JPS59211037A - Photosensitive resin composition - Google Patents
Photosensitive resin compositionInfo
- Publication number
- JPS59211037A JPS59211037A JP8506983A JP8506983A JPS59211037A JP S59211037 A JPS59211037 A JP S59211037A JP 8506983 A JP8506983 A JP 8506983A JP 8506983 A JP8506983 A JP 8506983A JP S59211037 A JPS59211037 A JP S59211037A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- nylon
- water
- solubilized
- polyvinyl alcohol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は変性ポリビニルアルコール感光性樹脂組成物か
らなる感光液の水現像性を向上させ、しかし感光基板上
に得られる画像部の耐水性を損うことのない感光性樹脂
組成物に関する。Detailed Description of the Invention Technical Field of the Invention The present invention improves the water developability of a photosensitive solution comprising a modified polyvinyl alcohol photosensitive resin composition, but impairs the water resistance of an image area obtained on a photosensitive substrate. The present invention relates to a photosensitive resin composition free of.
技術の背景
一般に感光性樹脂は露光により硬化々いし不溶性化する
ものとして一般に凸版、平版、平凹版及びグラビア版な
どの印刷製版材料、あるいはプリント基板、集積回路、
ネームプレートなどの製造における金属腐食加工用フォ
トレジストに広く使用されている。さらに感光性樹脂は
フィルム、ガラス板、スクリーン又は布帛などの基材上
に画像形成皮膜を形成するためにも広く実用化されてい
る。Background of the Technology In general, photosensitive resins harden or become insoluble when exposed to light, and are generally used in printing plate materials such as letterpress, lithographic, plano-intaglio, and gravure plates, printed circuit boards, integrated circuits,
Widely used as a photoresist for metal corrosion processing in the manufacture of name plates, etc. Furthermore, photosensitive resins are also widely used for forming image-forming films on substrates such as films, glass plates, screens, or fabrics.
これまで感光性樹脂としてはアジド基、シンナモイル基
、アクリロイル基などを感光性残基とするものが知られ
ている。これらの樹脂は感度が必ずしも満足できるもの
ではなく、また水に不溶性のものが多い。そのため溶剤
として有機溶剤もしくはアルカリ水溶液を用いる場合、
塗工及び現像工程において取扱い上の不便がある。Photosensitive resins having photosensitive residues such as azide groups, cinnamoyl groups, and acryloyl groups have been known so far. These resins do not necessarily have satisfactory sensitivity, and many of them are insoluble in water. Therefore, when using an organic solvent or alkaline aqueous solution as a solvent,
There are inconveniences in handling during coating and developing processes.
一方、水溶性感光性樹脂としてはポリビニルアルコール
、ゼラチン、グルーなどの水溶性樹脂と重クロム酸塩も
［７くはジアゾニウム塩との組成物が知られている。こ
れらの水溶性感光性和［脂組成物のうち重クロム酸塩を
含む組成物はその水溶液及び塗布により形成された皮膜
の安定性及び保存性が劣悪であり、また廃液の処理にお
いて６価クロムに起因する公害問題を生ずる寿どの欠点
を有しており、このため重クロム酸塩含有感光性樹脂組
成物の実用化は困難になってきている。またジアゾニウ
ム塩含有感光性樹脂組成物の場合、その安定性及び保存
性は車クロム酸塩含有のものより（３）
は良好であるが、しかし満足できるものではなく、特に
その感度は重クロム酸塩含有感光性樹脂の感度に比して
劣り、また露光により得られる硬化皮膜の強度も不十分
である。On the other hand, as water-soluble photosensitive resins, compositions of water-soluble resins such as polyvinyl alcohol, gelatin, glue, and dichromate salts [7] or diazonium salts are known. Among these water-soluble photosensitizers, compositions containing dichromate have poor stability and storage stability of the film formed by the aqueous solution and coating, and the use of hexavalent chromium in the treatment of waste liquids. However, it has been difficult to put dichromate-containing photosensitive resin compositions into practical use. In addition, in the case of photosensitive resin compositions containing diazonium salts, their stability and storage stability are better than those containing dichromate (3), but they are not satisfactory, and in particular, their sensitivity is The sensitivity is inferior to that of salt-containing photosensitive resins, and the strength of the cured film obtained by exposure is also insufficient.
