JPS5924743B2 - 光フアイバ母材の製造法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造法Info
- Publication number
- JPS5924743B2 JPS5924743B2 JP975680A JP975680A JPS5924743B2 JP S5924743 B2 JPS5924743 B2 JP S5924743B2 JP 975680 A JP975680 A JP 975680A JP 975680 A JP975680 A JP 975680A JP S5924743 B2 JPS5924743 B2 JP S5924743B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- base material
- porous glass
- manufacturing
- rod
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ＶＡＤ法により光ファイバ母材を製造する方
法に関するものである。
法に関するものである。
従来より、光通信に使用される光ファイバは各種の方法
により製造されているが、ＶＡＤ法が最近注目されつつ
ある。
により製造されているが、ＶＡＤ法が最近注目されつつ
ある。
ＶＡＤ法（気相軸付法）は、回転しながら上方向に移動
する棒状基材の下端に煤状ガラス微粒子を付着堆積し、
棒状基材を引き上げながら煤状ガラス微粒子を軸方向に
成長させて棒状の多孔質ガラスラリフォームを形成した
後、所定の処理を施して光ファイバ母材を形成する方法
である。そして、この光ファイバ母材を紡糸して光ファ
イバを形成している。ところで、光ファイバ母材の一製
造法として、ＶＡＤ法により多孔質ガラスラリフォーム
を形成した後、加熱して透明ガラス化し、延伸して延伸
ロッドを形成し、然る後この延伸ロッドに石英ジャケッ
トを設けて所定のコア／外径の比率を有する光ファイバ
母材を製造する方法がある。
する棒状基材の下端に煤状ガラス微粒子を付着堆積し、
棒状基材を引き上げながら煤状ガラス微粒子を軸方向に
成長させて棒状の多孔質ガラスラリフォームを形成した
後、所定の処理を施して光ファイバ母材を形成する方法
である。そして、この光ファイバ母材を紡糸して光ファ
イバを形成している。ところで、光ファイバ母材の一製
造法として、ＶＡＤ法により多孔質ガラスラリフォーム
を形成した後、加熱して透明ガラス化し、延伸して延伸
ロッドを形成し、然る後この延伸ロッドに石英ジャケッ
トを設けて所定のコア／外径の比率を有する光ファイバ
母材を製造する方法がある。
しかしながら、この方法で製造された光ファイバ母材を
紡糸して得られた光ファイバは、光伝送損失が２ｄＢ／
に１ｎ〜５ｄＢ／ ｋｌｎと大きくかつバラツキがあ
るというのが実情である。本発明者等がその原因を調べ
たところ、延伸ロッド表面に遊離した状態で存在するＧ
ｅ０２やＧｅＯが高い蒸気圧を有するために高温での紡
糸時に蒸気となり、延伸ロッドと石英ジャケットとの境
界面において成長して泡となり、その結果それらの境界
面に間隙が生じるためであり、特に石英ジャケット内壁
に損傷がある場合には、上記のＧｅＯ２やＧｅＯの泡に
より損傷が拡大してしまい、光伝送損失の大きな光ファ
イバとなつてしまうことが判明した。
紡糸して得られた光ファイバは、光伝送損失が２ｄＢ／
に１ｎ〜５ｄＢ／ ｋｌｎと大きくかつバラツキがあ
るというのが実情である。本発明者等がその原因を調べ
たところ、延伸ロッド表面に遊離した状態で存在するＧ
ｅ０２やＧｅＯが高い蒸気圧を有するために高温での紡
糸時に蒸気となり、延伸ロッドと石英ジャケットとの境
界面において成長して泡となり、その結果それらの境界
面に間隙が生じるためであり、特に石英ジャケット内壁
に損傷がある場合には、上記のＧｅＯ２やＧｅＯの泡に
より損傷が拡大してしまい、光伝送損失の大きな光ファ
イバとなつてしまうことが判明した。
