JPS59196869A - ピラゾ−ル誘導体及び除草剤 - Google Patents

ピラゾ−ル誘導体及び除草剤

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JPS59196869A
JPS59196869A JP7124283A JP7124283A JPS59196869A JP S59196869 A JPS59196869 A JP S59196869A JP 7124283 A JP7124283 A JP 7124283A JP 7124283 A JP7124283 A JP 7124283A JP S59196869 A JPS59196869 A JP S59196869A
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Toshiaki Yanai
矢内 利明
Teruomi Jojima
城島 輝臣
Katsuhiko Kawakubo
川久保 克彦
Toyokuni Honma
本間 豊邦
Masahiro Shindo
正宏 新藤
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Sankyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なピラゾール誘導体及びそれを有効成分と
する除草剤に関する。
特開昭50−126830号公報には、式 (式中、Xにハロゲン原子、ニトロ基または低級アルキ
ル基を示す、nは1〜4を示し、nが2以上のときXは
同一でも異なってもよい。)を有するピラゾール誘導体
、その塩またはエステル及びそれを含む除草剤が知られ
ている。
本発明者は次式を有するピラゾール誘導体が優れた除草
剤を有することを見い出した。
本発明のピラゾール誘導体は、 式 (式中、R1はハロゲン原子、ニトロ基またはメチル基
を示し、oは2または3を示し、そのときR1は同一で
も異なってもよい。R2は水素原子、低級アルキル基、
低級アルケニル基またはアラルキル基を示しR5は低級
アルキル基、低級アルケニル基またはフエニル基を示し
、Xは低級アルキレン基を示す。)を有する。
前記一般式(I)の定義において、R2及びR3の低級
アルキル基としては、メチル、エチル、o−プロピル、
イソプロピル、n−ブチル、イソブチルまたはtert
−ブチルのような炭素数1乃至4個を有する直鎖状また
は分枝鎖状のアルキル基があげられ、好ましくはメチル
基またはエチル基である。R2及びR3の低級アルケニ
ル基としては、アリル、メタリルまたは2−ブテニルの
ような炭素数3または4個を有する直鎖状または分枝鎖
状のアルケニル基があげられ、好ましくはアリル基であ
る。R2のアラルキル基としては、ベンジルまたはメチ
ルベンジルがあげられる。
Xのアルキレン基に、メチレン、エチレン、メチルメチ
レン、トリメチレン、エチルメチレン、ジメチルメチレ
ン、プロピレン、テトラメチレンレン、1,1−1,2
−もしくは2,2−ジメチルエチレン、1−もしくは2
−エチルエチレンまたはペンタメチレンのようなC1−
5の直鎖状または有枝鎖状のアルキレンがあげられ、好
ましくはエチレン及びトリメチレンである。
上記一般式において好ましい化合物は、Xがエチレン基
であり、R2が水素原子、メチル基またはエチル基であ
り、R3がメチル基、エチル基またはフエニル基を有す
る化合物であり、特に(R1)nが2,4−ジクロルで
ある化合物が好適である。
本発明の除草剤の有功成分としては、次の化合物が例示
されるが必ずしもこれらに限られるものではない。化合
物番号は以下の記載において参照される。
前記一般式(I)を有する化合物は次の方法により製造
される。
(A−1)一般式(I)を有する化合物は、次式に示す
ように、5−ハロピラゾール誘導体(II)に触媒の存
在下アミノアルコール類を反応させることによって製造
される。
(式中、R1、R2、R3、n及びXは前述したものと
同一であり、Yはハロゲン原子を示す。)上記の反応に
無溶剤中または溶剤の存在下に行われる。使用される溶
剤としては、本反応に関与しなければ特に限定はなく、
例えばベンゼンまたはトルエンのような芳香族炭化水素
類;ジメチルホルムアミドまたはジメチルアセトアミド
のようなアミド類;テトラヒドロフランまたはジオキサ
