JPS59228228A - 表示パネル - Google Patents

表示パネル

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Publication number
JPS59228228A
JPS59228228A JP58103174A JP10317483A JPS59228228A JP S59228228 A JPS59228228 A JP S59228228A JP 58103174 A JP58103174 A JP 58103174A JP 10317483 A JP10317483 A JP 10317483A JP S59228228 A JPS59228228 A JP S59228228A
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JP
Japan
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display panel
liquid crystal
photoresist
resin
electrode
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Pending
Application number
JP58103174A
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English (en)
Inventor
Masao Sugata
菅田 正夫
Yuichi Masaki
裕一 正木
Goji Miyaji
剛司 宮地
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
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Publication of JPS59228228A publication Critical patent/JPS59228228A/ja
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13392Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers dispersed on the cell substrate, e.g. spherical particles, microfibres

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、マトリックス型表示パネルに関し、詳しくは
駆動用半導体アレイを一体化したマトリックス基板を用
いたマトリックス型液晶表示パネルに関するものである
。液晶による表示パネルは、次の利点をもっている。す
なわち、1、 受光型(パラシフO)ディスプレーで、
低電力消費でをンること; 2 低電圧で動作出来ること; 3 パネル型の構成にし易いとと; 4、 大型表示も可能であるとと: が利点として挙けられる。
これらの利点は、発光型(アクティブ)ディスプレーに
は見られないものである。
この様な液晶表示パネルの中でも、特開昭50−175
99号公報に開示された多数の画素をマトリックス駆動
する方式は、特に注目されている。
この方式の液晶表示パネルは、例えば第1図(a)に示
す様な構成となっている。
即ち、表示パネルを構成する基板(ガラス。
プラスチックフィルム等)が2〜IO本/mma度の密
度で、駆動用薄膜トランジスタ(TF’l’; Tb1
n B’i1m Transist□r)をマトリック
ス配置したもので構成されている。
TPTとしてはいくつかの構造があるが、ここでは第1
図(a)に示す様なr−ト電極が基板側に形成されたス
タガー構造を例にとり述べる。
TPTは基板S上に形成されたケ゛−ト線1a。
l a/、 l all、・・・・・・を有し、該r−
)線上に設けたr−ト電極1 、1’、 1”、 1’
°Z、 、叩、  (行電極→、該デート電極上に積層
された絶縁層5、前記デート電極上に絶縁層を介して形
成された薄膜牛導体層2.2/ 、 21′、 21/
、・・・・・・、半導体の一端に接して設けたソース線
