- coating
- air
- photographic
- microwave
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
- F26B3/32—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by development of heat within the materials or objects to be dried, e.g. by fermentation or other microbiological action
- F26B3/34—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by development of heat within the materials or objects to be dried, e.g. by fermentation or other microbiological action by using electrical effects
- F26B3/343—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by development of heat within the materials or objects to be dried, e.g. by fermentation or other microbiological action by using electrical effects in combination with convection
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は写真感光材料の製造装置に関するものである。
更に詳細には、写真用乳剤を写真用フィルム、バライタ
紙等の支持体（以下「ウェブ」と称する。）に塗布され
た写真用乳剤（以下「塗膜」と称する。）を冷却、凝固
する前に、マイクロ波を塗膜に照射することにより、塗
膜を濃縮化。して、その後の乾燥負荷を減少せしめ写真
感光材料を製造する装置に関するものである。従来、写
真感光材料は、ウェブに写真用乳剤を塗布し、塗膜を冷
却、凝固させた後、通常風を用いて乾燥し、調湿するこ
とにより製造されてい。
紙等の支持体（以下「ウェブ」と称する。）に塗布され
た写真用乳剤（以下「塗膜」と称する。）を冷却、凝固
する前に、マイクロ波を塗膜に照射することにより、塗
膜を濃縮化。して、その後の乾燥負荷を減少せしめ写真
感光材料を製造する装置に関するものである。従来、写
真感光材料は、ウェブに写真用乳剤を塗布し、塗膜を冷
却、凝固させた後、通常風を用いて乾燥し、調湿するこ
とにより製造されてい。
た。最近、生産能力を向上するため、塗布速度を増大せ
しめることが要請されつつある。しかるに上述の写真感
光材料製造工程は連続プロセスでおこなわれるので、塗
布速度を増大させるためにウェブの搬送速度を増大させ
ると、乾燥ゾーンの長さが一定であれば、乾燥時間が短
くなり、一般に乾燥能力が等しければ乾燥進行度は乾燥
時間に比例するので、十分な乾燥は行ない得なくなる。
したがつて、同一程度の乾燥をおこなわせるためには、
塗布速度の増加率に対応して乾燥ゾーンを長くする必要
があるが、乾燥ゾーンを長くすること・は設備上、スペ
ースや設備費の問題から工業的に実現することには困難
が伴う。塗布速度の増大は必然的にウェブ搬送速度の増
大を伴なうにもかかわらず、乾燥ゾーンを長く出来ない
ため乾燥時間の減少が避けられないことから、所定の程
度の乾燥を実現するためには、他の手段を付加して乾燥
負荷の軽減を図る以外には、高速塗布の要請には答える
ことが出来ない。この乾燥負荷を軽減する方法として、
ウェブに塗布する前に写真用乳剤を濃縮する方法が従来
おこなわれていた。
しめることが要請されつつある。しかるに上述の写真感
光材料製造工程は連続プロセスでおこなわれるので、塗
布速度を増大させるためにウェブの搬送速度を増大させ
ると、乾燥ゾーンの長さが一定であれば、乾燥時間が短
くなり、一般に乾燥能力が等しければ乾燥進行度は乾燥
時間に比例するので、十分な乾燥は行ない得なくなる。
したがつて、同一程度の乾燥をおこなわせるためには、
塗布速度の増加率に対応して乾燥ゾーンを長くする必要
があるが、乾燥ゾーンを長くすること・は設備上、スペ
ースや設備費の問題から工業的に実現することには困難
が伴う。塗布速度の増大は必然的にウェブ搬送速度の増
大を伴なうにもかかわらず、乾燥ゾーンを長く出来ない
ため乾燥時間の減少が避けられないことから、所定の程
度の乾燥を実現するためには、他の手段を付加して乾燥
負荷の軽減を図る以外には、高速塗布の要請には答える
ことが出来ない。この乾燥負荷を軽減する方法として、
ウェブに塗布する前に写真用乳剤を濃縮する方法が従来
おこなわれていた。
この濃縮方法としては、写真用乳剤の製造工程において
濃縮した乳剤を製造する方法、及び製造された写真用乳
剤に種々の薬品を添加、混合した後、塗布直前にエバポ
レーター等の濃縮器で濃縮する方法が知られていた。し
かし、前者にあつては、乳剤製造後に種々の薬品を添加
、混合する際に均一な混合をおこなわせることが困難で
あり、製品の品質を低下させるおそれがあり、後者にあ
つては、濃縮した乳剤を塗布装置まで送つたりする際に
圧損が大になつたり、発生した泡が除去しがたくまた洗
