JPS59232762A - ワイヤ・ソ−のスラリ洗浄装置 - Google Patents
ワイヤ・ソ−のスラリ洗浄装置Info
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- JPS59232762A JPS59232762A JP10569983A JP10569983A JPS59232762A JP S59232762 A JPS59232762 A JP S59232762A JP 10569983 A JP10569983 A JP 10569983A JP 10569983 A JP10569983 A JP 10569983A JP S59232762 A JPS59232762 A JP S59232762A
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- slurry
- wire
- abrasive grains
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- upper liquid
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B27/00—Other grinding machines or devices
- B24B27/06—Grinders for cutting-off
- B24B27/0633—Grinders for cutting-off using a cutting wire
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D1/00—Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor
- B28D1/02—Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by sawing
- B28D1/025—Use, recovery or regeneration of abrasive mediums
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Mining & Mineral Resources (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は複数個の溝付案内ローラに巻回された高張力金
属細線(以下ワイヤ)を線軸方向に往復送線駆動し、こ
れに脆性被加工物(以下ワーク)全圧接し両者間に遊離
砥粒加工液(以下スラリ)″′全注ぎつつラッピングカ
ットするようにしたワイヤ・ソーにおいて、付着するス
ラリ全効率よく洗浄して、ワイヤ・ソーの長寿命化等を
図れるようにしたワイヤ・ソーの洗浄装置に関する。
属細線(以下ワイヤ)を線軸方向に往復送線駆動し、こ
れに脆性被加工物(以下ワーク)全圧接し両者間に遊離
砥粒加工液(以下スラリ)″′全注ぎつつラッピングカ
ットするようにしたワイヤ・ソーにおいて、付着するス
ラリ全効率よく洗浄して、ワイヤ・ソーの長寿命化等を
図れるようにしたワイヤ・ソーの洗浄装置に関する。
ワイヤ・ソーは一般に第1図に示すように、無端状とさ
れ、ラッピングカット加工部にてスラリ全直接ワーク2
の直上もしくはワーク直前のワイヤ1に供給する方法が
採られている。この場合、ワイヤ1はワーク2を離れて
もスラリ全付着させたまま下流のツーリング全通過する
ことになる。
れ、ラッピングカット加工部にてスラリ全直接ワーク2
の直上もしくはワーク直前のワイヤ1に供給する方法が
採られている。この場合、ワイヤ1はワーク2を離れて
もスラリ全付着させたまま下流のツーリング全通過する
ことになる。
そこで、次々と案内ローラ3の溝4に進入、退出f:繰
返して必然的にローラ溝部に転動摩耗を生じ、やがて次
第にワイヤ1の整列精度を低下させることになっていた
。また、案内ローラ3の製作誤差や張力不揃いなどの原
因で谷溝の谷径が不均等に摩耗することもある。さらに
系内ローラ群の組付誤差によりワイヤ1が溝中心面に直
入せず傾斜して溝側面に触れる場合などは、摺動成分を
生じ、摩耗が急速に展開する。特に案内ロー、う3の一
部溝の偏摩耗に基づく谷径の減少から派生する滑り成分
は、本質的にボジテプ・フィードバックのかかる発散系
であシ、一旦、一部溝の摩耗が先行し、その谷径が全溝
