JPS5940105A - パタ−ン測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野Ｊ この発明は、はぼ規則的に繰り返し配列されるパターン
の寸法を測定するパターン測定装置に関する。

〔発明の技術的背景及びその問題点〕

「従来、パターンの寸法を測定する装置としては、被測
定パターンをレンズにして、ｃｃＤ等の撮像素子に結像
し、光電変換しその電気信号より測定するものがあった
。この装置では、被測定パターｙ像を撮像素子に正確に
結像しなければ測定ができず、自動焦点合せ機構が必要
であった。自動焦点合せ機構は、一般に複雑であシ、装
置の高格化をもたらしヤいた。さらに、３次元的な曲面
上のパターンの測定では、焦点合せに時間がかがるため
、測定スピードがあげられなかった。またこのような測
定では、一点一点の測定であるので、パターンの端が不
規則に乱れている場合傾は、多数点の測定を行い、その
平均値を求める必要があった。し九がってこの場合には
、さらに時間が掛る等、多くの問題点があった。

又、被測定パターンにレープ光を照射し、その透過光又
は、反射光をレンズを用いて７−リエ変換し、そのフー
リエ変換パターンの特定周波数成分の強度によシ、パタ
ーン幅を測定するパターン計測装置（％願昭５５−２７
３２１）がある。この装置では被測定パターンに対して
焦点合せの必要もなく、また照射するレーザ光のビーム
径内に含まれるパターンの全ての平均値がただちに求め
られる等、多くの利点を有していた。しかし、スリガラ
スのような光学的に不均質な拡散板や、紙等の不透明な
物に印刷されたパターン等の測定では、フーリエ変換パ
ターンを求めるとＳ／Ｎが低く、測定が不可能であった
。

さらに被測定対象を、カラーブラウム管フェースプレー
ト上のブラックストライプ（東京芝浦電気株式会社登録
商標）パターンの測定に限れば、細く絞ったレーザビー
ム光を、ブラックストライプ上で走査しその透過光強度
を検出器で検出し、その信号の時間幅で測定する装置本
ある。（野中他、テレビジョン学会誌３４　Ａ２　ｐｐ
、１４１〜１４６（１９８０年））この装置では、ブラ
ックストライプ幅に対して十分細くレーザビームを絞る
ことが困難で、電気信号よシバターン幅を検出する時に
誤差が生じやすい欠点があった。またレーザビームを被
測定パターン上で均一に絞るには、レーザプレートの曲
面の曲率中心の位置に正確にセットしなければならない
と言う欠点もあった。さらに、この装置もまた、一点一
点の測定であるのでブラックストライプパターンの基本
パターンである直線ストライプの端付近に生じている不
期則な乱れがあるパターンの測定には、多数点の測定後
平均化する必要があシ、−個所の測定にも多くの時間を
必要とした。このように、この装置においても多くの問
題点があった。

〔発明の目的〕

この発明は上記の欠点を解消するためになされたもので
、焦点合せを必要とせず、さらに測定部分の平均パター
ンサイズを直接高速に測定することが出来、また拡散板
等の乃至は光学的に不均一な媒体や不透明な物に印刷さ
れたパターンをも、測定することが可能で高速かつ高精
度な測定を可能とするパターン測定装置を提供すること
を目的とする。

〔発明の概要〕

この発明では、光束を１１基準パターンに照射する。さ
らに、この基準パターンを透過等して、基準パターン情
報を担った光を被測定パターンに照射する。次に被測定
パターンの後方に置かれた光電変換素子で、この基準パ
ターンと被測定パターンを通過した光量を電気信号に変
える。このとき、ガルバノミラ−やレンズ等を用いて基
準パターンに入射する光の角度のみを変化させる。する
と基準パターンの影は被測定パターン上を移動すること
になる。したがってこの基準パターンと被測定パターン
を通過した光量を光電変換した電気信号は、基準パター
ンの影と被測定パターンとの相関関数を現わした信号と
なる。