前記のような水溶性感光性樹脂の問題点を解消するため
に、スチリルピリジニウム基を含有するポリビニルアル
コール誘導体である光不溶化性樹脂及びその製造方法が
特公昭５６−５７６１号及び特公昭５６−５７６２号に
開示されている。また同様にスチリルキノリニウム基を
含有する光不溶化性ポリビニルアルコール誘導体及びそ
の製造方法が特開昭５６−１１９０６号に開示されてい
る。これらの感光性スチリルピリジニウム基又はスチリ
ルキノリニウム基含有ポリビニルアルコール誘導体は優
れた感度と水溶性とを有するものであるが、次のような
問題点を有している。In order to solve the above-mentioned problems of water-soluble photosensitive resins, a photoinsolubilizable resin which is a polyvinyl alcohol derivative containing a styrylpyridinium group and a method for producing the same have been published in Japanese Patent Publication No. 56-5761 and Japanese Patent Publication No. 56-5762. Disclosed in the issue. Similarly, a photo-insolubilizable polyvinyl alcohol derivative containing a styrylquinolinium group and a method for producing the same are disclosed in JP-A-56-11906. Although these photosensitive polyvinyl alcohol derivatives containing a styrylpyridinium group or a styrylquinolinium group have excellent sensitivity and water solubility, they have the following problems.
すなわち前記ポリビニルアルコール誘導体はアルデヒド
基又はアセタール基を有するスチリルピリジニウム化合
物又はスチリルキノリニウム化合物をアセタール化反応
によりポリビニルアルコ−（４）
ルに付加させることにより製造される。しかし々からこ
のようにして製造されたスチリルピリジニウム（以下Ｓ
ＢＱという）化ぼりビニルアルコール水溶液又はスチリ
ルキノリニウム（以下ＳＱＱという）化ポリビニルアル
コール水溶液は、本来水溶性であるため光架橋後得られ
る画像部が膨潤しやすく十分な画像強度が得られないと
いう問題点を有する。ＳＢＱ化ポリビニルアルコール又
はＳＱＱ化ポリビニルアルコールを含有する従来より水
で現像することができる感光基板上における感光性樹脂
組成物は多数知られている。しかしながら感光液は本来
水溶性であるため、それから得られる画像部の耐水性に
問題がある。そこでその面Ｊ水性向上の一つの方法とし
て従来よりポリ酢酸ビニル、アクリル系樹脂、ポリ塩化
ビニル、ポリウレタン、ＳＢＲ，ＮＢＲ等のエマルジョ
ンを、各々の要求性能に応じて単体もしくはそれらの組
合せを添加し、それにより上記の耐水性の間鯛を解決し
ている。That is, the polyvinyl alcohol derivative is produced by adding a styrylpyridinium compound or a styrylquinolinium compound having an aldehyde group or an acetal group to polyvinyl alcohol (4) through an acetalization reaction. However, styrylpyridinium (hereinafter S
Since an aqueous solution of spoiled vinyl alcohol (referred to as BQ) or an aqueous solution of polyvinyl alcohol modified with styrylquinolinium (hereinafter referred to as SQQ) is inherently water-soluble, the image area obtained after photocrosslinking tends to swell, making it difficult to obtain sufficient image strength. There are problems. Many photosensitive resin compositions containing SBQ-modified polyvinyl alcohol or SQQ-modified polyvinyl alcohol and which can be developed with water on photosensitive substrates are conventionally known. However, since the photosensitive liquid is originally water-soluble, there is a problem in the water resistance of the image area obtained from it. Therefore, as a method to improve water resistance, it has been conventional to add emulsions of polyvinyl acetate, acrylic resin, polyvinyl chloride, polyurethane, SBR, NBR, etc., singly or in combination, depending on the required performance. , thereby solving the above water resistance problem.
ところが一般的に感光性樹脂中に疎水性の物質を共存さ
せた場合は、その未露光部の水現像性を悪化させる傾向
がある。このような事態に対処するために水可溶性物質
の系内への添加が考えられる。However, when a hydrophobic substance is generally present in a photosensitive resin, water developability of the unexposed area tends to be deteriorated. In order to deal with this situation, it is possible to add a water-soluble substance to the system.