の平均値から一定以上離れると以後、滑りはなだれ状に
増加して異常摩滅に至る。
返して必然的にローラ溝部に転動摩耗を生じ、やがて次
第にワイヤ1の整列精度を低下させることになっていた
。また、案内ローラ3の製作誤差や張力不揃いなどの原
因で谷溝の谷径が不均等に摩耗することもある。さらに
系内ローラ群の組付誤差によりワイヤ1が溝中心面に直
入せず傾斜して溝側面に触れる場合などは、摺動成分を
生じ、摩耗が急速に展開する。特に案内ロー、う3の一
部溝の偏摩耗に基づく谷径の減少から派生する滑り成分
は、本質的にボジテプ・フィードバックのかかる発散系
であシ、一旦、一部溝の摩耗が先行し、その谷径が全溝
の平均値から一定以上離れると以後、滑りはなだれ状に
増加して異常摩滅に至る。
ワーク2の要求精度が高くかつ加工面積が大きい程、案
内溝4の摩耗はその耐用性を低下させ、甚しくはワーク
ごとに新案内ローラに取シ替えたυ或いはやむなく精度
低下に甘んじることになる。
内溝4の摩耗はその耐用性を低下させ、甚しくはワーク
ごとに新案内ローラに取シ替えたυ或いはやむなく精度
低下に甘んじることになる。
例えば直径5〜6インチにおよぶ大径シリコン単結晶の
ウェハリング加工の如く10数時間以上を要する場合は
、作業途中案内ローラの交換が行えないという実際面か
らの技術的理由で、溝の偏摩耗拡大による精度劣化を容
認せざるを得す、甚しくは、なだれ摩耗に転落して作業
継続不能に陥る。
ウェハリング加工の如く10数時間以上を要する場合は
、作業途中案内ローラの交換が行えないという実際面か
らの技術的理由で、溝の偏摩耗拡大による精度劣化を容
認せざるを得す、甚しくは、なだれ摩耗に転落して作業
継続不能に陥る。
勢いワイヤ・ソーは、大物加工に不適視され、昨今シリ
コン・インゴットの径大化に伴いこの弱点が目立ち、そ
の有用性を失いつつある。
コン・インゴットの径大化に伴いこの弱点が目立ち、そ
の有用性を失いつつある。
本発明の目的は、ワイヤ・ソーのツーリング精度の長寿
命全確保すると同時に諸経費の節減が図れワイヤ・ソー
のスラリ洗浄装置全提供することにある。
命全確保すると同時に諸経費の節減が図れワイヤ・ソー
のスラリ洗浄装置全提供することにある。
本発明に係るワイヤ・ソーのスラリ洗浄装置では、スラ
リのワイヤに対する着脱自在性に層目し、加工域でスラ
リを伴ったワイヤがガイドに進入以前に、砥粒を含まな
い清澄液の噴流をスラリ混合水するワイヤへ注いで付看
砥粒全洗い落すようにしている。
リのワイヤに対する着脱自在性に層目し、加工域でスラ
リを伴ったワイヤがガイドに進入以前に、砥粒を含まな
い清澄液の噴流をスラリ混合水するワイヤへ注いで付看
砥粒全洗い落すようにしている。
また、洗浄液で希釈されたスラリは回収し再び加工用ス
ラリと洗浄用液とに分離して繰返し使用するために、循
環システムを採用する。即ち、混合液中に分散浮遊する
砥粒全、液との比重差で沈降分離させて濃縮し再び加ニ
スラリとする一方、分離した上澄みを洗浄液として採り
出し再使用を連続繰返すものである。
ラリと洗浄用液とに分離して繰返し使用するために、循
環システムを採用する。即ち、混合液中に分散浮遊する
砥粒全、液との比重差で沈降分離させて濃縮し再び加ニ
スラリとする一方、分離した上澄みを洗浄液として採り
出し再使用を連続繰返すものである。
従来のワイヤ・ソーに用いるスラリは通常シリコンカー
バイドに代表される粉末砥粒をタービン油やスピンドル
油など適当粘度の支持油に混合し、更に適宜に分散剤な
どを加えて油との沈降分離と凝集を極力防いでいる。な
お、水性スラリを用いることがあるが、この場合もグリ
セリンをかなり大量に併用するなどの手段で粘度を高め
て砥粒の懸濁支持性を高めることが定着化している。
バイドに代表される粉末砥粒をタービン油やスピンドル
油など適当粘度の支持油に混合し、更に適宜に分散剤な
どを加えて油との沈降分離と凝集を極力防いでいる。な
お、水性スラリを用いることがあるが、この場合もグリ
セリンをかなり大量に併用するなどの手段で粘度を高め
て砥粒の懸濁支持性を高めることが定着化している。
そこで本発明では、迅速な沈降分離速度を得るため低粘
度の媒液を用い、また、上記の一連の循環系に最も適当
な媒質液として水を選定するのが望ましい。なお少量の
防錆、発泡抑制又は消泡剤などの添加剤全併用してもよ
い。
度の媒液を用い、また、上記の一連の循環系に最も適当
