JPS5921024A - フオトマスク検査装置 - Google Patents
フオトマスク検査装置Info
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- JPS5921024A JPS5921024A JP57132757A JP13275782A JPS5921024A JP S5921024 A JPS5921024 A JP S5921024A JP 57132757 A JP57132757 A JP 57132757A JP 13275782 A JP13275782 A JP 13275782A JP S5921024 A JPS5921024 A JP S5921024A
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- Japan
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- image
- photomask
- mask
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はhいに倍率の異なつノζフォトマスクを比較検
査する装置に関するものである1、半導体集積回路など
の半導体鉄心を製造する際に写真製版技術は不ロJ欠で
あり、最近、増々、フォトマスクの精度の白土が要求さ
れている。
査する装置に関するものである1、半導体集積回路など
の半導体鉄心を製造する際に写真製版技術は不ロJ欠で
あり、最近、増々、フォトマスクの精度の白土が要求さ
れている。
従来のこの釉のフォトマスク検査装置の一例の概略を第
1図に示し説明すると、図において、0a)。
1図に示し説明すると、図において、0a)。
(1b)は作製さhたフォトマスクで、とのフォトマス
ク(la) 、 (lb)を図示しない測定台の土に載
せ、光源(2)からの光はフォトマスク上部より透過照
明される。そして、この透過光重1それぞれ測定台の下
に設置した対物レンズ(3a) 、 (3b)を経で、
プリズムなどにより光路を変化さぜ、名々の透過像を合
致させている。この合致した像は変倍レンズ(4)によ
9倍率を変化させ、その出力は接眼レンズ(5a) 。
ク(la) 、 (lb)を図示しない測定台の土に載
せ、光源(2)からの光はフォトマスク上部より透過照
明される。そして、この透過光重1それぞれ測定台の下
に設置した対物レンズ(3a) 、 (3b)を経で、
プリズムなどにより光路を変化さぜ、名々の透過像を合
致させている。この合致した像は変倍レンズ(4)によ
9倍率を変化させ、その出力は接眼レンズ(5a) 。
(5b)に至シ、観察できるように構成されている。
しかしながら、このようなフォトマスク検査装置におい
ては、左右のフォトマスク(1m) 、 (lb)は同
倍率のフォトマスクであることが必要であυ、倍率の異
なった同士のフォトマスクの測定は不可能であった。し
たがって、例えば、1倍のマスターマスクと10倍のレ
ティクルとの比較検査は不可能であるなどの欠点を有し
ていt(。
ては、左右のフォトマスク(1m) 、 (lb)は同
倍率のフォトマスクであることが必要であυ、倍率の異
なった同士のフォトマスクの測定は不可能であった。し
たがって、例えば、1倍のマスターマスクと10倍のレ
ティクルとの比較検査は不可能であるなどの欠点を有し
ていt(。
一方、最近、電子ビーム露光装置によシ容易にしかも高
精度にマスターマスクや種々の倍率のレティクルが作成
可能となった。1だ、フォトリピ゛−タによシレテイク
ルからマスターマスクが非常に畠精度に作成されている
。
精度にマスターマスクや種々の倍率のレティクルが作成
可能となった。1だ、フォトリピ゛−タによシレテイク
