JPS5921024A - フオトマスク検査装置 - Google Patents
フオトマスク検査装置Info
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- JPS5921024A JPS5921024A JP57132757A JP13275782A JPS5921024A JP S5921024 A JPS5921024 A JP S5921024A JP 57132757 A JP57132757 A JP 57132757A JP 13275782 A JP13275782 A JP 13275782A JP S5921024 A JPS5921024 A JP S5921024A
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- JP
- Japan
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- magnification
- image
- photomask
- mask
- reticle
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はｈいに倍率の異なつノζフォトマスクを比較検
査する装置に関するものである１、半導体集積回路など
の半導体鉄心を製造する際に写真製版技術は不ロＪ欠で
あり、最近、増々、フォトマスクの精度の白土が要求さ
れている。
査する装置に関するものである１、半導体集積回路など
の半導体鉄心を製造する際に写真製版技術は不ロＪ欠で
あり、最近、増々、フォトマスクの精度の白土が要求さ
れている。
従来のこの釉のフォトマスク検査装置の一例の概略を第
１図に示し説明すると、図において、０ａ）。
１図に示し説明すると、図において、０ａ）。
（１ｂ）は作製さｈたフォトマスクで、とのフォトマス
ク（ｌａ） 、 （ｌｂ）を図示しない測定台の土に載
せ、光源（２）からの光はフォトマスク上部より透過照
明される。そして、この透過光重１それぞれ測定台の下
に設置した対物レンズ（３ａ） 、 （３ｂ）を経で、
プリズムなどにより光路を変化さぜ、名々の透過像を合
致させている。この合致した像は変倍レンズ（４）によ
９倍率を変化させ、その出力は接眼レンズ（５ａ） 。
ク（ｌａ） 、 （ｌｂ）を図示しない測定台の土に載
せ、光源（２）からの光はフォトマスク上部より透過照
明される。そして、この透過光重１それぞれ測定台の下
に設置した対物レンズ（３ａ） 、 （３ｂ）を経で、
プリズムなどにより光路を変化さぜ、名々の透過像を合
致させている。この合致した像は変倍レンズ（４）によ
９倍率を変化させ、その出力は接眼レンズ（５ａ） 。
（５ｂ）に至シ、観察できるように構成されている。
しかしながら、このようなフォトマスク検査装置におい
ては、左右のフォトマスク（１ｍ） 、 （ｌｂ）は同
倍率のフォトマスクであることが必要であυ、倍率の異
なった同士のフォトマスクの測定は不可能であった。し
たがって、例えば、１倍のマスターマスクと１０倍のレ
ティクルとの比較検査は不可能であるなどの欠点を有し
ていｔ（。
ては、左右のフォトマスク（１ｍ） 、 （ｌｂ）は同
倍率のフォトマスクであることが必要であυ、倍率の異
なった同士のフォトマスクの測定は不可能であった。し
たがって、例えば、１倍のマスターマスクと１０倍のレ
ティクルとの比較検査は不可能であるなどの欠点を有し
ていｔ（。
一方、最近、電子ビーム露光装置によシ容易にしかも高
精度にマスターマスクや種々の倍率のレティクルが作成
可能となった。１だ、フォトリピ゛−タによシレテイク
ルからマスターマスクが非常に畠精度に作成されている
。
精度にマスターマスクや種々の倍率のレティクルが作成
可能となった。１だ、フォトリピ゛−タによシレテイク
ルからマスターマスクが非常に畠精度に作成されている
。
ところが、同倍率のフォトマスク同士の比較検査は第１
図に示すような装置で可能であったが、’ｈ４率の異な
った）第１・マスク同士の比較検査は不１１Ｊ能であシ
、イ」効な検査手段がなかった。したがって、ウェハー
ステッパー用等に使用するレディクルを作成する場合、
パターンテータと合致しているかどうかの保証はなかっ
た。