な媒質液として水を選定するのが望ましい。なお少量の
防錆、発泡抑制又は消泡剤などの添加剤全併用してもよ
い。
以下、本発明の一実施例を第2図及び第3図を参照して
説明する。
説明する。
大量水(例えば200t)に比較的少量(例えばiok
g)のGC砥粒を投じた薄いスラリ(この場合、重量比
濃度1/20)を上液槽6に充満している。上液槽6は
いわゆるシラフナ機構であシ、希釈されたスラリ混合水
を数倍以上の濃度の加工用スラリに濃縮する一方、洗浄
用上澄みを採水するようにしである。即ち、上液槽6の
槽底は7円錐状の斜面とし、複数本のスクレーバアーム
7を有するスパイダ状構造物を回転自在に懸垂している
。スクレーバアーム7には複数の連鎖環状のスクレーピ
ング金具を末端に吊下げ、その大部分は槽底に載シ支見
られている。スパイダをゆるやかに回転駆動すれば、ス
クレーバ金具8の連鎖は円錐曲面に沿いつつM3図に示
すように渦巻状に底面を這い全面全カバーして浚い、沈
降堆積する砥粒を斜面に沿って掻き落し、谷部のU型環
状溝9内に集める。環状溝9内にも連鎖状スクレーバが
回動し砥粒は円環溝に沿い移動し、やがてスラリ取出開
口位置10に至り落ち込む。該スラリ取出開口10にト
ラップでれた沈積砥粒は少量の水とともに加工用スラリ
として取り出され、加工部 ・へ重力で流下して加工に
供される。
g)のGC砥粒を投じた薄いスラリ(この場合、重量比
濃度1/20)を上液槽6に充満している。上液槽6は
いわゆるシラフナ機構であシ、希釈されたスラリ混合水
を数倍以上の濃度の加工用スラリに濃縮する一方、洗浄
用上澄みを採水するようにしである。即ち、上液槽6の
槽底は7円錐状の斜面とし、複数本のスクレーバアーム
7を有するスパイダ状構造物を回転自在に懸垂している
。スクレーバアーム7には複数の連鎖環状のスクレーピ
ング金具を末端に吊下げ、その大部分は槽底に載シ支見
られている。スパイダをゆるやかに回転駆動すれば、ス
クレーバ金具8の連鎖は円錐曲面に沿いつつM3図に示
すように渦巻状に底面を這い全面全カバーして浚い、沈
降堆積する砥粒を斜面に沿って掻き落し、谷部のU型環
状溝9内に集める。環状溝9内にも連鎖状スクレーバが
回動し砥粒は円環溝に沿い移動し、やがてスラリ取出開
口位置10に至り落ち込む。該スラリ取出開口10にト
ラップでれた沈積砥粒は少量の水とともに加工用スラリ
として取り出され、加工部 ・へ重力で流下して加工に
供される。
スラリ濃度は砥粒の沈降速度、スクレーパの浚渫速度、
底面形状、希釈混合割合などの諸因子で定まるが、これ
らを適宜に選び、容積比1/3程度の濃度に調整する。
底面形状、希釈混合割合などの諸因子で定まるが、これ
らを適宜に選び、容積比1/3程度の濃度に調整する。
一方、上液槽6のホールドアツプの大部分は10分前後
の平均滞留時間の間に、懸濁浮遊する砥粒を分離しつつ
ゆるやかに槽外周に向い、やがて外縁のオーバフローダ
ムに至るようにしている。
の平均滞留時間の間に、懸濁浮遊する砥粒を分離しつつ
ゆるやかに槽外周に向い、やがて外縁のオーバフローダ
ムに至るようにしている。
ここで上澄みを槽外周の環状樋15にオーバフローさせ
て洗浄用に採水し、重力水頭で(必要なら別の加圧ポン
プで加工して)加工部11へ送って洗浄用噴流水J16
if−作り、砥粒や加工破砕片を付着同伴するワイヤが
ガイド部に進入する以前でワイヤに注ぎ、これら好まし
くない同伴物の除去に供するようにしている。
て洗浄用に採水し、重力水頭で(必要なら別の加圧ポン
プで加工して)加工部11へ送って洗浄用噴流水J16
if−作り、砥粒や加工破砕片を付着同伴するワイヤが
ガイド部に進入する以前でワイヤに注ぎ、これら好まし
くない同伴物の除去に供するようにしている。
スラリに混入した排水はホッパ底部12、P鋼13へ通
し、混入異物を除いた後、サンプタンク14へ集め、ポ
ンプで汲みあげて上液槽6へ戻す。
し、混入異物を除いた後、サンプタンク14へ集め、ポ
ンプで汲みあげて上液槽6へ戻す。
このFflA13により、系内外からの混入異物がJt
tt捉され、ワーク、ワイヤの破損等のトラブルの発生
を予防する。
tt捉され、ワーク、ワイヤの破損等のトラブルの発生
を予防する。
配列ワイヤは別設のシーソー機構(図示せず)で往復送
線してのこびき作動させるようにし、洗浄ノズルはこれ
に応動して左右交互に自動的に切シ換えるようにしてい
る。
線してのこびき作動させるようにし、洗浄ノズルはこれ