ルからマスターマスクが非常に畠精度に作成されている
。
ところが、同倍率のフォトマスク同士の比較検査は第1
図に示すような装置で可能であったが、’h4率の異な
った)第1・マスク同士の比較検査は不11J能であシ
、イ」効な検査手段がなかった。したがって、ウェハー
ステッパー用等に使用するレディクルを作成する場合、
パターンテータと合致しているかどうかの保証はなかっ
た。
図に示すような装置で可能であったが、’h4率の異な
った)第1・マスク同士の比較検査は不11J能であシ
、イ」効な検査手段がなかった。したがって、ウェハー
ステッパー用等に使用するレディクルを作成する場合、
パターンテータと合致しているかどうかの保証はなかっ
た。
また、従来の検査方法においては、顕微鏡によシ観察す
るという人為的な観察操作がはいるため多数のフォトマ
スクを測定したシ、検査する場合には、極めて多くの労
力と時間を費やさねばならないという欠点がある。
るという人為的な観察操作がはいるため多数のフォトマ
スクを測定したシ、検査する場合には、極めて多くの労
力と時間を費やさねばならないという欠点がある。
本発明は以上の点に鑑み、このような問題を解決すると
共に、かかる欠点を除去すべくなされたもので、その目
的はいかなる倍率同士のフォトマスクの検査が可能でお
シ、また、パターン欠け。
共に、かかる欠点を除去すべくなされたもので、その目
的はいかなる倍率同士のフォトマスクの検査が可能でお
シ、また、パターン欠け。
データ脱け、共通欠陥などを容易に発見することができ
、さらに、従来、人間の顕微鏡観察によシ長時間袈して
いた検査を容易に短時間でできるフォトマスク検査装置
を提供することにある。
、さらに、従来、人間の顕微鏡観察によシ長時間袈して
いた検査を容易に短時間でできるフォトマスク検査装置
を提供することにある。
このような目的を達成するため、本発明は互いに独立に
7オトマスクの観察倍率を変化せしめ得る手段を備え、
レティクルとマスターなど倍率の異なったマスク同士の
比較検査を行なうことができるようにしたもので、以下
、図面に基づき本発明の実施例を詳細に説明する。
7オトマスクの観察倍率を変化せしめ得る手段を備え、
レティクルとマスターなど倍率の異なったマスク同士の
比較検査を行なうことができるようにしたもので、以下
、図面に基づき本発明の実施例を詳細に説明する。
第2図は本発明によるフォトマスク検査装置の一実施例
の概略を示す構成図で、説明に必要な部分のみを示す。
の概略を示す構成図で、説明に必要な部分のみを示す。
この第2図において第1図と同一符号のものは相当部分
を示し、θυは右側の測定台の上に載せたフォトマスク
(マスターマスク)、(13は左側の測定台の上に載せ
たレティクル、(6)はレティクルQ21の光路系に挿
入された対物レンズ(変倍レンズ)でこの変倍レンズ(
6jト右側の対物レンズ(3a)の倍率と異なる例えは
1/□0の倍率の変倍機能を備えている。
を示し、θυは右側の測定台の上に載せたフォトマスク
(マスターマスク)、(13は左側の測定台の上に載せ
たレティクル、(6)はレティクルQ21の光路系に挿
入された対物レンズ(変倍レンズ)でこの変倍レンズ(
6jト右側の対物レンズ(3a)の倍率と異なる例えは
1/□0の倍率の変倍機能を備えている。
つぎにこの第2図に示す実施例の動作を説明する。まず
、作成されたフォトマスク(マスターマスク)aυを右
側の測定台の上に載せ、レティクルa3を左側の測定台
の上に載せる。そして、照明は前述した第1図の場合と
同様に、光源(2)からの光をマスターマスクOvおよ
びレティクルHの上部よシ透過照明を行なう。このマス
ターマスクaυおよびレティクルa21を透過して得ら
れた透過像は対物レンズ(3a)および変倍レンズ(6
)を経る訳であるが、ここで、前述したように、この対