浄しにくい等のトラブルが多いなど、ハンドリングが困
難で゛あるなどの欠陥があつた。更に両者とも濃縮した
乳剤をウェブに塗布するため、濃縮された分だけウェブ
単位面積当りの塗布量が減少し、必然的に薄層に塗布す
る必要が生じたり、また塗布液の粘度が上がるため均一
な塗布が困難となるなどの大きな欠点を有していた。本
発明は、これら従来技術の欠陥を除去し、製品の品質低
下や塗布時におけるトラブルを生じさせることなく、乾
燥負荷を減少させ、高速塗布を実現する装置を提供する
ことを目的とする。
濃縮した乳剤を製造する方法、及び製造された写真用乳
剤に種々の薬品を添加、混合した後、塗布直前にエバポ
レーター等の濃縮器で濃縮する方法が知られていた。し
かし、前者にあつては、乳剤製造後に種々の薬品を添加
、混合する際に均一な混合をおこなわせることが困難で
あり、製品の品質を低下させるおそれがあり、後者にあ
つては、濃縮した乳剤を塗布装置まで送つたりする際に
圧損が大になつたり、発生した泡が除去しがたくまた洗
浄しにくい等のトラブルが多いなど、ハンドリングが困
難で゛あるなどの欠陥があつた。更に両者とも濃縮した
乳剤をウェブに塗布するため、濃縮された分だけウェブ
単位面積当りの塗布量が減少し、必然的に薄層に塗布す
る必要が生じたり、また塗布液の粘度が上がるため均一
な塗布が困難となるなどの大きな欠点を有していた。本
発明は、これら従来技術の欠陥を除去し、製品の品質低
下や塗布時におけるトラブルを生じさせることなく、乾
燥負荷を減少させ、高速塗布を実現する装置を提供する
ことを目的とする。
本発明の上記の目的は、連続走行しているウエブの進行
方向に沿つて順次に塗布装置、マイクロ波濃縮装置、冷
却・凝固装置、及び乾燥装置を配置したことを特徴とす
る写真感光材料の製造装置により達成される。写真感光
材料の乾燥においては、乾燥品質を良，好に保つために
、風により低温でかつ長時間かけてゆつくり乾燥させる
と良いことが一般に知られていたが、これは乾燥工程の
能率化と背反するものであるので、更に研究が進められ
た結果、乾燥後の写真感光材料の品質に最も大なる影響
を与えノるのは、全乾燥区間において、とくに恒率乾燥
区間の後半から減率乾燥区間にかけてであり、他の区間
は乾燥後の品質に対する影響が少ないという知見が得ら
れた。
方向に沿つて順次に塗布装置、マイクロ波濃縮装置、冷
却・凝固装置、及び乾燥装置を配置したことを特徴とす
る写真感光材料の製造装置により達成される。写真感光
材料の乾燥においては、乾燥品質を良，好に保つために
、風により低温でかつ長時間かけてゆつくり乾燥させる
と良いことが一般に知られていたが、これは乾燥工程の
能率化と背反するものであるので、更に研究が進められ
た結果、乾燥後の写真感光材料の品質に最も大なる影響
を与えノるのは、全乾燥区間において、とくに恒率乾燥
区間の後半から減率乾燥区間にかけてであり、他の区間
は乾燥後の品質に対する影響が少ないという知見が得ら
れた。
この知見によれば、恒率乾燥区間の後半から減率乾燥区
間にかけてのみ風により２低温でかつゆつくり乾燥させ
れば、他の区間は出来るだけ迅速な乾燥をおこなつても
、乾燥後の品質にはあまり支障がないということがわか
る。本発明はかかる知見を利用し、写真用乳剤をウエブ
に塗布した後、塗膜表面にマイクロ波を照射２し、恒率
乾燥区間の前期、中期に相当する部分の乾燥、濃縮を迅
速におこない、しかる後に塗膜を冷却、セツトし、乾燥
後の品質に大きな影響を及ばす恒率乾燥区間の後半から
減率乾燥区間にかけての乾燥は、風により低温でかつゆ
つくりおこな，わせようとするものである。マイクロ波
照射による乾燥は、従来通常におこなわれていた風によ
る乾燥に比して、はるかに効率よく短時間に乾燥させる
ことができるので、恒率乾燥区間後半以降の乾燥を従来
の如く風により低温かつゆつくりとおこなわせても、全
体として乾燥ゾーンを短かくすることができる。恒率乾
燥区間と減率乾燥区間との所要時間比は、塗布する写真
用乳剤の種類、組成等により異なるが、通常は１〜２程
度であるから、本発明により短縮しうる乾燥時間は極め
て大幅である。また乾燥中、塗膜表面に乾燥被膜が形成
されると、塗膜内部から水が抜けにくくなり、乾燥が進
行しにくくなるが、マイクロ波照射による場合は塗膜内
部から加熱をするため、塗膜表面に乾燥被膜を形成する
ことなく、塗膜の乾燥、濃縮をすることができるから、
マイクロ波による濃縮後、更に風による通常の乾燥をす
る場合にも支障がない。
間にかけてのみ風により２低温でかつゆつくり乾燥させ
れば、他の区間は出来るだけ迅速な乾燥をおこなつても
、乾燥後の品質にはあまり支障がないということがわか
る。本発明はかかる知見を利用し、写真用乳剤をウエブ
に塗布した後、塗膜表面にマイクロ波を照射２し、恒率
乾燥区間の前期、中期に相当する部分の乾燥、濃縮を迅
速におこない、しかる後に塗膜を冷却、セツトし、乾燥
後の品質に大きな影響を及ばす恒率乾燥区間の後半から
減率乾燥区間にかけての乾燥は、風により低温でかつゆ
つくりおこな，わせようとするものである。マイクロ波
照射による乾燥は、従来通常におこなわれていた風によ
る乾燥に比して、はるかに効率よく短時間に乾燥させる
ことができるので、恒率乾燥区間後半以降の乾燥を従来
の如く風により低温かつゆつくりとおこなわせても、全
体として乾燥ゾーンを短かくすることができる。恒率乾
燥区間と減率乾燥区間との所要時間比は、塗布する写真
用乳剤の種類、組成等により異なるが、通常は１〜２程