に応動して左右交互に自動的に切シ換えるようにしてい
る。
加工進歩に伴い直接的に発生するワークや砥粒の破砕片
(チップ)およびワイヤの摩耗、間接的に発生するツー
リング全般の摩耗(ワイヤ・ガイド類、スクレーパと槽
底面、スラリ通路ヤノズルなど)により、サブミクロン
乃至はミリ・ミクロンに亘る微細片が発生する。スラリ
の使用限(寿命)は健全砥粒に対するこれら微細片の混
在割合に大きく影響され、加工局所におけるその割合の
増加につれ次第に有効なピッチング作用を減じて加工能
を失うに至る。
(チップ)およびワイヤの摩耗、間接的に発生するツー
リング全般の摩耗(ワイヤ・ガイド類、スクレーパと槽
底面、スラリ通路ヤノズルなど)により、サブミクロン
乃至はミリ・ミクロンに亘る微細片が発生する。スラリ
の使用限(寿命)は健全砥粒に対するこれら微細片の混
在割合に大きく影響され、加工局所におけるその割合の
増加につれ次第に有効なピッチング作用を減じて加工能
を失うに至る。
これは固定砥粒を用いた結合砥石における目詰シ現象と
同様である。従来ワイヤ・ソ一作業では経験的に適当な
運転期間置きに劣化スラリをノ(ツチ取り換えており、
勢い使用可能砥粒の損失は免れなかった。
同様である。従来ワイヤ・ソ一作業では経験的に適当な
運転期間置きに劣化スラリをノ(ツチ取り換えており、
勢い使用可能砥粒の損失は免れなかった。
この実施例では水性スラリの希釈プロセスが同時にスラ
リの水洗い機能を併有する。即ち、希釈スラリに混入す
る沈降しにくい微細片類は速やかに沈降する砥粒から分
離し、上澄み中に懸濁のまま上液槽6からオーバフロー
するよう調整する。
リの水洗い機能を併有する。即ち、希釈スラリに混入す
る沈降しにくい微細片類は速やかに沈降する砥粒から分
離し、上澄み中に懸濁のまま上液槽6からオーバフロー
するよう調整する。
そこで前記環状樋15内に表面濾過機能のめる炉材20
を敷設すれば、オーツくフローに混在する微細片類を捕
捉して砥粒の目詰りを防ぎその有効寿命を延長し得る。
を敷設すれば、オーツくフローに混在する微細片類を捕
捉して砥粒の目詰りを防ぎその有効寿命を延長し得る。
(目詰り砥石の水洗ドレッシングに相当する。)
また、この環状樋15には上澄みの一部を系外に排出す
るオーバフロー16を設ける。洗浄水供給路途中の水平
マニホールド17につなぐ取出口18から新水(+α)
を補給するとほぼ等量(循環する間の蒸発ほかの損失を
無視すれば)の上澄−2ht溢流して期水と置換する。
るオーバフロー16を設ける。洗浄水供給路途中の水平
マニホールド17につなぐ取出口18から新水(+α)
を補給するとほぼ等量(循環する間の蒸発ほかの損失を
無視すれば)の上澄−2ht溢流して期水と置換する。
ここで前記炉材20を除外すると、前記直接間接に発生
する加工チップ類や更に長時間で2次的に生成する微小
気泡を随伴する浮遊物などを同伴して系外に排除する。
する加工チップ類や更に長時間で2次的に生成する微小
気泡を随伴する浮遊物などを同伴して系外に排除する。
この汚損スラリの連続的使い捨て方式による水洗いは、
安価、無害な普通水を用いることから容認される浄化手
段であり、適時随意に適用できる。
安価、無害な普通水を用いることから容認される浄化手
段であり、適時随意に適用できる。
本実施例に係るスラリは前述の如く極めて沈降分離し易
いので、スラリ供給通路を閉塞させない工夫が必要であ
る。そこで断面変化の少ない下り勾配゛配管とし、かつ
摺動部をもたないピンチ型仕切弁19?、設けている。
いので、スラリ供給通路を閉塞させない工夫が必要であ
る。そこで断面変化の少ない下り勾配゛配管とし、かつ
摺動部をもたないピンチ型仕切弁19?、設けている。
なお、スラリ源は加工位置レベルよりも上方に配置し、
スラリは重力降下するので、この間にポンプなどの機能
部品を必要としない。
スラリは重力降下するので、この間にポンプなどの機能
部品を必要としない。
使用後のスラリは大量の水で’t3:jめられるので循
環系にトラブルを与える可能性は極めて少ないが、この
システムの最低位におかれるサンプタンク14は連体間
に少量乍ら沈積、沈澱があるので、底面にアジテータを
設ける。要すれば、槽内壁は加振ゴム製パック構造を採
るなどの対策を行う。
環系にトラブルを与える可能性は極めて少ないが、この
システムの最低位におかれるサンプタンク14は連体間
に少量乍ら沈積、沈澱があるので、底面にアジテータを