しかしこのような方法では、現像性の向上する割合に反
比例して得られる画像部の耐水性が低下する、
発明の目的
本発明の目的は前記のような従来技術の欠点を解決する
ために、感光性樹脂組成物の中に水溶性化ナイロン６を
混和させるよとによって、それから得られる感光性樹脂
の現像性を向上させ、かつ基材（、ｆ？ｌＪエステル、
ガラス、金属等）への接着性を向上させることにある。However, in such a method, the water resistance of the image area obtained decreases in inverse proportion to the rate of improvement in developability. By incorporating water-solubilized nylon 6 into the photosensitive resin composition, the developability of the photosensitive resin obtained therefrom is improved, and the base material (, f?lJ ester,
The objective is to improve adhesion to glass, metal, etc.).
発明の構成
本発明は感光性スチリルピリジニウム基又はスチリルキ
ノリニウム基含有ポリビニルアルコール誘導体に対して
、特定の水溶性化ナイロンを添加することによって感光
性樹脂の現像性及び基材に対する接着性を向上せしめた
ものである。Structure of the Invention The present invention improves the developability of a photosensitive resin and the adhesion to a substrate by adding a specific water-solubilized nylon to a photosensitive styrylpyridinium group- or styrylquinolinium group-containing polyvinyl alcohol derivative. It was forced upon me.
すなわち本発明は２００〜４０００の主鎖重合度と７０
〜９８モル係のケン化度とを有し、かつ０．３〜４０モ
ル係の下記一般式（Ｉ）：（式中Ｙは下記一般式（ＩＩ
）及び（＠を有する基：１
及び
１
を有する基から選ばれた１員を示し、Ｒ１は水素原子、
アルキル基又はアラルキル基を示し、前記アルキル基及
びアラルキル基はそれぞれヒドロキシル基、カルバモイ
ル基、エーテル結合及び不飽和結合からなる群から選ば
れた少なくとも１員を含んでいてもよく、Ｒ２は水素原
子、又は低級アルキル基を示し、Ｘ−は陰イオンを示し
、ｍは０又は１を示し、ｎは１〜６の整数を示す。）
を有する重合体構成単位を含む感光性ポリビニルアルコ
ール誘導体を感光性要素として含む組成物において、前
記組成物が更に水溶性化ナイロン６を含み、この水溶性
化ナイロン６においてそのポリ−ε−カプラミド構造の
α位の水素原子が４０〜７０チの置換率をもってジアル
キルアミノ基で置換されていることを特徴とする変性ポ
リビニルアルコール感光性樹脂組成物を提供する。That is, the present invention has a main chain polymerization degree of 200 to 4000 and a
The following general formula (I) has a degree of saponification of 0.3 to 40 molar ratio and has a saponification degree of 0.3 to 40 molar ratio:
) and (a group having @: 1 and 1 , R1 is a hydrogen atom,
represents an alkyl group or an aralkyl group, each of the alkyl group and aralkyl group may contain at least one member selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carbamoyl group, an ether bond, and an unsaturated bond, R2 is a hydrogen atom, or a lower alkyl group, X- represents an anion, m represents 0 or 1, and n represents an integer of 1 to 6. ), the composition further comprises water-solubilized nylon 6, and in the water-solubilized nylon 6, the poly-ε-capramide Provided is a modified polyvinyl alcohol photosensitive resin composition characterized in that the hydrogen atom at the α-position of the structure is substituted with a dialkylamino group at a substitution rate of 40 to 70.
本発明における一般式（１）で示される重合体構成単位
を有する感光性、１？ リビニルアルコール誘導体は、
ポリビニルアルコール又はその誘導体とスチルバゾリウ
ム基又はスチリルキノリニウム基を有する化合物とのア
セタール化反応又はアセタール交換反応を行なった後、
得られた反応混合物をイオン交換樹脂で処理することに
よって製造することができるものである。Photosensitivity having a polymer constitutional unit represented by general formula (1) in the present invention, 1? Rivinyl alcohol derivatives are
After performing an acetalization reaction or an acetal exchange reaction between polyvinyl alcohol or a derivative thereof and a compound having a stilbazolium group or a styrylquinolinium group,
It can be produced by treating the resulting reaction mixture with an ion exchange resin.
