JPS595133A - Preparation of beta-alkoxyketone compound and beta-ketoacetal compound - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To prepare the titled substance useful as a preparation intermediate of perfumery, agricultural chemicals, pharmaceuticals, etc., in high yield, by contacting an easily synthesizable, inexpensive enamine compound with an acetal or a orthoformic acid ester in the presence of a Lewis acid. CONSTITUTION:The compound of formula IV can be prepared by contacting the compound of formula I (R<1> is H, alkyl or phenyl; R<2> is alkyl, alkenyl, phenyl or together form (CH2)3, etc.; X and Y are lower alkyl, phenyl, etc. or together form (CH2)4, etc.) with the compound of formula II (R<3> is alkyl; R<4> is alkyl, OR<3>, alkenyl, group of formula III etc.) in the presence of a Lewis acid, preferably in a halogenated hydrocarbon solvent at 0-20 deg.C for 1-2hr.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、下記式＜１１ Ｒ冨 但し式中、ＲＩは水素原子、低級アルキル基もしくはフ
ェニル基ケ示し、 Ｒ１は低級アルキル基、Ｃ３〜Ｃ。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is based on the following formula:

アルケニル基もしくはフェニル基 全示し、 ただし上記に於て、ノシ１及びＲ１ が同時にフェニル基を示すことは ない、 又は、Ｒ１及びｉｔ″は一緒になっ て、＋ＣＨ，すｓ　、＋ＣＨｔ＋ａもしくＣＨ，ＣＨ。alkenyl group or phenyl group Show all, However, in the above, Noshi 1 and R1 shows a phenyl group at the same time do not have, Or R1 and it'' are together +CH, ss, +CHt+a or CH, CH.

七９ ＩｔＪ＋）ｆｔｌ／ｚアルキル基を示し、Ｒ４は低級ア
ルキル基、基υＲ３、 Ｃ，−Ｃ，アルケニル基、もしく は低級アルコキンで藏換烙れてい てもよいフェニル６に示すか、或 で、Ｒｓ　とノシ４は一緒になって、 千ｃｉノ、±４　、＋ＣＨ＊＋Ｔ−ＣＨＣＨ２−ＣＢ８ もしくは十ＣＨ，七、ＣＨ−ヶ示す ＣうＨ■ ことができ、そして、 ｔＬはＯもしくはｌｉ示すが、 ここで、 式（３）化は物のＨｓとＲ４とが−緒 になって環を形）Ｌしている場合に は、Ｒ４はその一緒になったニー チル結＠會含む環全示し且ｎ二〇 であジ、式（３）化合物がそれ以外の 化合物の場付にはＲ４は前記した と同義であり且つｎ＝１である、 で表わされる化合物の製法に関し、上記式（１１化合物
會、改善された容易な操作で、安価且つ入手容易な原料
音用いて、好収率で工業的に有利に製造できる新しい合
成径路による製法に関する。上記式（１１で表わされる
β−アルコキシケト７類およびβ−ケトアセタール類は
香料、農業、医薬などの分野における製造中間体として
有用且っ軍閥な公知化合物である。79 ItJ+) ftl/z represents an alkyl group, R4 represents phenyl 6 which may be substituted with a lower alkyl group, a group υR3, a C, -C, alkenyl group, or a lower alkokene, or, Rs and Noshi 4 together can be 1,000 ci, ±4, +CH*+T-CHCH2-CB8 or 10CH, 7, CH-, and tL can be O or li. However, in formula (3), when Hs and R4 of a substance are combined to form a ring, R4 represents the entire ring containing the combined nityl bond. and n20 is di, and when the compound of formula (3) is a compound other than that, R4 has the same meaning as above, and n=1. The present invention relates to a method for producing the compound by a new synthetic route that can be industrially advantageously produced with improved ease of operation, using inexpensive and easily available raw materials, and in good yield. Type 7 and β-ketoacetals are known compounds that are useful as manufacturing intermediates in the fields of perfumery, agriculture, medicine, and the like.

更に詳しくは、本発明は、上記式（２）但し式中、Ｒ′
は水素原子、低級アルキル基もしくはフェニル基を示し
、 Ｒ２は低級アルキル基、Ｃ１〜Ｃ。More specifically, the present invention provides the above formula (2) in which R'
represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a phenyl group, R2 is a lower alkyl group, and C1 to C.

アルケニル基もシく（ハフェニル基 を示し、 ただしＬ記に於て、ｌＣ１及び１＜！ が同時にフェニル＄孕示すことは ない、 又１１、Ｒ’　　及びＲ”は−緒になって・　＋ＣＢ、
す島・＋ｃｔｉ、す４　もしくＣ；ｌｉ、ＣＨ。An alkenyl group also represents a haphenyl group. However, in the L notation, lC1 and 1<! do not simultaneously represent phenyl $, and 11, R' and R'' are - together, +CB,
Sushima・+cti, Su4 Or C;li, CH.

て、Ｘ及びＹは低級アルキル基も しくはフェニル基を示し、゛またＸ とＹは一蛯になって＋ＣＨ，す４、 ±Ｃ１１ｔ　＋　ｓもしくは＋ＣＨ！七ｒ”＋ＣＨ！す
！を示す− で表わされるエナミン化合物と、下肥式（３）但し式中
、Ｒｓは低級アルキル基を示し、ＩＣ４は低級アルキル
基、基ＯＲ”、 Ｃ１Ｃ，アルケニル基、もしくは 低級アルコキシで置南されていて も工いフェニルｌｋケ示すか、或は ＲＩＩとＲ４は一緒になって、 ＋ＣＨ，す、　、＋ＣＨ，＋Ｙ−ｃ１１−ＣＨ，−・ ＣＢ。, X and Y represent a lower alkyl group or a phenyl group, and X and Y together represent +CH, s4, ±C11t + s or +CH! An enamine compound represented by the formula (3), where Rs represents a lower alkyl group, IC4 represents a lower alkyl group, a group OR'', C1C, an alkenyl group, Or phenyl lk can be used even if it is substituted with lower alkoxy, or RII and R4 together are +CH, S, +CH, +Y-c11-CH,--CB.

もしく　ｉｊ　＋　ＣＨｚ七「Ｃｌノー會示すこにｌ　
、　０．１ とができる、 で表わきれる化合物とを、ルイス酸の存在下に接触せし
めること？％敵とする前記式（１１化は物の製法に関す
る。Or ij + CHz 7 "Cl no meeting"
, 0.1 can be formed by contacting the compound represented by in the presence of a Lewis acid? The above formula (11) is related to the manufacturing method of things.