3.3’、・・・・・・ (列電極)、及び半導体の他
端に接して設けたドレイ/電極414’ + 4” l
 41′l・・曲 (表示電極)等がら構成され、行電
極と列電極は透明又は金属の薄膜導電層によって形成さ
れている。
TPTの他の構造、即ち、ダート電極が基板とは反対側
に形成されたスタガー構造及びコプレーナ構造の3種類
についても同様の構成要素があり、層構成順序が異なる
のみである。
第1図(b)は第1図(Biの矢印OB力方向ら眺めた
平面図で、マトリックス駆動回路の一部を示したもので
ある。
また、第2図は第1図Cb)を線分A A’に沿って切
断した拡大断面図である。
第2図に於いて、7及びSはガラス、プラスチックフィ
ルム等の基板、4Il、4″1は前述のドレイン電極、
8は対向電極である。
4F 、 411 、 s等には5n02 、 In2
O3、I’l’O等の透明導電膜、あるいはAu 、 
Pd等の金F4薄膜が用いられる。
1”、 l”及ヒ3’、 3”’[tしぞれ、r−)電
極及びソース電極で、At 、 Au 、 Ag 、 
Pd 、 Cr等の金属薄膜が用いられる。
5及び9は絶縁層で211 、2nlはアモルファスシ
リコン、ポリシリコン+ Cd8 、 Cd8e等の薄
膜半導体、10はシール部材、11け液晶層である。
この様な表示パネルでは、(1)セルの動f/F−特性
は液晶層の厚みに対する依存性が高く、表示パネル全体
の表示特性が、低下し易い。このため、良好な階調性あ
るいは高速応答性を得る為には、液晶層の厚さを一定面
積用上(例えば1〇−以上の範囲)に亘り、出来る限シ
薄く (例えば数μm〜10μm)且つ均一にする必要
がある。
又、この表示パネルでは(2)半導体駆動素子がマトリ
ックス配置された表示電極基板と対向電極基板の間隔を
シールスペーサーで保持しているだけであるために、1
)白黒表示の際には色むらや表示部分の位置ずれを生じ
る欠点があるーこと、11)カラー表示の際【では色す
れと色むらを生じる欠点があることが挙げられている。
前述の点から、液晶層の厚みを一定に保つ為に、液晶層
中に一定の粒径の不活性な部材を混入する方法等が知ら
れているが、広い表示面全体に亘シ均一に不活性部材を
混入させる事(は難へ かしぐ、また画像表示部分で液晶分子の配向状態を乱す
事があり、実用的な方法とはなり得ない。
本発明は前述の諸点に鑑みてなされたものであり、広い
表示面に亘シ、微小な基板間の間隙を一定に保持し、表
示の階調性と応答性に優れた電気光学装置、特に液晶表
示パネルを与える事を第1の目的としている。
また、本発明の別の目的は、画像表示部分で、液晶分子
の配列を乱す事をなくし、表示特性の優れた液晶表示パ
ネルを与える事にある。
さらに、本発明の別の目的は、白黒表示の場合では位置
ずれを、スカラー化の場合では色すれと色むらをそれぞ
れ防ぐ事により、表示特性の優れた液晶表示パネルを与
える事にある。
本発明者らは、前記目的に沿って鋭意検討を重ねて来た
ところ、少なくとも1つのシアン基をもつ液晶化合物の
層を保持するために用いたスペーサーが樹脂で形成され
た時、その樹脂中に含有する金属元素(例えば、ナトリ
ウム、カラ リウム、カリウムなどのアルカリ金属、カルタへ ウム、バリウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属
、アルミニウム、インジウムなどの■原曲型元素、チタ
ン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニ
ッケル、鉛などの遷移金属元素)が表示パネル、特にシ
アン基をもつ液晶の劣化を速めさせることが判明した。
従って、本発明は少なくとも1方に透明な導電性被膜を
設けた2枚の電極板の間に少なくとも1つのシアノ基を
有する液晶の層を備えた表示パネルであって、前記シア
ン基を有する液晶の層を保持するために金属元素の含有
率を5ppm以下にした樹脂で形成した微細形状のスペ
ーサーを用いる点に特徴を有している。
本発明の好ましい具体例では、金属元素の−うち、アル
カリ金属の含有率を0.3ppm以下、特に好ましくは
ナトリウムの含有率を帆21)I)m以下にしたフォト
レジスト樹脂で微細形状のスペーサーを形成することが