図に示すような装置で可能であったが、’ｈ４率の異な
った）第１・マスク同士の比較検査は不１１Ｊ能であシ
、イ」効な検査手段がなかった。したがって、ウェハー
ステッパー用等に使用するレディクルを作成する場合、
パターンテータと合致しているかどうかの保証はなかっ
た。
また、従来の検査方法においては、顕微鏡によシ観察す
るという人為的な観察操作がはいるため多数のフォトマ
スクを測定したシ、検査する場合には、極めて多くの労
力と時間を費やさねばならないという欠点がある。
るという人為的な観察操作がはいるため多数のフォトマ
スクを測定したシ、検査する場合には、極めて多くの労
力と時間を費やさねばならないという欠点がある。
本発明は以上の点に鑑み、このような問題を解決すると
共に、かかる欠点を除去すべくなされたもので、その目
的はいかなる倍率同士のフォトマスクの検査が可能でお
シ、また、パターン欠け。
共に、かかる欠点を除去すべくなされたもので、その目
的はいかなる倍率同士のフォトマスクの検査が可能でお
シ、また、パターン欠け。
データ脱け、共通欠陥などを容易に発見することができ
、さらに、従来、人間の顕微鏡観察によシ長時間袈して
いた検査を容易に短時間でできるフォトマスク検査装置
を提供することにある。
、さらに、従来、人間の顕微鏡観察によシ長時間袈して
いた検査を容易に短時間でできるフォトマスク検査装置
を提供することにある。
このような目的を達成するため、本発明は互いに独立に
７オトマスクの観察倍率を変化せしめ得る手段を備え、
レティクルとマスターなど倍率の異なったマスク同士の
比較検査を行なうことができるようにしたもので、以下
、図面に基づき本発明の実施例を詳細に説明する。
７オトマスクの観察倍率を変化せしめ得る手段を備え、
レティクルとマスターなど倍率の異なったマスク同士の
比較検査を行なうことができるようにしたもので、以下
、図面に基づき本発明の実施例を詳細に説明する。
第２図は本発明によるフォトマスク検査装置の一実施例
の概略を示す構成図で、説明に必要な部分のみを示す。
の概略を示す構成図で、説明に必要な部分のみを示す。
この第２図において第１図と同一符号のものは相当部分
を示し、θυは右側の測定台の上に載せたフォトマスク
（マスターマスク）、（１３は左側の測定台の上に載せ
たレティクル、（６）はレティクルＱ２１の光路系に挿
入された対物レンズ（変倍レンズ）でこの変倍レンズ（
６ｊト右側の対物レンズ（３ａ）の倍率と異なる例えは
１／□０の倍率の変倍機能を備えている。
を示し、θυは右側の測定台の上に載せたフォトマスク
（マスターマスク）、（１３は左側の測定台の上に載せ
たレティクル、（６）はレティクルＱ２１の光路系に挿
入された対物レンズ（変倍レンズ）でこの変倍レンズ（
６ｊト右側の対物レンズ（３ａ）の倍率と異なる例えは
１／□０の倍率の変倍機能を備えている。
つぎにこの第２図に示す実施例の動作を説明する。まず
、作成されたフォトマスク（マスターマスク）ａυを右
側の測定台の上に載せ、レティクルａ３を左側の測定台
の上に載せる。そして、照明は前述した第１図の場合と
同様に、光源（２）からの光をマスターマスクＯｖおよ
びレティクルＨの上部よシ透過照明を行なう。このマス
ターマスクａυおよびレティクルａ２１を透過して得ら
れた透過像は対物レンズ（３ａ）および変倍レンズ（６
）を経る訳であるが、ここで、前述したように、この対
物レンズに変倍機能を持させ、右側の対物レンズ（３ａ
）は従来の倍率とし、左側の変倍レンズ（６）は右側の
倍率の１／１゜とする。そして、マスターマスク０υの
像の１０倍の大きさを持つレティクルＱ４の像は変倍レ
ンズ（６）（対物レンズ）によシマスターマスク０υの
像と同倍率の像が得られる。
、作成されたフォトマスク（マスターマスク）ａυを右
側の測定台の上に載せ、レティクルａ３を左側の測定台
の上に載せる。そして、照明は前述した第１図の場合と
同様に、光源（２）からの光をマスターマスクＯｖおよ
びレティクルＨの上部よシ透過照明を行なう。このマス
ターマスクａυおよびレティクルａ２１を透過して得ら
れた透過像は対物レンズ（３ａ）および変倍レンズ（６
）を経る訳であるが、ここで、前述したように、この対
物レンズに変倍機能を持させ、右側の対物レンズ（３ａ
）は従来の倍率とし、左側の変倍レンズ（６）は右側の