ンのようなエーテル類及びこれらの混合溶剤があげられ
、好適には無溶剤または芳香族炭化水素と非プロトン性
極性溶剤との混合溶剤類が使用される。反応は塩基の存
在下で好適に行われる。使用される塩基としては、カリ
ウムまたはナトリウムのようなアルカリ金属;水素化ナ
トリウムまたは水素化カリウムのようなアルカリ金属水
素化物;ピリジンまたはトリエチルアミンのような有機
塩基があげられる。反応に際して、アミノアルコール類
は化学量論量を用いればよいが、反応を速やかに行わせ
るために、通常過剰量(約2〜10倍モル)を用いるの
が好ましい。反応温度に室温乃至150℃で行われ、通
常15時間以内で反応が完結する。反応終了後、目的化
合物は常法によって反応混合物から採取される。例えば
、減圧下に溶剤および過剰のアミノアルコール類を留去
し、得られる残留物を減圧蒸留するかまたはカラムクロ
マトグラフイーで精製することによって目的物が得られ
る。
(A−2)なお、前記製造法において、式(II)の化
合物をまず一般式のアルコール類と反 応させて、式(I−1)の2級アミン類を得、次いでこ
のものを活性ハロゲン化類R2′−Yと反応させること
によっても目的化合物(I−2)が得られる。
(式中、R1、R3,n、Y及びXは前述したものと同
一であり、R2′は低級アルキル基、低級アルケニル基
またははアラルキル基を示す。)本製造方法において、
前半の式(I−1)の化合物を得る反応条件は、前述の
方法(A−1)の場合に準ずる。また、後半の活性ハロ
ゲン化類との反応は、通常、溶剤の存在下に行われる。
使用される溶剤としては、ベンゼンまたはトルエンのよ
うな芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド;ジメチ
ルスルホキシド;テトラヒドロフランまたジオキサンの
ようなエーテル類;メタノール、エタノールまたはプロ
パノールのようなアルコール類;クロロホルムまたは四
塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;メチルエチル
ケトンまたはイソブチルメチルケトンのようなケトン類
;アセトニトリルのようなニトリル類;または水などが
あげられる。不反応はまた塩基の存在下において行われ
、使用される塩基としてはナトリウムまたはカリウムの
ようなアルカリ金属;水酸化ナトリウムまたは水酸化カ
リウムのようなアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム
または炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩;ピリ
ジンまたはトリエチルアミンのような有機塩基があげら
れる。
(B)一般式(I)を有する化合物はまた、次式に示す
ように、一般式(III)を有する化合物を脱酸剤の存
在下、アミン類を反応させることによっても製造される
(式中、R1、R2、R3、X、n及びYは前述したも
のと同一である。) 上記の反応は無溶剤または溶剤の存在下に行われる。使
用される溶剤としては、本反応に関与しなければ特に限
定になく、例えば、テトラヒドロフランまたはジオキサ
ンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエンまたはキシ
レンのまうな芳香族炭化水素類;クロロホルムまたは四
塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;メチルエチル
ケトンまたはイソブチルメチルケトンのようなケトン類
;酢酸エチルまたに酢酸アミルのようなエステル類;ア
セトニトリルのようなニトリル類及びこれらの混合溶剤
があげられ、特に芳香族炭化水素類が好適に使用される
。反応はまた脱酸剤の存在下で好適に行われる。使用さ
れる脱酸剤としては、例えば、ピリジン、トリエチルア
ミンまたはN,N−ジエチルアニリンのような有機塩基
及び反応に使用されるアミン類などがあげられる。反応
温度は特に限定はなく通常溶剤の還流温度乃至150℃
で行われる。反応に要する時間は1乃至15時間である
反応終了後、目的化合物は常法によって単離され、必要
に応じて常法、例えば、減圧蒸留、カラムクロマトグラ
フイーによって精製することもできる。
なお一般式(III)を有する化合物は、次式に示すよ
うに、一般式(IV)を有する化合物を脱酸剤の存在下