一般式（Ｉ）及び（Ｉｌｌ）のＲ１により表わされるア
ルキル基は炭素数１〜４のもの、例えばメチル、エチル
、プロピル、ブチル基などであることが好ましく、また
Ｒ１により表わされるアラルキル基は炭素数７〜１９の
もの、例えばベンジル、フェネチル、トリチル基などで
あることが好ましい。さらに前記Ｒ４により表わされる
アルキル基及びアラルキル基はヒドロキシル基、カルバ
モイル基、エーテル結合及び不飽和結合からなる群から
選ばれた少なくとも１種を含むもの、例えばヒドロキシ
エチル、カルバモイルメチル又はメトキシメチル基など
であってもよい。The alkyl group represented by R1 in the general formulas (I) and (Ill) preferably has 1 to 4 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, butyl, etc., and the aralkyl group represented by R1 has a carbon number of 1 to 4. Preferably, the number is 7 to 19, such as benzyl, phenethyl, trityl groups, etc. Further, the alkyl group and aralkyl group represented by R4 include at least one selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carbamoyl group, an ether bond, and an unsaturated bond, such as a hydroxyethyl, carbamoylmethyl, or methoxymethyl group. There may be.
また一般式（ＩＩ）においてＲ２により表わされる低級
アルキル基は１〜４圓の炭素原子を含むもの、例えばメ
チル、エチル、プロピル又はブチル基であることが好ま
しい。さらに一般式（ＩＩ）および（Ｉ［０においてＸ
−によシ表わされる陰イオンは７１０ｒンイオン、リン
酸イオン、硫酸イオン、メト硫酸イオン又はｐ−トルエ
ンスルホン酸イオンであることが好ましい。Further, the lower alkyl group represented by R2 in the general formula (II) preferably contains 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl, ethyl, propyl or butyl group. Furthermore, general formula (II) and (I[0 in
The anion represented by - is preferably a 710rn ion, a phosphate ion, a sulfate ion, a methosulfate ion or a p-toluenesulfonate ion.
本発明において使用される水溶性化ナイロン６は前記感
光性樹脂組成物の全固形分重量に対して０．０１％以上
の添加量により若干の効果が認められはじめ、０．１〜
５チの添加量によシ接着力・現像性・画像部の耐水性を
向上させることができる。The water-solubilized nylon 6 used in the present invention begins to have some effect when added in an amount of 0.01% or more based on the total solid weight of the photosensitive resin composition, and
Adhesive strength, developability, and water resistance of the image area can be improved by adding 5%.
しかしながら添加量が５％よシ多くなると画像部の耐水
性が低下する。However, when the amount added increases by more than 5%, the water resistance of the image area decreases.
本発明において水溶性化ナイロン６におけるジアルキル
アミノ基の水素原子置換率は４０〜７０チの範囲にある
ことが好ましく、この時得られる感光性樹脂は良好な耐
水性を有する画像部を与えた。この範囲外においては画
像部の耐水性が低下する。In the present invention, the hydrogen atom substitution rate of the dialkylamino group in the water-solubilized nylon 6 is preferably in the range of 40 to 70, and the photosensitive resin obtained at this time provides an image area with good water resistance. Outside this range, the water resistance of the image area decreases.
一方、画像の可視化のために染料又は顔料の添加はなさ
れてもよい。On the other hand, dyes or pigments may be added for image visualization.
また本発明において感光性ポリビニルアルコール誘導体
に対して種々のエマルジョンを共に使用する。そのよう
なエマルジョンの中でここで用いられる高分子エマルジ
ョンとしては酢酸ビニルエマルジョンの他にアクリル系
エマルジョン、エチレン−酢酸ビニルエマルジョン、エ
チレン−アクリルエマルジョン、ＳＢＲラテックス、シ
リコン樹脂エマルジョン、塩化ビニルエマルジョン、塩
化ビニリデンエマルジョンなどを用いることができる。Also, in the present invention, various emulsions are used together with the photosensitive polyvinyl alcohol derivative. Among such emulsions, polymer emulsions used here include vinyl acetate emulsion, acrylic emulsion, ethylene-vinyl acetate emulsion, ethylene-acrylic emulsion, SBR latex, silicone resin emulsion, vinyl chloride emulsion, and vinylidene chloride. An emulsion or the like can be used.
これう高分子エマルジョンの固形分と上記感光性ホリビ
ニルアルコールとの比は１：０．０５〜２の範囲にある
ことが望ましい。The ratio of the solid content of the polymer emulsion to the photosensitive polyvinyl alcohol is preferably in the range of 1:0.05 to 2.