設ける。要すれば、槽内壁は加振ゴム製パック構造を採
るなどの対策を行う。
加工終了時(或いは随時)にスラリを止める場合、これ
に先行してスクレーバを停めて沈積砥粒の移at止める
とスラリは急速に薄まるので、スラリ通路の自浄2よび
加工終了ワークの狙洗いに供した後ピンチ型仕切弁19
を閉じる。かくしてスラリ通路の停止間の堆積による閉
塞トラブルを防いで、次回の支障ない起動に備える。
に先行してスクレーバを停めて沈積砥粒の移at止める
とスラリは急速に薄まるので、スラリ通路の自浄2よび
加工終了ワークの狙洗いに供した後ピンチ型仕切弁19
を閉じる。かくしてスラリ通路の停止間の堆積による閉
塞トラブルを防いで、次回の支障ない起動に備える。
また、長時間運休時に上液槽6内の懸濁砥粒が充分に沈
降堆積してスクレーパを埋め起動時の駆動所要トルクは
甚大となるので、再起動ごとに駆動方向を反転制御する
。鎖状のスクレーバ金具8は破線で示すように渦状軌路
の方向を変え、起動の際、1リンクごと沈降、沈澱層か
ら引きねかれるので一時に全リンクを引抜く不利から避
けられ″′A襲動を容易にする。
降堆積してスクレーパを埋め起動時の駆動所要トルクは
甚大となるので、再起動ごとに駆動方向を反転制御する
。鎖状のスクレーバ金具8は破線で示すように渦状軌路
の方向を変え、起動の際、1リンクごと沈降、沈澱層か
ら引きねかれるので一時に全リンクを引抜く不利から避
けられ″′A襲動を容易にする。
本発明の主目的とするワイヤ・ツーリングの摩耗防止効
果は、洗浄水の採取量と質(清澄さ)、洗浄方法とその
要領などに左右されるが、第1表に具体的に示す如く実
験の結果、油性スラリを用いた従来方式に比べ顕著−な
改良効果が認められた。
果は、洗浄水の採取量と質(清澄さ)、洗浄方法とその
要領などに左右されるが、第1表に具体的に示す如く実
験の結果、油性スラリを用いた従来方式に比べ顕著−な
改良効果が認められた。
即ち、(1)、直接的に加工精度を支配するワーク前後
のガイドローラ(MCナイロン並びに超高分子量ポリエ
チレン製)について何れも1/10以下の摩耗となシ、
換言すれば、桁違いに耐用性改善金兄た。なお、洗浄条
件を改良すれば更に高い効果が奏されるのは勿論である
。また、シーソー機構等のツーリング全般に亘り有利な
結果がうかがえる。
のガイドローラ(MCナイロン並びに超高分子量ポリエ
チレン製)について何れも1/10以下の摩耗となシ、
換言すれば、桁違いに耐用性改善金兄た。なお、洗浄条
件を改良すれば更に高い効果が奏されるのは勿論である
。また、シーソー機構等のツーリング全般に亘り有利な
結果がうかがえる。
一方ワイヤ・ツーリング摩耗低減の事実は同時に、ワイ
ヤおよび砥粒自体の消耗低域を相対的に意味するが、ワ
イヤ・ソー加工におけるこれら主要消費財節減の経済的
意義は大きいものがある。
ヤおよび砥粒自体の消耗低域を相対的に意味するが、ワ
イヤ・ソー加工におけるこれら主要消費財節減の経済的
意義は大きいものがある。
(2)、大柄な上液槽6をワイヤ・ソー装置の直上に配
置し、通常は使用されない天井空間を有効利用する立体
構成をとり、占拠床面積効率向上とともに、スラリおよ
び洗浄水供給の一定重力水頭加圧による流れの安定が図
れる。
置し、通常は使用されない天井空間を有効利用する立体
構成をとり、占拠床面積効率向上とともに、スラリおよ
び洗浄水供給の一定重力水頭加圧による流れの安定が図
れる。
(3)、水ベースの希釈スラリの採用は油性スラリに比
べ下記の利点がある。
べ下記の利点がある。
■ 入手容易かつ極めて安価な普通水を使用できる。
O油スラリに比較し温度に殆ど無関係に安定した低粘度
全作ち、かつ加工速度が犬きく作業能率が高い。
全作ち、かつ加工速度が犬きく作業能率が高い。
θ 油よりも冷却効率上有利な水を天敵に用いるので、
ワークやガイドを直冷でき、昇温を効果1的に抑え熱膨
張誤差による精度不良を防ぐことができる。
ワークやガイドを直冷でき、昇温を効果1的に抑え熱膨
張誤差による精度不良を防ぐことができる。
■ 無臭、無害であシ、かつ汚れが落ち易く、取扱いが
容易である。装置の運転保守から、加工済ワークの後処
理清掃作業、劣化スラリの廃棄処理などのアフタサービ
スに至るまで、一連の作業プロセス全面に亘シ作業性を
向上する。
容易である。装置の運転保守から、加工済ワークの後処
理清掃作業、劣化スラリの廃棄処理などのアフタサービ
スに至るまで、一連の作業プロセス全面に亘シ作業性を
向上する。