そこで、この基準パターンの寸法が既知であり、かつ被
測定パターンの形が未知である場合には、この電気信号
の最大値と最小値とから被測定パターンの寸法を求める
ことが可能である。すなわち、この既知である基準パタ
ーンの影と、各寸法の被測定パターンとの相関関数をあ
らかじめ計算し、この数値と測定結果とを比較すること
により、被測定物の寸法サイズを求めることが可能とな
る。

〔発明の効果〕

本発明では、基準パターンの影と被測定パターンとの相
関で寸法サイズを求めている。また基準パターンと被測
定パターンとの距離がほぼ一定に保たれた系では、この
相関は一義的に決ま−る。したがって基準パターンと被
測定パターンとの距離を一定に保ち、かつその透過光の
全て、もしくは一部を検出器で光電変換する系にあって
は、照明系の位置や検出器の位置にほとんど影響される
ことなく測定が可能となる。すなわち、焦点合せの必要
のない測定が可能となる。そこで例えば、カラーブラウ
ン管のフェースプレートの内面に、ノくターンニングさ
れたブラックストライプノくターンのように、三次元曲
面上のパターンでも、基準ノ（ターンをこの曲面に対し
て一定の距離に保たれる物を選べば、なんら焦点合せを
行わなくても測定が可能となる。

次に相関信号は、照明された領域内の全ての）（ターン
の平均値を求めているので、例えば）くタ−ンの端に不
規則な乱れが生じていても、照明された領域内の正確な
パターンの平均寸法を測定することができる。

まだ被測定パターンが拡散板や紙等の不透明な物の上に
パターンニングされていて、透過する光が拡散する場合
でも、本発明は基準パターンと被測定パターンとの透過
光量の最大値と最小値の比のみで求めているので、なん
ら影響を受けることなく測定することが可能となる。こ
のように本発明は多くの利点を持った極めて実用性の高
い測定装置を構成することが可能となる。

〔発明の実施例〕

次に、この発明の一実施例を図面に従って説明する。こ
の実施例では、カラーブラウン管のフェスグレートの内
面に形成されたブラケットストライプのパターンの測定
を行うものである。

まず、この実施例をよりよく理解するためにブラックス
トライプについて簡単に説明する。通常のカラーテレビ
ジョンでは、基本構造として、多数の細孔（アパーチャ
ーと呼ばれる。）を持ったマスク、すなわちンヤドクマ
スクとその個々のアパーチャーに対応して形成された３
色けい光面を有し、シャドウマスクのアパーチャーに入
射する３本の電子ビームのそれぞれの入射角度によって
色選択を行う。この実施例では、シャドウマスクとして
、縦長方形状の穴を持つスロットマスクを用いる。

このようなシャドウマスクをカラーブラウン管の画面と
なるフェースプレートに装着する。フェースプレートの
内面には、螢光体細条が設けられ、各螢光体間に黒色光
吸収体、すなわち、ブラックストライプが設けられてい
る。このとき、各螢光体細条の幅が等しくないと、色バ
ランスがくずれてしまう。

−− −１ｌｉｉ　このフェースプレート内面に、ブラックス
トライプ及び螢光体細条を設けるには、次のように後、
シャドウマスクを装着する。

次に、３本の電子ビームが配置される３点のうち１点に
超高圧水銀灯等を設け、露光を行う。この露光を３点で
行い、現像によってブラックストライプを形成する。こ
のブラックストライプは、製法から明らかなように、シ
ャドウマスクのアパーチャーの開口ピッチの３分の１の
周期を有する。