度であるから、本発明により短縮しうる乾燥時間は極め
て大幅である。また乾燥中、塗膜表面に乾燥被膜が形成
されると、塗膜内部から水が抜けにくくなり、乾燥が進
行しにくくなるが、マイクロ波照射による場合は塗膜内
部から加熱をするため、塗膜表面に乾燥被膜を形成する
ことなく、塗膜の乾燥、濃縮をすることができるから、
マイクロ波による濃縮後、更に風による通常の乾燥をす
る場合にも支障がない。
本発明において、マイクロ波の塗膜面への照射は塗布後
、塗膜の冷却凝固をなすことなくおこなわれる。
、塗膜の冷却凝固をなすことなくおこなわれる。
この際、マイクロ波照射のみでなく、気体の吹きつけを
併用することが望ましい。このように風を併用するのは
、塗膜内及び表面より蒸発した水分が塗膜表面近傍に高
湿の境界層をつくり、水分の蒸発を妨げることを防止し
、濃縮装置内に新鮮な空気を送り装置内の湿度を一定に
保ち時間的に装置内の乾燥条件を一定にすると共に、装
置内での結露を防止するためである。かかる目的のため
に用いる気体は、塗膜に対して不活性でかつ取扱いに危
険のないものであれば格別限定されず、空気の他、窒素
、二酸化炭素、ヘリウム等の不活性ガス等が利用しうる
が、紀済性を考慮すれば、空気を用いるのが一般的であ
る。
併用することが望ましい。このように風を併用するのは
、塗膜内及び表面より蒸発した水分が塗膜表面近傍に高
湿の境界層をつくり、水分の蒸発を妨げることを防止し
、濃縮装置内に新鮮な空気を送り装置内の湿度を一定に
保ち時間的に装置内の乾燥条件を一定にすると共に、装
置内での結露を防止するためである。かかる目的のため
に用いる気体は、塗膜に対して不活性でかつ取扱いに危
険のないものであれば格別限定されず、空気の他、窒素
、二酸化炭素、ヘリウム等の不活性ガス等が利用しうる
が、紀済性を考慮すれば、空気を用いるのが一般的であ
る。
併用する気体による風の温度、湿度は用いる写真用乳剤
の種類、組成等により異なり一概に決定しがたいが、通
常は温度が５〜３５℃、好ましくは１５〜２５℃、湿度
が５０％ＲＨ以下、好ましくは３０％ＲＨ以下が適当で
ある。
の種類、組成等により異なり一概に決定しがたいが、通
常は温度が５〜３５℃、好ましくは１５〜２５℃、湿度
が５０％ＲＨ以下、好ましくは３０％ＲＨ以下が適当で
ある。
また風量は要するに風の吹き当てにより塗膜面にムラが
生じない限度で大なる程好ましく、その具体的値はマイ
クロ波照射により塗膜がどの程度流動化されるか、すな
わちマイクロ波の出力により異なるので、一概に決定し
がたいが、通常は１０ｍ３／Ｍ２ｍｉｎ以下が適当であ
ろう。
生じない限度で大なる程好ましく、その具体的値はマイ
クロ波照射により塗膜がどの程度流動化されるか、すな
わちマイクロ波の出力により異なるので、一概に決定し
がたいが、通常は１０ｍ３／Ｍ２ｍｉｎ以下が適当であ
ろう。
本発明においてマイクロ波とは交流における数ＭＨｚ以
上の周波数の波をいうが、現在規格上及が発振器が現在
市販されていないため利用可能なのは、９１５ＭＨｚ、
２４５０ＭＨＺの２種類である。
上の周波数の波をいうが、現在規格上及が発振器が現在
市販されていないため利用可能なのは、９１５ＭＨｚ、
２４５０ＭＨＺの２種類である。
マイクロ波照射による濃縮の終点は、恒率乾燥区間の後
半に至つた時点である。この時点を一般的に含水率によ
り表わすことは乳剤の種類により異なるので困難である
が、強いて言えば平均転重量に基いた塗膜の含水率が約
２００％となる時点ということが出来る。すなわち、次
式で表わされる含水率で約２００％以上の水分をマイク
ロ波照射により濃縮することが望ましい。
半に至つた時点である。この時点を一般的に含水率によ
り表わすことは乳剤の種類により異なるので困難である
が、強いて言えば平均転重量に基いた塗膜の含水率が約
２００％となる時点ということが出来る。すなわち、次
式で表わされる含水率で約２００％以上の水分をマイク
ロ波照射により濃縮することが望ましい。
本発明においては、塗布後ただちにマイクロ波照射によ
る塗膜中の水分の濃縮がおこなわれ、しかるのちに塗膜
の冷却、凝固がおこなわれるのが適常である。冷却凝固
は従来より慣用されている方法によりなされる。すなわ
ち通常乾球温度−１０〜１０℃の低温空気によつておこ
なわれる。このように塗膜の冷却凝固がなされたのち、
従来より慣用されている気体の吹きつけによる乾燥，が
おこなわれる。この風による乾燥は通常乾球湿度１５〜
４５℃、相対湿度１０〜５０％ＲＨの空気を１０〜４０
ｍ３／Ｍ２ｍｉｎの風量で塗膜に吹きつけることにより
なされる。かくして乾燥された塗膜は更に乾球湿度２０
〜４０，℃、相対湿度５０〜７０％ＲＨの空気により調
湿がおこなわれる。
る塗膜中の水分の濃縮がおこなわれ、しかるのちに塗膜
の冷却、凝固がおこなわれるのが適常である。冷却凝固
は従来より慣用されている方法によりなされる。すなわ
ち通常乾球温度−１０〜１０℃の低温空気によつておこ
なわれる。このように塗膜の冷却凝固がなされたのち、
従来より慣用されている気体の吹きつけによる乾燥，が
おこなわれる。この風による乾燥は通常乾球湿度１５〜
４５℃、相対湿度１０〜５０％ＲＨの空気を１０〜４０
ｍ３／Ｍ２ｍｉｎの風量で塗膜に吹きつけることにより
なされる。かくして乾燥された塗膜は更に乾球湿度２０
〜４０，℃、相対湿度５０〜７０％ＲＨの空気により調
湿がおこなわれる。
また一般に写真感光材料の製造設備においては、空調設
備費が大きな割合を占めているが、この空調設備費は一