従来、式（１）に包含されるβ−アルコキシケトン類の
合成法としては、α、β−不や和カルボニル化合物にア
ルコール會１．４付加する提案が知られている。また、
式（１）に包含さｒするβ−ケトアセタール類の合成法
としては、ｌ・３−ノカルボニル化付物ケ、該化合物の
一方のカルビニル基のみ會４択的にアセタール化する提
案が知られている。Conventionally, as a method for synthesizing β-alkoxyketones included in formula (1), there has been proposed a method of adding 1.4% alcohol to an α,β-unionized carbonyl compound. Also,
As a method for synthesizing β-ketoacetals included in formula (1), there is a known proposal to selectively acetalize only one carbinyl group of the l,3-nocarbonylated compound. It is being

しかしながら、こｔｌら従来提案に於ては、先ず煩雑な
多工程をへて原料ｃｔ、β−不飽和カルビニル化合物あ
るいは、ｌ・３−ツカルビニル化合物を合成する必要が
あり、更に、そのような煩雑な多工程２経たのち、七ｎ
それアルコールの１．４付加反応あるいは選択的にモノ
アセタール化するという工程、ヒの不利益がある。更に
又、後者においては、副生ｊＡ物としてビニルエーテル
の生成が回避しｍｌすい欠点がある。However, in these conventional proposals, it is first necessary to synthesize the raw material ct, β-unsaturated carbinyl compound, or l,3-carvinyl compound through complicated multiple steps, and furthermore, such complicated steps are necessary. After 2 multi-steps, 7n
However, the process of 1.4-addition reaction or selective monoacetalization of alcohol has disadvantages. Furthermore, the latter method has the disadvantage that the production of vinyl ether as a by-product is avoided.

父、別の提−婆として、例えば、四塩化チタンの存在下
、シリルエノールエーテルとアセタールあるいはオルト
ギ酸トリメチルとの縮合反応にエリ、β−アルコキシケ
ト７類お工びβ−ケトアセタール頌ケ合成する方法が知
られている。As another suggestion, for example, in the presence of titanium tetrachloride, the condensation reaction of silyl enol ether with acetal or trimethyl orthoformate can be used to synthesize β-ketoacetals. There are known ways to do this.

該方法は、反応に用いるシリルエノールエーテルが非常
に高価であり且つ又その合成が煩雑であって工業的書法
には適さない欠陥がある。〃口えて、β−アルコキシケ
トン類お工びβ−ケトアセタール製の収率が低い難点が
ある。This method has the disadvantage that the silyl enol ether used in the reaction is very expensive and its synthesis is complicated, making it unsuitable for industrial writing. 〃To be honest, there is a drawback that the yield of β-ketoacetal produced from β-alkoxyketones is low.

従来、β−アルコキシケトン類お工びβ−ケトアセター
ル類の製造に関しては、１述した従来提案以外の製法に
ついては全く知られていす且つ又、そのような他の製法
による合成の可能性についても全く示唆さｔ′したこと
が無い。Conventionally, with regard to the production of β-alkoxyketones and β-ketoacetals, no manufacturing methods other than those proposed previously have been known. has never been suggested at all.

本発明者等は、上述のような従来提案の不利益乃至欠陥
全克服して工業的に有利に式（１）β−アルコキシケト
ン類お工びβ−ケトアセタール類會製造できる新しい合
成経路會開発すべく研究を行ってきた。The present inventors have developed a new synthetic route that can overcome all the disadvantages and defects of the conventional proposals as described above and industrially advantageously produce β-ketoacetals from β-alkoxyketones of formula (1). We have been conducting research to develop it.

その結果、工業的に容易に合成でき且つ安価な前記式（
２）エナミン化合物と前記式（３）アセタールもしくは
オルトギ酸エステルと會ルイス酸の存在下に接触せしめ
るという新しい合成径路によって、容易な操作で且つ好
収率をもって式（１）化合物を工業的に有利に仰造でき
ることケ発見した。As a result, the above formula (
2) By a new synthetic route in which the enamine compound is brought into contact with the acetal or orthoformic acid ester of the formula (3) in the presence of a Lewis acid, the compound of the formula (1) can be industrially advantageously produced with easy operation and good yield. I discovered something surprising.

従って、本発明の目的は、新しい合成経路によって武（
１）化合物全工業的に有利に製造でき６式（１）化合物
の裏法ケ提供するにある。Therefore, it is an object of the present invention to
1) Compound The present invention provides a method for producing the compound of formula 6 (1) which can be produced industrially and advantageously.

本発明の上記目的及び更に多くの他の目的ならびに利点
は以下の記載から−Ｉｌｌ明らかとなるであろう。The above objects and many other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.

本発明方法によハば、前記式（２）エナミン化合物と前
記式（３）アセタールもしくはオルトギ酸トリアルキル
を、ルイス酸の存在下に接触させることにより一挙に式
（１）目的化合物を形成することができる。練武（２）
エナミン化合物は、対応するカルボニル化合物とアミン
とを触媒の存在下に常法に従って反応させることにより
容易に合成することができる。According to the method of the present invention, the target compound of formula (1) is formed at once by bringing the enamine compound of formula (2) into contact with the acetal or trialkyl orthoformate of formula (3) in the presence of a Lewis acid. be able to. Training (2)
An enamine compound can be easily synthesized by reacting a corresponding carbonyl compound and an amine in the presence of a catalyst according to a conventional method.

上記式（２）エナミン化合物形成工程を含めて、本発明
方法全図式的に示すと、以下のように示すことができる
。The entire method of the present invention, including the step of forming the enamine compound of formula (2) above, can be illustrated as follows.

ルイス酸　　　　　　　　　（ｌ 上記Ｋｉ　て、Ｒ１％Ｒ”、Ｒ”％Ｒ’、Ｘ％Ｙ及びｎ
は前記したと同義である。Lewis acid (l Ki above, R1%R'', R''%R', X%Y and n
has the same meaning as described above.

Ｆ起倒に於て、式（４）カルがニル化合物と式（５）ア
ミンとの反応は、それ自体公知のエナミン化付物合成法
に従って（エナミン合成例文献二〇。In the F reaction, the reaction between the cal-nyl compound of formula (4) and the amine of formula (5) is carried out in accordance with the enaminated adduct synthesis method known per se (Enamine Synthesis Example Document 20).

５ｔｏｒｋ　　ｅｔ　　ａｌ、、Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、
Ｓｏｃ、。5tork et al., J. Am. Chem.
Soc.

８５、２０７　（１９６３）　：Ｓ、　１ｉｕｒｒ、ｉ
ｇ　ｇｔ　ａｌ、。85, 207 (1963): S, 1iurr, i
g gt al,.