できる。
本発明の表示パネルは、例えば(1)多数のセグメント
を選択的に駆動するだめの行電極あるいは列電極自体を
非透光性部材として形成し、この非透光性部材に沿って
スペーサ部材を配置するとと;(2)半導体駆動素子を
設けた基板の対向基板側に行電極あるいは列電極に沿っ
て非透光性部材を形成し、この非透光性部材に沿ってス
ペーサ部材を配置することができる。又、スペーサ一部
材を形成する際KI/′:L、2枚の基板のうち少なく
とも一方の基板に固着させておくことが好ましい。この
態様については、第3図(a)〜(C)で明らかにする
第3図(a)は、本発明表示パネルの一例の斜視図であ
る。
即ち、行電極(又は列電極)自体を非透光性部材12と
し、この上に絶縁層5を介して複数のスペーサ部材6 
、6’、 6”、 (5″1が設けられ、これらの厚み
が液晶層の層厚を決定している0第3図(b)は、本発
明の表示パネルの別の態様を示す斜視図である。
即ち、液晶表示パネルの対向電極基板面に非透光性部材
12を介してスペーサ部材6.6’。
6+1 、6111.・・・・・・ が設けられ、これ
らの厚みが液晶層の層厚を決定している。
ここで、設けられた非透光性部材12のパターン形状は
、スペーサ部材と同様の形状、ストライプ状、あるいは
、モずイク等のいずれの形状であっても良く、少なくと
も行電極あるいは列電極のラインに沿っていればよい。
第3図(C)は、本発明の表示パネルの別の態様を示す
斜視図である。
第3図(C) において、液晶表示パネルの対向電極8
を設けた基板7に非透光性部材12を形成し7、その上
を絶縁層9で被標し、さらに非透光性部材12に沿って
スペーサ部材6.6’、6”。
6″1・・・・・・を前記絶縁層9の上に配置した基板
を一示している。この基板を薄膜半導体2.2’、2″
2111、・・・・・・、行電極1a、la’、・・・
・・・と列電極3゜3′・・・・・・を設けた基板5と
対向させる際、前述の非透光性部材12は行電極1a、
la’、・・・・・・(あるいは列電極3,3′・・・
・・・)のラインに沿って配置される。従って、この時
スペーサ一部6,6′。
6″ 6jl、・・・・・・は表示面の非透光性区域に
配置された態様になすことができる。
なお、第3図(a) 〜(c)における第1図(a) 
、 (b)および第2図と同−何役は、同一部材を表わ
している。
前述の非透光性部材12はA/−、Cr、 MO等の金
属薄膜あるいは着色性有機物のいずれによって形成され
ていても良い。この際、スペーサ部材5 +、 (3/
 、 5n 、 6N+ 、 、、、、、、は、行電極
1a。
1 a’・・・・・・ (あるいは列電極3.3’、・
・・・・・)の上に絶縁層5を介して固着されている。
第4図(a)は、第3図(a)又ii:(b)に示す表
示パネルの平面図であり、第4図ら)は第4図(a)の
線分B−B’に沿う断面図である。
本発明の表示パネルで用いる前述の如きスペーサーは、
フォトレジストによって形成されている。フォトレジス
トとしては、ゴム系フォトレゾスト好ましくは環化ポリ
イソプレン系フォトレジストや環化ポリブタジェン系フ
ォトレジストなどのゴム系フォトレゾストを用いること
が適している0環化ポリイソプレン系フオトレジストの
具体例としては、米国イーストマン・コダック社製のr
 Micro Re5ist 747 J、r Mic
ro Re5ist 7 a 2 J、東京応化工業(
株)製のr OMR−83j、rOM几−85」や日本
合成ゴム(株)製のrJsRCIR701Jなどを挙げ
ることができ、又、環化ポリブタジェン系レジストとし
ては、日本合成ゴム(株)製のrJsI(CBR−M9
011などを挙げることかできる。
本発明で用いるフォトレジストは、ネガ型あるいはポジ
型の何れであってもよい。特に、ゴム系フォトレジスト
を用いて形成したスペーサーを有する表示パネルは、他
のフォトレゾスートにより形成したスペーサーを有する
表示パネルに較べ、高信頼性にすることができる。
特に、ゴム系ホトレジストは、アルカリ含有率及び金属
元素含有率を前述゛の範囲内に抑えた場合には、この範
囲を越えた含有率のフォトレジストを用いた表示パネル
に較へ、高信頼性にする事が出来る。
これらのフォトレジストは、紫外線、遠紫外線あるいは