倍率の１／１゜とする。そして、マスターマスク０υの
像の１０倍の大きさを持つレティクルＱ４の像は変倍レ
ンズ（６）（対物レンズ）によシマスターマスク０υの
像と同倍率の像が得られる。
このようにして得Ｇれた同倍率の像はプリズム等を得て
、像を合致させる。合致した像は変倍レンズ（４）によ
シ倍率を変化させ、その出力は接眼レンズ（５ａ） ＃
（５ｂ）に至シ、互いに異なったフォトマスクを観察
することができる。
、像を合致させる。合致した像は変倍レンズ（４）によ
シ倍率を変化させ、その出力は接眼レンズ（５ａ） ＃
（５ｂ）に至シ、互いに異なったフォトマスクを観察
することができる。
なお、従来の方法では、同倍率のフォトマスクを観察す
るため、各々の測定台の動きは左右同時でよかったが、
この第２図に示す実施例においては左右のフォトマスク
の倍率が異なるため、測定台の動きは、左右独立にしか
も倍率に合せて（この実施例ではし祐）動く必要がある
。
るため、各々の測定台の動きは左右同時でよかったが、
この第２図に示す実施例においては左右のフォトマスク
の倍率が異なるため、測定台の動きは、左右独立にしか
も倍率に合せて（この実施例ではし祐）動く必要がある
。
このようにして、倍率が１／１ｏのレティクルと倍率が
１倍のマスターマスクとの比較検査は、互いに独やＬ２
て変倍−可能ガ変ｉｆｓレンズ（６）（対物ｌ／ンズ）
、！力いに独立［，２て、かつイｔ′１率によってステ
ージが作動°ｊ゛る測定台によつでイｒガうことができ
る３、かくし、て、いかなる倍率同士のフォトマスクの
検漬が用油であり、ま／こ、パターン欠け、データ脱け
、共通欠陥ｌとが容易に発見できる３１さらに、使来、
人手による顕微鏡観察により長時間を要していた検★が
朽易に短時間？’７’きる。
１倍のマスターマスクとの比較検査は、互いに独やＬ２
て変倍−可能ガ変ｉｆｓレンズ（６）（対物ｌ／ンズ）
、！力いに独立［，２て、かつイｔ′１率によってステ
ージが作動°ｊ゛る測定台によつでイｒガうことができ
る３、かくし、て、いかなる倍率同士のフォトマスクの
検漬が用油であり、ま／こ、パターン欠け、データ脱け
、共通欠陥ｌとが容易に発見できる３１さらに、使来、
人手による顕微鏡観察により長時間を要していた検★が
朽易に短時間？’７’きる。
第３図は本発明の他の実施例の顧４略を示す構成図で、
Ｆ１５と明に必安な部分のみを示す。
Ｆ１５と明に必安な部分のみを示す。
この第３図におい″Ｃ第２〆ｊと同一部分には回−杓Ｙ
」を伺して説明を省略゛する。
」を伺して説明を省略゛する。
（３ｂ）はレテイクノＬ（１：！Ｊの光路糸に挿入され
た対物レンズ、（７Ｊｉｊ、この対物レンズ（３ｂ）の
前段に設けられ＆ｆｆ１ｉｌ少レンズ（変偽１ノンズ）
で、との変倍レンズ（７）はレティクル（１２１が載せ
らＪｌん左側の測定台の）ぐ−１−’ ｋ（−ｉｉ旧ｕ
、！）Ｌｌ−ぞｔ）縮少率ｒ、ｌ、’Ａｏである。
た対物レンズ、（７Ｊｉｊ、この対物レンズ（３ｂ）の
前段に設けられ＆ｆｆ１ｉｌ少レンズ（変偽１ノンズ）
で、との変倍レンズ（７）はレティクル（１２１が載せ
らＪｌん左側の測定台の）ぐ−１−’ ｋ（−ｉｉ旧ｕ
、！）Ｌｌ−ぞｔ）縮少率ｒ、ｌ、’Ａｏである。
（二のように摘゛成さＦ）ｃフ」トマスク検査装置Ｈに
４、・いＣ１−まず、作成さｈ／ｃ−マスターマスク０
υを子４側の測定台の上に載せ、レティクル（Ｌ２Ｊを
／ｌ−側の測定台の土に載せる。イーして、左側の測定
１マのすぐ下に変イｈレンズ（７）（縮少ｌ／ンズ）（
この場合しｊ縮少率が１／ｉ０）を配飯さぜ、１／／ｌ
ｏに＾ｈ少さノ１に透過像が対物レンズ（ａｂ ）に入
光さｉｌる１９シたがって、マスターマスク（ｌυと同
様の像が・ぞｔＬぞれの対ｊ吻ト・／ズ（３ａ） 、
（３ｂ）を経て像を合致させる。。
４、・いＣ１−まず、作成さｈ／ｃ−マスターマスク０
υを子４側の測定台の上に載せ、レティクル（Ｌ２Ｊを
／ｌ−側の測定台の土に載せる。イーして、左側の測定
１マのすぐ下に変イｈレンズ（７）（縮少ｌ／ンズ）（
この場合しｊ縮少率が１／ｉ０）を配飯さぜ、１／／ｌ
ｏに＾ｈ少さノ１に透過像が対物レンズ（ａｂ ）に入
光さｉｌる１９シたがって、マスターマスク（ｌυと同
様の像が・ぞｔＬぞれの対ｊ吻ト・／ズ（３ａ） 、
（３ｂ）を経て像を合致させる。。
