JPS59195649A - ホトマスク洗浄装置 - Google Patents
ホトマスク洗浄装置Info
- Publication number
- JPS59195649A JPS59195649A JP58070498A JP7049883A JPS59195649A JP S59195649 A JPS59195649 A JP S59195649A JP 58070498 A JP58070498 A JP 58070498A JP 7049883 A JP7049883 A JP 7049883A JP S59195649 A JPS59195649 A JP S59195649A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- washing
- cleaning
- soln
- photomask
- brush
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は投影式露光機に使用するレチクル又はホトマス
クの洗浄装置に関するものである。
クの洗浄装置に関するものである。
近年、半導体集積回路装置の微細化が進んでおり、それ
とともに集積回路装置の製造に使用する製造設備も高級
な装置になりつつある。例えば投影式露光機などがその
良い例であろう。具体的には、１対１のミラー系プロジ
ェクション公党機。
とともに集積回路装置の製造に使用する製造設備も高級
な装置になりつつある。例えば投影式露光機などがその
良い例であろう。具体的には、１対１のミラー系プロジ
ェクション公党機。
縮小投影露光機などがあるが、それらの露光機に使用す
るホトマスク又はレチクル（以下ホトマスクと総称する
）の清浄度が大きな問題となってきている。例えば縮小
投影露光機に使用するレチクル表面に電気的欠陥となり
得る塵埃が付着していると、＜シ返し露光を行なうため
その塵埃に当るチップは全部不良となってしまう。また
ミラープロジェククヨンのホトマスクにおいても、縮小
投影式に比べその被害は軽減されるとはいうもののマス
ク表面に付着した塵埃に当るチップは不良となり、歩留
漫に多大な影響を及はす。従ってホトマスクの洗浄技術
が重要なものとなる。
るホトマスク又はレチクル（以下ホトマスクと総称する
）の清浄度が大きな問題となってきている。例えば縮小
投影露光機に使用するレチクル表面に電気的欠陥となり
得る塵埃が付着していると、＜シ返し露光を行なうため
その塵埃に当るチップは全部不良となってしまう。また
ミラープロジェククヨンのホトマスクにおいても、縮小
投影式に比べその被害は軽減されるとはいうもののマス
ク表面に付着した塵埃に当るチップは不良となり、歩留
漫に多大な影響を及はす。従ってホトマスクの洗浄技術
が重要なものとなる。
ホトマスク洗浄法としては両面スクラブ方法が一般的で
あるが、従来のホトマスク洗浄装置ではスクラブに使用
するプラノ自身の洗浄に関しとくに配慮がなされていな
い。すなわち、スクラブに使用するブラシ（以後単にブ
ラシと言う）が汚れると洗浄効果が劣化し、完壁な洗浄
が不可能となる。従来のホトマスク洗浄装置では、プラ
クが汚れるとブラシを取りはずして交換するがまたはブ
ラシを洗浄して取り付は直していた。この方法ではプラ
クの交換時間に数時間を要し、さらに交換後も洗浄槽及
びブラシの清浄度を維持するため、空運動を数時間実施
する必要があった。
あるが、従来のホトマスク洗浄装置ではスクラブに使用
するプラノ自身の洗浄に関しとくに配慮がなされていな
い。すなわち、スクラブに使用するブラシ（以後単にブ
ラシと言う）が汚れると洗浄効果が劣化し、完壁な洗浄
が不可能となる。従来のホトマスク洗浄装置では、プラ
クが汚れるとブラシを取りはずして交換するがまたはブ
ラシを洗浄して取り付は直していた。この方法ではプラ
クの交換時間に数時間を要し、さらに交換後も洗浄槽及
びブラシの清浄度を維持するため、空運動を数時間実施
する必要があった。
そこで本発明の目的は、ホトマスク洗浄用スクラップラ
フ自身の洗浄を容易にかつ短時間に効果的に行う機能を
兼ね備えたホトマスク洗浄装置を提供することである。
フ自身の洗浄を容易にかつ短時間に効果的に行う機能を
兼ね備えたホトマスク洗浄装置を提供することである。
本発明は、ブラシを有する洗浄槽内にホトマスク洗浄に
使用すると同じ洗浄液を満たし、その洗浄液に超音波振
動を生せしめる超音波発生器を具備することによって構
成され、ホトマスク洗浄を行なう前に、この満たされた
洗浄液内で超音波を発生させることにより、ブラシ及び
槽内に付着している汚れを洗浄することを特徴とする。
使用すると同じ洗浄液を満たし、その洗浄液に超音波振
動を生せしめる超音波発生器を具備することによって構
成され、ホトマスク洗浄を行なう前に、この満たされた