般に使用風量に比例しているた，め、使用風量を小とす
ることは写真感光材料のコスト低減のために極めて重要
である。
備費が大きな割合を占めているが、この空調設備費は一
般に使用風量に比例しているた，め、使用風量を小とす
ることは写真感光材料のコスト低減のために極めて重要
である。
ところで前述の如く、マイクロ波照射の際に必要な風量
は従来より慣用されている風のみによる乾燥に必要な風
量に比して小さく、しかも本発明によれば全体としての
乾燥時間も短縮されるから、従来に比し使用風量を著し
く減少させることが出来、設備費を大幅に低減させるこ
とが可能となる。更には、塗布すべき写真用乳剤中には
、メタノール、エタノール、その他の有機溶媒が２〜１
５ｗｔ％程度含まれていることがあり、これらの有機溶
媒は殆ど乾燥前半で蒸発することが知られている。
は従来より慣用されている風のみによる乾燥に必要な風
量に比して小さく、しかも本発明によれば全体としての
乾燥時間も短縮されるから、従来に比し使用風量を著し
く減少させることが出来、設備費を大幅に低減させるこ
とが可能となる。更には、塗布すべき写真用乳剤中には
、メタノール、エタノール、その他の有機溶媒が２〜１
５ｗｔ％程度含まれていることがあり、これらの有機溶
媒は殆ど乾燥前半で蒸発することが知られている。
したがつて本発明の装置によれば、これらの有機溶媒の
殆どはマイクロ波による濃縮の段階で蒸発することにな
る。しかるにマイクロ波濃縮の段階で併用する気体の量
は一般に少量であるから、濃縮装置よりの排気中に含ま
れる蒸発した有機溶媒の濃度は必然的に大となり、公害
発生源となる有機溶媒の回収も容易におこなうことが出
来る。本発明の装置によつて効果的に製造される写真感
光材料は支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有するもので
、あらゆる種類のハロゲン化銀乳剤が使用できる。
殆どはマイクロ波による濃縮の段階で蒸発することにな
る。しかるにマイクロ波濃縮の段階で併用する気体の量
は一般に少量であるから、濃縮装置よりの排気中に含ま
れる蒸発した有機溶媒の濃度は必然的に大となり、公害
発生源となる有機溶媒の回収も容易におこなうことが出
来る。本発明の装置によつて効果的に製造される写真感
光材料は支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有するもので
、あらゆる種類のハロゲン化銀乳剤が使用できる。
ハロゲン化銀としては、塩化銀、臭化銀、沃化銀、塩臭
化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀が挙げられる。乳剤の保護
コロイドとしては、ゼラチンが最も一般的であるが、フ
タル化ゼラチンの如きゼラチン誘導体、コロイダルアル
ブミン、ポリビニルアルコール等の水溶性高分子化合物
も単独又は併用して用いられる。
化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀が挙げられる。乳剤の保護
コロイドとしては、ゼラチンが最も一般的であるが、フ
タル化ゼラチンの如きゼラチン誘導体、コロイダルアル
ブミン、ポリビニルアルコール等の水溶性高分子化合物
も単独又は併用して用いられる。
写真乳剤の保護コロイドとハロゲン化銀の重量比は広い
範囲で変化させることができるが、特にハロゲン化銀の
保護コロイドに対する重量比が０．８以上の時、効果的
にカブリを防止することができる。
範囲で変化させることができるが、特にハロゲン化銀の
保護コロイドに対する重量比が０．８以上の時、効果的
にカブリを防止することができる。
本発明に用いることのできるハロゲン化銀写真乳剤は、
チオ硫酸ナトリウム、アリルチオカルバジド等の不安定
硫黄を含む化合物、チオシアン酸の金（１）錯酸の如き
金化合物、塩化第１錫の如き還元剤、ポリアルキレンオ
キサイド誘導体、またはこれらの組合せ等の業界におい
てよく知られた方法で、化学的に増感されていても良い
。
チオ硫酸ナトリウム、アリルチオカルバジド等の不安定
硫黄を含む化合物、チオシアン酸の金（１）錯酸の如き
金化合物、塩化第１錫の如き還元剤、ポリアルキレンオ
キサイド誘導体、またはこれらの組合せ等の業界におい
てよく知られた方法で、化学的に増感されていても良い
。
また、本発明に用いることのできるハロゲン化銀写真乳
剤は、１・丁一ジエチルシアニンアイオダイド、１・丁
一ジエチノレ一９−メチノレカノレボシアニンプロマイ
ド、アンヒトロー５・５′−ジフエニル９−エチル−３
・３″−ジ（２−スルホエチル）ーベンズオキサソロカ
ルボシアニンヒドロキサイド等のシアニン色素単独およ
びこれらの組合せにて色増感されていてもよい。また、
本発明に用いることのできるハロゲン化銀写真乳剤は、
２−ヨード−５−ペンタデシルハイドロキノン、２−メ
チル−５−（１−フエニル一５−テトラゾリルチオ）−
ハイドロキノンの如き現像抑制物質を放出し得る現像主
薬、４−ヒドロキシ−６−メチル−１・３・３ａ・７ー
テトラザインデン、ベンズイミダゾーノレ、１−フエニ
ノレ一５−メノレカプトテトラゾールの如き安定剤、ホ
ルムアルデヒド、ムコプロム酸の如き硬膜剤、およびサ
ポニン、アルキルベンゼンスルホン酸ソーダの如き塗布
助剤を含んでいても良い。ハロゲン化銀乳剤はポリエス
テル、ポリカーボネート、ポリスチレン、セルロースア
セテート、ポリプロピレン等の支持体に層状に塗布され
る。