発明の実施例
実施例１
１モル係のＳＢＱを付加した日本合成化学工業社？Ｊ
ＰＶＡ（ＧＨ１７） ノ１０ ％溶液Ｋ ＲＯＨＭ ＆
ＨＡＡＳ社製プライマルＣ−７２（アクリルエマルジ
ョン４５％）を１０：４の構成割合で混合した組成物に
その全固形分に対して水溶性化ナイロン６を第１表に示
された量で添加した。このような水溶性化ナイロン６添
加肯Ｏ〜１０％を有する感光性樹脂組成物を感光基板で
あるアルミニウム版上にホエラーで塗工し、それを２
ｋＷの超高圧水銀灯よＪ１ｍ離れた所で１分間露光せし
め、水によるスプレーによって現像した。その時の現像
所要時間は第１表のとおりであった。Examples of the invention Example 1 Nippon Gosei Chemical Industry Co., Ltd. with 1 mol of SBQ added? J
PVA (GH17) 10% solution K ROHM &
Water-solubilized nylon 6 was added to a composition prepared by mixing Primal C-72 manufactured by HAAS (acrylic emulsion 45%) at a composition ratio of 10:4 in the amount shown in Table 1 based on the total solid content. . A photosensitive resin composition containing 0 to 10% of water-soluble nylon 6 was coated onto an aluminum plate as a photosensitive substrate using a Whaler, and
The film was exposed to a kW ultra-high pressure mercury lamp at a distance of 1 m for 1 minute, and developed by spraying with water. The development time required at that time was as shown in Table 1.
第 １ 表 ＊１）ジメチルアミノ基置換率は５２％である。Table 1 *1) Dimethylamino group substitution rate is 52%.
実施例２
１モル係のＳＢＱを付加した日本合成化学工業社製ＰＶ
Ａ（ＧＨ２３）の１０％溶液に住友化学製スミカｘ−Ｉ
Ｊ −ｒ １３００のエチレン−塩ビエマルジ１ン４９
チ及び住友化阜製スミアクリルオレンジＧの着色剤を１
０：４：０．０４の構成割合で混合した組成物にその全
固形分に対して水溶性化ナイロン６を第２表に示された
量で添加した。このような添加ＳＯ〜１０係を有する感
光性樹脂組成物を感光基板であるポリエステルフィルム
上にロッドで塗工し乾燥させた後、それを２ ｋＷの超
高圧水銀灯より１ｍ離れた所で１分間露光せしめ、水に
よるスプレーによって現像した。その時の現像所要時間
及び接着力は第２表のとおりであった。Example 2 PV manufactured by Nippon Gosei Kagaku Kogyo Co., Ltd. to which 1 mol of SBQ was added
Sumika x-I manufactured by Sumitomo Chemical in a 10% solution of A (GH23)
J-r 1300 ethylene-vinyl chloride emulsion 49
1 colorant of Sumiacryl Orange G manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
Water-solubilized nylon 6 was added to the composition mixed in a composition ratio of 0:4:0.04 in the amount shown in Table 2 based on the total solid content. A photosensitive resin composition having an additive SO of ~10 was coated onto a polyester film as a photosensitive substrate using a rod, dried, and then heated for 1 minute at a distance of 1 m from a 2 kW ultra-high pressure mercury lamp. Exposure to light and development by spraying with water. The development time and adhesive strength at that time were as shown in Table 2.
第２表
実施例３
０．７モル係のＳＢＱを付加した日本合成化学工業社製
ＰＶＡ（ＧＨ１７）の１０％溶液にヘキスト合成製モビ
ニール５０Ｍの５（［酢ビエマルジョン及び水溶性化ナ
イロン６を１０：４：０．１の構成割合で混合した組成
物において、ジメチルアミノ基置換により水溶性化され
たナイロン６の置換率を第３表に示される範囲で変化さ
せた。このようなジメチルアミノ基置換率３３〜１００
％を有する感光性樹脂組成物を感光基板であるガラス板
上に塗工した後、それを２ ｋＷの超高圧水銀灯より１
７７＋離れた所で１分間露光せしめ、水によるスプレー
で現像した。その時の現像性及び接着力は第３表のとお
りであった。Table 2 Example 3 A 10% solution of PVA (GH17) manufactured by Nippon Gosei Kagaku Kogyo Co., Ltd. to which 0.7 mol of SBQ was added was added with 50 M of Movinyl 50M manufactured by Hoechst Synthesis ([vinyl acetate emulsion and water-solubilized nylon 6]). In a composition mixed in a composition ratio of 10:4:0.1, the substitution ratio of nylon 6 made water-soluble by dimethylamino group substitution was varied within the range shown in Table 3. Group substitution rate 33-100
% on a glass plate as a photosensitive substrate, it was heated to
Exposure for 1 minute at 77+ distance and develop with water spray. The developability and adhesive strength at that time were as shown in Table 3.