ぞ１〜で、合致した像は、第２ト１の場合と同様に、変
倍レンズ（４）により倍率を変化さ−ｉ！、その出力は
接眼レンズ（５ａ） 、 （５ｂ）に至り、互いに倍率
が異なったフォトマスクの観測を行なうことができる。
倍レンズ（４）により倍率を変化さ−ｉ！、その出力は
接眼レンズ（５ａ） 、 （５ｂ）に至り、互いに倍率
が異なったフォトマスクの観測を行なうことができる。
かくしで、容易に４Ｍ率の異なったフォトマスク同士を
比較検査することが−Ｃきる４、第４図は本発明の更に
他の実施例の概略を小ず構成図で、説明に必要な部分の
みを示す。
比較検査することが−Ｃきる４、第４図は本発明の更に
他の実施例の概略を小ず構成図で、説明に必要な部分の
みを示す。
第２図に７Ｊ＜す実施例の装置に↓・いては、測定台の
動きは左イｊ独立にしかも倍率に負せて動く必要がめっ
たが、この第４図に示す製放は測定台の動きは従来のも
のと同イ＊な動きでよく、かつ鰭、察を容易ならしめる
ようにしたものである。。
動きは左イｊ独立にしかも倍率に負せて動く必要がめっ
たが、この第４図に示す製放は測定台の動きは従来のも
のと同イ＊な動きでよく、かつ鰭、察を容易ならしめる
ようにしたものである。。
ｈ′巳４図にｊ、・いて第３図と同一符号のものｔ４１
相当部分を示１．−１（Ｊ３ｎｉ伯率が１０倍のレティ
クル、（１４３はマスターマスクである。−ｆ−Ｌ、て
、変倍レンズ（７）（縮少レンズ）によりプリメム状に
結像された像とマスターマスク（１，１而十で結像され
た像とは同一平面上で結像するため、観察は容易となり
、また、６１１１定台の動きｔま従来のものと同様な動
きでよい４、なお、−Ｆ記者実施例においては、測定物
であるフォトマスクに入光する後に変倍レンズ（対物レ
ンズ（６）、縮少レンズ（７ｊ）を設置した場合を例に
とって説明したが、本発明し１これに限定されるもので
はなく、フォトマスクに入光する前にこれら各変倍レン
ズを設置し、互いに独立に観察倍率が変化でき、フォト
マスク面上で結像できる機能を有するようにすることが
できる。また、上記各実施例においては、対物レンズ（
３ｂ）に入光する前に変倍レンズ（対物レンズ（６１，
Ｍ少し／ズ（７））を設置した場合を例にとって説明し
たが、本発明はこれに限定されるものではなく、対物レ
ンズ（３ｂ）に入光する後にこれら各変倍レンズを設置
し、互いに独立に観察倍率が変化できる機能を４１する
ようにｊることかできる。
相当部分を示１．−１（Ｊ３ｎｉ伯率が１０倍のレティ
クル、（１４３はマスターマスクである。−ｆ−Ｌ、て
、変倍レンズ（７）（縮少レンズ）によりプリメム状に
結像された像とマスターマスク（１，１而十で結像され
た像とは同一平面上で結像するため、観察は容易となり
、また、６１１１定台の動きｔま従来のものと同様な動
きでよい４、なお、−Ｆ記者実施例においては、測定物
であるフォトマスクに入光する後に変倍レンズ（対物レ
ンズ（６）、縮少レンズ（７ｊ）を設置した場合を例に
とって説明したが、本発明し１これに限定されるもので
はなく、フォトマスクに入光する前にこれら各変倍レン
ズを設置し、互いに独立に観察倍率が変化でき、フォト
マスク面上で結像できる機能を有するようにすることが
できる。また、上記各実施例においては、対物レンズ（
３ｂ）に入光する前に変倍レンズ（対物レンズ（６１，
Ｍ少し／ズ（７））を設置した場合を例にとって説明し
たが、本発明はこれに限定されるものではなく、対物レ
ンズ（３ｂ）に入光する後にこれら各変倍レンズを設置
し、互いに独立に観察倍率が変化できる機能を４１する
ようにｊることかできる。
さらに、十６［１各実施例においては、１０倍のレディ
クルと、１倍のマスターマスクの場合を例にとって説明
したが、本発明はこｔｌに限定されるものではなく、他
の倍率の場合、例えば５仏のレティクルでよく、同様の
効果を奏する。
クルと、１倍のマスターマスクの場合を例にとって説明
したが、本発明はこｔｌに限定されるものではなく、他
の倍率の場合、例えば５仏のレティクルでよく、同様の
効果を奏する。
以上の説明から明らかなように、本発明によねは、複雑
な手段を用いることなく、互いに独立にフォトマスクの
観察倍率を変化させる手段を備えるという簡単な構成に
よって、いかなる倍率同士のフォトマスクの検査を行う