剤は、１・丁一ジエチルシアニンアイオダイド、１・丁
一ジエチノレ一９−メチノレカノレボシアニンプロマイ
ド、アンヒトロー５・５′−ジフエニル９−エチル−３
・３″−ジ（２−スルホエチル）ーベンズオキサソロカ
ルボシアニンヒドロキサイド等のシアニン色素単独およ
びこれらの組合せにて色増感されていてもよい。また、
本発明に用いることのできるハロゲン化銀写真乳剤は、
２−ヨード−５−ペンタデシルハイドロキノン、２−メ
チル−５−（１−フエニル一５−テトラゾリルチオ）−
ハイドロキノンの如き現像抑制物質を放出し得る現像主
薬、４−ヒドロキシ−６−メチル−１・３・３ａ・７ー
テトラザインデン、ベンズイミダゾーノレ、１−フエニ
ノレ一５−メノレカプトテトラゾールの如き安定剤、ホ
ルムアルデヒド、ムコプロム酸の如き硬膜剤、およびサ
ポニン、アルキルベンゼンスルホン酸ソーダの如き塗布
助剤を含んでいても良い。ハロゲン化銀乳剤はポリエス
テル、ポリカーボネート、ポリスチレン、セルロースア
セテート、ポリプロピレン等の支持体に層状に塗布され
る。
乳剤層上には、上記の保護コロイド、特にゼラチンを含
む保護層を設けることができる。この場合、保護コロイ
ドの含有量は保護層用塗布液の３〜１０ｗｔ％である。
保護層は乳剤層と共に同時に塗布されてもよい。以下、
添付図面に基き、本発明の実施態様について詳細に説明
する。
む保護層を設けることができる。この場合、保護コロイ
ドの含有量は保護層用塗布液の３〜１０ｗｔ％である。
保護層は乳剤層と共に同時に塗布されてもよい。以下、
添付図面に基き、本発明の実施態様について詳細に説明
する。
第１図は本発明の実施態様を示す写真感光材料製造装置
のフローシートであり、第２図はマイク口波濃縮装置の
マイクロ波照射部の実施態様を示す斜視図、第３図はマ
イクロ波濃縮装置の一実施態様を示す略断面図である。
のフローシートであり、第２図はマイク口波濃縮装置の
マイクロ波照射部の実施態様を示す斜視図、第３図はマ
イクロ波濃縮装置の一実施態様を示す略断面図である。
連続走行しているウエブ１は塗布装置２により写真用乳
剤を塗布された後、マイクロ波濃縮装置３内に送られる
。
剤を塗布された後、マイクロ波濃縮装置３内に送られる
。
マイクロ波濃縮装置３はマイク口波発振器４、蛇行状に
設けられた導波管５から成り、塗膜（図示せず）を有す
るウエブ１は搬送ローラー６により支持されつつ、スリ
ツト７より導波管５を通過し、マイクロ波の照射を受け
、塗膜の濃縮がおこなわれる。ここに８は塗膜に吸収さ
れなかつたマイクロ波を吸収するためのダミーロードで
あり、９は併用気体の排気孔である。スリツト７はウエ
ブ１が導波管５に接触することなく通過しうるに足るだ
けの大きさを必要とするが、その一方マイクロ波のモレ
があつてはならず、この２つの相反する要求を満たすよ
うに定めることが必要である。ガンかる相反する要求を
満たすためには、スリツト７の上下にウエブ１の走行方
向に平行な面を有するひさし（図示せず）を設けること
が望ましい。ひさしのウエブ１走行方向の長さは通常ス
リツト７の幅の１〜２倍が適当である。スリツト７の間
隙の具体的な値はこのひさしの有無のみならず、使用す
るマイクロ波の周波数により異なる。一般にひさしを設
けた場合には、９１５ＭＨｚの場合には２５〜４０ｎＩ
−．好まｔくは３０！ＮＩｎＷｌ）後、２４５０ＭＨＺ
の場合には１０〜２０ｗＩＩｎ、好ましくは１５ｎ０ｎ
前後が適当であろう。マイクロ波濃縮装置３には矢印Ａ
の如く空気が供給され、脱湿機１０、ヒーター１１．．
クーラ一１２を経て温度、湿度が調整された後、ウエブ
１に吹きつけられ、導波管５内に入り排気孔９よりフア
ン１３により系外に排気される。
設けられた導波管５から成り、塗膜（図示せず）を有す
るウエブ１は搬送ローラー６により支持されつつ、スリ
ツト７より導波管５を通過し、マイクロ波の照射を受け
、塗膜の濃縮がおこなわれる。ここに８は塗膜に吸収さ
れなかつたマイクロ波を吸収するためのダミーロードで
あり、９は併用気体の排気孔である。スリツト７はウエ
ブ１が導波管５に接触することなく通過しうるに足るだ
けの大きさを必要とするが、その一方マイクロ波のモレ
があつてはならず、この２つの相反する要求を満たすよ
うに定めることが必要である。ガンかる相反する要求を
満たすためには、スリツト７の上下にウエブ１の走行方
向に平行な面を有するひさし（図示せず）を設けること
が望ましい。ひさしのウエブ１走行方向の長さは通常ス
リツト７の幅の１〜２倍が適当である。スリツト７の間
隙の具体的な値はこのひさしの有無のみならず、使用す
るマイクロ波の周波数により異なる。一般にひさしを設
けた場合には、９１５ＭＨｚの場合には２５〜４０ｎＩ
−．好まｔくは３０！ＮＩｎＷｌ）後、２４５０ＭＨＺ
の場合には１０〜２０ｗＩＩｎ、好ましくは１５ｎ０ｎ
前後が適当であろう。マイクロ波濃縮装置３には矢印Ａ
の如く空気が供給され、脱湿機１０、ヒーター１１．．
クーラ一１２を経て温度、湿度が調整された後、ウエブ
１に吹きつけられ、導波管５内に入り排気孔９よりフア
ン１３により系外に排気される。
排気された空気はリサイクルされ、溶剤回収器１４によ
り溶剤の回収がおこなわれ、新たに供給された空気と共
に再使用される。こうして塗膜の濃縮が終つたウエブ１
は冷却、凝固装置１５に送られ、低温空気が吹きあてら
れて、塗膜の冷却、凝固がおこなわれる。
り溶剤の回収がおこなわれ、新たに供給された空気と共
に再使用される。こうして塗膜の濃縮が終つたウエブ１