、ジハライド(V)と反応させることによって得られる
(式中、R1、X,n及びYは前述したものと同一であ
る。) 上記の反応に通常、溶剤の存在下に行われる、使用され
る溶剤としては、例えばアセトニトリルまたはプロピオ
ニトリルのようなニトリル類;ジメチルホルムアミド及
びジメチルスルホキシドがあげられる。また、使用され
る脱酸剤としては、前記製造法(A−2)に記載のもの
があげられるが、とくに水酸化ナトリウム及び水酸化カ
リウムのようなアルカリ金属水酸化物が好適に使用され
る。
(C)一般式(I)を有する化合物はまた、次式に示す
ように、一般式(IV)を有する化合物を脱酸剤の存在
下、ハライド(VI)と反応させることによって製造さ
れる。
(式中、R1、R2、R3、X、n及びYは前述したも
のと同一である。) 上記の反応は無溶剤または溶剤の存在下に行われる。使
用される溶剤としては、本反応に関与しなければ特に限
定はなく、例えば、アセトニトリルまたはプロピオニト
リルのようなニトリル類;テトラヒドロフランまたはジ
オキサンのようなエーテル類;クロロホルムまたはジク
ロルエタンのようなハロゲン化炭化水素類;メチルエチ
ルケトンまたはイソブチルケトンのようなケトン類;ジ
メチルホルムアミド及びジメチルスルホキシドなどがあ
げられ、特にニトリル類が好適に使用される。反応はま
た脱酸剤の存在下で好適に行われる。使用される脱酸剤
としては、前記製造法(A−2)に記載のものが使用さ
れる。反応温度は特に限定になく、通常室温乃至溶剤の
還流温度で行われる。反応に要する時間は1乃至15時
間である。
前記一般式(I)の化合物は除草剤として用いられ、雑
草を白化せしめ枯死に至らしめる特徴を有する。
水田においては、雑草の発芽前または発芽後に土壌処理
することにより、移植水稲および直播水稲に対し害作用
を及ぼすことなく、通常の除草剤では防除が困難なホタ
ルイ、ミズガヤツリ等のカヤツリグサ科雑草、オモダカ
、ウリカワ等のオモダカ科雑草など多年生雑草を特に強
力に駆除することができ、さらに、タイヌビエイヌビエ
、ハイヌメリ等のイネ科雑草など単子葉雑草、また、ア
ゼナ、ムラサキサギゴケ、アブノメ等のゴマノハグサ科
雑草、タネツケバナ、ミズタガラシ、スカシタゴボウ等
のアブラナ科雑草、キカシグザ、ミズマツバ等のミソハ
ギ科雑草、オグルマ、タカサブロウ等のキク科雑草など
の広葉雑草をも有効に駆除することができる。
また、畑地においてに、雑草の発芽前または発芽後に土
壌処理することにより、畑地の強雑草であるハコベ、ノ
ミノフスマ、ミミナグサ、ツメクサ等のナデシコ科雑草
に特に有効であるほか、スベリヒユ等のスベリヒユ科雑
草、ビユ、,アオビユ等のヒユ科雑草、アカザ、シロザ
、コアカザ等のアカザ科雑草、ツユクサ等のツユクサ科
雑草、ホトケノザ、キランソウ等のシソ科雑草、カタバ
ミ、ムラサキカタバミ等のカタバミ科雑草、ネコハギ、
スズメノエンドウ、カラスノエンドウ等のマメ科雑草、
エノキグサ、コニシキソウ等のトウダイグサ科雑草など
の広葉雑草を有効に駆除することができる。
さらに、狭葉雑草では、カヤツリグサ等のカヤツリグサ
科雑草に特に有効であるほか、カモジグサ、メヒシバ、
コメヒシバ、イヌビエ、エノコログサ、アキノエノコロ
グサ、スズメノテツポウ等のイネ科雑草も有効に駆除す
ることができる。一方、実用薬量では稲、トウモロコシ
、ビート、ダイズ、ワタ、ダイコン、トマト、ニンジン
、ハクサイ、レタス等の作物は薬害をうけることはない
さらに、前記一般式(I)を有する化合物に、果樹園、
非農耕地、山林等においても除草剤として有効に使用す
ることができる。
本発明の化合物は、担体および必要に応じて他の補助剤
と混合して、除草剤として通常用いられる製剤形態、た
とえば、粉剤、粗粉剤、微粒剤、粒剤、水和剤、乳剤、
水溶液剤、水溶剤、油懸濁剤等に調製されて使用される
。ここでいう担体とは、処理すべき部位へ有効成分化合
物の到達性を助け、また、有効成分化合物の貯蔵、輸送
あるいは取り扱いを容易にするために、除草剤中に混合
される合成または天然の無機またに有機物質を意味する
適当な固体担体としては、カオリナイト群、モンモリロ
ナイト群あるいはアタバルジャイト群等で代表されるク
レー類、タルク、雲母、葉ロウ石、軽石、バーミユキラ
イト、石こう、炭酸カルシウム、ドロマイト、けいそう
土、マグネシウム石灰、りん灰石、ゼオライト、無水ケ
