JPS5927499A - 簡単で高能率なシ−トプラズマの生成法 - Google Patents

簡単で高能率なシ−トプラズマの生成法

Info

Publication number
JPS5927499A
JPS5927499A JP57060634A JP6063482A JPS5927499A JP S5927499 A JPS5927499 A JP S5927499A JP 57060634 A JP57060634 A JP 57060634A JP 6063482 A JP6063482 A JP 6063482A JP S5927499 A JPS5927499 A JP S5927499A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plasma
sheet plasma
highly efficient
sheet
magnetic field
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP57060634A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0423400B2 (ja
Inventor
上進 浦本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to JP57060634A priority Critical patent/JPS5927499A/ja
Publication of JPS5927499A publication Critical patent/JPS5927499A/ja
Publication of JPH0423400B2 publication Critical patent/JPH0423400B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
    • Y02E30/10—Nuclear fusion reactors

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 シートプラズマ（厚みが数組以下で巾が大きイ布状のプ
ラズマ）は普通につくられる空間に拡がったプラズマに
はない、いろいろな利用価値がある。例えば直流放電で
つくられたシートプラズマは、陽極面積が小さくプラズ
マ中のイオンを集める面積が極めて大きく取れるので。
一定の放電々流に対して陽極へのイオン損失を小さくし
て効率よく大電流のイオンを大面積の試料に集めること
ができる。これはイオンプレしかしながら一般に磁場を
かけてもプラズマは軸対称な円柱状になるだけでシーＩ
・プラズマは得られない。そこで放電の陰極を細長くし
たり、放電の中間電極をシートに合せてスリット型にし
てシートプラズマをつくる試みがなされているが、大電
流で且つ高いガス効率でシートプラズマをつくることに
は成功していない。
この発明に於いては９通常の磁場に沿ってつくられた円
柱状の放電プラズマの両側に角形の永久磁石を配置する
だけで簡単に管径−ばいから任意の巾で、厚みが数組以
下のシートプラズマをつくることに成功した。電極は全
て普通の軸対称なものをそのま＼転用できるので、大電
流化、高ガス効率化することは極めて簡単である。原理
は図面（Ａ）　（Ｂ）に示したように、初期の軸方向磁
場＆０に新しく永久磁石の磁場（Ｂｘ　。
Ｂｙ、　Ｂｚ　）を加えたことである。Ｂｘはプラズマ
円柱を拡げ、Ｂｙはそれを圧縮する。このとき永久くな
らないことが必要条件である。Ｂｚｏと（ＢＸ。
Ｂｙ、Ｂｚ）の強さを変えることによってシートプラズ
マの巾、厚み、密度の一様性を任意に調節することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
図に於いて、１は角形永久磁石（Ｂｘ、　Ｂｙ、　ＢＺ
はその成分）、２は初期のプラズマ円柱断面。 ３は初期のプラズマ円柱とその流れの方向、４は初期の
プラズマに加えである磁場、５はシートプラズマの断面
、６は永久磁石の磁場を通過する前の円柱プラズマ流、
７は、永久磁石の磁場を通過してシート状に拡がったプ
ラズマ（目的のシートプラズマ流）。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 磁場中の放電でつくられた円柱プラズマの両側に磁石を
    配置して、プラズマを圧縮し拡げてシート状にする方法
JP57060634A 1982-04-12 1982-04-12 簡単で高能率なシ−トプラズマの生成法 Granted JPS5927499A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57060634A JPS5927499A (ja) 1982-04-12 1982-04-12 簡単で高能率なシ−トプラズマの生成法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57060634A JPS5927499A (ja) 1982-04-12 1982-04-12 簡単で高能率なシ−トプラズマの生成法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5927499A true JPS5927499A (ja) 1984-02-13
JPH0423400B2 JPH0423400B2 (ja) 1992-04-22