υ・　Ｓ、、ｃｏｉｌ・、上、８０８（１９７３）、］
、たとえば炭酸カリウム、ｐ−トルエンスルホン酸など
の如き触媒の存在下に、式（４）化合物と式（５）化合
物と？接触せしめることにより容易に行うことができる
。υ・S,,coil・,Vol. 808 (1973),]
, for example, a compound of formula (4) and a compound of formula (5) in the presence of a catalyst such as potassium carbonate, p-toluenesulfonic acid, etc. This can be easily done by bringing them into contact.

例えは、シクロヘキサノン（ｔ、Ｓモル）、モルホリン
（１，８モル）、およＵｐ−トルエンスルホン酸（１，
５、？　）のトルエン（３００ｍ）の溶液を加熱還流し
、共沸する水音除去することにより、１−（Ｎ−モルホ
リノ）−１−シクロヘキセンヲ約８０％の収率で得るこ
とができる。Examples include cyclohexanone (t, S mol), morpholine (1,8 mol), and Up-toluenesulfonic acid (1,
5.? 1-(N-morpholino)-1-cyclohexene can be obtained in a yield of about 80% by heating a solution of toluene (300 m) of 1-(N-morpholino)-1-cyclohexene under reflux and removing azeotropic water.

例えば上述のようにして得ることのできる式（２）エナ
ミン化合物に於て、Ｒ１の低級アルキル基の例としては
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、などのｖ口きＣ１〜Ｃ４のアルキル基、と
くにはメチル基を例示することができる。又、Ｒ１の低
級アルギル基としては、上記Ｒ′について例示したと同
様なアルキル基、とくにはＣｓ−、−Ｃ４アルキル基ケ
例示できる。For example, in the enamine compound of formula (2) that can be obtained as described above, examples of the lower alkyl group for R1 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl,
Examples include v-opening C1-C4 alkyl groups such as isobutyl, particularly methyl groups. Examples of the lower argyl group for R1 include the same alkyl groups as exemplified above for R', particularly Cs- and -C4 alkyl groups.

Ｒ１及びＲ１の低級アルキル基は直鎖もしくは分校のい
ずれのアルキル基であってもよい。父、Ｒ１のＣＩ−Ｃ
，アルケニル基の例としてｔま、ｌ−グロペニル、２−
メチル−１−７”ロペニル、ｅ−メチル−５−へブテン
−２−イルｌ−ノネニルの如き直鎖もしくは分枝のアル
ケニル基を例示することができる。又、Ｒ１及びＲ２の
フェニル基は、これらＲ１及びＲ１の両者が同時にフェ
ニル基會示すことはない。更に、／＜’及びＲｔ＆は一
緒になって、±ｃ、Ｈ，辷「〔シクロｄ　７テン〕、＋
ｃＲ２＋−ｒＵＨ，ＣＭ。The lower alkyl groups of R1 and R1 may be either straight chain or branched alkyl groups. Father, R1's CI-C
, Examples of alkenyl groups include tma, l-gropenyl, 2-
Straight chain or branched alkenyl groups such as methyl-1-7"lopenyl and e-methyl-5-hebuten-2-yl l-nonenyl can be exemplified. Also, the phenyl groups of R1 and R2 are Both R1 and R1 do not represent a phenyl group at the same time.Furthermore, /<' and Rt& together represent ±c, H, 辷``[cyclod7ten], +
cR2+-rUH, CM.

し３　、４−−／メチルー１，３−シクロへキサツエン
〕？示すことができる。3,4--/methyl-1,3-cyclohexazene]? can be shown.

このような式（２）化合物の例としては、たとえば、１
−（Ｎ−モルホリノ）−１−シクロヘキセン、３．４−
ツメチル−１−（Ｎ−モルホリノ）−１，３−シクロヘ
キサツエン、１−（Ｎ−ビにリッツ）−１−ヘキセン、
５−、メチル−２−（Ｎ−モルホリノｌ−２，４−ヘキ
サツエン、３−メチル−ｔ−Ｂｖ−モルホリノ）−１−
ブテン、β−（Ｎ−ピペリソノ］スチレン、α−（Ｎ−
モルホリノ）スチレン、３，７−ヅメチル−１−（＃−
モルホリノＪ−１，６−オクタソエン、Ｎ−メチ”−Ｎ
−（１−シクロへキセニル）アニｌｌｙ、１−（Ｎ−モ
ルホリノ）−１−シクロペンテン、１−（Ｎ−モル、ホ
リン）−１−ヘキセン、なトを例示することができる。Examples of such compounds of formula (2) include, for example, 1
-(N-morpholino)-1-cyclohexene, 3.4-
trimethyl-1-(N-morpholino)-1,3-cyclohexazene, 1-(N-binitritz)-1-hexene,
5-, methyl-2-(N-morpholino l-2,4-hexatsuene, 3-methyl-t-Bv-morpholino)-1-
Butene, β-(N-piperisono]styrene, α-(N-
morpholino) styrene, 3,7-dimethyl-1-(#-
Morpholino J-1,6-octasoene, N-methy”-N
Examples include -(1-cyclohexenyl)anilly, 1-(N-morpholino)-1-cyclopentene, and 1-(N-mol, holin)-1-hexene.

本発明方法によれば、上記の如き式（２）エナミン化合
物と、式（３）化合物とを、ルイス＾ｌの存在下に接触
せしめて式（１）目的化合物を得ることがで弯る。According to the method of the present invention, the enamine compound of formula (2) as described above and the compound of formula (3) are brought into contact with each other in the presence of Lewis^l to obtain the target compound of formula (1).

上記反応は、好ましくはハロゲン化炭化水素溶媒中で、
ルイス酸の存在下に式（２）化合物と式（３）化合物と
を接触せしめることにより行うことができる。反応は室
温でも進行するのでとくに加熱の必要はないが、例えは
約−６０℃〜約４０℃、より好゛ましくは約０°〜約２
０℃の如き反応温度全例示できる。反応時間は適宜に選
択でき、たとえば約０．５時間〜約５時間、より好オし
くけ約１時間〜約２時間の反応時間を例示することがで
きる。The above reaction is preferably carried out in a halogenated hydrocarbon solvent,
This can be carried out by bringing the compound of formula (2) and the compound of formula (3) into contact in the presence of a Lewis acid. Since the reaction proceeds at room temperature, there is no particular need for heating, but for example, about -60°C to about 40°C, more preferably about 0°C to about 2°C.
All examples include reaction temperatures such as 0°C. The reaction time can be selected as appropriate, for example, about 0.5 hours to about 5 hours, more preferably about 1 hour to about 2 hours.