イ酸、合成ケイ酸カルシウム、等の無機物質、大豆粉、
タバコ粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、でんぷん、結晶セ
ルロース等の植物性有機物質、クマロン樹脂、石油樹脂
、アルキド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレングリ
コール、ケトン樹脂、エステルガム、コーパルガム、ダ
ンマルガム等の合成または天然の高分子化合物、カルナ
バロウ、蜜ロウ等のワツクス類、あるいは尿素等があげ
られる。
適当な液体担体としては、ケロシン、鉱油、スピンドル
油、ホワイトオイル等のパラフイン系もしくはナフテン
糸炭化水系、ベンゼン、トルエン、ギシレン、エチルベ
ンゼン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水素
、四塩化炭素、クロロホルム、トリクロルエチレン、モ
ノクロルベンゼン、O−クロルトルエン等の塩素化炭化
水素、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテ
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン、アセトフエノン、イソホロン
等のケトン類、酢酸エチル、酢酸アミル、エチレングリ
コールアセテート、ジエチレングリコールアセテート、
マレイン酸ジブチル、コハク酸ジエチル等のエステル類
、メタノール、n−ヘキサノール、エチレングリコール
、ジエチレングリコール、シクロヘキサノール、ベンジ
ルアルコール等のアルコール類、エチレングリコールエ
チルエーテル、エチレングリコールフエニルエーテル、
ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリ
コールブチルエーテル等のエーテルアルコール類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒
あるいは水等があげられる。
乳化、分散、湿潤、拡展、結合、崩壊性調節有効成分安
定化、流動性改良、防錆等の目的で使用される界面活性
剤は、非イオン性、陰イオン性、陽イオン性および両性
イオン性のいずれのものをも使用しうるが、通常は非イ
オン性および(または)陰イオン性のものが使用される
適当な非イオン性界面活性剤としては、たとえば、ラウ
リルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアル
コール等の高級アルコールにエチレンオキシドを重合付
加させたもの、イソオクチルフエノール、ノニルフエノ
ール等のアルキフエノールにエチレンオキシドを重合付
加させたもの、ブチルナフトール、オクチルナフトール
等のアルキルナフトールにエチレンオキシドを重合付加
させたもの、パルミチン酸、ステアリンは、オレイン酸
等の高級脂肪酸にエチレンオキシドを重合付加させたも
の、ステアリンりん酸、ジラウリルりん酸等のモノもし
くはジアルキルりん酸にエチレンオキシドを重合付加さ
せたもの、ドデシルアミン、ステアリン酸アミド等のア
ミンにエチレンオキシドを重合付加させたもの、ソルビ
タン等の多価アルコールの高級脂肪酸エステルおよびそ
れにエチレンオキシドを重合付加させたもの、エチレン
オキシドとプロピレンオキシドを重合付加させたもの等
があげられる。適当な陰イオン性界面活性剤としては、
たとえば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコー
ル硫酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩、
スルホこはく酸ジオクチルエステルナトリウム、2−エ
チルヘキセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホ
ン酸塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム
、メチレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグ
ニンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン
鈑ナトリウム等のアリールスルホン酸塩等があげられる