ことができ、また、パターン欠け、データ脱け、共通欠
陥など金容易に発見することができるので、実用上の効
果１極めて大である。また、本発明によｒしは、従来の
ような人為的な観察操作に頼る必要が４くなるため、こ
れにもとづくあらゆる不便さを解決することができ、人
手による顕微鏡観察によシ長時＋１ｊｊ要していた検査
が容易に短時間でできるという点においても極めて有効
である。
な手段を用いることなく、互いに独立にフォトマスクの
観察倍率を変化させる手段を備えるという簡単な構成に
よって、いかなる倍率同士のフォトマスクの検査を行う
ことができ、また、パターン欠け、データ脱け、共通欠
陥など金容易に発見することができるので、実用上の効
果１極めて大である。また、本発明によｒしは、従来の
ような人為的な観察操作に頼る必要が４くなるため、こ
れにもとづくあらゆる不便さを解決することができ、人
手による顕微鏡観察によシ長時＋１ｊｊ要していた検査
が容易に短時間でできるという点においても極めて有効
である。
第１図は従来のフォトマスク検査装置の一例の概略を示
す構成図、第２図は本発明によるフォトマスク検査装置
の一実施例の概略を示す構成図、第３図は本発明の他の
実施例の概略を示す構成図、第４図は本発明の更に他の
実施例の概略を示す構成図である。 （２１・・・・光源、（３ｍ） 、（３ｂ）・・・・対
物レンズ、（４）・・・・変倍レンズ、（５ａ）、（５
ｂ）・・・・接眼レンズ、（６）・・・・変倍レンズ（
対物レンズ）、（７１・・・・変倍レンズ（縮少レンズ
）、ａＩＪ・・・・フォトマスク（マスターマスク）、
（ｌ榎、０３・・・・レティクル、０１・苧−・フォト
マスク（マスターマスク）。 代理人 葛 野 伯 − （１１） 第３図 第４社 Ｆ；ヨ ＼◇ １ 浅 十緑、補正書（自発） 昭和５１１・１ ）亡゛１１ 特許庁長官殿 １、 ！Ｊ＜ｆ！ｌの表−２１、持り・（ｌ昭 ５７
−１３２７５７号２、 発１１月（〕） ン１．
（示フォトマスク検査装置 ３ 補ＩＦを・）るｈ ｔＪｔ ｒ’ｌト０） 関係 １．？、ｆ’＋出願
人代表省片由仁八部 ４、へ理人 ５、補正の対象 ＋１．ｌ 明細書の発明の詳細な説明の欄（２）
明細書の図面のＩＹｌ）単ガ説明の欄６４ 補正の内
界 ｆｉｌ 明細１第７頁第１６行および第１８行の１−
縮少」を１−縮小」と補正する１、 （２）同省第８Ｍ第３行および第４行の「縮少−１を「
縮小」と補正する。 （３）同書第９頁第４〜５行の１（縮少レンズ）により
・・・・結像された像とは」を「（縮小レンズ）により
結像された像はマスターマスク（１４１と」と補正する
。 （４）同壱同頁第１０行および第１７行の１縮少」を「
縮小」と補正する。 （５） 同書第１１負第１１行の１縮少−１を１縮小
」ど補正する。 以 −ト
す構成図、第２図は本発明によるフォトマスク検査装置
の一実施例の概略を示す構成図、第３図は本発明の他の
実施例の概略を示す構成図、第４図は本発明の更に他の
実施例の概略を示す構成図である。 （２１・・・・光源、（３ｍ） 、（３ｂ）・・・・対
物レンズ、（４）・・・・変倍レンズ、（５ａ）、（５
ｂ）・・・・接眼レンズ、（６）・・・・変倍レンズ（
対物レンズ）、（７１・・・・変倍レンズ（縮少レンズ
）、ａＩＪ・・・・フォトマスク（マスターマスク）、
（ｌ榎、０３・・・・レティクル、０１・苧−・フォト
マスク（マスターマスク）。 代理人 葛 野 伯 − （１１） 第３図 第４社 Ｆ；ヨ ＼◇ １ 浅 十緑、補正書（自発） 昭和５１１・１ ）亡゛１１ 特許庁長官殿 １、 ！Ｊ＜ｆ！ｌの表−２１、持り・（ｌ昭 ５７
−１３２７５７号２、 発１１月（〕） ン１．
（示フォトマスク検査装置 ３ 補ＩＦを・）るｈ ｔＪｔ ｒ’ｌト０） 関係 １．？、ｆ’＋出願
人代表省片由仁八部 ４、へ理人 ５、補正の対象 ＋１．ｌ 明細書の発明の詳細な説明の欄（２）
明細書の図面のＩＹｌ）単ガ説明の欄６４ 補正の内
界 ｆｉｌ 明細１第７頁第１６行および第１８行の１−
縮少」を１−縮小」と補正する１、 （２）同省第８Ｍ第３行および第４行の「縮少−１を「
縮小」と補正する。 （３）同書第９頁第４〜５行の１（縮少レンズ）により
・・・・結像された像とは」を「（縮小レンズ）により
結像された像はマスターマスク（１４１と」と補正する