電子線を照射し、その徒所定の現像液(例えば、キシレ
ンなど)で現像することによって照射部あるいは非照射
部を除去した後、所定の硬化条件(加熱)で硬化させて
所望のスペーサーを形成することができる。又、フォト
レジストは、1方の電極基板あるいは両方の電浸 極基板の上に浸漬塗布法、スピンナー塗布法、ローラー
塗布法などでの公知塗布法によって被膜形成され、その
後所定の乾燥条件下で乾燥される。
本発明の表示パネルで用いるスペーサーは、一般に数μ
〜士数μの膜厚で形成することができ、好ましくは6μ
〜15μ程度の膜厚で形成することが望ましい。
本発明の表示パネルで用いる液晶には、特に誘電率異方
性の太きいものが好ましく、具体的には下記一般式(1
1〜(6)で示されるシアン基を有する液晶化合物を単
独又は組合ぜて用いることができる。
一般式 (1) R2;アルキル基 ”4 pアルキル基 (5) R5pアルキル基 (6) ”6 yアルキル基 前述のR1−R6で表わされるアルキル基の具体例とし
ては、炭素原子数1〜15の系列のアルキル基、好まし
いアルキル基としては、エチル、n 、0ロピル、n−
ブチル、n−7ミル、n−ヘキシル、n−へブチル、n
−オクチル、n−ノニル、n −fシルを挙けることが
できる。
前記一般式(1)〜(6)で表わされる液晶の具体例は
、下記のとおりである。
一般式(1)で表わされる液晶 1−(1) 1−(2) I( 1 l−(3) I−(4) I −(5) It −(1) I[−(2) II−(3) )1 11−(4) n −(5) 一般式(3)で表わされる液晶 m−(11 1II−(2) 1−(3) I[1−(4) ■−(5) 一般式(4)で表わされる液晶 IV−(1) !V−(2) IV−(3) IV−(4) IV−(5) 一般式(5)で表わされる液晶 V−(2) V−(3) V −(4) 前記一般式(6)で表わされる液晶 Vl−(1) 1( Vi−(2) Vl−(3) M−(4) −T 又、本発明の表示パネルで用いる液晶としては、前記以
外のネマチック液晶、コレステリック液晶又はスメツク
チック液晶を組合せて用いることができる。仁の際ネマ
チック液晶の誘電異方性は正又は負であってもよい。
本発明の表示パネルを作成する際、(1)前述のフォト
レジストを表示電極基板の上に設け、しかる後所定の露
光と現像を施した後、第3図(a)に示す如く行電極(
および/又は列電極)の上にスペーサーを形成する方法
、(2)前述のフォトレゾストを対向電極基板の上に設
け、しかる後所定の露光と現像を施した後、第3図(b
)に示す如く表示電極基板に形成した行電極(および/
又は列電極)に沿ってスペーサーを形成する方法、ある
いは(3)表示電極基板と対向電極基板の上に前述のフ
ォトレゾストを設け、しかる後所定の露光と現像を施し
た後、第3図(C)に示す如く行電極(および/又は列
電極)の上にあるいはそれに沿ってスペーサーを形成す
る方法を用いることができる。
絶縁層5としては、絶縁性無機材料あるいは有機材料を
所定のパターンのマスクを用いて蒸着またはスパッタリ
ング等により形成しても良いし、あるいは塗布後パター
ン化しても良い。
絶縁性の無機化合物としては、酸化ケイ素、酸化チタン
、酸化セリウム等の金属酸化物;窒化シリコン等の窒化
物等が挙けられる。
絶縁性の有機樹脂としては、シリコン樹脂、ゴム系樹脂
等を挙げる事が出来る。
第5図は、行電極1a、la’、・・・・・・と列電極
3 、3’、 3”、・・・・・・の上にスペーサ部材
6−1゜6’−1、6’ −1・・・・・・と6−2 
、6’−2、6’−3・・・・・・を設ける例の平面図
である。
6−1 、6’−1、6”−1、6”−1は行電極上に
設けたスペーサ部材であり、6−2.6’−2,6“−
2,6”−2は列電極上に設けたスペーサ部材を示す。
例えは、典型的な例として、0.5ルのガラス基板を用
い、12当り1個のスペーサ部材を設ける事によシ、4
μmの均一な間隙を有する表示面積1ooiの表示パネ
ルが得られる。
尚、第4図ら)から、明らかな様に列電極(3゜3′、
3″ 311等)上にスペーサ部材を形成すると極めて
微小な間隙でも対向する電極8との接触によるショート
を防止する事が出来る。