さらに本発明の除草剤には製剤の性状を改善し、生物効
果を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、アルブミン、
ニカワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチルセルロー
ス、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、
ポリビニルアルコール等の高分子化合物や他の補助剤を
併用することもできる。
上記の担体および種々の補助剤は製剤の剤型、適用場面
等を考慮して、目的に応じてそれぞれ単独にあるいに組
合わせて適宜使用される。
粉剤は、例えば有効成分化合物を通常1ないし25重量
部含有し、残部は固体担体である。
水相剤は、例えば有効成分化合物全iim常25ないし
90重量部含有し、残部は固体担体、分散湿潤剤であっ
て、必要に応じて保護コロイド剤、チキントロピー剤、
消泡剤等が加えられる。
粒剤は、例えば有効成分化合物を通常1ないし35重量
部含有し、残部は大部分が固体担体である。有効成分化
合物は固体担体と均一に混合されているか、あるいは固
体抗体の表面に約0.2ないし1.5mm程度である。
乳剤は、例えば有効成分化合物を通常5ないし50重量
部含有しており、これに約5ないし20重量部の乳化剤
が含まれ、残部は液体担体であり、必要に応じて防錆剤
が加えられる。
このようにして種々の剤型に調製された本発明の除草剤
を、たとえば、水田または畑地において雑草の発芽前ま
たは発芽後に土壌処理するときに、10aあたり有効成
分として10ないし2000g好ましくは100〜50
0gを投ずることにより、有効に雑草を駆除することが
できる。
また、非農耕地たとえば、道路、グランド、家屋敷地、
線路等において非選択的に雑草を駆除しまうとするとき
は、10aあたり有効成分として200ないし4000
gを投ずることにより、有効に雑草を駆除できる。
本発明の除草剤は、殺草スペクトラムを広げるために他
の除草剤が配合されることに好ましく、場合によっては
相乗効果を期待することもできる。このような他の除草
剤の例としては、たとえば、2−メチルチオ−4,6−
ビスエチルアミノ−1,3,5−トリアジン;2−クロ
ル−4,6−ビスエチルアミノ−1,3,5−トリアジ
ン:2−メトキシ−4−エチルアミノ−6−イソプロピ
ルアミノ−1,3,5−トリアジン;2−クロル−4−
エチルアミノ−6−イソプロピルアミノ−S−トリアジ
ン;2−メチルチオ−4,6−ビス(イソプロピルアミ
ン)−S−トリアジン;2−メチルチオ−4−エチルア
ミノ−6−イソプロピルアミノ−S−トリアジン;2−
メチルチオ−4−(1,2−ジメチルプロピルアミノ−
6−エチルアミノ−S−トリアジン等のトリアジン系除
草剤、2,4−ジクロルフエノキシ酢酸およびそのエチ
ル、プロピルまたはブチルエステル;4−クロル−2−
メチルフエノキシ酢酸、エチル2−メチル−4−クロル
フエノキシブチレート等のフエノキシ系除草剤、2,4
,6−トリクロルフエニル−4′−ニトロフエニルエー
テル;2,4−ジクロルフエニル−4′−ニトロフエニ
ルエーテル;3,5−ジメチルフエニル−4′−ニトロ
フエニルエーテル;2,4−ジクロロフエニル−3′−
メトキシカルボニル−4′−ニトロフエニルエーテル;
2,4−ジクロロフエニル−4′−ニトロ−3′−メト
キシフエニルエーテル等のジフエニルエーテル系除草剤
、3−(3,4−ジクロルフエニル)−1−メトキシ−
1−メチルウレア;3−(3,4−ジクロルフエニル)
−1,1−ジメチルウレア;3−(4−クロロフエニル
)−1,1−ジメチルウレア;1−(α,α−ジメチル
ベンジル)−3−(4−メチルフエニル)ウレア等の尿
素系除草剤、3−メトキシカルボニルアミノフエニル−
N−(3−メチルフエニル)カーバメート;イソプロピ
ル−N−(3−クロルフエニル)カーバメード;メチル
N−(3,4−ジクロロフエニル)カーバメート等のカ
ーバメート系除草剤、5−ブロム−3−sec−ブチル
−6−メチルウラシル;1−シクロヘキシル−3,5−
プロピレンウラシル等のウラシル系除草剤、S−(4−
クロルベンジル)N,N−ジエチルチオールカーバメー
ト:S−エチルN−シクロヘキシル−N−エチルチオー
ルカーバメート;S−エチル−ヘキサヒドロ−1H−ア
ゼピン−1−カーボチオエート;S−エチル−N,N−