言い換えると、ブラックストライプのパターンは。

シャドウマスクのアパーチャーのパターンを基準パター
ンとしている。

このようにしてブラックストライプが形成された後、３
色の螢光体細条をやはり、写真印刷の技術によシ設ける
。すなわち、再びシャドウマスクを離脱し１色の螢光体
及び感光結合剤とを混合したスラリー（ｓｃｕｒｒｙ）
をフェースプレート内面に回転塗布し、乾燥後シャドウ
マスクを装置する。そして超高圧水銀灯等により露光を
行い現像によって所定の位置に１色目の螢光体パターン
を形成する。これをＲ、Ｇ　、　Ｈの３色について繰り
返す。

ここで、フェースプレートの内面から、ブラックストラ
イプ、螢光体細条の順序で塗布されているので、ブラッ
クストライプを正確に設けることによって、螢光体細条
の塗布精度にかかわらず、白バランスは、良好なものと
なる。これは、ブラックストライプの利点のひとつとさ
れている。

このようなフェースプレートのパターン測定装置は、第
１図に示されるように、コヒーレント光であるレーザー
光を発するレーザー光（Ｉ］）と、このレーザー光源（
ｉｌｌからのレーザー光のビーム径を−迂拡大させ、再
び収束させるコリメートレンズ（１２ａ）、（１２ｂン
と、このコリメートレンズ（１２ａ）。

（１２ｂ）からのレーザー光の進行方向を変化させるガ
ルバノミラ−（＋３）と、このガルバノミラ−０３から
Ｄレーザー光の収束する位置がその前焦点位置であるレ
ンズ（１４）と、このレンズ側からの平行線束が照射さ
れる基準パターンとしてのシャドウマスク（ＩＱと、こ
のシャドウマスク（１９が一体に取り付けられているカ
ラーブラウン管のフェスプレートａｅと、このフェース
プレー）　（ｉｌｌ９を移動させる移動装置面と、フェ
ースプレート０ｅからの透過光を受光し、電気信号に変
換する検出器崗と、この検出器（Ｉｅか＋１１からのア
ナログ信号をディジタル信号に変換するＡ−Ｄ変換器（
イ）と、このＡ−Ｄｉ換器（」からのディジタル信号に
後述する処理を施す信号処理装置ｔａと、この信号処理
装置Ｃυでの清果を可視化する表示装置ａ３と、信号処
理装置＆Ｉ）により制御されガルバノミラ−（霞を駆動
させ、レーザー光の反射角度を変化させるドライブ回路
１２３１とから成る。

この装置において、フェースプレート１１６１内面には
、７ヤドウマスクＯ０のアパーチャーのみを介して、平
行線束が照射される。すなわち、フェースプレート０１
３１内面には、シャドウマスクθ９の影絵が投影される
。

この様子をこの発明の原理と共に説明する。

レーザー光源（１υから発したレーザー光は、コリ嘴 メートレンズ（１２ａ）、（１２ｂ）　、ガルバノミラ
−（１漕、レンズ（１沿を介して、基準パターンである
シャドウマスク０９上でガルバノミラ−（１濠の鏡面が
ほぼ結像する。但し、厳密に結像関係にある必要はない
。

レンズ０滲からの平行線束は、シャドウマスク１１９を
通過し、ブラックストライプが形成されているフェース
プレー）（１５１上に入射する。この時、フェースグレ
ートαのを通過した光は、電気信号に変換される。この
電気信号は、シャドウマスク（１９の影のパターンとブ
ラックストライプとの相関信号である。

この状態で、ガルバノミラ−（１３１を振動させると、
平行線束は、シャドウマスク（１５１への入射角度が変
化する。すると相関信号も変化し、この変化から被測定
パターンであるブラックストライプの寸法を測定する。

更に、第２図を用いて詳説する。直径Ｄ＝２乃至３φで
ある平行線束Ｇｌ）が、開口ピッチ、すなわち、スロッ
トの中心間隔ｐ＝７５０μｍであるシャドウマスクａ５
に入射する。螢光体細条の中心間隔Ｌ＝２５０μｍであ
る。説明の都合上平行線束Ｇυは、シャドウマスクｔ＋
５１及びフェースグレートａｅに垂直に入射するものと
する。