液晶層の厚みを一定に保持出来るならばセグメントを構
成する各ドレイン電極(4,4’、4”。
4”1等)毎に上記のスペーサ部材を必ずしも設ける必
要はない。
本発明の表示パネルで用いる半導体駆動回路の等価回路
は、第6図で示され、その駆動法としては、例えば行電
極1a、la’、・・・・・・に走査信号を順次印加す
る。走査信号が印加されたTPTは導通状態となる。こ
の時これと直交する列電極3.3’、3”、・・・・・
・に画像信号を与えると、この電圧又は電荷がドレイン
電極4.4’、4″。
・・・・・・へ供給される。順次この走査信号を隣接の
行電極に移動させ、各行のT F ’I’がオンになっ
た状態でその行のドレイン電極群へ電圧が供給されて、
行電極を一周させた時、全絵素に対し画像信号が供給さ
れる。この列電極へ供給する電圧は、ドレイン電極群の
実効電圧を稼ぐためには各絵素へ順次信号を送る点順次
走査でなく、線順次走査によって行うことが好ましい。
即ち、行オン状態の行のドレイン電極全部へ一時に信号
を与える方式である。
この様に行電極に信号が入力されている間に限って、こ
れらの電極マトリックスの交点のうち選択されだ列電極
とドレイン電極の間が導通し、ドレイン電極と対向電極
8との間に電圧が印加される。この印加電圧により液晶
分子の配列状態が変化して、表示がなされる0 本発明の効果は大別して、次のとおりである。
1、 本発明で用いるフォトレゾスト、特にゴム系フォ
トレジストにより形成したスペーサ部材が、従来の表示
パネルに較べ大面積に亘り基板間の間隙を保持する事が
出来るへ 2、 本発明で用いるフォトレジスト、特にゴム系フォ
トレジストにより形成したスペーサ部材が、表示パネル
の非透光性部材に沿って設けているので、画像表示面で
液晶分子の配列を乱さない様にする事が出来、しかも電
極基板として可撓性電極基板(プラスチック電極基板)
を用いることが可能となる。
3 本発明で用いるフォトレジスト、特にゴム系フォト
レジストにより形成したスペーサ部材が表示パネルの非
透光性部材に沿って点在して設けられているので、半導
体駆動素子がマトリックス配置された表示基板と対向電
極基板を組合せた際にも位置ずれが防止出来る。
即ち、画像表示部分に閂し、白黒表示では位置ずれを、
カラー化では色すれと色むらを防ぐ事が出来る。
4、 本発明で用いるゴム系フォトレジストにより形成
したスペーサ部材が該フォトレジスト中のアルカリ含有
率、ナトリウム含有率及び金属元素含有率を規制されて
いるので、該フォトレジスト中のアルカリ分含有率、ナ
トリウム分含有率及び金属元素含有率を規制しなかった
場合に較べ極めて高い信頼性を得る事が出来る。
従来の方法では、上記第1の効果の点に対し、1、 周
辺部のみに設けたシール部材(第2図10)が基板間の
間隙を一定に保持するスペーサ部材として機能すると同
時に、液晶を充填する為のシール部材の機能を持つ必要
があるのでシール部材の材料選択に制約を受は易いとと
; 2、 基板を薄くすると基板の変形が起こり易く、例え
ば4〜10μmの微小な基板間の間隙を保持する事がほ
とんど不可能であること;3 シール部材の変形が起こ
り易いので、基板間の間隙が1つのセルの基板面内で部
分的に不均一になって表示特性のムラを生じ易く、各表
示セルレで於いて基板間の間隙がばらつき易いこと等の
欠点が生じていたか、本発明Vこよれば、上記いずれの
欠点も同時に解決出来る。
従来の方法では、上記第2の効果に対し、表示面に設け
たスペーサ部材により、該スペーサを設けた部分の液晶
分子の配列に多少の乱れが生じ、表示面の画像が多少見
苦しくなる事があった。
本発明では上記の欠点を解決する事が出来る。
又、第3の効果に対して、従来の方法ではプラスチック
電極板を使用することが困難であったが、本発明ではこ
れを解決することができる。
さらに、本発明では階調性と応答性に優れた表示を得る
ことができる利点を有している。
本発明表示パネルでは、投影型、透過型及び反射型のい
ずれの型式にしても良い。
その表示モートゝについても、動的散乱モーr(DSM
)、ライスティド・ネマティック(TN)、相転移型、
垂直−水平配向効果型(DAP)、ハイブリッド・ネマ
ティック(I4AN)等のいずれの型式が選択されても
良い。