■ 極めて安定不活性で消防法規制や廃棄後の2次公害
派生などの面で特別なサービスやアフタケアが不要であ
る。
派生などの面で特別なサービスやアフタケアが不要であ
る。
θ 使用中スラリに混入する加工チップや摩耗片類を浮
遊分離する水洗い能があシ、砥粒の目詰シ劣化を防止し
てその使用都留り全向上する。また、■、■の特性から
、上澄みの一部を新水と置換し系外に排除する使い捨て
自浄方式の併用が可能である。
遊分離する水洗い能があシ、砥粒の目詰シ劣化を防止し
てその使用都留り全向上する。また、■、■の特性から
、上澄みの一部を新水と置換し系外に排除する使い捨て
自浄方式の併用が可能である。
以上のように、本発明によればツーリング精度の長寿命
化が図れると共に、諸経費の節減による経済的効果が奏
される。
化が図れると共に、諸経費の節減による経済的効果が奏
される。
第1図はワイヤ・ソーの一般構成を示す斜視図、第2図
は本発明の一実施例を示す概略構成図、第3図は上液槽
を示す平面図である。
は本発明の一実施例を示す概略構成図、第3図は上液槽
を示す平面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、砥粒を付着したワイヤを用いたワイヤ・ソ、−の上
方に設けられ、その内部に充満した加工液希釈スラリを
高濃度の加工用スラリと清澄な洗浄液とに沈降分離する
上液槽と、この上液槽の下方に設けられ、この上液槽で
濃縮された加工用スラリ全重力流下させてワイヤと被加
工物との加工域に供給するスラリデスペンサと、前記上
液槽で分離された上澄みからなる洗浄液を前記加工域に
おいてスラリを同伴するワイヤに注ぎ、付着砥粒を洗い
落す部分と、これを再び前記上液槽に戻す押上ポンプ装
置とを具備してなることを特徴とするワイヤ・ソーのス
ラリ洗浄装置M 。 2 スラリの構成要素となる遊離砥粒を懸濁支持するラ
ップ主媒質は水であり、防錆剤、防腐剤、発泡抑制剤な
どを必要量添加していることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載のワイヤ・ノーのスラリ洗浄装置。 3、上液槽は、ワイヤの洗浄位置レベルより上方1〜2
mの範囲に自由液面全構成することを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載のワイヤ・ノーのスラリ洗浄装置。 4、上澄み中に懸濁浮遊する加工微細片類を捕捉する濾
過手段を有し、汚損スラリの連続水洗い浄化作用による
砥粒の目詰り劣化現象防止機能を有することを特徴とす
る特許請求の範囲第1項又は第2項記載のワイヤ・ソー
のスラリ洗浄装置。 5、 沈降分離用上液槽は、円錐状底面及びこれを浚い
沈降堆積した砥粒を掻き集める回動スクレーパを有し、
このスクレーバはチェーン状の連環構造とし、起動停止
ごとに回転方向を反転駆動する運動、制御を行なうよう
にされていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載のワイヤ・ソーのスラリ洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10569983A JPS59232762A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | ワイヤ・ソ−のスラリ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10569983A JPS59232762A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | ワイヤ・ソ−のスラリ洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59232762A true JPS59232762A (ja) | 1984-12-27 |
JPH0416309B2 JPH0416309B2 (ja) | 1992-03-23 |
Family
ID=14414617