この時、平行線束６υは、シャドウマスク０９のスロッ
トを通過した光束０１のみが、フェースプレー）　（＋
６１の内面に入射する。入射光のうち、ブラックストラ
イプ０２に照射した光は、フェースプレート（ＩＧを通
過しない。ブラックストライプ０４の間に設けられた螢
光体細条に照射した光のみがフェースプレー）（Ｉ［９
を通過し、検出器１１１に達する。又、フェースプレー
トａｅの内面には粗面である拡散面（１６ａ）が設けら
れている。この拡散面（１６ａ）は４フエースプレー）
（ＩＧ＋の表面から、内側が透けて見えないように設け
られている。視聴者にとっても内側が見えないことが好
ましく、更に、光の拡散によシ発色状態が好ましいもの
となる。又、この拡散面（１６ａ）の粗面を利用して、
スラリー等がはがれにくいようにもなっている。このよ
うな拡散面（１６ａ）があるため、コヒーレント光を使
い、フーリエ回折によシ測定を行うことができない。こ
の発明は、全体の説明からもわかる通り、フーリエ回折
を用いているのではなく、２つのパターンの相関関数を
利用している点が特徴である。

又、後述するようにこの実施例では、透過光量の最大値
及び最小値の比ので求めているので、拡散面（１６ａ）
が存在するための影響を受けることなく測定できる。

さて、定性的に透過光量変化を説明すると、光束（至）
がブラックストライプＧ２を覆う時には、最小となる。

逆に、光束（至）が螢光体細条に入射する時に最大とな
る。

更に、留意する点は、第２図にも示されるように、１本
の平行線束ｌ３１）はシャドウマスク叫の複数のスロッ
ト、フェースプレートαＱ内面の複数のブラックストラ
イプ（３３に対して、照射される点である。即ち、個別
のブラックストライプ（ゆではなく、複数のブラックス
トライプ（１７Ｊに対して、その平均値が測定されるこ
とになる。

以上の点に留意しつつ、よシ解析的な議論を行う。今、
シャドウマスク（１５１の影、すなわち、シャドウマス
クａ９のフレネル回折パターンをｆ　（ｘ）とし、ブラ
ックストライプ（３渇のパターンをｇ　（ｘ）　（光を
透過する領域の分布を示す。）とすれば、フェースプレ
ー）ＩＪＩｌＧを透過し、検出器（国に達する光量工（
Ｔ）は、 となる。但し、ａ＝Ｄ／２（Ｄは、前述のようにシャド
ウマスク（１つに入射する平行線束０Ｄの直径である。

）、τは第２図に示されるようにシャドウマスクｌＩＳ
に対し垂直方向から入射した平行線束Ｃ（Ｑによるフェ
ースプレート（１秒内面への投影〕々ターンとシャドウ
マスク（［９に対し、その垂直方向からθだけ傾いて入
射した平行線束ｃ四による投影）（ターンとの移動距離
である ここで、τは、シャドウマスク（［つとフェースプレー
ト（ｌｅの内面までの距離をｑとすると、τ＝＝　ｑ　
ｔａｎθ　　　　・・・・・・・・・・・・（２）とな
る。以下の議論のために、シャドウマスク（１つに対し
、その法線方向から平行線束Ｇυが入射した時の光量、
■（０）によって、■（τ）を規格化し、この関数をφ
（τ）とすると、 となる。更に、平行線束のビーム径りがシャドウマスク
（１５のスロットのピッチｐより充分大きいので φ（Ｔ）＝　　　　　　　　　　　　　　　・・・・・
・・・・（４）となる。φ（τ）は、光量の比でもよい
し、検出器（１εからの出力信号の比でもよい。又、こ
のφ（τ）は、照明光のビームサイズ（直径）に依存し
ない。