これらのうちいずれの型式で表示を行なうかにより、適
当な液晶分子の初期配列状態及び光学的検知手段(偏光
板、λ/4板、反射板等)が適宜設けられる。
本発明の表示パネルは、薄型化・コンパクト化された表
示パネルとして各種パネル・ディスプレー;例えば、時
計・計算機等の表示板、小型テレビ、ビデオカメラ用モ
ニタ及びファインダ等に好適に応用出来る。
以下、本発明を実施例に従って説明する。
実施例1゜ 第1図(a)に示す半導体駆動回路を設けたガラス基板
を用意した。この半導体駆動回路は、アモルファスシリ
コン半導体、アルミニウムソース電極、アルミニウムソ
−ス電極とITO)l’レイン電極を有し、アルミニウ
ムソ−ス電極とアモルファスシリコン半導体は、チツ化
シリコン膜で相互に絶縁されている。
この様なガラス基板の上に酸化ケイ素を1000^の膜
厚で蒸着して絶縁膜を形成した後に、一方向にラビング
処理した。その後フォトレジスト脂として東京応化(抹
)製の”OMR−83”をスざンナー塗布した後、乾燥
した。次いで、所定マスクを通してフォトレジスト樹脂
の表面に露光を施した後、現像およびリンスを順に施し
て第3図(a)に示す様なスペーサーを形成した。
次いで、エポキシ系接着剤をガラス基板の周辺部にスク
リーン印刷により塗布した後、ラビング方向が先のラビ
ング方向と直交する様に対向電極板を重ね合せ、抽定の
硬化条件のもとてエポキシ系接着剤を硬化させて、セル
を作成した。このセル中に下記組成の液晶化合物を注入
してサンプル1となる液晶表示パネルを作成した0 液晶組成物 1−(3)       12.5 wt%1−(4)
       i 2.5 vt%II  (4)  
      5.9wt%m −(3)       
20.□ wt%1[−(4)       20.O
wt%m −(5)      、 20.0 wt%
V  (1)        5.0wt%V  (3
)        5.Qwt%この液晶表示パネルを
作成した時に用いたフォトレジスト樹脂”OMR−83
”の金属元素含有率を原子吸光分光分析装置である(株
)日立製の”170−50 ”で測定したところ、”O
MR−83”の固形分中の金属元素含有率け51)1)
m以下であることが判明した。又、同様の方法でアルカ
リ金属含有率とナトリウム含有率を測定したところ、そ
れぞれ0.3 ppm以下、0.21)I)m以下であ
った。又、サンプル1の表示パネルの耐久性を122°
Cで2気圧下でP、C,T(Pressme Cook
er Te5t )により消費電流を測定したところ、
第7図の曲線Aとなった。
比較実験として、前述のサンプル1を作成した時に用い
た”OMR−s3”Vc代えて、富士薬品(株)製の’
= F S R’″、同社製の“YS”と前述の’0M
R−83”に微量のナトリウムを加えた変性” OMR
−83”を用いたほかは、全く同様の方法でサンプル2
、サンプル3とサンプル4を作成した。
”FS)も″、” y s ”および変性” OM R
−83”を前記と同様の測定法により金属元素、アルカ
リ金属およびナトリウムの含有率を測定したところ、下
表のとおりであった。
フォトレジスト  金属元素  アルカリ金属 すトリ
ウムys(サンプル2)    2700      
500      200FSR(サンソウレ3)  
 2800     1500     1000この
比較用サンプル2,3と4をそれぞれ前述と同様の方法
で消費電流を測定したところ、それぞれ第7図の曲線B
、CとDとなった。
下表のとおりの結果が得られた。
サンプル      配   向   性1(本発明)
   良       良       良2(比較例
) 乱れ発生   乱れ発生   乱れ発生3(〃) 
 乱れ発生   乱れ発生   乱れ発生4(〃)  
  良     乱れ発生   乱れ発生
【図面の簡単な説明】
第1図(a)は、表示パネルで用いていた基板の斜視図
で、第1図(b)はその平面図である0第2図は、従来
の表示パネルの断面図である。 第3図(a)、第3図(b)および第3図(c)は、本
発明の表示パネルの斜視図である。第4図(a)は、本
発明の表示パネルの平面図で、第4図(b)はそのB−
B’断面図である。第5図は、本発明の表示パネルの別