反応に際し′Ｕ、式（２）化合物に対する式（３）化合
物の使用量も適宜に選択でき、たとえば、式（２）化合
−二−１−− ゛　　　　物１モルに対して約１〜約２モル程度の使用
量全例示することができる。更に、ルイス酸の使用量も
適宜に司択でき、たとえば、式（２）化合物１モルに対
して約０．１〜約２モル程度、より好ましくは約１モル
前後の使用量會例示することができる。In the reaction, the amount of the compound of formula (3) to be used relative to the compound of formula (2) can be appropriately selected, for example, about 1 to about 2 to 1 mole of the compound of formula (2) -2-1-- All examples of usage amounts on the order of moles can be shown. Furthermore, the amount of Lewis acid to be used can be determined as appropriate, for example, about 0.1 to about 2 mol, more preferably about 1 mol, per 1 mol of the compound of formula (2). I can do it.

さらに、上記ハロゲン化炭化水素溶媒の例としては、例
えは、モノクロロメタン、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、モノクロロエタン、ｌ、２−ジクロロ
メタン、これらの混合物等を例示できる。これらの有機
溶媒の使用数には、特別の制約は無いが、式（２）化合
物に対し、例えば約２〜約１０３附倍程度の範囲全例示
できる。また、ルイス酸の例としては、四塩化チタン、
四塩臭化亜鉛等を挙げることができる。反応生成９Ｊｔ
よ、溶媒を留去したのち、所望により減圧蒸留等の手段
で精製することができる。Further, examples of the halogenated hydrocarbon solvent include monochloromethane, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, monochloroethane, 1,2-dichloromethane, and mixtures thereof. There is no particular restriction on the number of these organic solvents to be used, but a range of, for example, about 2 to about 103 times the amount of the compound of formula (2) can be illustrated. Examples of Lewis acids include titanium tetrachloride,
Examples include zinc tetrachloride bromide. Reaction production 9Jt
After distilling off the solvent, the product can be purified by means such as vacuum distillation, if desired.

上記（２）エナミン化合物との反応に用いる式（３）化
合物に於て、Ｒ３の低級アルキル基の例としては、メチ
ル、エチル、グロビル、イングロビル、ブチル、インブ
チル、ダンチルなどの如きＣ，−Ｃ。In the compound of formula (3) used in the reaction with the enamine compound (2) above, examples of the lower alkyl group for R3 include C, -C such as methyl, ethyl, globil, inglovir, butyl, imbutyl, dantyl, etc. .

アルキル基、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキル基を例示す
ることができる。Ｒ４の基Ｏノー３におけるＲ３につい
ても同様である。又、ノビ４の低級アルキル基の例とし
ては、上記Ｒ３について例示した同様な低級アルキル蒸
上例示することができる。Examples include alkyl groups, preferably C1-C4 alkyl groups. The same applies to R3 in the group ONO3 of R4. Further, as an example of the lower alkyl group of Nobi 4, the same lower alkyl distillation examples as exemplified above for R3 can be cited.

父、Ｒ４のＣ３−Ｃ・アルケニル基の例としては、式（
２）のＲ２について丁でに例示したと同様なアルケニル
基を例示できる。父、Ｒ４のフェニル基ハ低級アルコキ
シ基で置換されていて％、よく、Ｃ８〜Ｃ４アルコキシ
基とくにはメトキシ基を例示できる。Examples of the C3-C alkenyl group of R4 include the formula (
Regarding R2 in 2), the same alkenyl groups as exemplified above can be exemplified. The phenyl group of R4 is often substituted with a lower alkoxy group, such as a C8-C4 alkoxy group, particularly a methoxy group.

更に式（３）化合物においてノア８　とＲ’Ｖｉ−緒に
なとができゐ。このような式（３）化合物の例としては
、たとえは、オルトギ酸トリメチル、オルトギ酸トリエ
チル、アセトアルデヒドジエチルアセタール、アセトア
ルデヒド−ジル−ブチルアセタール、プタナールソエテ
ルアセタール、３−メチルブタナールヅイノプロピルア
セタール、トランス−２−プテナールソメチルアセター
ル、トランス−２−ルー６−オクｆ−ｆ−ルジエチルア
セタール、ペンツアルデヒドノエチルアセタール、フェ
ニルアセトアルデヒドソエチルアセタール、ｐ−アニス
アルデヒドツメチルアセタール、ヘリ方ナールツメチル
アセタール、２−エトキシ−５−ベンハルテトラヒドロ
フラン、２−メトキシテトラヒドロピラン、２−メトヤ
シ−４−メチルテトラヒドロピラン等を例示することが
できる。Furthermore, in the compound of formula (3), Noah 8 and R'Vi can be combined. Examples of such compounds of formula (3) include trimethyl orthoformate, triethyl orthoformate, acetaldehyde diethyl acetal, acetaldehyde-zyl-butyl acetal, putanal soether acetal, 3-methylbutanalduinopropyl acetal. , trans-2-putenal somethyl acetal, trans-2-6-ocf-f-diethyl acetal, penzaldehyde noethyl acetal, phenylacetaldehyde soethyl acetal, p-anisaldehyde methyl acetal, helihonal Examples include trimethyl acetal, 2-ethoxy-5-benhaltetrahydrofuran, 2-methoxytetrahydropyran, and 2-methoxy-4-methyltetrahydropyran.

本発明方法に、［１，ば、前に示したＦ記式（１）但し
式中、Ｒ１、Ｒ”　、Ｒ１１及びノア４は前記したと同
義であり、ｎは０もしくは１’（［示すが、ここで、式
（３）化合物のノビ３と８４とが一緒になって環會１杉
成１〜ている場合には、ノア４はその一緒になった壇を
示し且ｎ＝０であり、式（３）化合物がそれ以外の化合
物の揚台に゛はＲ４Ｖま前記したと回りであり且つｎ＝
ｌである、で表わされる化合物が、容易な操作で、安価
且つ入手容易な原料を用いて好収率で工業的に有利に得
ら第１る。In the method of the present invention, [1. However, if Novi 3 and 84 of the compound of formula (3) are together in the ring 1, then Noah 4 indicates the combined ring, and n = 0. , and the compound of formula (3) is on the platform of other compounds.
First, the compound represented by 1 can be industrially advantageously obtained in good yield by easy operation and using inexpensive and easily available raw materials.

上記式＋１１におけるｎの定義に明らかなとおり、式（
３）化合物が３ケ霧の基ＯＲ”ｆ肩する場合（すなわち
ｌｉ′　もＯＲ３）には形成される式（１）１ヒ合物に
おける阜ｏｔｔｓの数は２ケであり、式（３）化合物が
２ケの基ＯＲ”？＋１−有する場合（すなわちＲ４はＯ
Ｒ’以外の羞］には形成さｉする式（１）化合物におけ
る基ｏＲｓの数は１ケであり、式（３）化合物が１ケの
−ＪｉＯＲ”ｌ廟する場合（すなわち１１とＩ＋！４と
が一緒になってエーテル結＠會含む環を形成している場
合］にｔま形成される式（１）化合物における基ＯＲ”
の数はゼロである。As is clear from the definition of n in the above formula +11, the formula (
3) When the compound has 3 groups OR'f (that is, li' is also OR3), the number of otts in the compound of formula (1) formed is 2, and formula (3) Is the compound “OR” with two groups? +1- (i.e. R4 is O
In the case where the number of groups oRs in the compound of formula (1) to be formed is 1, and the compound of formula (3) has 1 -JiOR''l (i.e., 11 and I+! When 4 and 4 together form a ring containing an ether linkage, the group OR'' in the compound of formula (1) is formed.
The number of is zero.

