JPS59226195A - 炭素繊維束の電気メツキ方法 - Google Patents
炭素繊維束の電気メツキ方法Info
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- JPS59226195A JPS59226195A JP9865483A JP9865483A JPS59226195A JP S59226195 A JPS59226195 A JP S59226195A JP 9865483 A JP9865483 A JP 9865483A JP 9865483 A JP9865483 A JP 9865483A JP S59226195 A JPS59226195 A JP S59226195A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は炭素繊組束の電気メツキ方法に閉覆るものであ
る。更に詳しくは、炭素ｍ維束に連続的に電気メッキを
行なうに当り、複数個の陰極を設は全電流を各々の陰極
に配分して、多段で電気メッキを行ない繊維束内部での
単ｕＡｔＩｉ相互の接着のない炭素繊維束を得る方法に
関するものである。
る。更に詳しくは、炭素ｍ維束に連続的に電気メッキを
行なうに当り、複数個の陰極を設は全電流を各々の陰極
に配分して、多段で電気メッキを行ない繊維束内部での
単ｕＡｔＩｉ相互の接着のない炭素繊維束を得る方法に
関するものである。
近年炭素繊維を強化材とした炭素繊維強化複合材料の進
歩は目覚ましい。特に金属被覆炭素繊維は熱硬化性樹脂
、熱可塑性樹脂、ゴム等の非導電性母材の強化材として
用いた場合、それら複合材料の導電性が著しく向上する
。最近電子機器の発達・普及にともない電磁波障害、高
周波障害が大きな問題となってきており、それらの遮蔽
材として、金属被覆炭素繊維をフィラーとした複合材料
は機械特性及び成形性に優れたものとなる。
歩は目覚ましい。特に金属被覆炭素繊維は熱硬化性樹脂
、熱可塑性樹脂、ゴム等の非導電性母材の強化材として
用いた場合、それら複合材料の導電性が著しく向上する
。最近電子機器の発達・普及にともない電磁波障害、高
周波障害が大きな問題となってきており、それらの遮蔽
材として、金属被覆炭素繊維をフィラーとした複合材料
は機械特性及び成形性に優れたものとなる。
又この金属被覆炭素ｖＡ雑の被覆金属を母材とした場合
の炭素繊維強化金属系複合材料は軽聞椙造材料や導電材
料、摺動材料として優れＩｃものあ で覆る。
の炭素繊維強化金属系複合材料は軽聞椙造材料や導電材
料、摺動材料として優れＩｃものあ で覆る。
炭素ｕＡ維束に金属を被覆する方法に電気メツキ法があ
るが、従来炭素繊維束に電気メッキを行なう場合メッキ
速度が遅く、生産性に欠【プる問題があった。
るが、従来炭素繊維束に電気メッキを行なう場合メッキ
速度が遅く、生産性に欠【プる問題があった。
即ち炭素繊維の比抵抗は通常の金属の１０−６Ω］Ｃ川
に対し１０１〜１０−１ Ω−ａｍと大きく、導電性が
悪く、電流密度を大きく出来ないためメしキ速皮を速く
することは困難であった。電流密度を大きくすると、炭
素繊維束の発熱や炭素繊維束表面に形成され１＝被膜が
架橋し、炭素繊維束内部へのメッキが困難になり、炭素
繊維束表面と内部での被膜の膜厚の均一なものが得られ
ない等の問題がある。従って均一な膜厚の被膜を得るた
めには電流密度を小さくせざるを得ず生産性が低くなる
ことは避けられなかった。
に対し１０１〜１０−１ Ω−ａｍと大きく、導電性が
悪く、電流密度を大きく出来ないためメしキ速皮を速く
することは困難であった。電流密度を大きくすると、炭
素繊維束の発熱や炭素繊維束表面に形成され１＝被膜が
架橋し、炭素繊維束内部へのメッキが困難になり、炭素
繊維束表面と内部での被膜の膜厚の均一なものが得られ
ない等の問題がある。従って均一な膜厚の被膜を得るた
めには電流密度を小さくせざるを得ず生産性が低くなる
ことは避けられなかった。
そこで、本発明は上記欠点を解決し生産性に優れた炭素
繊維束の電気メツキ方法を提案するものであるー。
繊維束の電気メツキ方法を提案するものであるー。
すなわち、炭素繊維束に連続的に電気メッキす。
るに当り、繊維束の走行方向に複数個の陰極を設（）、
全・電流を各々の陰極での電流量がＩｎ ｓ≧Ｉｎ≧
ｉｎ ＋。
全・電流を各々の陰極での電流量がＩｎ ｓ≧Ｉｎ≧
ｉｎ ＋。
（Ｉｎはｎ番目陰極の電流量を表わｔ）の範囲になるよ
う配分し、多段で電気メッキを行なうことを特徴とする
炭素繊維束の電気メツキ方法である。
う配分し、多段で電気メッキを行なうことを特徴とする
炭素繊維束の電気メツキ方法である。
ここで炭素ｍＭＩ束とは１００本程度以上の単繊維の連