は冷却、凝固装置１５に送られ、低温空気が吹きあてら
れて、塗膜の冷却、凝固がおこなわれる。
用いた低温空気はリサイクルせしめられる。冷却、凝固
がおこなわれた塗膜を有するウエブ１は、乾燥装置１６
へ送られ、従来より慣用されている乾燥がおこなわれ、
しかる後に調湿ゾーン（図示せず）へ送られる。
がおこなわれた塗膜を有するウエブ１は、乾燥装置１６
へ送られ、従来より慣用されている乾燥がおこなわれ、
しかる後に調湿ゾーン（図示せず）へ送られる。
乾燥装置１６において用いられた乾燥用空気はリサイク
ルされ再使用される。本発明は以上の実施態様に限定さ
れることなく、種々の変形が可能であることは言うまで
もない。
ルされ再使用される。本発明は以上の実施態様に限定さ
れることなく、種々の変形が可能であることは言うまで
もない。
たとえば、通常ウエブ状物の乾燥に用いられているマイ
クロ波乾燥装置の多くは、本発明に係るマイクロ波濃縮
装置に利用することができる。本発明に依れば、次にあ
げるような新規な効果が得られる。ｉ 乾燥時間を大幅
に短縮することができる。
クロ波乾燥装置の多くは、本発明に係るマイクロ波濃縮
装置に利用することができる。本発明に依れば、次にあ
げるような新規な効果が得られる。ｉ 乾燥時間を大幅
に短縮することができる。
１１乾燥時間の大幅短縮が可能であるから、塗布速度が
一定の場合には乾燥ゾーンを短かくすることができるた
め、設備費を低減することができる。
一定の場合には乾燥ゾーンを短かくすることができるた
め、設備費を低減することができる。
１１１既設の乾燥装置において、乾燥ゾーンを長くする
ことなく、塗布速度の高速化による生産量の向上を実現
することができる。
ことなく、塗布速度の高速化による生産量の向上を実現
することができる。
Ｉｖ乾燥後の品質に影響が大なる乾燥区間の乾燥は風に
より慎重におこなうため、品質に大きな影響を与えるこ
となく、乾燥時間の大幅短縮が実現できる。
より慎重におこなうため、品質に大きな影響を与えるこ
となく、乾燥時間の大幅短縮が実現できる。
ｖ写真用乳剤中に含まれる有機溶媒の回収が容易であり
、公害防止のため費用を低減させることができる。
、公害防止のため費用を低減させることができる。
Ｖｉマイクロ波照射により塗膜内部をも加熱しうるため
、風による乾燥の場合のように表面に乾燥被膜を形成す
ることがないから、更に乾燥する場合には、乾燥がスム
ーズに進行する。
、風による乾燥の場合のように表面に乾燥被膜を形成す
ることがないから、更に乾燥する場合には、乾燥がスム
ーズに進行する。
Ｖｉｉ塗膜を冷却、セツトする前に塗膜が濃縮されてい
るため、冷却して凝固するのに要する時間を短縮するこ
とができる。
るため、冷却して凝固するのに要する時間を短縮するこ
とができる。
また写真乳剤の種類によつては、凝固工程を省くことも
可能である。したがつて、凝固のための設備費、運転費
を低減することができる。以下、本発明の効果を一層明
瞭ならしめるために実施例をあげる。
可能である。したがつて、凝固のための設備費、運転費
を低減することができる。以下、本発明の効果を一層明
瞭ならしめるために実施例をあげる。
実施例 １
臭化銀（５０ｍｇ／１００ｄ）及びゼラチン（４０１ｒ
１ｇ／１００−）を主成分とする印刷用写真乳剤を下層
に、ゼラチン（９ｍｇ／１００ｃＩＩ１り及びマツト剤
、表面活性剤を含んだ保護層用塗布液を上層に、１５ｍ
／Ｍｉｎでのポリエチレンテレフタレートフイルム上に
それぞれ９０ｃｃ／ｍ・、２０ｃｃ／Ｍ２の塗布量で重
層塗布した。
１ｇ／１００−）を主成分とする印刷用写真乳剤を下層
に、ゼラチン（９ｍｇ／１００ｃＩＩ１り及びマツト剤
、表面活性剤を含んだ保護層用塗布液を上層に、１５ｍ
／Ｍｉｎでのポリエチレンテレフタレートフイルム上に
それぞれ９０ｃｃ／ｍ・、２０ｃｃ／Ｍ２の塗布量で重
層塗布した。
塗布後、試料Ａは従来と同様に露点−１０℃、乾球温度
３〜５℃の冷風ゾーンを１５秒間通過させて膜面を冷却
凝固後、乾球温度２０〜３５℃、相対湿度３０〜６５％
の乾燥風を使用し、６．３分で乾燥させ、乾球温度２５
℃、相対湿度６０％の空気で１分間調湿した。
３〜５℃の冷風ゾーンを１５秒間通過させて膜面を冷却
凝固後、乾球温度２０〜３５℃、相対湿度３０〜６５％
の乾燥風を使用し、６．３分で乾燥させ、乾球温度２５
℃、相対湿度６０％の空気で１分間調湿した。
試料Ｂは試料Ａと同一条件で冷却凝固液、乾球温度２５
〜３８℃、相対湿度３０〜６５％の乾燥風を使用し５分
で乾燥させた後、試料Ａと同じ条件で調湿した。
〜３８℃、相対湿度３０〜６５％の乾燥風を使用し５分
で乾燥させた後、試料Ａと同じ条件で調湿した。
また試料Ｃは第１図乃至第３図に示される本発明装置に
より、２４５０ＭＨｚ、５ｋｗのマイクロ波発振器２台
を使用して２０秒間加熱して約半分の水分を蒸発させ、
その後乾球温度５〜８℃の冷風ゾーンにて１０秒間冷や
して膜面を冷却凝固した後、乾球温度２５℃、相対湿度
４０〜６５％の乾燥風を用い４．６分で乾燥させ、更に
試料Ａと同一条件で調湿した。
より、２４５０ＭＨｚ、５ｋｗのマイクロ波発振器２台
を使用して２０秒間加熱して約半分の水分を蒸発させ、
その後乾球温度５〜８℃の冷風ゾーンにて１０秒間冷や
して膜面を冷却凝固した後、乾球温度２５℃、相対湿度
４０〜６５％の乾燥風を用い４．６分で乾燥させ、更に
試料Ａと同一条件で調湿した。
こうして得られた試料Ａ．Ｂ．Ｃを各々５ｃｍ角に２枚
ずつ切り取り、相対湿度９０％の雰囲気に１分間露した