ジノルマルプロピルチオカーバメート等のチオールカー
バメート系除草剤、1,1′−ジメチル−4,4′−ビ
スピリジニウムジクロライド等のピリジニウム塩系除草
剤、N−(ホスホノメチル)グリシン等のリン系除草剤
、α,α,α−トリフルオロ−2,6−ジニトロ−N,
N−ジクロピル−P−トルイジン;4−(メチルスルホ
ニル)2,6−ジニトロ−N,N−ジプロピルアニリン
等のアニリン系除草剤、ベンゾチアゾール−2−イルオ
キシ−酢酸N−メチルアニリド;2−クロル−2′,6
′−ジエチルN−(ブトキシメチル)アセトアニリド;
2−クロル−2′,6′−ジエチル−N−(メトキシメ
チル)アセトアニリド;3,4−ジクロロプロピオンア
ニリド;2−クロロ−2′,6′−ジエチル−N−(プ
ロポキシエチル)アセトアニリド等の酸アニリド系除草
剤、5−tert−ブチル−3−(2,4−ジクロロ−
5−イソプロボキシフエニル)1,3,4−オキサジア
ゾリン−2−オン:2−〔N−インプロピル、N−(4
−クロルフエニル)カルバモイル〕−4−クロル−5−
メチル−4−イソオキサゾリン−3−オン;3−イソプ
ロピル−1H−2,1,3−ベンゾチアジアジン−(4
)−3H−オン−2,2−ジオキシド;3−(2−メチ
ルフエノキシ)ピリダジン:N−(O,O−ジプロピル
−ジチオホスホリルアセチル)−2−メチル−ピペリジ
ン;N(α,α−ジメチルベンジル)−α−ブロモ−α
−ターシヤリブチルアセトアミド;O,O−ジイソプロ
ピルS−(2−ベンゼンスルホニルアミノエチル)ホス
ホロジチオエート;3,3′−ジメチル−4−メトキシ
ベンゾフエノン等があげられるが、これらに限られるも
のではない。
本発明の除草剤はまた、ナフタリン酢酸ナトリウム;1
,2−ジヒドロピリダジン−3,6−ジオン;ジペレリ
ン等の植物生長調節剤、メチル1−(ブチルカルバモイ
ル)−2−ベンズイミダゾールカーバメート;1,2−
ビス(3−メトキシカルボニル−2−チオウレイド)ベ
ンゼン;3−ヒドロキシ−5−メチルインキサゾール;
N−2,3−ジクロルフエニルテトラクロルフタルアミ
ド酸;5−メチルS−トリアゾロ(3,4−b)ベンズ
チアゾール;O,O−ジイソプロピル−S−ベンジルホ
スホロチオエート;ベンタクロロニトロベンゼン;カス
ガマイシン;ブラストサイジンS;4,5,6,7−テ
トラクロロフタリド等の殺菌剤、O,O−ジエチルO−
(2−イソプロピル−4−メチル−6−ピリミジニル)
ホスホロチオエート;O,O−ジエチルS−2−〔(エ
チルチオ)エチル〕ホスホロジチオエート;1−ナフチ
ルN−メチルカーバメート;O,O−ジメチルO−(3
−メチル−4−ニトロフエニル)チオホスフエート;O
,O−ジメチルS−(N−メチルカーバモイルメチル)
ホスホロジチオエート;S−メチル−N−〔(メチルカ
ーバモイル)オギシ〕チオアセトイミデート;O,O−
ジメチルS−(N−メチル−N−ホルミルカーバモイル
メチル)ホスホロジチオエート;O,O−ジメチルS−
2−(エチルチオ)エチルホスホロジチオエート:O,
O−ジエチルS−2〔(エチルチオ)エチル〕ホスホロ
ジチオエート;O,O−ジメチルー1−ヒドロキシ−2
,2,2−トリクロロエチルホスホネート等の殺虫剤あ
るいは肥料等を混合して使用することができる。
実施例1. 5−(2−アニリノエトキシ)−4−(2,4−ジクロ
ロベンゾイル)−1、3−ジメチルピラゾール 2−アニリノエタノール2mlに金属ナトリウム0.0
8gを加熱溶解し、これに5−クロロ−4−(2,4−
ジクロロベンゾイル) −1,3−ジメチルピラゾール
1.0gを加えて、撹拌しながら100〜110℃で3
時間加温した。過剰の2−アニリノエタノールを減圧下
で留去し、残留物にクロロホルムを加えて不溶物をろ去
し、クロロホルム溶液は水洗し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥したのち、クロロホルムを留去し、残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出剤;ベンゼン:ア
セトン=7:1)に付し、分画精製して を有する目的化合物0.92 を得た。(収率69%) 実施例2 4−(2,4−ジクロロベンゾイル)−1,3−ジメチ
ル−5−〔2−(N−メチルアニリノ)エトキシ〕ピラ
ゾール 5−(2−ブロモエトキシ)−4−(2,4−ジクロロ