続繊維からなる炭素質繊維、黒鉛質繊維を言う。炭素ｍ
紐束への全電流の配分は各々の陰極での電流量が Ｉｎ−、≧Ｉｎ≧ｌｎ＋。
続繊維からなる炭素質繊維、黒鉛質繊維を言う。炭素ｍ
紐束への全電流の配分は各々の陰極での電流量が Ｉｎ−、≧Ｉｎ≧ｌｎ＋。
（Ｉｎはｎ番目陰極の電流量）
の範囲になるよう配分することが必要である。即ちメッ
キ浴入側に近い陰極の電流が次に設けられた陰極の電流
量より大きいが又は同じ電流にすることである。このよ
うに全電流量を配分することによって、メッキ浴出側に
近い炭素＝ｍ ａ ＊はど被膜の膜厚が厚く抵抗が小さ
くなってｓＮ性が向上しているため、次の陰極の電流量
を小さいが同じにすれば、炭素Ｉｌ雑束表面に形成され
た被膜が架橋することが無く炭素ｍ紐束表面と内部での
被膜の膜厚の均一なものが得られ、更に生産性が向上す
る。
キ浴入側に近い陰極の電流が次に設けられた陰極の電流
量より大きいが又は同じ電流にすることである。このよ
うに全電流量を配分することによって、メッキ浴出側に
近い炭素＝ｍ ａ ＊はど被膜の膜厚が厚く抵抗が小さ
くなってｓＮ性が向上しているため、次の陰極の電流量
を小さいが同じにすれば、炭素Ｉｌ雑束表面に形成され
た被膜が架橋することが無く炭素ｍ紐束表面と内部での
被膜の膜厚の均一なものが得られ、更に生産性が向上す
る。
一方、本発明とは逆に全電流を各々の陰極での電流量が
Ｉｎ −１＜ Ｉｎ ＜ Ｉｎ ＋。
（Ｉｎ：ｎ番目陰極の電流量）
の範囲になるよう配分した場合はメッキ浴出側に近い炭
素ＩＪｌｉ維束程被膜の膜厚が厚く抵抗が小さくなって
導電性が向上しているのに加え、次の陰極の電流量が大
きいためにそれらの相乗効果により被膜が炭素繊維束表
面で架橋し炭素繊維束表面と内部での被膜の膜厚の均一
性が著しく損われる。
素ＩＪｌｉ維束程被膜の膜厚が厚く抵抗が小さくなって
導電性が向上しているのに加え、次の陰極の電流量が大
きいためにそれらの相乗効果により被膜が炭素繊維束表
面で架橋し炭素繊維束表面と内部での被膜の膜厚の均一
性が著しく損われる。
本発明による電気メツキ方法は通常の電気メッキが可能
なＣｕ、Ｎｉ１Ｃｒ、、Ｚｎ、、Ｃｄ。
なＣｕ、Ｎｉ１Ｃｒ、、Ｚｎ、、Ｃｄ。
Ｐｂ、、Ｓｎ、△ｕ ＳＡｇ及びそれらの合金のメッキ
に使用出来る。
に使用出来る。
以下本発明を図面を用いて説明する。
第１図、第２図、第３図は本発明方法を行なう装置の実
施例を示Ｊ′概略図である。
施例を示Ｊ′概略図である。
第１図で炭素繊維束４は入側ニップローラー５を経て第
１陰極１からの通電によりメッキ浴９中のメッキゾーン
Ｉで電気メッキが行なわれ、次に第１陰極１を経てメッ
キゾーン■で更に第２陰極で各々電気メッキが行なわれ
る。これを繰返しながら炭素繊維束４は電気メッキが行
なわれ出側ニップローラ＝６を通り水洗、乾燥後巻取ら
れる。第１陰極１は第２図のようにメッキ浴９の入側ニ
ップローラー５′と共通或いは第１図のように独立して
設けるが、第３図のようにメッキ浴９を複数個設は各々
に陰極を配してもよい。メッキ浴９が１つで陰極が複数
の場合陽極金ｍ８は第１図のように１つでも第２図のよ
うに陰極の数と同じでもよい。
１陰極１からの通電によりメッキ浴９中のメッキゾーン
Ｉで電気メッキが行なわれ、次に第１陰極１を経てメッ
キゾーン■で更に第２陰極で各々電気メッキが行なわれ
る。これを繰返しながら炭素繊維束４は電気メッキが行
なわれ出側ニップローラ＝６を通り水洗、乾燥後巻取ら
れる。第１陰極１は第２図のようにメッキ浴９の入側ニ
ップローラー５′と共通或いは第１図のように独立して
設けるが、第３図のようにメッキ浴９を複数個設は各々
に陰極を配してもよい。メッキ浴９が１つで陰極が複数
の場合陽極金ｍ８は第１図のように１つでも第２図のよ
うに陰極の数と同じでもよい。
各陰極に配分する電流毎はメッキ浴出側に近い炭素繊維
束程メッキされることにより導電性が向上し抵抗が小さ
くなっているため、電流が流れ易いので各回路に抵抗を
入れて前の陰極から与えられる電流量より小さいが同じ
になるように調整する。第１陰極１から通電された炭素
繊維束４はメッキ浴９中のメッキゾーン１で電気メッキ
が行なわれ、一旦メツキ液γ外に持ち出され第２電極２
から再度通電される。この時の炭素繊維束４は前のゾー
ンの炭素繊維束４に比べ導電性が向上し抵抗が小さくな
っているため、メッキゾーン■ではメッキゾーンＩの場
合よりも電気メッキが行なわれ易く、電流量を同じか小
さくする必要がある。
束程メッキされることにより導電性が向上し抵抗が小さ
くなっているため、電流が流れ易いので各回路に抵抗を
入れて前の陰極から与えられる電流量より小さいが同じ
になるように調整する。第１陰極１から通電された炭素