上述のようにして得られる式＋１１化合物の例としては
、たとえば、以下の如き化合物を例示することができる
。Examples of the formula +11 compound obtained as described above include the following compounds.

例えば、２−ヅエトキシメチルシクロヘキサン、２−ジ
メトキシメチルシクロヘキサノン、２−メトキシメチル
−３１，４−ツメチル−３−シクロヘキセノン　２−ジ
ェトキシメチルヘキサナール、３−ジメトキシメチル−
５−メチル−４−ヘキセン−３−オンなどの如きβ−ケ
トアセタール類；３−エトキシ−２−イソグロビルヘキ
サナール、３−（４−メトキシフェニルｌ　−２−１ソ
プロビル−３−メトキシグロパナール、２−ブチル−３
−エトキシブタナール２−ブチル−３−イソプロポキシ
−５−メチルヘキサナール、２−ブチル−３−エトキシ
−３−フェニルグロノ９ナール、２−（２−テトラヒド
ロピラニル］ヘキサナール、２−（’ｉ−エトキ７ブチ
ル）−３，７−ジメチル−６−オクテナール、４−メト
キシ−３−（２−メチル−１−グロベニル）−５−ヘク
テンー’２−、ｔン、４−エトキシ−３−（２−メチル
−１−グロペニル）−４−フェニル−２−ブタノン、２
−（１−エトキシエチル）シクロヘキサノン、２−（２
−ブトキシエチルンシクロヘキサノン、２−（ｌ−メト
キシ−２−ブテニル）シクロヘキサノン、２−（ｄ−エ
トキシペンヅル］シクロヘキサ／ｙ、２−（２−テトラ
ヒドロフラニルｌシクロヘキサノン、２−（１−メトキ
シ−２−へキセニルｉシクロヘキサノン、２−（１−メ
トキシ−２−メチル−３−（３，４−メチレンジオキシ
フェニル）７’口ビル】シクロヘキサノン、２−（５−
ペンチル−２−テトラヒドロフラニルｌシクロヘキサノ
ン、２−（１−エトキシエチル）シクロペンタノン、２
−（４−メチル−２−テトラヒドロぎラニル）シクロペ
ンタノン、２−（１−エトキシ−３，７−ｆ／メチル−
６−オクテニル）シクロペンタノン、３−エトキシ−１
−フェニル−１−ブタノン、３−イソプロポキシ　５−
メチル−２−フェニルヘキサナールなどの如きβ−アル
コキ実施例　１ ２−ジェトキシメチルシクロヘキサノンの合成：乾燥ジ
クロルメタン５〇−中に、０．０５モル（８，４１１）
の１−（Ｎ−モルホリノ）−１−シクロヘキセンド０．
０６５モル（９，６１りのオルトギ酸トリエチル會仕込
み、０．０６５モル（１６，９ｇ＋の四塩化スズを約−
４０℃に於て、かくはん条件Ｆ、アルゴン雰囲気下で添
加する。添加酸さらに約０℃で約１時間かくはん条件下
に反応させる。For example, 2-ethoxymethylcyclohexane, 2-dimethoxymethylcyclohexanone, 2-methoxymethyl-31,4-methyl-3-cyclohexenone, 2-jethoxymethylhexanal, 3-dimethoxymethyl-
β-ketoacetals such as 5-methyl-4-hexen-3-one; 3-ethoxy-2-isoglobilhexanal, 3-(4-methoxyphenyl-2-1 soprovil-3-methoxyglopanal) , 2-butyl-3
-ethoxybutanal 2-butyl-3-isopropoxy-5-methylhexanal, 2-butyl-3-ethoxy-3-phenylgulononal, 2-(2-tetrahydropyranyl]hexanal, 2-('i-ethoxybutanal) 7-butyl)-3,7-dimethyl-6-octenal, 4-methoxy-3-(2-methyl-1-globenyl)-5-hectene-'2-,t, 4-ethoxy-3-(2-methyl -1-gropenyl)-4-phenyl-2-butanone, 2
-(1-ethoxyethyl)cyclohexanone, 2-(2
-butoxyethylncyclohexanone, 2-(l-methoxy-2-butenyl)cyclohexanone, 2-(d-ethoxypendyl)cyclohexane/y, 2-(2-tetrahydrofuranyllcyclohexanone, 2-(1-methoxy-2) -hexenyl cyclohexanone, 2-(1-methoxy-2-methyl-3-(3,4-methylenedioxyphenyl)7')cyclohexanone, 2-(5-
Pentyl-2-tetrahydrofuranyl cyclohexanone, 2-(1-ethoxyethyl)cyclopentanone, 2
-(4-Methyl-2-tetrahydrogyranyl)cyclopentanone, 2-(1-ethoxy-3,7-f/methyl-
6-octenyl)cyclopentanone, 3-ethoxy-1
-Phenyl-1-butanone, 3-isopropoxy 5-
Example 1 Synthesis of 2-jethoxymethylcyclohexanone: 0.05 mol (8,411) in 50% dry dichloromethane
1-(N-morpholino)-1-cyclohexendo of 0.
0.065 mol (9.61 g of triethyl orthoformate), 0.065 mol (16.9 g + of tin tetrachloride about -
Addition is carried out at 40° C. under stirring condition F and argon atmosphere. The added acid is further reacted under stirring conditions at about 0° C. for about 1 hour.

反応混合物中に水５０＋ｄ１に添加し、さらに約１時間
室温においてかくはんする。４１機ｒ＊ｖ分離し、食塩
水で１回洗浄したのち、飽、ｔＯ塩ソウ水で中和洗浄す
る。有４１１＃Ｉ−は、無水硫酸マグネシウムで乾燥゛
したのちジクロルメタンを回収する。得られた粗製全減
圧蒸留に付して、沸点８３〜８４℃／２ｍｘＨσの留分
として２−ンエトキシメチルシクロへキサノン９．０ｇ
（収率９０％）を得た。Add 50+d1 of water into the reaction mixture and stir for an additional hour at room temperature. After 41 r*v separation and washing with saline once, neutralization washing with tO salt water. After drying with anhydrous magnesium sulfate, dichloromethane is recovered. The resulting crude product was subjected to total vacuum distillation to yield 9.0 g of 2-ene ethoxymethylcyclohexanone as a fraction with a boiling point of 83-84°C/2mxHσ.
(yield 90%).