後、各々重ね合わせ、１ｋｇの荷重を載せ、４５℃の雰
囲気内に２日間置いた。
ずつ切り取り、相対湿度９０％の雰囲気に１分間露した
後、各々重ね合わせ、１ｋｇの荷重を載せ、４５℃の雰
囲気内に２日間置いた。
その後、各々試料をはがし、試料Ａ．Ｂ．Ｃの接着した
面積を測定したところ、第１表の如き結果を得た。第１
表より試料Ａ及びＣは良好であつた。写真特性、膜物性
等その他の性能については各試料で実際上格別の差異は
認められなつた。これより、本発明の基本思想に基づく
試料Ｃでは、試料Ａの場合に比し、マイクロ波加熱を含
めても７０％程度に乾燥ゾーンを短くしたにもかかわら
ず、同等の性能を得ることの出来ることがわかつた。
面積を測定したところ、第１表の如き結果を得た。第１
表より試料Ａ及びＣは良好であつた。写真特性、膜物性
等その他の性能については各試料で実際上格別の差異は
認められなつた。これより、本発明の基本思想に基づく
試料Ｃでは、試料Ａの場合に比し、マイクロ波加熱を含
めても７０％程度に乾燥ゾーンを短くしたにもかかわら
ず、同等の性能を得ることの出来ることがわかつた。
実施例 ２
臭化銀（９０ｍｇ／１００ｃｎ１り及びゼラチン（４０
ｍｇ／１００ｄ）より成る医療用レントゲン用乳剤を下
層に、ゼラチン（１８ｍｇ／１００ｃＩｎり及びマツト
剤、表面活性剤を含む保護層用塗布液を上層に、２０ｍ
／Ｍｉｎで連続走行している厚さ８０μ、幅３０ｃｍの
ポリエチレンテレフタレートフイルム上にそれぞれ９８
ｃｃ／ｍ＼１８ｃｃ／Ｍ２の塗布量べ重層塗布した。
ｍｇ／１００ｄ）より成る医療用レントゲン用乳剤を下
層に、ゼラチン（１８ｍｇ／１００ｃＩｎり及びマツト
剤、表面活性剤を含む保護層用塗布液を上層に、２０ｍ
／Ｍｉｎで連続走行している厚さ８０μ、幅３０ｃｍの
ポリエチレンテレフタレートフイルム上にそれぞれ９８
ｃｃ／ｍ＼１８ｃｃ／Ｍ２の塗布量べ重層塗布した。
塗布後、実施例１と同様に冷却凝固、乾燥をおこない、
それぞれ試料Ｄ．Ｅ．Ｆを得た。こうして得られた試料
Ｄ．Ｅ．Ｆについて、未露光のまま現像、定着の処理を
おこない乾燥したサンプルの失透度（ヘイズ）を測定し
た結果を第２表に示した。
それぞれ試料Ｄ．Ｅ．Ｆを得た。こうして得られた試料
Ｄ．Ｅ．Ｆについて、未露光のまま現像、定着の処理を
おこない乾燥したサンプルの失透度（ヘイズ）を測定し
た結果を第２表に示した。
第２表より本発明の基本思想に基づく試料Ｆは、乾燥速
度を早くしたにも拘らず、試料Ｄと同等の性能を示すこ
とがわかつた。
度を早くしたにも拘らず、試料Ｄと同等の性能を示すこ
とがわかつた。
その他の性能については実用上の差異は全く認められな
かつた。実施例 ３臭化銀（４０ｍｇ／１００ＣＩｒ１
り、ゼラチン（２１ｍｇ／１００ｄ）及びカプラーを含
むカラーポジ乳剤を下層に、ゼラチン（１０１ｒ１ｇ／
１００ｃｎ１り及びマツト剤、表面活性剤を含む保護層
用塗布液を上層に、２０ｍ／Ｍｉｎで連続走行している
厚さ１３５μ、幅３０ｃｍのトリアセチルセルロースフ
イルム上にそれぞれ６０ｃｃ／ｍ・、２０ｃｃ／ｍ・の
塗布量で重層塗布した。
かつた。実施例 ３臭化銀（４０ｍｇ／１００ＣＩｒ１
り、ゼラチン（２１ｍｇ／１００ｄ）及びカプラーを含
むカラーポジ乳剤を下層に、ゼラチン（１０１ｒ１ｇ／
１００ｃｎ１り及びマツト剤、表面活性剤を含む保護層
用塗布液を上層に、２０ｍ／Ｍｉｎで連続走行している
厚さ１３５μ、幅３０ｃｍのトリアセチルセルロースフ
イルム上にそれぞれ６０ｃｃ／ｍ・、２０ｃｃ／ｍ・の
塗布量で重層塗布した。
Claims (1)
- １ 連続走行しているウェブの進行方向に沿つて順次塗
布装置、マイクロ波濃縮装置、冷却・凝固装置、及び乾
燥装置を配置したことを特徴とする写真感光材料の製造
装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51102265A JPS5953530B2 (ja) | 1976-08-27 | 1976-08-27 | 写真感光材料の製造装置 |
| US05/828,118 US4149322A (en) | 1976-08-27 | 1977-08-26 | Drying concentration of photographic emulsion coating by microwave irradiation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51102265A JPS5953530B2 (ja) | 1976-08-27 | 1976-08-27 | 写真感光材料の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5328415A JPS5328415A (en) | 1978-03-16 |
| JPS5953530B2 true JPS5953530B2 (ja) | 1984-12-25 |
Family
ID=14322751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51102265A Expired JPS5953530B2 (ja) | 1976-08-27 | 1976-08-27 | 写真感光材料の製造装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4149322A (ja) |
