JPS59207633A - 乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は連続処理が可能でかつ乾燥効果の高い乾燥装置
に関するものである。

〔背景技術〕

一般に半導体装置の製造に際しては、半導体ウェーハに
種々の化学処理や物理処理を施しているが、各処理工程
が完了する毎に次工程処理ケ艮好に行ない荀ろようにウ
ェーハを洗浄しかっこわを乾燥する必要がある。この種
の洗浄、乾燥は複数枚のウェーハを収納したカートリッ
ジ即位で行ない、例１えはホルダでカートリッジを吊っ
て洗浄液内に浸漬して洗浄を行ない、次いでその壕まカ
ートリッジを蒸気槽の蒸気雰囲気内に送り込んで所謂ベ
ーパ乾燥を行なうという技術を開発し穴。しかしながら
、この方法では、洗浄後にウェーハとカートリッジの接
触ＩｙＪ間に洗浄液が残存し、この残存液の大めに乾燥
効率が低下して乾燥時間が長くなる。１飢　ウェーハと
共にカートリッジを蒸気槽内に入りるため、カートリッ
ジの熱量が大きいことから内部温度の低下が著しくなり
、蒸気雰囲タケ薄くして乾燥状態を低下づせる等の問題
点があること全本発明者は見い出した。こわらの問題点
を解決する六ｔには、蒸気槽のヒータ容量を上げねばよ
いと考え女が、こねでは省資漣土好ましくない。

更に、カートリッジは通常フッ累樹脂等の素材で形成し
ているが、とわらはポーラスな制別である大めに含まね
ている汚わが蒸気槽内で析出し、この汚名によってウェ
ーハが汚染ζわるという問題も見い出した。

〔発明の目的〕

本発明の目的は乾燥時間の短縮を図って乾燥効出金向上
すると共に、被乾燥物の汚染を防止することができる乾
燥装置を提供することにある。

また、本発明の他の目的は被乾燥物を１枚づつ連続的に
乾燥し、処理の自動化を有力うことができる乾燥装置を
提供することにある。

本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。

〔発明の概要〕

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に訝明す名ば、下記のとおりである。

すなわち、周面に被乾燥物を支持可能なホルダ？乾燥槽
内に回転可能に内装すると共に、前記ホルダへ被乾燥物
を搭載し症いは降載するローダ、アンローダをホルダに
臨んで配設することにより、ホルダ全回転ばせながらそ
の周面で支持した被乾煙物全１枚づつ連続的に乾燥でき
、こｈによシ乾燥効龜の白土、汚染の防止および自動化
の達成を実現可能とするものである。

〔実施例〕

第１図ないし第４図は本発明の一実施例である乾燥装置
を示しており、本例では前工程としての水洗部ケも備え
た装置として構成している。第１図に全体の概略を示す
ように、本体１の略中夫に蒸気槽２を配設すると共に一
方に水洗槽３およびローダ４を設け、１８０度反対何に
アンローダ５を設けている。また、蒸り槽２の周囲には
蒸気槽２内の蒸気雰囲気をコントロールするためのシス
テム、即ち原液タンク６、廃液タンク７、液コントロー
ル部８を設け、更に下方には総合の制御部９を１ｖ設し
ている。

前配芦気槽２け、第２図、第３図に示すように円環形の
容器として形成しており、上部に被着しにカバー１０に
よって環状の室内をり密に近い状態に保っている。この
蒸気槽２は４俳を断熱材にて形成すると共に、底部には
ヒータ１１を埋設して室内を所定の温度に保持［６７、
こわにより室内に入ワ斤工ＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）液を加熱してそのｇ気雰囲気に保っている。

前記蒸り槽２の室内には多情形、本例１では正八角形Ｔ
ｈＬ、＊逆円筒容器状のホルダ１２を内装し、その内面
に固着し、て下方に延出する回転軸１３を前記制御部９
内の回転駆動源（図示せず）に連結することによりホル
ダ１２を水平方向に回転できる。前記ホルダ１２は第４
図に一部を詳細に示すように、周面（周面入面）に夫々
一対のガイド１４．１４を対向配設し、これらガイド１
４．１４間に被乾燥物としての半導体ウェーノーＷ’（
１７支持することができる。ウェーハＷはガイド１４．
１４の上方から出し入ｆ′１（搭載、降載）できる。な
お、このホルダ１２の上級近傍の前記蒸り槽２の内周面
には冷却パイプ１５を設けており、蒸気雰囲りの上限を
画している。