実施例　２ ２−（α−エトキシペンツル）シクロヘキサノンの合成
： 乾燥ジクロルメタン５０７Ｉと０．０６５モル（１１，
７ｇ）のインツアルデヒドジエチルアセタールケ仕込み
−３０“Ｃにかくはん冷却する。次に０、０６５モル（
９，２９３の三フッ化ホウ素ソエチルエーテル錯体ケ、
アルゴン雰囲気下添加し、約５分醍０．０５モル（８，
４，９）の１−（Ｎ−モルホリノ）−１−シクロヘキセ
ンケ同様に添加スる。Example 2 Synthesis of 2-(α-ethoxypentyl)cyclohexanone: Dry dichloromethane 507I and 0.065 mol (11,
7 g) of inzaldehyde diethylacetalke and stirred and cooled to -30°C. Next, 0.065 mol (
9,293 boron trifluoride soethyl ether complex,
Add 0.05 mol (8,
Add in the same manner as 1-(N-morpholino)-1-cyclohexene in 4,9).

添加後さらに室温で約２時間かくはん条件下に反応させ
る。反応混合物中に水５０ｍｅｆ添加し、さらに約１時
間室温に於てかくはんする。、有機層を分離し、食塩水
で１回洗浄したのち、飽和本ノウ水で中和洗浄する。有
機層は、無水硫酸マグネシウムで乾燥シたのち、ソクロ
ルメタン會回収する。After the addition, the mixture is further reacted at room temperature for about 2 hours under stirring conditions. 50 mef of water was added to the reaction mixture, and the mixture was further stirred at room temperature for about 1 hour. The organic layer is separated, washed once with brine, and then neutralized and washed with saturated aqueous solution. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and then recovered in sochloromethane.

得られた粗製を減圧蒸留に付して、沸点１２〇−１２２
℃／１．５峨１１Ｑの留分として２−（α−エトキシペ
ンシルクシクロヘキサノン１０．３＃（収率８９％）會
得た。The obtained crude product was subjected to vacuum distillation to obtain a boiling point of 120-122
10.3 # of 2-(α-ethoxypensylcyclohexanone (yield: 89%)) was obtained as a fraction of 11Q at a temperature of 1.5 °C.

実施例　３〜２９ 前記実施例１〜２と同様にして、後掲表−１に示した式
（２）エナミン化合物、式（３）化合物およびルイスｌ
Ｗ’に用いて各種のβ−ケトアセタール毫自およびβ−
アルコキシケトン類を合成し友。その結果會表−１に示
す。Examples 3 to 29 In the same manner as in Examples 1 to 2, the enamine compound of formula (2), the compound of formula (3), and Lewis L shown in Table 1 below were prepared.
Various β-ketoacetal molecules and β-
A friend who synthesizes alkoxyketones. The results are shown in Table 1.