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10569983A Granted JPS59232762A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | ワイヤ・ソ−のスラリ洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59232762A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0767035A1 (en) * | 1995-10-04 | 1997-04-09 | Nippei Toyama Corporation | Slurry managing system and slurry managing method for wire saws |
EP0786317A3 (en) * | 1996-01-26 | 1998-06-17 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd | System for reusing oily slurry waste fluid |
US6161533A (en) * | 1996-10-01 | 2000-12-19 | Nippei Toyoma Corp. | Slurry managing system and slurry managing method |
CN103586988A (zh) * | 2013-11-25 | 2014-02-19 | 王金生 | 一种线锯切割机 |
CN104057543A (zh) * | 2014-06-19 | 2014-09-24 | 王金生 | 一种磁场辅助的多线锯切割机 |
CN106391456A (zh) * | 2016-11-30 | 2017-02-15 | 广东轻工职业技术学院 | 一种自动化陶瓷加工装置 |
-
1983
- 1983-06-15 JP JP10569983A patent/JPS59232762A/ja active Granted
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0767035A1 (en) * | 1995-10-04 | 1997-04-09 | Nippei Toyama Corporation | Slurry managing system and slurry managing method for wire saws |
US5799643A (en) * | 1995-10-04 | 1998-09-01 | Nippei Toyama Corp | Slurry managing system and slurry managing method for wire saws |
US6053158A (en) * | 1995-10-04 | 2000-04-25 | Nippei Toyoma Corp. | Slurry managing system and slurry managing method for wire saws |
EP0786317A3 (en) * | 1996-01-26 | 1998-06-17 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd | System for reusing oily slurry waste fluid |
US6161533A (en) * | 1996-10-01 | 2000-12-19 | Nippei Toyoma Corp. | Slurry managing system and slurry managing method |
CN103586988A (zh) * | 2013-11-25 | 2014-02-19 | 王金生 | 一种线锯切割机 |
CN104057543A (zh) * | 2014-06-19 | 2014-09-24 | 王金生 | 一种磁场辅助的多线锯切割机 |
CN106391456A (zh) * | 2016-11-30 | 2017-02-15 | 广东轻工职业技术学院 | 一种自动化陶瓷加工装置 |
CN106391456B (zh) * | 2016-11-30 | 2019-02-22 | 广东轻工职业技术学院 | 一种自动化陶瓷加工装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0416309B2 (ja) | 1992-03-23 |
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