洗浄液内で超音波を発生させることにより、ブラシ及び
槽内に付着している汚れを洗浄することを特徴とする。
本発明による効果は％まずブラシの取りはずし取シクけ
などが不要となるため、短時間にてブラシの洗浄を行な
えることがあげられる。また、ブックの取りはずし取ル
つけによって生じる塵埃が無いため、塵埃を外部から持
ち込むことがない。
などが不要となるため、短時間にてブラシの洗浄を行な
えることがあげられる。また、ブックの取りはずし取ル
つけによって生じる塵埃が無いため、塵埃を外部から持
ち込むことがない。
従って清浄度を維持したままブックのみならず同時に洗
浄槽内の洗浄を行うことができる。
浄槽内の洗浄を行うことができる。
次に図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。第
１図は本発明の詳細な説明するための正面方向から見た
断面図であり、第２図は側面方向から見た部分断面図で
ある。
１図は本発明の詳細な説明するための正面方向から見た
断面図であり、第２図は側面方向から見た部分断面図で
ある。
まず適当な間隔をあけて洗浄槽４内に平行に設置された
２本のスクラブ用ブラシ１を洗浄液に浸漬させるだめ、
シャワー供給パイプ２から洗浄液を供給する。このとき
洗浄液排水弁３は閉じておく。洗浄液が洗浄槽４内に満
たされた時、この洗浄槽の下面に取付けられている超音
波発生器８を作動させる。衆知のとおり超音波には洗浄
効果があり、特に微細な部分でも洗浄されるため、ブラ
フの洗浄には好適である。洗浄液は絶えず供給し続ける
が、液はオーバー７０−ドレイン６を開にしているため
、液面７以上に増加することがない。
２本のスクラブ用ブラシ１を洗浄液に浸漬させるだめ、
シャワー供給パイプ２から洗浄液を供給する。このとき
洗浄液排水弁３は閉じておく。洗浄液が洗浄槽４内に満
たされた時、この洗浄槽の下面に取付けられている超音
波発生器８を作動させる。衆知のとおり超音波には洗浄
効果があり、特に微細な部分でも洗浄されるため、ブラ
フの洗浄には好適である。洗浄液は絶えず供給し続ける
が、液はオーバー７０−ドレイン６を開にしているため
、液面７以上に増加することがない。
この方法によって洗浄液より比重の軽い塵埃はオーバー
７０−ドレイ／６より流出する。また必要に応じてモー
ター５を回転させればスクラブ用ブラフ１の洗浄効果は
さらに向上する。
７０−ドレイ／６より流出する。また必要に応じてモー
ター５を回転させればスクラブ用ブラフ１の洗浄効果は
さらに向上する。
一定時間経過後シャワー供給パイプ２からの洗浄液の供
給を止め、排水弁３を開にする。これによって洗浄液よ
り重い塵埃は排水弁３よシ排出される。以上の工程を２
〜３回行うことによってスクラブ用プラク１を完全に洗
浄できることになる。
給を止め、排水弁３を開にする。これによって洗浄液よ
り重い塵埃は排水弁３よシ排出される。以上の工程を２
〜３回行うことによってスクラブ用プラク１を完全に洗
浄できることになる。
このようにブラシの洗浄が完了後、ホトマスクを２本の
プランの間に送り込み、ブラシを回転させてスクラブ洗
浄を行なうことにより、塵埃付着のない高品質のホトマ
スクが得られる。
プランの間に送り込み、ブラシを回転させてスクラブ洗
浄を行なうことにより、塵埃付着のない高品質のホトマ
スクが得られる。
また洗浄液としては界面活性剤やアンモニア水溶液など
を使用すると効果があるが、フィルターを通した純水、
有機溶液でも良い。また洗浄液の供給手段としてブラシ
より上位にあるシャワー供給パイプを利用したがプラン
よシ下方に供給口を設けてもよい。
を使用すると効果があるが、フィルターを通した純水、
有機溶液でも良い。また洗浄液の供給手段としてブラシ
より上位にあるシャワー供給パイプを利用したがプラン
よシ下方に供給口を設けてもよい。
第１図は本発明の詳細な説明するための正面方向から見
た断面図であり、第２図は側面方向から見た部分断面図
である。 １・・・・・・スクラブ用ブラシ、２・・・・・・シャ
ワー供給パイプ、３・・・・・・排水弁、４・・・・・
・洗浄槽、訃・団・モーｆｉ−１６・・・・・・オーバ
ーフロードレイン、７・・・・・・液面、８・・・・・
・超音波発生器。 ２７ 図 ６ ｚ 図
た断面図であり、第２図は側面方向から見た部分断面図
である。 １・・・・・・スクラブ用ブラシ、２・・・・・・シャ
ワー供給パイプ、３・・・・・・排水弁、４・・・・・
・洗浄槽、訃・団・モーｆｉ−１６・・・・・・オーバ
ーフロードレイン、７・・・・・・液面、８・・・・・
・超音波発生器。 ２７ 図 ６ ｚ 図
Claims (1)
- 半導体集積回路装置製造用ホトマスクを洗浄するために
スクラブ用ブラシを具備した洗浄装置において、洗浄槽