次に、前述のように、ブラックストライプ０擾のパター
ンを表わすｇ（２）は、シャドウマスクα９の開レピッ
チｐの３分の１の周期で、かつ、０，１の２値関数であ
る。これに対しｓ　　ｆ（ｘ）は、前述のように、フレ
ネル回折パターンである。以上に留意し、（４）式を実
際に計算してみると、第３図に示されるようになる。

定性的に検出器ｌｌ８１からの出力は、ブラックストラ
イプ鏝の幅によって左右されることは明らかである。例
えば、第４図に示すように７ヤドウマスク４暖のスロッ
トを通過した平行線束（■の中央に７エースプレート１
６）の内面のブラックストライプ（脅が位置する畔、検
出器（１秒からの出力は最小になる。

逆に、第５図に示されるように、ブラックストライプ０
邊が塗布されていす螢光体が塗布されている領域に、平
行線束（１の中央が位置する時、検出器（舟からの出力
は最大となる。すなわち、検出器（１秒の出力の最大及
び最小値は、ブラックストライプ（個の中心位置と、ブ
ラックストライプ国の間隔とに影響されることが、簡単
な定性的議論から椎察される。

これを定量的に扱う。フェースプレート（ｔｅの内面で
のシャドウマスク（１５１のフレネル回折パターンは、
解析的に非常に複雑であるが三角関数により非常によく
近似できることがわかった。例えば、第６図に示される
ように、前述のｑの値を適当に設定したとき、実線Ｕで
示される波形となる。この波形を第６図に示される点線
−で近似したところ、この実施例では誤差が少ない。

そこで、フレネル回折パターンｆ　（ｘ）と三角関数例
えばｌ＋ａｍａＸで近似する。更に、前述のような位置
関係にある時に（４）式を計算し、最大値と最小値との
比を実際に計算してみると、 となる。但し、ａは、シャドウマスク０均の開口サイズ
、αは、フレネル回折パターンを三角関数で近似したと
きの係数である。ｑがｌ　Ｑ　ｌ１ｍ前後のとき、α＝
０．７６８度において、フレネル回折パターンで計算し
たときと最も良く一致した。この三角関数はフレネル回
折パターンの１火成分とも考えられる。

通常、ブラックストライプ（２）パターンの測定に際し
ては、それ以前に、シャドウマスク（１５）の検査が終
了しておシ、シャドウマスクｕ９の関口サイズａは既知
である。従って（５）式において、α＋　ａ　＋　Ｐ　
＋は既知である。

そこで、Ｂを独立変数とし、Ｒを図示すると第７図のよ
うになる。この図は、より有益な情報を含んでいる。す
なわち、φ（τ）の最大値及び最小値の比であるＲが求
まると、第７図を用いてブラックストライプ０湯の幅Ｂ
が求まることになる。

以上がこの実施例の基本的態様である。更に第１図に示
されるガルバノミ９−！＋３）を微小回転させると、第
２図に示されるように、平行線束のシャドウマスクｆ１
５１への入射拘置が変化し、シャドウマスクｕ９の法線
方向からθだけ傾いた方向に平行線束Ｇ）３が移動する
。これにつれて、シャドウマスク（国に達する光量も変
化し、第３図に示されるようにτの増大方向に沿って検
出器ａｇの出力波形も変化する。

この時の最初の３組の最大値及び最小値から赤、緑、青
の螢光体細条を任切っているブラックスト２イブ６カの
幅を与えられる。例えば、点ｆｆ１）での値１１゜と点
＠での値■２との比から赤に対応するブラックストライ
プＧ２の幅が点崗での値工３と点（７４での値■４との
比から、緑に対応するブラックストライプ０つの幅が、
点（７９での値■５と点（７６１での値工６との比から
青に対応するブラックストライプＣ３３の幅がそれぞれ
求まる。ここで、どのプラ・ツクスト、ライプＣ３力に
対応するかは、フェースプレー）　（＋１内面に、螢光
体細条及びブラックストライプＣ３諺を形成時にわかる
。