物レンズに変倍機能を持させ、右側の対物レンズ(3a
)は従来の倍率とし、左側の変倍レンズ(6)は右側の
倍率の1/1゜とする。そして、マスターマスク0υの
像の10倍の大きさを持つレティクルQ4の像は変倍レ
ンズ(6)(対物レンズ)によシマスターマスク0υの
像と同倍率の像が得られる。
、作成されたフォトマスク(マスターマスク)aυを右
側の測定台の上に載せ、レティクルa3を左側の測定台
の上に載せる。そして、照明は前述した第1図の場合と
同様に、光源(2)からの光をマスターマスクOvおよ
びレティクルHの上部よシ透過照明を行なう。このマス
ターマスクaυおよびレティクルa21を透過して得ら
れた透過像は対物レンズ(3a)および変倍レンズ(6
)を経る訳であるが、ここで、前述したように、この対
物レンズに変倍機能を持させ、右側の対物レンズ(3a
)は従来の倍率とし、左側の変倍レンズ(6)は右側の
倍率の1/1゜とする。そして、マスターマスク0υの
像の10倍の大きさを持つレティクルQ4の像は変倍レ
ンズ(6)(対物レンズ)によシマスターマスク0υの
像と同倍率の像が得られる。
このようにして得Gれた同倍率の像はプリズム等を得て
、像を合致させる。合致した像は変倍レンズ(4)によ
シ倍率を変化させ、その出力は接眼レンズ(5a) #
(5b)に至シ、互いに異なったフォトマスクを観察
することができる。
、像を合致させる。合致した像は変倍レンズ(4)によ
シ倍率を変化させ、その出力は接眼レンズ(5a) #
(5b)に至シ、互いに異なったフォトマスクを観察
することができる。
なお、従来の方法では、同倍率のフォトマスクを観察す
るため、各々の測定台の動きは左右同時でよかったが、
この第2図に示す実施例においては左右のフォトマスク
の倍率が異なるため、測定台の動きは、左右独立にしか
も倍率に合せて(この実施例ではし祐)動く必要がある
。
るため、各々の測定台の動きは左右同時でよかったが、
この第2図に示す実施例においては左右のフォトマスク
の倍率が異なるため、測定台の動きは、左右独立にしか
も倍率に合せて(この実施例ではし祐)動く必要がある
。
このようにして、倍率が1/1oのレティクルと倍率が
1倍のマスターマスクとの比較検査は、互いに独やL2
て変倍−可能ガ変ifsレンズ(6)(対物l/ンズ)
、!力いに独立[,2て、かつイt′1率によってステ
ージが作動°j゛る測定台によつでイrガうことができ
る3、かくし、て、いかなる倍率同士のフォトマスクの
検漬が用油であり、ま/こ、パターン欠け、データ脱け
、共通欠陥lとが容易に発見できる31さらに、使来、
人手による顕微鏡観察により長時間を要していた検★が
朽易に短時間?’7’きる。
1倍のマスターマスクとの比較検査は、互いに独やL2
て変倍−可能ガ変ifsレンズ(6)(対物l/ンズ)
、!力いに独立[,2て、かつイt′1率によってステ
ージが作動°j゛る測定台によつでイrガうことができ
る3、かくし、て、いかなる倍率同士のフォトマスクの
検漬が用油であり、ま/こ、パターン欠け、データ脱け
、共通欠陥lとが容易に発見できる31さらに、使来、
人手による顕微鏡観察により長時間を要していた検★が
朽易に短時間?’7’きる。
第3図は本発明の他の実施例の顧4略を示す構成図で、
F15と明に必安な部分のみを示す。
F15と明に必安な部分のみを示す。
この第3図におい″C第2〆jと同一部分には回−杓Y
」を伺して説明を省略゛する。
」を伺して説明を省略゛する。
(3b)はレテイクノL(1:!Jの光路糸に挿入され
た対物レンズ、(7Jij、この対物レンズ(3b)の
前段に設けられ&ff1il少レンズ(変偽1ノンズ)
で、との変倍レンズ(7)はレティクル(121が載せ
らJlん左側の測定台の)ぐ−1−’ k(−ii旧u
、!)Ll−ぞt)縮少率r、l、’Aoである。