本発明者等は、これらの欠点を解消するために更に鋭意
研究を行つた結果、多孔質ガラスラリフォームをＨ２雰
囲気中で熱処理して多孔質ガラスラリフォーム表面近僕
におけるｅ０２やＧｅＯを蒸発除去し、多孔質ガラスラ
リフォーム外側近傍にＳｉＯ２の多い層を形成し、然る
後通常の爾後処理を施して光フアイバ母材を形成してか
ら光フアイバを形成すると、光伝送損失の少ない光フア
イバが形成されることを知見した。本発明はこの知見に
基づいて完成されたもので、その特徴はＶＡＤ法により
多孔質ガラスプリフオームを形成した後、透明ガラス化
し、延伸し、然る後石英ジヤケツトを設けて光フアイバ
母材を製造するに際し、上記多孔質ガラスプリフオーム
をＨ２雰囲気中で熱処理することにある。以下、本発明
を詳細に説明する。
研究を行つた結果、多孔質ガラスラリフォームをＨ２雰
囲気中で熱処理して多孔質ガラスラリフォーム表面近僕
におけるｅ０２やＧｅＯを蒸発除去し、多孔質ガラスラ
リフォーム外側近傍にＳｉＯ２の多い層を形成し、然る
後通常の爾後処理を施して光フアイバ母材を形成してか
ら光フアイバを形成すると、光伝送損失の少ない光フア
イバが形成されることを知見した。本発明はこの知見に
基づいて完成されたもので、その特徴はＶＡＤ法により
多孔質ガラスプリフオームを形成した後、透明ガラス化
し、延伸し、然る後石英ジヤケツトを設けて光フアイバ
母材を製造するに際し、上記多孔質ガラスプリフオーム
をＨ２雰囲気中で熱処理することにある。以下、本発明
を詳細に説明する。
先ず、ＶＡＤ法により、回転しながら上方向に移動する
棒状基材の下端に煤状ガラス微粒子を付着堆積し、棒状
基材を引き上げながら煤状ガラス微粒子を軸方向に成長
させて棒状の多孔質ガラスプリフオームを形成する。
棒状基材の下端に煤状ガラス微粒子を付着堆積し、棒状
基材を引き上げながら煤状ガラス微粒子を軸方向に成長
させて棒状の多孔質ガラスプリフオームを形成する。
次いで、上記のようにして形成された多孔質ガラスプリ
フオームをＨ２雰囲気中で８００〜１０００℃程度の高
温において熱処理する。
フオームをＨ２雰囲気中で８００〜１０００℃程度の高
温において熱処理する。
すると、多孔質ガラスプリフオーム表面近傍に遊離した
状態で存在するＧｅＯ２やＧｅＯはより揮発されやすい
形で蒸発除去され、多孔質ガラスプリフオーム外側近傍
にＳｉＯ２の多い層が形成される。次いで、上記のよう
にＨ２雰囲気中で熱処理された多孔質ガラスプリフオー
ムを加熱して透明ガラス化し、延伸して延伸ロツドを形
成し、この延伸ロツドに石英ジヤケツトを設けてから加
熱融着して光フアイバ母材を形成する。然る後、光フア
イバ母材を紡糸して光フアイバを形成する。この方法に
より、ステツプ型、二乗分布型いずれの光フアイバも形
成できる。ところで、前記のように本発明においては、
多孔質ガラスプリフオームをＨ２雰囲気中で熱処理して
多孔質ガラスプリフオーム表面近傍のＧｅＯ２やＧｅＯ
を蒸発除去し、その外側近傍にＳｉＯ２の多い層を形成
している。
状態で存在するＧｅＯ２やＧｅＯはより揮発されやすい
形で蒸発除去され、多孔質ガラスプリフオーム外側近傍
にＳｉＯ２の多い層が形成される。次いで、上記のよう
にＨ２雰囲気中で熱処理された多孔質ガラスプリフオー
ムを加熱して透明ガラス化し、延伸して延伸ロツドを形
成し、この延伸ロツドに石英ジヤケツトを設けてから加
熱融着して光フアイバ母材を形成する。然る後、光フア
イバ母材を紡糸して光フアイバを形成する。この方法に
より、ステツプ型、二乗分布型いずれの光フアイバも形
成できる。ところで、前記のように本発明においては、
多孔質ガラスプリフオームをＨ２雰囲気中で熱処理して
多孔質ガラスプリフオーム表面近傍のＧｅＯ２やＧｅＯ
を蒸発除去し、その外側近傍にＳｉＯ２の多い層を形成
している。
このため、石英ジヤケツトを施した後紡糸処理を施して
も、延伸ロツドの外側部分と石英ジヤケツトとは同材質
となるので、ＧｅＯ２やＧｅＯによる泡は発生しないだ
けではなく局部的膨張も生じず、それらの境界面には間