更に、シャドウマスクａ！１９の回折）（ターンの移動
量τは、（２）式によって、平行線束のシャドウマスク
（１５１への入射角θで表わされる。従って、第３図に
示されるφ（τ）は、θで表現され、φψ）となる。

このようにφ（θ）と表わされることがら、後述するよ
うに、信号処理装置Ｃ２９，ドライブ回路Ｑ３によって
ガルバノミラ−（【３の角度を指定することにょシ、測
定量がどのブラックストライプ（３４に対応しているか
がわかる。

以上この実施例での測定原理について説明したが、次に
、これを実現する構成について詳述する。

第１図に示されるように、フェースプレート６Ｑ〕らの
光は、検出器（１１１増幅器ｔｌｌ、Ａ−Ｄ変換器（譲
を介してディジタル信号として信号処理装置Ｑυに取シ
入れられる。

信号処理装置シυは、基本的にＣＰＵ　（Ｃｅｎｔｒａ
ぎｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　ｕｎｉｔ）とＲＯＭ　（Ｒｅ
ａｄ　ｏｎｌｙ　ｍｅｍｏｒｙ）とから成る。Ｃｐｕの
機能は、Ａ−Ｄ変換器ｉ′２ｃＪから信号が入力する度
に最大値及び最小値の検出を行う機能と、この最大値及
び最小値との検出が終了する度にドライブ回路（ハ）を
介してガルバノミラ−（１３）の角度を変化させる機能
と、この最大値及び最／Ｊ％値との検出が終了する度に
ドライブ回路１四を介して、ガルバノミラ−（１３１の
角度を変化させる機能と、この角度変化がシャドウマス
ク（Ｉｓの開口ピッチｐの３分の１に達した後、この区
間での最大値及び最小値の比をとる機能と、この比を用
いて頭のアドレス指定を行う機能と、この頭内のアドレ
ス指定された番地に収納されているデータを取シ出し表
示装置（２′ＩＪに送出する機能と及び移動装置（１７
）を制御する機能とを有する。

ここで、ＲＯＭＩＣは、第７図に示されるＲ−Ｂ曲線が
記憶されている。但し、アドレス指定は前述のように、
最大値及び最小値との比Ｒによって行う。

又、ガルバノミラ−（１９の角度がわかると、シャドウ
マスク住９への平行線束の入射角度が指定される。する
と前述のように、どのブラックストライプ（３４に相当
するかがわかる。

移動装置αｎは、シャドウマスクα９が取シ付けられて
いるフェースプレー）　（１４９を移動させ、測定位置
を変化させる。通常、測定はフェースプレートａＱの内
面全体に対して行う必要はなく、１０点程度で充分であ
る。この移動装置（［ｎも、その程度の数の位置設定を
行う能力があればよい。

従−）で、移動装置（１７）及びドライブ回路１ソ（資
）の制御をＣＰＵが行うことによって１表示装置（功に
は、単にブランクスドライブ（３々の幅という情報のみ
ではなく測定位置及びブラックストライプぐ３りの種類
捷でを与えることができ、これらを表示できる。

父、この実施例では、レーザー光を使用しているので、
検出器１１８１に入射する光量が多いため外光に対して
強い。さらに外光に対して安定に動作させるには、＠１
図において検出器ｆｌ＆の前面にレーザー光のみを通過
させる色素フィルタ又は干渉フィルタを使用すれば良い
。第１図において、レーザー光＃、Ｇｌ）のかわりに白
色慰球等のインコヒーレントな光源を用いても同様に測
定ができる。