た対物レンズ、(7Jij、この対物レンズ(3b)の
前段に設けられ&ff1il少レンズ(変偽1ノンズ)
で、との変倍レンズ(7)はレティクル(121が載せ
らJlん左側の測定台の)ぐ−1−’ k(−ii旧u
、!)Ll−ぞt)縮少率r、l、’Aoである。
(二のように摘゛成さF)cフ」トマスク検査装置Hに
4、・いC1−まず、作成さh/c−マスターマスク0
υを子4側の測定台の上に載せ、レティクル(L2Jを
/l−側の測定台の土に載せる。イーして、左側の測定
1マのすぐ下に変イhレンズ(7)(縮少l/ンズ)(
この場合しj縮少率が1/i0)を配飯さぜ、1//l
oに^h少さノ1に透過像が対物レンズ(ab )に入
光さilる19シたがって、マスターマスク(lυと同
様の像が・ぞtLぞれの対j吻ト・/ズ(3a) 、
(3b)を経て像を合致させる。。
4、・いC1−まず、作成さh/c−マスターマスク0
υを子4側の測定台の上に載せ、レティクル(L2Jを
/l−側の測定台の土に載せる。イーして、左側の測定
1マのすぐ下に変イhレンズ(7)(縮少l/ンズ)(
この場合しj縮少率が1/i0)を配飯さぜ、1//l
oに^h少さノ1に透過像が対物レンズ(ab )に入
光さilる19シたがって、マスターマスク(lυと同
様の像が・ぞtLぞれの対j吻ト・/ズ(3a) 、
(3b)を経て像を合致させる。。
ぞ1〜で、合致した像は、第2ト1の場合と同様に、変
倍レンズ(4)により倍率を変化さ−i!、その出力は
接眼レンズ(5a) 、 (5b)に至り、互いに倍率
が異なったフォトマスクの観測を行なうことができる。
倍レンズ(4)により倍率を変化さ−i!、その出力は
接眼レンズ(5a) 、 (5b)に至り、互いに倍率
が異なったフォトマスクの観測を行なうことができる。
かくしで、容易に4M率の異なったフォトマスク同士を
比較検査することが−Cきる4、第4図は本発明の更に
他の実施例の概略を小ず構成図で、説明に必要な部分の
みを示す。
比較検査することが−Cきる4、第4図は本発明の更に
他の実施例の概略を小ず構成図で、説明に必要な部分の
みを示す。
第2図に7J<す実施例の装置に↓・いては、測定台の
動きは左イj独立にしかも倍率に負せて動く必要がめっ
たが、この第4図に示す製放は測定台の動きは従来のも
のと同イ*な動きでよく、かつ鰭、察を容易ならしめる
ようにしたものである。。
動きは左イj独立にしかも倍率に負せて動く必要がめっ
たが、この第4図に示す製放は測定台の動きは従来のも
のと同イ*な動きでよく、かつ鰭、察を容易ならしめる
ようにしたものである。。
h′巳4図にj、・いて第3図と同一符号のものt41
相当部分を示1.−1(J3ni伯率が10倍のレティ
クル、(143はマスターマスクである。−f−L、て
、変倍レンズ(7)(縮少レンズ)によりプリメム状に
結像された像とマスターマスク(1,1而十で結像され
た像とは同一平面上で結像するため、観察は容易となり
、また、6111定台の動きtま従来のものと同様な動
きでよい4、なお、−F記者実施例においては、測定物
であるフォトマスクに入光する後に変倍レンズ(対物レ
ンズ(6)、縮少レンズ(7j)を設置した場合を例に
とって説明したが、本発明し1これに限定されるもので
はなく、フォトマスクに入光する前にこれら各変倍レン
ズを設置し、互いに独立に観察倍率が変化でき、フォト
マスク面上で結像できる機能を有するようにすることが
できる。また、上記各実施例においては、対物レンズ(
3b)に入光する前に変倍レンズ(対物レンズ(61,
M少し/ズ(7))を設置した場合を例にとって説明し
たが、本発明はこれに限定されるものではなく、対物レ
ンズ(3b)に入光する後にこれら各変倍レンズを設置
し、互いに独立に観察倍率が変化できる機能を41する
ようにjることかできる。