隙は生じない。また、仮に石英ジヤケツトに損傷があつ
たとしても損傷が拡大するような不都合は生じず、光伝
送損失の少ない光フアイバが得られる。以上説明したよ
うに、本発明においては、ＶＡＤ法により形成された多
孔質ガラスプリフオームをＨ２雰囲気中で熱処理してい
る。従つて、熱処理後の多孔質ガラスプリフオームを透
明ガラス化し、延伸し、次いで石英ジヤケツトを設けて
光フアイバ母材を製造し、然る後光フアイバ母材を高温
で紡糸して光フアイバを製造する際にも、従来法のよう
にＧｅＯ２やＧｅＯによる泡は生じず、延伸ロツドと石
英ジヤケツトとの境界付近には間隙は生じず、光伝送損
失の少ない光フアイバが確実に形成される。また、石英
ジヤケツトに損傷があつたとしてもその損傷が拡大され
るような不都合が生じないため、規格品の石英ジヤケツ
トをそのまま何の処理も施さずに使用でき、従つて安価
な製造コストで光フアイバを製造できる等の実用的効果
も奏される。以下、実施例を示し、本発明を具体的に説
明する。
も、延伸ロツドの外側部分と石英ジヤケツトとは同材質
となるので、ＧｅＯ２やＧｅＯによる泡は発生しないだ
けではなく局部的膨張も生じず、それらの境界面には間
隙は生じない。また、仮に石英ジヤケツトに損傷があつ
たとしても損傷が拡大するような不都合は生じず、光伝
送損失の少ない光フアイバが得られる。以上説明したよ
うに、本発明においては、ＶＡＤ法により形成された多
孔質ガラスプリフオームをＨ２雰囲気中で熱処理してい
る。従つて、熱処理後の多孔質ガラスプリフオームを透
明ガラス化し、延伸し、次いで石英ジヤケツトを設けて
光フアイバ母材を製造し、然る後光フアイバ母材を高温
で紡糸して光フアイバを製造する際にも、従来法のよう
にＧｅＯ２やＧｅＯによる泡は生じず、延伸ロツドと石
英ジヤケツトとの境界付近には間隙は生じず、光伝送損
失の少ない光フアイバが確実に形成される。また、石英
ジヤケツトに損傷があつたとしてもその損傷が拡大され
るような不都合が生じないため、規格品の石英ジヤケツ
トをそのまま何の処理も施さずに使用でき、従つて安価
な製造コストで光フアイバを製造できる等の実用的効果
も奏される。以下、実施例を示し、本発明を具体的に説
明する。
〔実施例 １〕
先ず、ＶＡＤ法により棒状基材の下端に直径６０ｍｍφ
、長さ３００ｍｕの多孔質ガラスプリフオームを形成し
た。
、長さ３００ｍｕの多孔質ガラスプリフオームを形成し
た。
次いで、第１図に示すように、この棒状基材１の下端に
形成された多孔質ガラスプリフオーム１ａを加熱炉２と
石英管３とＨ２導入管４とＨ２排気管５とを具備する加
熱装置６内に配設し、次の条件下で熱処理した。Ｈ２流
速 ２１／分 熱処理温度 １２００分Ｃ 熱処理時間 １時間 上記Ｈ２雰囲気中で熱処理された多孔質ガラスプリフオ
ームを加熱して透明ガラス化し、延伸して延伸ロツドを
形成し、この延伸ロツドに石英ジヤケツトを設け、然る
後加熱融着してから紡糸して光フアイバを形成した。
形成された多孔質ガラスプリフオーム１ａを加熱炉２と
石英管３とＨ２導入管４とＨ２排気管５とを具備する加
熱装置６内に配設し、次の条件下で熱処理した。Ｈ２流
速 ２１／分 熱処理温度 １２００分Ｃ 熱処理時間 １時間 上記Ｈ２雰囲気中で熱処理された多孔質ガラスプリフオ
ームを加熱して透明ガラス化し、延伸して延伸ロツドを
形成し、この延伸ロツドに石英ジヤケツトを設け、然る
後加熱融着してから紡糸して光フアイバを形成した。
長さ１５００ｍの光フアイバの光伝送損失の波長特性を
測定したところ、第２図の曲線Ａの結果が得られた。な
お、比較のため、Ｈ２雰囲気中で熱処理しない光フアイ
バについても光伝送損失の波長特性を測定したところ、
第２図の曲線Ｂが得られた。第２図の曲線Ａ，Ｂを比較
することにより、未処理の曲線Ｂの場合には構造不完全
性による光伝送損失が高いのに対し、本発明の方法で処
理した光フアイバの曲線Ａの場合には光伝送損失が少な
く、曲線Ｂの場合よりも約１ｄＢ／１Ｃｆｆ１減少して
いることがわかる。