ベンゾイル)−1,3−ジメチルピラゾール1.1gと
N−メチルアニリン6mlとの混合物を撹拌しながら1
10〜120℃で3時間加温した。過剰のN−メチルア
ニリンを減圧下で留去し、残留物をシリカゲル・カラム
クロマトグラフイー(溶出剤;ベンゼン:酢酸エチル=
10:1)に付し、分画精製して を有す る目的化合物0.71gを得た。(収率60.5%)前
記実施例2の方法に準じて次の化合物が製造された。
4−(2,4−ジクロロベンゾイル)−1,3−ジメチ
ル−5−(2−(N,N−ジエチルアミン)エトキシ〕
−ピラゾール 4−(2,4−ジクロロベンゾイル)−1,3−ジメチ
ル−5−(3−アニリノプロポキシ)ピラゾール 実施例3 4−(2,4−ジクロロベンゾイル) −1,3−ジメ
チル−5−(2−(N−メチルアニリノ)エトキシ〕ピ
ラゾール 4−(2,4−ジクロロベンゾイル) −)1,3−ジ
メチル−5−ヒドロキシピラゾール2.85gをアセト
ニトリル50mlにとかし、これに炭酸カリウム(無水
)1.38gを加えて室温で2時間撹拌したのち、β−
ブロモエチルN−メチルアニリン2.14gを添加して
3時間加熱還流した。冷却後結晶をろ去し、ろ液は減圧
下で留去し、残留物をシリカゲル・カラムクロマトグラ
フイー(溶出剤:ベンゼン:酢酸エチル=8:1)に付
し、分画精製して を有する目的化 合物3.82gを得た。(収率91.4%)前記実施例
3の方法に準じて次の化合物が製造された。
4−(2,4−ジクロロ−3−メチルベンゾイル)−1
,3−ジメチル−5−〔2−(N−メチルアニリノ)エ
トキシ〕ピラゾール mp.92〜93℃ 4−(2,4−ジクロロベンゾイル)−1,3−ジメチ
ル−5−〔2−(N−エチルアニリノ)エトキシ〕ピラ
ゾール 4−(2−ニトロ−4−クロロベンゾイル)−1,3−
ジメチル−5−〔2−(N−メチルアニリノ)エトキシ
〕ピラゾール mp.121〜122℃ 4−(2−ニトロ−5−メチルベンゾイル)−1,3−
ジメチル−5−(2−(N−メチルアニリノ)エトキシ
〕ピラゾール mp.113.5〜115℃ 実施例4. 4−(2,4−ジクロロベンゾイル)−1,3−ジメチ
ル−5−〔2−(N−メチルアニリノ)エトキシ〕ピラ
ゾール 実施例1または実施例3の方法に準じて製造された5−
(2−アニリノエトキシ)−4−(2、4−ジクロロベ
ンゾイル)−1,3−ジメチルピラゾール2.7gベン
ゼン25mlにとかし、これにジメチル硫酸0.7ml
を加えて攪拌しながら3時間加熱還流した。冷却後水洗
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち、溶剤を留去し
、実施例2及び3と同様の目的化合物2,4gを得た。
(収率86%) 実施例5. 5−〔2−(N−ベンジルアニリノ)エトキシ)−4−
(2,4−ジクロロベンゾイル)−1,3−ジメチルビ
ラゾール 実施例1または実施例3の方法に準じて製造された5−
(2−アニリノエトキシ)−4−(2,4−ジクロロベ
ンゾイル)−1,3−ジメチルピラゾール1.01gを
水酸化カリウム0.17gエタノール8mlにとかした
溶液に加えて室温で30分間撹拌した。この混合物に臭
化ベンジル2mlを加えて室温で5時間撹拌したのち、
溶剤を減圧下で留去した。残留物にベンゼンを加え水洗
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち、ベンゼンを留
去し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフイー(
溶出剤;ベンゼン:酢酸エチル=10:1)に付し、分
画精製して を有する目的化合物0.87gを得た。(収率70%) 前記実施例5の方法に準じて次の化合物が製造された。
5−(2−(N−アリルアニリノ)エトキシ〕−4−(
2,4−ジクロロベンゾイル)−1,3−ジメチルピラ
ゾール 参考例1. 5−(2−プロモエトキシ)−4−(2,4−ジクロロ
ベンゾイル)−1,3−ジメチルピラゾール 4−(2,4−ジクロロベンゾイル)−1,3−ジメチ
ル−5−ヒドロキシピラゾール5,7gを水酸化カリウ
ム1.32gを水10mlにとかした溶液にとかし、減
圧下で水を留去し、乾燥してカリウム塩を得た。エチレ
ンジブロマイド11.28gをジメチルホルムアミド1
0mlにとかした溶液で、先に得たカリウム塩のジメチ