相当部分を示1.−1(J3ni伯率が10倍のレティ
クル、(143はマスターマスクである。−f−L、て
、変倍レンズ(7)(縮少レンズ)によりプリメム状に
結像された像とマスターマスク(1,1而十で結像され
た像とは同一平面上で結像するため、観察は容易となり
、また、6111定台の動きtま従来のものと同様な動
きでよい4、なお、−F記者実施例においては、測定物
であるフォトマスクに入光する後に変倍レンズ(対物レ
ンズ(6)、縮少レンズ(7j)を設置した場合を例に
とって説明したが、本発明し1これに限定されるもので
はなく、フォトマスクに入光する前にこれら各変倍レン
ズを設置し、互いに独立に観察倍率が変化でき、フォト
マスク面上で結像できる機能を有するようにすることが
できる。また、上記各実施例においては、対物レンズ(
3b)に入光する前に変倍レンズ(対物レンズ(61,
M少し/ズ(7))を設置した場合を例にとって説明し
たが、本発明はこれに限定されるものではなく、対物レ
ンズ(3b)に入光する後にこれら各変倍レンズを設置
し、互いに独立に観察倍率が変化できる機能を41する
ようにjることかできる。
さらに、十6[1各実施例においては、10倍のレディ
クルと、1倍のマスターマスクの場合を例にとって説明
したが、本発明はこtlに限定されるものではなく、他
の倍率の場合、例えば5仏のレティクルでよく、同様の
効果を奏する。
クルと、1倍のマスターマスクの場合を例にとって説明
したが、本発明はこtlに限定されるものではなく、他
の倍率の場合、例えば5仏のレティクルでよく、同様の
効果を奏する。
以上の説明から明らかなように、本発明によねは、複雑
な手段を用いることなく、互いに独立にフォトマスクの
観察倍率を変化させる手段を備えるという簡単な構成に
よって、いかなる倍率同士のフォトマスクの検査を行う
ことができ、また、パターン欠け、データ脱け、共通欠
陥など金容易に発見することができるので、実用上の効
果1極めて大である。また、本発明によrしは、従来の
ような人為的な観察操作に頼る必要が4くなるため、こ
れにもとづくあらゆる不便さを解決することができ、人
手による顕微鏡観察によシ長時+1jj要していた検査
が容易に短時間でできるという点においても極めて有効
である。
な手段を用いることなく、互いに独立にフォトマスクの
観察倍率を変化させる手段を備えるという簡単な構成に
よって、いかなる倍率同士のフォトマスクの検査を行う
ことができ、また、パターン欠け、データ脱け、共通欠
陥など金容易に発見することができるので、実用上の効
果1極めて大である。また、本発明によrしは、従来の
ような人為的な観察操作に頼る必要が4くなるため、こ
れにもとづくあらゆる不便さを解決することができ、人
手による顕微鏡観察によシ長時+1jj要していた検査
が容易に短時間でできるという点においても極めて有効
である。
第1図は従来のフォトマスク検査装置の一例の概略を示
す構成図、第2図は本発明によるフォトマスク検査装置
の一実施例の概略を示す構成図、第3図は本発明の他の
実施例の概略を示す構成図、第4図は本発明の更に他の
実施例の概略を示す構成図である。 (21・・・・光源、(3m) 、(3b)・・・・対
物レンズ、(4)・・・・変倍レンズ、(5a)、(5
b)・・・・接眼レンズ、(6)・・・・変倍レンズ(
対物レンズ)、(71・・・・変倍レンズ(縮少レンズ
)、aIJ・・・・フォトマスク(マスターマスク)、
(l榎、03・・・・レティクル、01・苧−・フォト
マスク(マスターマスク)。 代理人 葛 野 伯 − (11) 第3図 第4社 F;ヨ \◇ 1 浅 十緑、補正書(自発) 昭和511・1 )亡゛11 特許庁長官殿 1、 !J<f!lの表−21、持り・(l昭 57
−132757号2、 発11月(〕) ン1.