第３表
実施例４
０５モル係のＳＢＱを付加したクラレ製ＰＶＡ（２２０
Ｅ）の１０チ溶液に日本カーバイト社製二カゾールＣＬ
ＩＯＩＶの５５％酢ビエマルジョン及び水溶性化ナイロ
ン６を１０：４：０．５の構成割合で混合した組成物に
おけるジメチルアミノ基置換により水溶性化されたナイ
ロン６の無添加品及び添加品を第４表に示した。すなわ
ち６３係のジメチルアミン基置換によシ水溶性化された
ナイロン６の無添加品及び添加品をそれぞれ紗に１０μ
の厚さで塗布し、それを乾燥後２ ｋＷの超高圧水銀灯
より１兜離れた所で２分間露光せしめ、水によるスプレ
ーで現像した。その時の現像性及び解像力は第４表のと
おりであった。Table 3 Example 4 Kuraray PVA (220
Nippon Carbide Co., Ltd.'s Nicazole CL was added to the 10% solution of E).
Additive-free products and additive products of nylon 6 made water-soluble by dimethylamino group substitution in a composition obtained by mixing IOIV's 55% acetic acid vinyl emulsion and water-solubilized nylon 6 in a composition ratio of 10:4:0.5. It is shown in Table 4. In other words, 10 μm of nylon 6 without additives and with additives made water-soluble by substituting dimethylamine groups in section 63, respectively.
After drying, it was exposed to light from a 2 kW ultra-high pressure mercury lamp at a distance of one helmet for 2 minutes, and developed by spraying with water. The developability and resolution at that time were as shown in Table 4.
第４表Table 4
Claims (2)
のケン化度とを有し、かつ、０８３〜４０モル係の下記
一般式（■）： （式中Ｙは下記一般式（１）及び（■）：１ 及び １ を有する基から選ばれだ１員を示し、Ｒ１は水素原子、
アルキル基又はアラルキル基を示し、前記アルキル基及
びアラルキル基はそれぞれヒドロキシル基、カルバモイ
ル基、エーテル結合及び不飽和結合からなる群から選ば
れた少なくとも１員を含んでいてもよく、Ｒ２は水素原
子、又は低級アルキル基を示し、Ｘ−は陰イオンを示し
、ｍはＯ又は１を示し、ｎは１〜６の整数を示す。） を有する重合体構成凰位を含む感光性ポリビニルアルコ
ール誘導体を感光性要素として含み、かつ合成樹脂エマ
ルジョンを含む組成物において、前記組成物が更に水溶
性化ナイロン６を含み、この水溶性化ナイロン６におい
てそのポリ−ε−カプラミド構造のα位の水素原子が４
０〜７０％の置換率をもってジアルキルアミノ基で置換
されていることを特徴とする変性ポリビニルアルコール
感光性樹脂組成物。The following general formula (■) having a main chain polymerization degree of 1.200 to 4000 and a saponification degree of 70 to 98 mol, and a 083 to 40 mol ratio: (wherein Y is the following general formula (1) and (■): represents one member selected from the group having 1 and 1 , R1 is a hydrogen atom,
represents an alkyl group or an aralkyl group, each of the alkyl group and aralkyl group may contain at least one member selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carbamoyl group, an ether bond, and an unsaturated bond, R2 is a hydrogen atom, or a lower alkyl group, X- represents an anion, m represents O or 1, and n represents an integer of 1 to 6. ), the composition further comprises water-solubilized nylon 6, and the composition further comprises water-solubilized nylon 6, and the composition further comprises water-solubilized nylon 6. In 6, the hydrogen atom at the α position of the poly-ε-capramide structure is 4
A modified polyvinyl alcohol photosensitive resin composition characterized in that it is substituted with a dialkylamino group at a substitution rate of 0 to 70%.