| JP (1) | JPS5953530B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4258086A (en) * | 1978-10-12 | 1981-03-24 | General Mills, Inc. | Method of reproduction metallized patterns with microwave energy |
| US4243744A (en) * | 1978-12-22 | 1981-01-06 | Exxon Research & Engineering Co. | Microwave curing of photoresist films |
| FR2615277B1 (fr) * | 1987-05-11 | 1989-11-24 | Inst Textile De France | Dispositif de sechage par micro-onde d'une lisiere d'un materiau plan en defilement, notamment textile |
| US5202139A (en) * | 1991-06-07 | 1993-04-13 | Tgtbt, Ltd. | Process for preparing fat free snack chips |
| US5180601A (en) * | 1991-06-07 | 1993-01-19 | Tgtbt, Ltd. | Process for preparing fat free snack chips |
| US5298707A (en) * | 1991-06-07 | 1994-03-29 | Tgtbt, Ltd. | Apparatus for preparing fat free snack chips |
| US5422235A (en) * | 1991-12-19 | 1995-06-06 | Eastman Kodak Company | Process for manufacturing photographic paper |
| US5423260A (en) * | 1993-09-22 | 1995-06-13 | Rockwell International Corporation | Device for heating a printed web for a printing press |
| EP0678784A1 (en) * | 1994-01-24 | 1995-10-25 | Agfa-Gevaert N.V. | Method and device for the rejuvenating of a polyester film base and method of drying a processed photographic material |
| US5858431A (en) * | 1996-11-25 | 1999-01-12 | International Machinery, Inc. | Method and apparatus for preparing fat free snack chips using hot air impingement, microwaving, and hot air drying |
| US6207941B1 (en) | 1998-07-16 | 2001-03-27 | The University Of Texas System | Method and apparatus for rapid drying of coated materials with close capture of vapors |
| KR100486066B1 (ko) * | 2002-04-10 | 2005-05-03 | 김창구 | 마그네트론을 이용한 지류 코팅 건조장치 |
| JP6213021B2 (ja) * | 2013-08-02 | 2017-10-18 | 日産自動車株式会社 | 電極製造方法および電極製造装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2405813A (en) * | 1944-05-06 | 1946-08-13 | B F Sturtevant Co | Drier |
| NL261714A (ja) * | 1960-06-14 | |||
| US3403456A (en) * | 1967-02-14 | 1968-10-01 | White Consolidated Ind Inc | Impingement type drying apparatus |
| JPS5248148B2 (ja) * | 1971-08-23 | 1977-12-07 |
-
1976
- 1976-08-27 JP JP51102265A patent/JPS5953530B2/ja not_active Expired
-
1977
- 1977-08-26 US US05/828,118 patent/US4149322A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4149322A (en) | 1979-04-17 |
| JPS5328415A (en) | 1978-03-16 |
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