測定したところ、第２図の曲線Ａの結果が得られた。な
お、比較のため、Ｈ２雰囲気中で熱処理しない光フアイ
バについても光伝送損失の波長特性を測定したところ、
第２図の曲線Ｂが得られた。第２図の曲線Ａ，Ｂを比較
することにより、未処理の曲線Ｂの場合には構造不完全
性による光伝送損失が高いのに対し、本発明の方法で処
理した光フアイバの曲線Ａの場合には光伝送損失が少な
く、曲線Ｂの場合よりも約１ｄＢ／１Ｃｆｆ１減少して
いることがわかる。
第１図は本発明の方法を実施するのに使用する加熱装置
の概略図、第２図は本発明の方法および従来法で得られ
る光フアイバの光伝送損失の波長特性を示すグラフであ
る。 １ａ・・・・・・多孔質ガラスプリフオーム、２・・・
・・・加熱炉、３・・・・・・石英管、６・・・・・・
加熱装置。
の概略図、第２図は本発明の方法および従来法で得られ
る光フアイバの光伝送損失の波長特性を示すグラフであ
る。 １ａ・・・・・・多孔質ガラスプリフオーム、２・・・
・・・加熱炉、３・・・・・・石英管、６・・・・・・
加熱装置。
Claims (1)
- １ ＶＡＤ法により多孔質ガラスプリフォームを形成し
た後、この多孔質ガラスプリフォームをＨ＿２雰囲気中
で熱処理し、ついでこれを透明ガラス化し、延伸し、然
る後石英ジャケットを設けて光ファイバ母材を製造する
ことを特徴とする光ファイバ母材の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP975680A JPS5924743B2 (ja) | 1980-01-30 | 1980-01-30 | 光フアイバ母材の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP975680A JPS5924743B2 (ja) | 1980-01-30 | 1980-01-30 | 光フアイバ母材の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56109833A JPS56109833A (en) | 1981-08-31 |
| JPS5924743B2 true JPS5924743B2 (ja) | 1984-06-12 |
Family
ID=11729122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP975680A Expired JPS5924743B2 (ja) | 1980-01-30 | 1980-01-30 | 光フアイバ母材の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5924743B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59217640A (ja) * | 1983-05-26 | 1984-12-07 | Fujikura Ltd | 光フアイバの製造方法 |
| JP2559395B2 (ja) * | 1987-02-17 | 1996-12-04 | 住友電気工業株式会社 | 高純度透明ガラスの製造方法及び製造装置 |
| JPH0653593B2 (ja) * | 1989-06-09 | 1994-07-20 | 信越石英株式会社 | 合成シリカガラス光学体及びその製造方法 |
| JPH04260630A (ja) * | 1991-02-08 | 1992-09-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ用母材の製造方法 |
-
1980
- 1980-01-30 JP JP975680A patent/JPS5924743B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56109833A (en) | 1981-08-31 |
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