形分全量に対して、ｏ、ｏｉ重ｉ係〜１０重量係である
特許請求の範囲第１項記載の感光性樹脂組成物。2. 2. The photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the content of the water-solubilized nylon 6 is from 0 to 10 parts by weight based on the total solid content of the composition.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8506983A JPS59211037A (en) | 1983-05-17 | 1983-05-17 | Photosensitive resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8506983A JPS59211037A (en) | 1983-05-17 | 1983-05-17 | Photosensitive resin composition |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59211037A true JPS59211037A (en) | 1984-11-29 |
Family
ID=13848335
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8506983A Pending JPS59211037A (en) | 1983-05-17 | 1983-05-17 | Photosensitive resin composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59211037A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4868241A (en) * | 1986-02-07 | 1989-09-19 | American Cyanamid Company | Electron beam and x-ray resists |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5562446A (en) * | 1978-11-06 | 1980-05-10 | Agency Of Ind Science & Technol | Photosensitive resin composition for screen printing plate |
| JPS5611906A (en) * | 1979-07-11 | 1981-02-05 | Agency Of Ind Science & Technol | Photo-insolubilizable polyvinyl alcohol derivative and its preparation |
| JPS5745535A (en) * | 1980-09-02 | 1982-03-15 | Unitika Ltd | Photosensitive resin composition |
-
1983
- 1983-05-17 JP JP8506983A patent/JPS59211037A/en active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5562446A (en) * | 1978-11-06 | 1980-05-10 | Agency Of Ind Science & Technol | Photosensitive resin composition for screen printing plate |
| JPS5611906A (en) * | 1979-07-11 | 1981-02-05 | Agency Of Ind Science & Technol | Photo-insolubilizable polyvinyl alcohol derivative and its preparation |
| JPS5745535A (en) * | 1980-09-02 | 1982-03-15 | Unitika Ltd | Photosensitive resin composition |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4868241A (en) * | 1986-02-07 | 1989-09-19 | American Cyanamid Company | Electron beam and x-ray resists |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3634082A (en) | Light-sensitive naphthoquinone diazide composition containing a polyvinyl ether | |
| US4596759A (en) | Dry film resist containing two or more photosensitive strata | |
| US3495979A (en) | Copying material for use in the photochemical preparation of printing plates | |
| US4177073A (en) | Photosensitive resin composition comprising cellulose ether aromatic carboxylic ester | |
| JPH0666030B2 (en) | Photosensitive resin composition for screen plate making | |
| JPS6381101A (en) | Photosensitive resin | |
| JPH0145901B2 (en) | ||
| US5122442A (en) | Method for forming an image from a high speed screen printing composition on a screen mesh | |
| JPH05127372A (en) | Lithographic printing photosensitive resin and resin composition | |
| US5948592A (en) | Water-soluble photoresist composition | |
| JPS59211037A (en) | Photosensitive resin composition | |
| JPS58137834A (en) | Photosensitive composition | |
| US5328797A (en) | Process for producing a negative-working lithographic printing form utilizing solvent mixture of mono-(C1 -C4) alkyl ether of diethylene glycol and a solvent having boiling point between 50° and 150° C. | |
| US3694251A (en) | Coated article having a layer of boehmite and alkyl titanate | |
| US4871644A (en) | Photoresist compositions with a bis-benzotriazole | |
| EP0276093B1 (en) | Water-developable photosentitive resin composition, and resin or printing plate therefrom | |
| JP3800668B2 (en) | Photosensitive agent, photosensitive composition containing the same, and pattern forming method | |
| US3661573A (en) | Light-sensitive compounds | |
| US4914000A (en) | Three dimensional reproduction material diazonium condensates and use in light sensitive | |
| JPS5917730B2 (en) | Photosensitive resin composition | |
| JPH0677149B2 (en) | Photosensitive mixture and photosensitive copying material | |
| US4822720A (en) | Water developable screen printing composition | |
| JPS6187150A (en) | Photosensitive resin composition | |
| JPS5917729B2 (en) | Photosensitive resin composition | |
| JPS647649B2 (en) |