繊維束４はメッキ浴９中のメッキゾーン１で電気メッキ
が行なわれ、一旦メツキ液γ外に持ち出され第２電極２
から再度通電される。この時の炭素繊維束４は前のゾー
ンの炭素繊維束４に比べ導電性が向上し抵抗が小さくな
っているため、メッキゾーン■ではメッキゾーンＩの場
合よりも電気メッキが行なわれ易く、電流量を同じか小
さくする必要がある。
以下同様にして全電流を配分する。
このようにして全電流を各々の陰極での電流量が
１ｎ−ｔ≧ｌｎ≧ｌ ｎ ＋ 。
（Ｉｎはｎ番目の陰極での電流量）
の範囲になるよう配分することにより架橋現象が無く炭
素繊維束表面と内部での被膜の膜厚が均一なものが得ら
れ、且つ生産性が飛躍的に向上する。
素繊維束表面と内部での被膜の膜厚が均一なものが得ら
れ、且つ生産性が飛躍的に向上する。
以下本発明を実施例および比較例について説明する。
実施例
直径７μの単繊維１２０００本からなる炭素ｍ維束を２
段階で連続的にニッケルメッキを行なった。メッキ浴組
成は硫酸ニッケル１５ｈ／ Ｑ 、塩化アンモニウム１
５Ｑ／Ｑ、硼酸１５ａ／Ｑ、の普通浴でメッキ液のＰ［
−１は６，０、温度は２５℃である。
段階で連続的にニッケルメッキを行なった。メッキ浴組
成は硫酸ニッケル１５ｈ／ Ｑ 、塩化アンモニウム１
５Ｑ／Ｑ、硼酸１５ａ／Ｑ、の普通浴でメッキ液のＰ［
−１は６，０、温度は２５℃である。
全電流は第１陰極に５Ａ、第２陰極に４Ａの配分で行な
った。炭素ｌｉ維束の走行速瓜は２５ｃｍ／ｍｉｎ 、
メッキ浴滞在時間は４分である。
った。炭素ｌｉ維束の走行速瓜は２５ｃｍ／ｍｉｎ 、
メッキ浴滞在時間は４分である。
こうして得られたニッケル被膜炭素繊維束を走査型電子
顕微鏡で観察したところ、炭素繊維束表面、内部ともに
単繊維１本１本がニッケルで均一に被覆されており、ニ
ッケル膜厚は０．２７〜０．３２μであった。
顕微鏡で観察したところ、炭素繊維束表面、内部ともに
単繊維１本１本がニッケルで均一に被覆されており、ニ
ッケル膜厚は０．２７〜０．３２μであった。
比較例
全電流の配分を第１陰極４△、第２陰極５Ａの他は実施
例と同一条件で炭素繊維束に連続的にニッケルメッキを
行なった。この・噛合は炭素繊維束内部、表面でのニッ
ケル膜厚は０．１２〜０．４５μとバラツキが）１常に
大きく、また数本ないし数１０本がまとめてメッキされ
るいわゆる架橋現象が観察された。
例と同一条件で炭素繊維束に連続的にニッケルメッキを
行なった。この・噛合は炭素繊維束内部、表面でのニッ
ケル膜厚は０．１２〜０．４５μとバラツキが）１常に
大きく、また数本ないし数１０本がまとめてメッキされ
るいわゆる架橋現象が観察された。
また１段階メッキ法で実施例で得られたものと同じ炭素
繊維束内部、表面とも、単繊維１本１本が均一にニッケ
ル被覆されているものを得るだめには全電流を５Ａ、炭
素繊維束の走行速成を１２ｃｍ／ｍｉｎと半分以下にし
なければならなかった。
繊維束内部、表面とも、単繊維１本１本が均一にニッケ
ル被覆されているものを得るだめには全電流を５Ａ、炭
素繊維束の走行速成を１２ｃｍ／ｍｉｎと半分以下にし
なければならなかった。
′ ４、図面の簡単な説明
ｖ８１図、第２図、第３図は本発明方法を行なう装置の
一実施例を示す概略図である。
一実施例を示す概略図である。
１：第１陰極、２：第２陰極、３：第３陰極、４：炭素
繊維束５：入側ニップローラー、５−：入側ニップロー
ラー兼第１陰（か、６：出側ニップローラー、７：メッ
キ液、８：陽極金属、９：メッキ浴 １、ＩＩ、■はメッキゾーンを示す。
繊維束５：入側ニップローラー、５−：入側ニップロー
ラー兼第１陰（か、６：出側ニップローラー、７：メッ
キ液、８：陽極金属、９：メッキ浴 １、ＩＩ、■はメッキゾーンを示す。
特許出願人 東邦ベスロン林式会社
代理人弁理士 土 居 三 部
第１図
第？図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 炭素繊維束に連続的に電気メッキするに当り、繊維束の
走行方向に複数個の陰極を設け、全電流を各々の陰極で
の電流ｍが Ｉｎ−、≧Ｉｎ≧（１１＋。 （１１１はｎ番目陰極の電流用を表わす）の範囲になる
よう配分し、多段で電気メッキを行なうことを特徴とす
る炭素繊維束の電気メツキ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9865483A JPS59226195A (ja) | 1983-06-02 | 1983-06-02 | 炭素繊維束の電気メツキ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9865483A JPS59226195A (ja) | 1983-06-02 | 1983-06-02 | 炭素繊維束の電気メツキ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59226195A true JPS59226195A (ja) | 1984-12-19 |