内に洗浄液をシャワー供給する機構と、洗浄液をオーバ
ーフロー及び底部排水させる機構と、洗浄液に超音波を
発生させる機構とを有し、スクラブ用ブラシを洗浄液に
浸漬させて該ブラシを超音波洗浄せしめる手段、さらに
前記スクラブ用プラク洗浄後ホトマスクを洗浄槽内に搬
送し、前記洗浄液を供給して該ホトマスクをスクラブ洗
浄せしめる手段とを備えたことを特徴とするホトマスク
洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58070498A JPS59195649A (ja) | 1983-04-21 | 1983-04-21 | ホトマスク洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58070498A JPS59195649A (ja) | 1983-04-21 | 1983-04-21 | ホトマスク洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59195649A true JPS59195649A (ja) | 1984-11-06 |
Family
ID=13433246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58070498A Pending JPS59195649A (ja) | 1983-04-21 | 1983-04-21 | ホトマスク洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59195649A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61181134A (ja) * | 1985-02-07 | 1986-08-13 | Hitachi Ltd | 洗浄装置 |
| JPH0353524A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-07 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄装置及び洗浄方法 |
| KR100456760B1 (ko) * | 2001-04-18 | 2004-11-10 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 포토마스크의 세정 방법 |
| CN108043812A (zh) * | 2017-12-25 | 2018-05-18 | 芜湖锐进医疗设备有限公司 | 医疗电动钻的钻头清理装置 |
| JP2021505720A (ja) * | 2017-12-04 | 2021-02-18 | インテグリス・インコーポレーテッド | 研磨粒子と洗浄ブラシとの間の相互作用を低減するための組成物および方法 |
-
1983
- 1983-04-21 JP JP58070498A patent/JPS59195649A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61181134A (ja) * | 1985-02-07 | 1986-08-13 | Hitachi Ltd | 洗浄装置 |
| JPH0353524A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-07 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄装置及び洗浄方法 |
| KR100456760B1 (ko) * | 2001-04-18 | 2004-11-10 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 포토마스크의 세정 방법 |
| JP2021505720A (ja) * | 2017-12-04 | 2021-02-18 | インテグリス・インコーポレーテッド | 研磨粒子と洗浄ブラシとの間の相互作用を低減するための組成物および方法 |
| US11446708B2 (en) | 2017-12-04 | 2022-09-20 | Entegris, Inc. | Compositions and methods for reducing interaction between abrasive particles and a cleaning brush |
| CN108043812A (zh) * | 2017-12-25 | 2018-05-18 | 芜湖锐进医疗设备有限公司 | 医疗电动钻的钻头清理装置 |
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