一方、前記ローダ４は前記蒸気槽２の円周一部において
前記カバー１０’に貫通する中間ガイド１６を上下方に
配設している。また、この中間ガイド１６の上方には駆
動機構１７の回転軸１８に固着寧れて上下方向に９０変
回動する方向切換ガイド１９を配置している。更に、こ
の方向切換ガイド１９が水平状伸とさ？１りときにこれ
と直列状態とされる位置にガイドレール２０全有する水
洗槽３を設けている。この水洗槽３内には、図示矢印Ａ
方向に往復移動されるブツシャ２１を設け、図外の前工
程部から供給されてぐるウエーノ・Ｗ全ガイドレール２
０に沿って水洗槽３内に移動づせ更に前記方向切換ガイ
ド１９内に移送する。また、水洗槽３内にはガイドレー
ル２０の上下動機構２２全内装しており、ガイドレール
２０上に載せられにウェーハｗ’ｌ一旦下動ζせること
によって水中に浸漬し水洗を行なうようになっている。

寸に１　ローダ４の一部として、前記蒸り槽２の一側に
は、モータ２３、プーリ２４．２５、ベルト２６からな
るベルト車機構によって上下方向のレール２７に沿って
上下動されるスライダ２８全備え、このスライダ２８に
一端を固設した略り字状のブツシャ２９を蒸気槽２内に
侵入位置享せている。このブツシャ２９はスライダ２８
に伴すって前記ガイド１４．１４、中間ガイド１６、更
には垂直状態と寧わ穴方向切換ガイド１９にわ六って矢
印Ｂのように上下動でき、その先端のフック部にウェー
ハを引掛けてこ力全上下に移送できる。

仙方、前記アンローダ５は前記蒸気槽２の１８０度反対
位置に配設しており、ローダ４と同様に中間ガイド１６
Ａ、方向切換ガイド１９Ａ’ｉｉ設け、更にブリシャ２
１Ａを有している。また方向切換ガイド１９Ａに連設ζ
わて次工程に向けられた送出レールａｏｂよびブツシャ
２９Ａｉ有している。々お、図中３１はストッパである
。

対土の構成によれば、前工程から供給これてくるウェー
ハＷはブツシャ２１によりガイドレール２０上に載せら
れ、ガイドレール２０が下動ζすることにより水洗槽３
内において水洗ζねる。水洗後は再びブツシャ２１によ
り移動づれで方向切換ガイド１９に移さｈ、る。次に方
向切換ガイド１９が回転されて垂直方向に向けられると
ブツシャ２９が作動しそのフック部にウェー・・Ｗｆ引
掛けてこワラ中間ガイド１６に下動し、更にここからホ
ルダー１２の一つのガイド１４．１４間に挿入しかつこ
こに支持ζせる。ホルダ１２は支持し大正で１／８回転
回動する。そして、前回と同様の動作によって隣のガイ
ド１４に次のウェーハを支持ζせ、以下こ九を繰返せば
順次ガイドにウェーハが支持される。

一方、ホルダ１２に支持され六つエーノ・Ｗはホルダ１
２の回転に伴ガっで蒸気槽２内を移動てれ、ここで工Ｐ
Ａの蒸気によってベーパ乾燥が行なわれる。そして、ホ
ルダ１２が１８０度（４７８回転）しに時点でアンロー
ダ５のブツシャ２９Ａが作動してウェー−ｗｙ上動［７
、中間ガイド１６Ａ’ｉｉ通して垂直状態の方向切換ガ
イド１９Ａ内に移送する。

そし７て、方向切換ガイド１９Ａが水平状態に回動した
土でブツシャ２１Ａが作動すわば、ウェー・・Ｗは方向
切換ガイド１９Ａから図外の次工程へ向けて送出ζわる
ことになる。なお、前記各動作においてはウェーハを各
ガイド間で移す際にストッパ３０が開閉作動して移載を
補助するものであることは言うまでもかい。

匂上の動作をシーケンス的に行なうことにより、ローダ
４のウェーハは１枚づつ乾燥づね、乾忰伊け１枚づつア
ンローダ５により次工程に送られ、こわによりウェー・
・の連続した乾燥を実現できるのである。