(示フォトマスク検査装置 3 補IFを・)るh tJt r’lト0) 関係 1.?、f’+出願
人代表省片由仁八部 4、へ理人 5、補正の対象 +1.l 明細書の発明の詳細な説明の欄(2)
明細書の図面のIYl)単ガ説明の欄64 補正の内
界 fil 明細1第7頁第16行および第18行の1−
縮少」を1−縮小」と補正する1、 (2)同省第8M第3行および第4行の「縮少−1を「
縮小」と補正する。 (3)同書第9頁第4〜5行の1(縮少レンズ)により
・・・・結像された像とは」を「(縮小レンズ)により
結像された像はマスターマスク(141と」と補正する
。 (4)同壱同頁第10行および第17行の1縮少」を「
縮小」と補正する。 (5) 同書第11負第11行の1縮少−1を1縮小
」ど補正する。 以 −ト
す構成図、第2図は本発明によるフォトマスク検査装置
の一実施例の概略を示す構成図、第3図は本発明の他の
実施例の概略を示す構成図、第4図は本発明の更に他の
実施例の概略を示す構成図である。 (21・・・・光源、(3m) 、(3b)・・・・対
物レンズ、(4)・・・・変倍レンズ、(5a)、(5
b)・・・・接眼レンズ、(6)・・・・変倍レンズ(
対物レンズ)、(71・・・・変倍レンズ(縮少レンズ
)、aIJ・・・・フォトマスク(マスターマスク)、
(l榎、03・・・・レティクル、01・苧−・フォト
マスク(マスターマスク)。 代理人 葛 野 伯 − (11) 第3図 第4社 F;ヨ \◇ 1 浅 十緑、補正書(自発) 昭和511・1 )亡゛11 特許庁長官殿 1、 !J<f!lの表−21、持り・(l昭 57
−132757号2、 発11月(〕) ン1.
(示フォトマスク検査装置 3 補IFを・)るh tJt r’lト0) 関係 1.?、f’+出願
人代表省片由仁八部 4、へ理人 5、補正の対象 +1.l 明細書の発明の詳細な説明の欄(2)
明細書の図面のIYl)単ガ説明の欄64 補正の内
界 fil 明細1第7頁第16行および第18行の1−
縮少」を1−縮小」と補正する1、 (2)同省第8M第3行および第4行の「縮少−1を「
縮小」と補正する。 (3)同書第9頁第4〜5行の1(縮少レンズ)により
・・・・結像された像とは」を「(縮小レンズ)により
結像された像はマスターマスク(141と」と補正する
。 (4)同壱同頁第10行および第17行の1縮少」を「
縮小」と補正する。 (5) 同書第11負第11行の1縮少−1を1縮小
」ど補正する。 以 −ト
Claims (3)
- (1)Mいに異なった倍率のフ第1・マスクをそれぞれ
測定台の」−に載せ、そのフォトマスクF方より光源か
らの光を透過照明し、このフォトマスクに透過照明1.
、 fc光を対物レンズを介してプリズム等により光路
を変化させて各々の透過像を合致せしめ、この合致1〜
だ像を変倍レンズにより倍率を変化させ接眼レンズによ
シ観察するフォトマスク検査装置において、力いに独立
に前記フォトマスクの観察倍率を変化せし7めイlる手
段を備えたことを特徴とするフォトマスク検査装置。 - (2)互いに独立にフォトマスクの観察倍率を変化せし
7め得る手段としで、前記フ」トマスクに入光する前あ
るいは後に変倍レンズを設置し、hいに独立に観察倍率
を変化し前1[4)第1・マスク面上で結像し得るよう
にし7だことを特徴とする特許請求の範囲第1与JJ
it−:載のフォトマスク検査装置。 - (3)万いk(−独貸にフォトマスクの観察倍率を変化
せしめ得る手段として、対物し/ズに入光するMf+あ
るいは後に変倍レンズを設置j−1力い)n独立に観察
倍率が変化し得るようにし/(−こJ:を特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の)第1・マスク検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57132757A JPS5921024A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | フオトマスク検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57132757A JPS5921024A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | フオトマスク検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5921024A true JPS5921024A (ja) | 1984-02-02 |
Family
ID=15088839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57132757A Pending JPS5921024A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | フオトマスク検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5921024A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5054443A (en) * | 1988-10-28 | 1991-10-08 | Isuzu Motors Limited | Heat-insulating engine with swirl chamber |
US5178109A (en) * | 1991-03-14 | 1993-01-12 | Isuzu Motors Limited | Heat-insulating engine with swirl chambers |
-
1982
- 1982-07-27 JP JP57132757A patent/JPS5921024A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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