| JPH0321672B2 JPH0321672B2 (ja) | 1991-03-25 |
Family
ID=14225491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9865483A Granted JPS59226195A (ja) | 1983-06-02 | 1983-06-02 | 炭素繊維束の電気メツキ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59226195A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006055952A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Asahi Diamond Industrial Co Ltd | 超長尺工具の製造装置および製造方法 |
| WO2006132397A1 (en) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Fujifilm Corporation | Plating method, light-transmitting electrically-conductive film and light-transmitting electromagnetic wave shield film |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5243770A (en) * | 1975-10-04 | 1977-04-06 | Nitsukuu Kogyo Kk | Method of treating high temperature exhaust gas containing tar mist, e tc. |
-
1983
- 1983-06-02 JP JP9865483A patent/JPS59226195A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5243770A (en) * | 1975-10-04 | 1977-04-06 | Nitsukuu Kogyo Kk | Method of treating high temperature exhaust gas containing tar mist, e tc. |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006055952A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Asahi Diamond Industrial Co Ltd | 超長尺工具の製造装置および製造方法 |
| WO2006132397A1 (en) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Fujifilm Corporation | Plating method, light-transmitting electrically-conductive film and light-transmitting electromagnetic wave shield film |
| JP2006336099A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Fujifilm Holdings Corp | めっき処理方法、透光性導電性膜、及び透光性電磁波シールド膜 |
| US8097143B2 (en) | 2005-06-06 | 2012-01-17 | Fujifilm Corporation | Plating method, light-transmitting electrically-conductive film and light-transmitting electromagnetic wave shield film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0321672B2 (ja) | 1991-03-25 |
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