表　−１ 実施例　　式（２）エナミン化付物　　　　　　式（３
）化合物　　　　　　ルイス階トｈ ：う　　１−（Ｎ−モルホリノ）−オルトギ酸トリメ　
　　　三フッ化ホウ素チル ４　３．４−ツメデル−１−オルトギ酸トリメ　　　四
塩化チタン０（Ｎ−モルホリノ）−ｉ、　　　　チル３
−シクロヘキサツエン ５　　１−（Ｎ−ピペリソノｉ−オルトギ嘴トリエ　　
　四堪化ス栢０１−ヘキ七ン　　　　　　　　　チル ６　５−メチル−２−（Ｎ−モ　　　オルトギ閾メトメ
　　　　　Ｃルホリノｌ−２，４−ヘキ　　　チル サジエン ７　３−メチル−１−（Ｎ−モ　　　プタナールジエチ
　　　　　Ａルホリノ）−１−ブテン　　　　ル了セタ
ール８　３−メチル−１−（Ｎ−モ　　　ｐ−了ニスア
ルデ　　　　　Ｂルホリノ）−ｔ−ブテン　　　　ヒト
ツメチルアセタール ９　　１−ｔ／Ｖ−ピペリソノ）−アセトアルデヒド　
　　　　Ａ１−ヘキセン　　　　　　　　　　ジエデル
アセター生成物　　収率　帥　点 （％ｒ　　ｔ℃／＊言Ｈｑ） ２−ソメトキシメチルシ　　８５　８０／３クロヘキサ
ノン ２−ジメトキシメチル−８０７６−７９１０，７３，４
−＋／メチルー３− シクロヘキセノン ２−ジメトキシメチルへ　　８５　８３／３キサナール ３−ジメトキシメチル−７８９３−９４／９５−メチル
−４−ヘキセ ノー２−オン ３−エトキシ−２−イソ　　７３　９０−９４／１４グ
ロビルヘキサナール ３−（４−メトキシフエ　　８０　１２（１−１２３／
２ニル）−２−イングロビ ルー３−メトキシクロ／＃ ナール ２−ブチル−３−エトキ　　７５　８６／１３シプタナ
ール １０　　１−（Ａ／−ビＫＩＪジノ）−３−メチルブタ
ナ　　　　　　Ａｌ−ヘキセン　　　　　　　　　　−
ルジイソプ′ロピルアセタール １１　　１−（Ｎ−ピ々リッツ）−ペンツアルデヒド　
　　　　Ａ１−ヘキセン　　　　　　　　　ジエチルア
セタール １２　　１−１７Ｖ−ピペリジノ）−２−メトキシテト
　　　　　Ｂｌ−ヘキセン　　　　　　　　　ラヒドロ
ピラン１３　　３．７−シフチルーｌ−プタナールソエ
チ　　　　　Ａ（Ｎ−モルホリノ］−１，ルア上タール
６−オクタゾエン ＋４　　５−メチル−２−（Ｎ−モ　　　トランス−２
−ブ　　　　　ＡルホリノＩ−２，４−へキ　　　テナ
ールジメチルサソエン　　　　　　　　　　　　ｒセタ
ール１５　　５−メチル−２−（Ｎ−モ　　　ペンツア
ルデヒド　　　　　Ｂルホリノ）　２．４−ヘキ　　　
ジエチルアセターサソエン　　　　　　　　ル １６　　１−（Ｎ−モルホリノ］−アセトアルデヒド　
　　　　Ｂｌ−シクロへギセン　　　　　　ジエチルア
セタール １７　　１−１／Ｖ−モルホリノＪ−アセトアルデヒド
　　　　　Ａ１−シクロヘキセン　　　　　　ジエチル
アセター２−ブチル−３−イノグ　　７６　９２−９３
／１０ロポキシー５−メチルへ Φナール ２−ブチル−３−エトキ　　７８　１０５−１１０７２
シー３−フェニルグロノ臂 ナール ２−（２−テトラヒトＯ８１８６−８８／２ピラニル）
ヘキサナール ２−（１−エトキシブチ　　ｅｓ　　１１１−１１２／
１．５ル）−３，７−Ｃ／メチル− ６−オクテナール ４−メトキシ−３−（２７５９０−９３／２−メチル−
１−グロペニ ル）−５−へブテン−２ 一オン ４−エトキシ−３−（＄１　　　８１　　１１８−１１
９／１−メチル−１−グロペニ ル）−４−フェニル−２ 一ブタノン ２−（ｌ−エトキシエチ　　８３　９７−９８／１３ル
ｉシクロへ午すノン ２−（ｌ−プトキシエチ　　９１　９０−９５／１ルｉ
シクロヘキサノン １８　　１−（／ｙ−モルホリノ２−　　　トランス−
２−プ　　　　　Ａ１−７タロヘキセン　　　　　　テ
ナールジメチルアセタール １９　　１−（Ｎ−モルホリノ）−２−メトキシテト　
　　　　Ｂｌ−シクロヘキセン　　　　　　ラヒドロビ
ラン２０　Ｎ−メチル−Ｎ−（１−シ　　　トランス＝
２−へ　　　　　ＡクロヘギセニルＪ−ｒニリン　　　
ギセナールジメブルアセタール ２１　７Ｖ−メチル−Ｎ−１１−シ　　　ヘキサナール
ジメ　　　　　Ａクロヘキセニルノアニリン　　　チル
アヒタール２２　　１−（Ｎ−ピロリソノ）シ　　　２
−エトキシ−５ＡクロへＡセン　　　　　　　　　　−
ペンチルテトラヒドロフラン ２３　　１−１７Ｖ−モルホリノＪ−アセトアルデヒド
　　　　　Ａｌ−７りａ−２ノテン　　　　　　ソエチ
ルーｒ辷タール ２４　　／■−ジエチルーＮ−（１−アセトアルデヒド
　　　　　Ａシクロへキセニルｌ　−ｒノン　　　ツメ
チルアセタール 一２７３＝ ２−（１−メトキシ−２８２１００−１０３／２−プテ
ニｌ−７クロヘキサ ノン ２−（２−テトラヒドロ　　？２　９１−９５／２ピラ
ニル）シクロヘキサ ノン ２−（１−メトキシ−２６５１０９−１１１／２−へキ
モニル１シクロヘ キサノン ２−（１−メトキシ−２６０１５２−１５６，１０，２
−メチル−３−（３，４ 一メチレンジオキシフェ ニル）クロビル」シフａ ヘキサナール ２−（５−ペンテルー２　　６８　１１３−１１６７２
−テトラヒドロフラニル） シクロヘキザノン ２−（１−エトキシエチ　　７１　８０−８２／１Ｇル
２シクロ浸ンタノン ２−（１−メトキシエチ　　７４９３〜９６／１２ル）
シク口ヘキサノン ドロビラン ルソエチルアセタ ール ピルアセタール シクロペンタノン ノン 特許出願人　長谷川香料株式会社 手続補正書 昭和５７年　７月２９日 特許庁長官　　若　杉　和　夫　殿 ｌ事件の表示 昭和５７年特許願第１１１６００号 ２、発明の名称 β−アルコキシケトン類およびβ−ケトアセタール類の
製法３補ｒ［をする者 事件との関係　　特許出願人 住　所　　　東京都中央区日本橋本町四丁目九贅地４、
代　理　人〒１０７ （ほか１名） （１）明細書第２８頁の表中、実施′ｖＡＪＡ６（Ｄ式
（３）化合物の欄に１．「オルトギ酸メトメチル」とあ
る金。Table-1 Examples Formula (2) Enaminated compound Formula (3
) Compound Lewis order h: 1-(N-morpholino)-orthoformic acid trime
Chill boron trifluoride 4 3.4-Tumedel-1-orthoformic acid trime Titanium tetrachloride 0 (N-morpholino)-i, Chill 3
-Cyclohexazene 5 1-(N-piperisono-i-orthogybeak trie
4-Methyl-2-(N-Mo Ortho-Threshold Metome C-2,4-Hex Thilsadiene 7 3-Methyl-1-(N-Mo) -1-Butene Ryocetal 8 3-Methyl-1-(N-mo p-Ryonisalde B sulfolino)-t-butene Human trimethyl acetal 9 1-t/V-piperisono)-acetaldehyde
A1-Hexene Diedelaceter Product Yield Point (%r t℃/*Hq) 2-Somethoxymethyl 85 80/3 Clohexanone 2-dimethoxymethyl-8076-7910,73,4
-+/Methyl-3- cyclohexenone to 2-dimethoxymethyl 85 83/3 Globylhexanal 3-(4-methoxyphene 80 12(1-123/
2nyl)-2-ingrobyl-3-methoxychloro/#nal 2-butyl-3-ethoxy 75 86/13cyptanal 10 1-(A/-biKIJ dino)-3-methylbutana Al-hexene -
diisopropyl acetal 11 1-(N-pyritz)-penzaldehyde
A1-hexene diethyl acetal 12 1-17V-piperidino)-2-methoxytet Bl-hexene Lahydropyran 13 3.7-siftyl-l-putanalsoethyl A(N-morpholino]-1, Lua upper tar 6-octazoene +4 5-methyl-2 -(N-Mo Trans-2
-B A sulfolino I-2,4-hextenal dimethyl sasoene r setal 15 5-methyl-2-(N-mopenzaldehyde B sulfolino) 2,4-hex
Diethylacetase 16 1-(N-morpholino)-acetaldehyde
Bl-cyclohexene diethylacetal 17 1-1/V-morpholino J-acetaldehyde A1-cyclohexene diethylacetate 2-butyl-3-inog 76 92-93
/10 Ropoxy 5-methyl to Φnal 2-butyl-3-ethoxy 78 105-11072
C-3-phenylgulonal 2-(2-tetrahydro8186-88/2pyranyl)
Hexanal 2-(1-ethoxybuty es 111-112/
1.5L)-3,7-C/Methyl-6-octenal 4-methoxy-3-(27590-93/2-Methyl-
1-Glopenyl)-5-hebutene-2 one 4-ethoxy-3-($1 81 118-11
9/1-Methyl-1-gropenyl)-4-phenyl-2 Monobutanone 2-(l-ethoxyethyl 83 97-98/13) i
Cyclohexanone 18 1-(/y-morpholino 2- trans-
2-P A1-7 Talohexene tenal dimethyl acetal 19 1-(N-morpholino)-2-methoxytet
Bl-cyclohexene lahydrobilane 20 N-methyl-N-(1-cytrans=
To 2- A clohegycenyl J-r Nilin
Gysenal dimeburu acetal 21 7V-methyl-N-11-cy Hexanal dime A clohexenylnoaniline Tyrahital 22 1-(N-pyrrolisono)cy 2
-Ethoxy-5A ChloheAcene-
Pentyltetrahydrofuran 23 1-17V-morpholino J-acetaldehyde Al-7ri a-2notene Soethyl-r-N-(1-acetaldehyde A-cyclohexenyl-r-non-methylacetal-273=2- (1-methoxy-282100-103/2-putenyl-7 clohexanone 2-(2-tetrahydro?2 91-95/2 pyranyl) cyclohexanone 2-(1-methoxy-265109-111/2-hekimonyl 1-cyclohexanone 2-(1-methoxy-260152-156,10,2
-Methyl-3-(3,4-methylenedioxyphenyl)clovir" Schifa hexanal 2-(5-pentel-2 68 113-11672
-tetrahydrofuranyl) cyclohexanone 2-(1-ethoxyethyl 71 80-82/1Gl) 2cyclointanone 2-(1-methoxyethyl 7493-96/12l)
Hexanone drobilan Lusoethyl acetal Pyracetal Cyclopentanonone Patent applicant Hasegawa Perfume Co., Ltd. Procedural amendment dated July 29, 1982 Commissioner of the Japan Patent Office Kazuo Wakasugi Indication of the case 1982 Patent Application No. 111600 2. Name of the invention Process for producing β-alkoxyketones and β-ketoacetals 3.Relationship with the case of the person doing the above Patent applicant address Kubochi 4-chome, Nihonbashi Honmachi, Chuo-ku, Tokyo;
Agent: 107 (and 1 other person) (1) In the table on page 28 of the specification, gold listed as 1. "Methomethyl orthoformate" in the column for the compound of Formula D (3).