又、シャドウマスク（１５）に入射する光束は完全に平
行でなくともよい。

〔発明の他の実施例〕

第８図は本発明の他の実施例である。基本的には第１図
の実施例と同様であるが、この実施例では、同一のブラ
ウン管フェースプレートにあっては被測定物を固定した
ままで、被測定物であるブラウン管フェースプレートの
全面の測定を可能としたものである。すなわち、ブラウ
ン管フェースプレートの曲面の曲率中心近くに、偏向用
ガルバノミラ−（１３ａ）を配置ｔＬ１．さらにこのガ
ルバノミラ−（１３ａ）をモータ（８υで回転させ、２
次元走査を可能としたものである。（２３ａ）はガルバ
ノミラ−（１３ａ）およびモータ［Ｆ］υを信号処理装
置０１）の信号で制御するドライブ回路である。次に光
の検出は、フレネルレンズ等の集光器鏝により検出器（
［８）に光を集める。このとき外光も集光される可能性
があるため、干渉フィルタ（ハ）を用いてレーザ光のみ
を受光している。このようにしてレーザ光をガルバノミ
ラ−（１３ａ）で走査することによシ、被測定物を固定
したままで全面の測定が可能となる。なお他の動作は第
１図の実施例と同様である。

〔発明の他の実施例〕

第９図は本発明の他の実施例である。この実施例も第１
図の実施例と本質的には同じであるが、シャドウマスク
に入射する光の方向を変える手段として多数の光源を使
用している点が異なる。すなわち光源として例えばＬＥ
Ｄや半導体レーザ等を用いて第９図に示されるように光
源１９υ、＋９２．（９３１を配置し、それぞれを切替
えてドライブする切替ドライブ回路（９４）を用いて発
光させることにより、シャドウマスクに入射する光の方
向を変化させる。このようにすることにより極めて高速
で測定することが可能となる。他は第１図の実施例と全
く同様である。ここで発光素子の配列を一次元ではなく
、第１０図のように配列した場合には、ブラックストラ
イプではなく、ブラックマトリックスの開口径を測定す
ることも可能となる。なお光源の数を３ではなく、多数
用いた方が光源とシャドウマスクとの相対角度ずれに対
して安定した測定が可能となる。また第９図で光源を移
動させて測定しても良い。さらには光源を移動させる代
りに光ファイバーを用いて、光ファイバーを用いて、光
ファイバーを移動させても同様に測定することができる
。

以上いくつかの実施例ではカラーブラウン管の内面にパ
ターンニングされたブラックストライプの幅測定の場合
について述べたが、これに限定されるものではない。例
えば、セラミック基板に印刷されたパターンの測定等に
おいても基準パターンを用意すれば、本実施例と同様に
測定することが可能となる。又、ブラックストライプの
ピッチも測定すること、は可能となる。

又、この発明では、基準パターンと被測定パターンとの
重畳信号が必要なのであるから、被測定パターンを通過
した光ばかりでなく、反射光でもよいことは当然である
。このように、この発明の趣旨を逸脱しない限りどのよ
うな変形をもこの発明に含まれるのは当然である。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第７図は、一実施例を示し、第１図は、その
全体の構成を示す図、第２図乃至Ｍ７図る。 ａυ・・・レーザ光源 （１３・・・ガルバノミラ− １１す・・・レンズ （１５・・・シャドウマスク ＋ｔ５・・・フェースプレート １１８）・・・検出器 ｅｌｌ）・・・信号処理装置 代理人　弁理士　則　近　憲　佑 （ｔｊか１名） 第　　１　図 第２図 第３図 第７図 第４図 第　　５　図 第６図 第８図 −ｌゴ □ ■ ３１− 第９図 ｉｆ　　　　　　第１０図 ヂ２ ム

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１７光源と、この光源からの光束が照射され°る基準
   パターンと、この基準パターンへの前記光束の入射方向
   を変化させる光学系と、前記基準パターンから所定距離
   能れて設けられ、前記基準パターンと有意な相関を有す
   る被測定パターンと、この被測定パターンと前記基準パ
   ターンとの重畳光量を電気信号に変換する検出器と、こ
   の検出器からの電気信号の最大値及び最小値を用いて被
   測定パターンの寸法を算出する信号処理装置とを備える
   ことを特徴とするパターン測定装置。