の態様を示す平面図である。第6図は、本発明の表示パ
ネルに用いる半導体駆動回路の等価回路を示す説明図で
ある。第7 P+は、実施例1で用いたサンプル1〜4
の消費電流特性を示す説明図である。 1 a  +  1 a’ +・・・・・・ :ケ8−
ト線、1  、 1’  、  1”  。 1”I、・・・・・・:r″′−ト電極(行電極)、2
.2’。 21 、211.・・・・・・:薄膜半導体、3 、3
’ 、 3”、−3″1゜・・・・・・ :ソース綜(
列電極) 、4 、4’、 4”、 4−・・・・・・
ニドレイン電極、5,9:絶縁層、6.6’。 61 、611.・・・・・・、 6−1 、6’−1
、6”−1,6″I−1、・・・・・・、 6−2 、
6’−2、6’−2、6”−2。 ・・・・・・ニスペーサ部材、7.S:基板、8:対向
電極、10:シール部材、11:液晶層、12:非透光
性部材。 特許出願人  キャノン株式会社 手続補正書(自発) 昭和58年8月と6日 特許庁長官 若杉和夫  殿 1、事件の表示 昭和58年 特許軸  第 103174   号2、
発明の名称 表示パネル 3 補正をする者 事件との関係       特許出願人性 所 東京都
大田区下丸子3−30−25、補正の対象 図     面 6、補正の内容 (1)図面の第7図を別紙添付の第7図に訂正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)一対の電極板の間に少なくとも1つのシアノ基を
    有する液晶化合物を備えた表示パネルにおいて、前記一
    対の電極板の間隔が金属元素の含有率を51)l)m以
    下とした樹脂によって形成された微細形状のスペーサー
    で保持されていることを特徴とする表示パネル。 (2)  前記スペーサーがアルカリ金属元素の含有率
    を0.3 ppm以下とした樹脂によって形成された微
    細形状を有する特許請求の範囲第1項記載の表示パネル
    ○ (3)  前記スペーサーがナトリウム元素の含有率を
    0.2 ppm以下とした樹脂によって形成された微細
    形状を有する特許請求の範囲第1項記載の表示パネル。 (4)  前記樹脂がフォトレジスト樹脂である特許請
    求の範囲第1項記載の表示パネル〇 (5) 前記フォトレジスト樹脂がゴム系フォトレジス
    ト樹脂である特許請求の範囲第4項記載の表示パネル。 (6)前記液晶化合物が下記一般式(1)〜(6)で表
    わされる液晶化合物である特許請求の範囲第1項記載の
    表示パネル。 (1) R工pcN (R□は、アルキル基を表わす。) (2) (3) R3()(洲CN (Rsは、アルキル基を表わす。) (4) (R4は、アルキル基を表わす。) リ (几5は、アルキル基′ff:表わす。)(6) (R・6け、アルキル基を表わす。) (7)前記一対の電極板のうち一方の電極板が行及び列
    電極を有する半導体駆動回路を設けた基板である特許請
    求の範囲第1項記載の表示パネル。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61173221A (ja) * 1985-01-28 1986-08-04 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶表示装置作成方法
JPS61186929A (ja) * 1985-02-15 1986-08-20 Ricoh Co Ltd 液晶表示装置
JPS6224229A (ja) * 1986-05-19 1987-02-02 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶電気光学装置作製方法
JPS6242127A (ja) * 1985-07-19 1987-02-24 ゼネラル・エレクトリツク・カンパニイ 光阻止及びセル・スペ−サ構造を持つ液晶表示装置
JP2006078826A (ja) * 2004-09-10 2006-03-23 Nippon Kayaku Co Ltd 感光性樹脂組成物

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