したがって、カートリ、ジ會使用することなくウェー−
・の乾燥を行なうことができるので、ウェー−・とカー
）　ＩＪ　、／ジとの間に洗浄液（本例では水）が残存
することはなく乾燥時間を短縮して乾燥効充を同士する
ことができる。また、蒸気槽２内にはウェーハＷを１枚
づつ入ねるので、カートリ。

ジを入れる場合に比較して熱容量の変動は極めて小さく
、ｇり槽２内の蒸り雰囲気を乱すこと力〈常に安定した
雰囲気で乾燥を行なうことができる。

更にウェーハを連続的に乾燥できるので、連続処理つま
り自動化を実現することもできる。

〔効果〕

（１）回転可能なホルダーの一部にａ−ダを設け、反対
側にアンローダを設け、被乾燥物のウェーハをローダか
らホルダに支持させ、ホルダの回転に伴なって乾燥を行
なった後にアンローダから取り出すようにしているので
、ウェーハを１枚づつ連続して乾燥することができ、カ
ートリ１．ジ等を必要としないので、ウェーハとカート
リッジとの間に残存される水による乾燥時間の長時間化
が防止でき、乾燥効富の向上を達成できる。

（２）　　カートリ、ジを必要とせずにウェーハ単独の
乾燥を行なうことができるので、カートリッジによる蒸
気槽内の熱容量変動が小さくなシ、蒸気雰囲気を乱すこ
となく安定した乾燥を行なうことができる。

（３）　　カートリ、ジ管必要としないので、ボーラヌ
々索材を使用したカートリッジによるウェーハの汚染を
防止することができる。

（４）　　ウェーハを１枚づつ連続して乾燥できるので
、乾燥処理およびとｒを含む装置の自動化を達成できる
。

以上本発明者によってなされた発明を実旋例にもとづき
具体的に軟甲したが、本発明は上記実旋例Ｉに限定でね
るものではなく、その要旨全逸税し々い範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。たとえば、ホルダは
六角形以下あるいはそれ対土の多角形であってもよく、
ま六ローダやアンローダの位置（対向位置）は任意に変
更できる。

また、ホルダには２枚以上のウェーハを支持できるよう
にし、複砂枚毎に処理できるようにしてもよい。

〔利用分野〕

以上の説明では主として本発明者によってなさねた発明
をその背景となった利用分野である半導体ウェー−・の
ペーパ乾燥技術に適用し六賽合について説明したが、そ
れに限定づれるものではなぐ、ウェーハ対外の被乾燥物
、またベーパ対外の乾燥方式のものにも同様に適用する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の乾燥装置の全体構成図、第２図は要部
の構成の臼視図、 第３図は蒸気槽の断面図、 第４図はホルダの一部の剰視図である。 １・・・本体、２・・・蒸気槽（乾燥室）、３・・・水
洗槽、４・・・ローダ、５・・・アンローダ、１１・・
・ヒータ、１２・・・ホルダ、１４・・・ガイド、１６
・・・中間ガイド、１９・・・方向切換ガイド、２１・
・・ブツシャ、２９・・・フリシャ、３０・・・ウェー
ハ。 第　　２　図 Ｓ 第　　３　　図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、周面に被乾燥物を支持できるホルダを乾燥室内に回
   転可能に設けると共に、前記被乾燥物を前記ホルダに搭
   載し汐いは降載するローダ、アンローダを前君Ｃホルダ
   に臨んで配設したことを特徴とする乾燥装置。 ２、ホルダケ多角形の筒状に形成する一方、乾燥室を円
   環状に形成し、ローダ、アンローダはホルダに苅して１
   ８０度反Ｎ　９１＋に配設してなる特許請求の範囲第１
   項記載の乾燥装置。 ３、乾燥室は内部全所要の蒸気雰囲気に保持してなる特
   許請求の範囲第１項又は第２項記載の乾燥装置。 ４、ホルダは周面に？Ｊ斂個のガイドに等配し、各ガイ
   ドに被乾燥物としての半導体ウェーハを支持できるよう
   に構成してなる特許請求の範囲第１項ないし第３頌のい
   すわかに記載の乾燥装置。