ｒ　オルトギ酸トリメチル　」 と訂正する。r　Trimethyl orthoformate　 I am corrected.

（２）　　明細曹第２９頁の表中、実施例Ａ１２の沸点
（υ／１１１１１７）の欄に、　ｒ　８６−８８／２Ｊ
とある金。(2) In the table on page 29 of the specification, in the column of boiling point (υ/111117) of Example A12, r 86-88/2J
A certain amount of money.

ｒ　　８０−８１／Ｉ　　Ｊ と訂正する。r 80-81/I J I am corrected.

（３）　　明細書第２９頁の表中、実施例巡１５の沸点
（ｔ７／朋Ｈｒｔ）の欄に、　ｒ　１１８−１１９／Ｉ
Ｊとあるを。(3) In the table on page 29 of the specification, in the boiling point (t7/Hrt) column of Example No. 15, r 118-119/I
It says J.

ｒ　　１０Ｂ−１０６１０，８Ｊ と訂正する。r　　10B-10610,8J I am corrected.

（４）明細誉第３０頁の表中、実施例＆１８の沸点（Ｃ
／ｗｍＨｙ）の欄に、ｒ　ｌ　ＯＯ−１０３／　２　Ｊ
とあるを、 ｒ　　７９−８４／２　　Ｊ と訂正する。(4) In the table on page 30 of the specification, the boiling point (C
/wmHy) column, r l OO-103/2 J
Correct the statement to r 79-84/2 J.

以上that's all

Claims (1)

【特許請求の範囲】 １、下記式（２） 但し式中、Ｒ′は水素原子、低級アルキル基もしくはフ
ェニル基孕示し、 Ｒ１は低級アルキル基、ｃ、−Ｃ。 アルケニル基もしくはフェニル基 會示し、 たたし上記に於て、Ｒ１及びＲ１ が同時にフェニル４ヶ示すことに ない、 父は、Ｒ１及びＲ２は一緒になっ て、十〇Ｈ１＋−ｆ％＋ＣＢ、六も ＣＨ，ＣＨｓ そして、Ｘ及びＹは低級アルキル もしくはフェニル基會示し、また ＸとＹは一純になって＋Ｃツノｔ＋Ｔ、−Ｈｃｔ−ｉ、
す１−もしくは −４−Ｃ：Ｉｉ２すｗｃ）ｒｃＨ＊＋Ｔ會示す、で表わ
されるエナミン化＠物と、下記式（３）但し式中、Ｒ”
は低級゛ｒルキル基を示し、Ｒ４は低級アルキル基１，
１ＪＩｊ　Ｏノビ３、Ｃ３−Ｃ，アルケニル基、もしく ｔま低級アルコキシで置換さ；ｔ’Ｌ−’Ｃいてもよい
フェニル基ケ示すか、或 Ｒ１１とＲ４は一緒になって、 ＋ＣＢ！す４、千ＣＨ、＋−ｙ−Ｃノ１−ＣＢ、−ＣＨ
。 もしくは ＋ＣＨ１＋−７Ｃツノーを示すことが Ｃ，ｌｉｔｍ で籾る、 で表わされる化合物とを、ルイスｒｅの存在下に接触せ
しめることを特徴とするＦ記式＋１１１旦し式中、ＲＩ
　％／＜”　、Ｒ３及ヒＲ’　ｄ前記したと同義であり
、ｎばＯもしくはｌｋ示すが、ここで、式（３）化合物
のＲ８と８４とが一緒になって＋ｆＪを形成している場
合には、Ｒ４はその一緒になったエーテル結合な含む壌
欠示し且つｎ＝６であり、式（３）化合物がそれ以外の
化合物の場合にはｌｌ’Ｆ１＠記したと同義であり且つ
ｎ＝１である、 で衣わさ才する化合物の製法。[Claims] 1. Formula (2) below, where R' represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a phenyl group, and R1 represents a lower alkyl group, c, -C. It represents an alkenyl group or a phenyl group, but in the above, R1 and R1 do not simultaneously represent 4 phenyl groups. Also, CH, CHs,
1- or -4-C:Ii2Swc)rcH*+T, and an enaminated compound represented by the following formula (3), where R''
represents a lower alkyl group, R4 is a lower alkyl group 1,
1JIj O nobi3, C3-C, alkenyl group, or phenyl group optionally substituted with lower alkoxy; t'L-'C, or R11 and R4 together, +CB! 4, 1,000 CH, +-y-Cノ1-CB, -CH
. or a compound represented by C,litm which exhibits +CH1+-7C, is brought into contact with the compound represented by: in the presence of Lewis re.In the formula, RI
%/<", R3 and hiR' d have the same meaning as above, and n indicates O or lk, where R8 and 84 of the compound of formula (3) together form +fJ In this case, R4 does not contain an ether bond, and n=6, and when the compound of formula (3) is another compound, it has the same meaning as ll'F1@, and A method for producing a compound which is produced by the following formula, where n=1.