。 （４）同壱同頁第１０行および第１７行の１縮少」を「
縮小」と補正する。 （５） 同書第１１負第１１行の１縮少−１を１縮小
」ど補正する。 以 −ト
Claims (3)
- （１）Ｍいに異なった倍率のフ第１・マスクをそれぞれ
測定台の」−に載せ、そのフォトマスクＦ方より光源か
らの光を透過照明し、このフォトマスクに透過照明１．
、 ｆｃ光を対物レンズを介してプリズム等により光路
を変化させて各々の透過像を合致せしめ、この合致１〜
だ像を変倍レンズにより倍率を変化させ接眼レンズによ
シ観察するフォトマスク検査装置において、力いに独立
に前記フォトマスクの観察倍率を変化せし７めイｌる手
段を備えたことを特徴とするフォトマスク検査装置。 - （２）互いに独立にフォトマスクの観察倍率を変化せし
７め得る手段としで、前記フ」トマスクに入光する前あ
るいは後に変倍レンズを設置し、ｈいに独立に観察倍率
を変化し前１［４）第１・マスク面上で結像し得るよう
にし７だことを特徴とする特許請求の範囲第１与ＪＪ
ｉｔ−：載のフォトマスク検査装置。 - （３）万いｋ（−独貸にフォトマスクの観察倍率を変化
せしめ得る手段として、対物し／ズに入光するＭｆ＋あ
るいは後に変倍レンズを設置ｊ−１力い）ｎ独立に観察
倍率が変化し得るようにし／（−こＪ：を特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の）第１・マスク検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57132757A JPS5921024A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | フオトマスク検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57132757A JPS5921024A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | フオトマスク検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5921024A true JPS5921024A (ja) | 1984-02-02 |
Family
ID=15088839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57132757A Pending JPS5921024A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | フオトマスク検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5921024A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5054443A (en) * | 1988-10-28 | 1991-10-08 | Isuzu Motors Limited | Heat-insulating engine with swirl chamber |
| US5178109A (en) * | 1991-03-14 | 1993-01-12 | Isuzu Motors Limited | Heat-insulating engine with swirl chambers |
-
1982
- 1982-07-27 JP JP57132757A patent/JPS5921024A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5054443A (en) * | 1988-10-28 | 1991-10-08 | Isuzu Motors Limited | Heat-insulating engine with swirl chamber |
| US5178109A (en) * | 1991-03-14 | 1993-01-12 | Isuzu Motors Limited | Heat-insulating engine with swirl chambers |
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