Family

ID=13147936

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57060634A Granted JPS5927499A (ja) 1982-04-12 1982-04-12 簡単で高能率なシ−トプラズマの生成法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5927499A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6350464A (ja) * 1986-08-19 1988-03-03 Toobi:Kk シ−トプラズマ・イオンプレ−テイング方法とその装置
US5123227A (en) * 1988-04-21 1992-06-23 Snow Brand Milk Products Co., Ltd. Positioning and press-sealing means
JPH04289164A (ja) * 1991-03-19 1992-10-14 Limes:Kk イオンプレーティングによる成膜方法
US5413663A (en) * 1992-06-11 1995-05-09 Tokyo Electron Limited Plasma processing apparatus
US5601653A (en) * 1993-04-30 1997-02-11 Kabushiki Kaisha Toshiba Apparatus for performing plasma process on semiconductor wafers and the like and method of performing plasma process
WO2008120430A1 (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Shinmaywa Industries, Ltd. シートプラズマ装置及びシート状プラズマ調整方法
WO2008136130A1 (ja) * 2007-04-24 2008-11-13 Canon Anelva Corporation プラズマ発生装置およびこれを用いた成膜方法並びに成膜装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4906331B2 (ja) * 2005-12-06 2012-03-28 新明和工業株式会社 シートプラズマ成膜装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
MACHINE.DESIGN.VOL.51.N09.P30-36=1979 *

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6350464A (ja) * 1986-08-19 1988-03-03 Toobi:Kk シ−トプラズマ・イオンプレ−テイング方法とその装置
US5123227A (en) * 1988-04-21 1992-06-23 Snow Brand Milk Products Co., Ltd. Positioning and press-sealing means
US5157895A (en) * 1988-04-21 1992-10-27 Snow Brand Milk Products, Ltd. Positioning and press-sealing means
JPH04289164A (ja) * 1991-03-19 1992-10-14 Limes:Kk イオンプレーティングによる成膜方法
US5413663A (en) * 1992-06-11 1995-05-09 Tokyo Electron Limited Plasma processing apparatus
US5601653A (en) * 1993-04-30 1997-02-11 Kabushiki Kaisha Toshiba Apparatus for performing plasma process on semiconductor wafers and the like and method of performing plasma process
WO2008120430A1 (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Shinmaywa Industries, Ltd. シートプラズマ装置及びシート状プラズマ調整方法
JP5261179B2 (ja) * 2007-03-28 2013-08-14 新明和工業株式会社 シートプラズマ装置及びシート状プラズマ調整方法
WO2008136130A1 (ja) * 2007-04-24 2008-11-13 Canon Anelva Corporation プラズマ発生装置およびこれを用いた成膜方法並びに成膜装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0423400B2 (ja) 1992-04-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19509284B4 (de) Vorrichtung zur Erzeugung eines ebenen Plasmas unter Verwendung variierender Magnetpole
US7259378B2 (en) Closed drift ion source
US2160799A (en) Electron discharge device
Chandezon et al. A new‐regime Wiley–McLaren time‐of‐flight mass spectrometer
US6919672B2 (en) Closed drift ion source
JPS6091600A (ja) 永久磁石とソレノイドによつて作られるイオン源の強磁性体の構造体
JP2008156735A (ja) マグネトロンスパッタリング用磁気回路
JPS5927499A (ja) 簡単で高能率なシ−トプラズマの生成法
US3231175A (en) Electrical vacuum pump
JPS6331481Y2 (ja)
US3379365A (en) Magnetically confined ion getter pump having combined coupling flange and pole piece structure
JPH0696680A (ja) 金属イオン源
JPH024979B2 (ja)
JPS6250941B2 (ja)
JP2879302B2 (ja) マグネトロンプラズマエッチング用磁場発生装置
JPS60243957A (ja) マイクロ波イオン源
SU637749A1 (ru) Магниторазр дный манометр
JPH0241584B2 (ja)
Golubev et al. The source of negative ions
US6639222B2 (en) Device and method for extracting a constituent from a chemical mixture
JPS63228549A (ja) マイクロ波多価イオン源
DE2020998C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Trennen von Isotopen durch Zentrifugieren
JPH03102800A (ja) 高周波多重極線型加速器
SU370891A1 (ru) Всесою
SU719371A1 (ru) Источник ионов