ルホルムアミド30ml溶液を、撹拌しながら110±
5℃2時間で滴下した。滴下後1.5時間加温したのち
、減圧下で溶剤を留去し、残留物を酢酸エチルで抽出し
、抽出液は水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち
、減圧下で溶剤を留去し、残留物をシリカゲル・カラム
クロマトグラフイー(溶出剤;ベンゼン:酢酸エチル=
9:1)に付し、分画精製して(mp。89〜 90℃)を有する目的化合物0.57gを得た。
(収率72.7%) 前記参考例1の方法に準じて次の化合物が製造された。
5−(3−ブロモプロポキシ)−4−(2,4=ジクロ
ロベンゾイル)−1,3−ジメチルピラゾール mp.67〜68℃ 5−(4−ブロモブトキシ)−4−(2,4−ジクロロ
ベンゾイル)−1,3−ジメチルピラゾール mp.61℃ これらの化合物はいずれも文献未載の新規化合物であり
、式(I)を有する化合物同様に、除草剤として使用す
ることができる。
実施例6.粒剤 化合物番号2の化合物70部を微細に粉砕し、これにク
レー30部を加えて混合機中で混和してプレミツクスと
する。このプレミツクス10部をクレー60部およびベ
ントナイト30部と共に混合機中で均一に混相する。こ
のものに適当量の水を加え、ニーダー中で捏相し、直径
0.8mmのスクリーンより押し出し、50℃の通風乾
燥様中で乾燥する。このものをシフターによって整粒し
て粒剤を得る。
実施例7.水相剤 化合物番号7の化合物50部、クレー29部、硅藻土1
0部、ホワイトカーボン5部、リグニンスルホン酸ナト
リウム3部、ニューコール1106(日本乳化剤(株)
商品名)2部およびポリビニルアルコール1部を混合機
中で均一に混合し、ハンマーミルで3回粉砕して水和剤
を得る。
実施例8.乳剤 化合物番号1の化合物20部、キシレン65部およびパ
ラコールPS(日本乳化剤(株)商品名)15部を混合
し、均一に溶解させて乳剤を得る。
このようにして調整された本発明の除草剤の試験例を次
にあげる。なお、供試薬剤は前記実施例5に準じて製造
し、本発明の有効成分化合物を50%含有する水和剤を
用いた。
実施例9.水田雑草湛水土壌処埋試験 表面積45cm2のポリエチレン製ポツト3ケ(A、B
、Cと略称する)に水田土壌を充填し、ポツトAに水稲
(品種:金南風)2.5葉期の苗を1株(2本)移植し
、多年生雑草の代表としてウリカワの塊茎を2ケ植え込
む。ポツトBに広葉雑草の代表としてコナギ、アゼナ及
びアブノメの各柚子を土とよく混和する。さらにマツバ
イの生育株を1株移植し、多年生雑草のミズガヤツリ棟
茎をポツトあたり2ケを植え込む。
ポツトCには狭葉雑草の代表としてタイヌビエおよびホ
タルイの各種子を土とよく混相する。
さらに多年生雑草のオモダカの塊茎をポツトあたり2ケ
植え込む。ポツトA、BおよびCとも水田状態として3
日間温室内で栽培し、植物の活着後供試薬剤の懸濁液を
ポツトあたり10ccずつ湛水状態で土壌処理した。処
理20日後に各雑草に対する除草効果および水稲に対す
る薬害を観察判定した。その結果を第1表に示す。
ただし、表中における有効薬量(g/a)は、各植物の
生育阻害程度(植物体表面の白化面積)が70%以上と
なる最低薬量を示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.式 (式中、R1はハロゲン原子、ニトロ基またはメチル基
    を示し、oは2または3を示し、そのときR1は同一で
    も異なってもよい。R2は水素原子、低級アルキル基、
    低級アルケニル基またはアラルキル基を示し、R3は低
    級アルキル基、低級アルケニル基またはフエニル基を示
    し、Xは低級アルキレン基を示す。)を有するピラゾー
    ル誘導体。
  2. 2.式 (式中、R1はハロゲン原子、ニトロ基またはメチル基
    を示し、nは2または3を示し、そのときR1は同一で
    も異なってもよい。R2は水素原子、低級アルキル基、
    低級アルケニル基またはアラルキル基を示し、R3は低
    級アルキル基、低級アルケニル基またはフエニル基を示
    し、Xは低級アルキレン基を示す。)を有するピラゾー
    ル誘導体を有効成分とする除草剤。
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